JPH0638975A - 光ファイバー束を通電するリニアスキャン方法及びシステム - Google Patents

光ファイバー束を通電するリニアスキャン方法及びシステム

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JPH0638975A
JPH0638975A JP5111961A JP11196193A JPH0638975A JP H0638975 A JPH0638975 A JP H0638975A JP 5111961 A JP5111961 A JP 5111961A JP 11196193 A JP11196193 A JP 11196193A JP H0638975 A JPH0638975 A JP H0638975A
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energy
fiber
tissue excision
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Kenneth P Grace
ケネス・ピー・グレース
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Spectranetics LLC
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 患者に送られるパルス当りのエネルギー(又
はcw等価量)を減少し、エネルギー源のサイズを小さ
くする。 【構成】 光ファイバーのアレイ20を横切ってエネル
ギーを相対的に移動させる方法および装置において、レ
ーザ及び光学系集合体70からのエネルギーはアレイ2
0を横切って走査される。ガルバノメータのスキャナ1
2上に毛っちされた誘電体ミラー13は、連続的なパル
スがアレイ20の異なるセグメントを照射するように移
動される。この結果、各々のファイバーは十分な影響力
を有しかつパルス当りのエネルギー(又はcw等価量)
を減少するような輻射を与えられる。アレイ20を横切
ってエネルギーを移動させるよりも、アレイ20自体が
移動される。この移動の1ゆの可能な方法はピエゾ電子
積層体を用いることである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光ファイバーアレイ全体
に渡ってエネルギー源を直線的に走査する方法及び装置
に関する。さらに詳しくは、本発明によって一連のエネ
ルギーパルスを、光ファイバーアレイ内に配設され異な
る所定間隔で直線的に配置されたセグメントへ向けるこ
とができる。
【0002】なお、本発明の主題は、米国特許出願明細
書番号第07/417,245号に相当する米国特許第
5,016,946号の「リニア入力を有する光ファイ
バー結合器」に関わる。この特許の主題は参照によって
本明細書に組み込まれる。
【0003】
【従来の技術】現在、医療分野において、レーザなどの
輻射エネルギーの使用に高い注目が払われている。ここ
数十年において、当業者によって、組織を切除するのに
使用されるレーザの使用方法が種々提案されている。こ
の様な提案には、髪の取り除きや、角膜外科手術、ポー
トワインの染みの抜き取り、或いは血管からの斑(plaq
ue)の切除なども含まれている。例えば、経皮経管レー
ザ血管形成には、光ファイバーの束を有するカテーテル
を血管に挿入する必要がある。カテーテルの先端は血管
の障壁の隣に配設される。レーザエネルギーが光ファイ
バーに与えられて障壁を切除する。効果的にするため
に、束内の各々の光ファイバーは、組織切除に十分なだ
けの影響力(単位領域当たりのエネルギー)を有するレ
ーザエネルギーを導かなければならない。さらに、レー
ザ手術においては、カテーテルを複雑に使用することな
く出切るだけ大きな領域の障壁を取り除くことが望まし
い。これには、カテーテル内の光ファイバーの数を増や
す必要がある。十分に高い影響力を有するレーザ輻射が
幾つかの光ファイバーに同時に与えられたときには、非
常の大きな量のレーザエネルギーが体内に導かれる。人
体はそのようなエネルギーによって傷付けられる。実際
に、健康な組織は容易に傷付けられる。同時に、大きな
エネルギーを形成するには、大きなそして高価なレーザ
が必要となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明に先立って、一
見矛盾するように思える目的、すなわち、十分な影響力
を有するレーザ輻射を比較的大きな領域に渡っての供給
しながら、人体に与えられる総合エネルギーのピークを
減少させることは達成されていない。
【0005】キットレルその他による米国特許第4,9
13,142号公報には、光ファイバー束を覆うカテー
テルを有するレーザ血管形成システムが開示されてい
る。複数の光ファイバーによって、取り出すべき組織の
選択が可能となる。選択は分光特性を観察することによ
って達成される。束の各々の光ファイバーは直線アレイ
内に配設される。直線アレイまたはレーザエネルギーの
どちらかが移動可能であり、これによって個々の光ファ
イバーが選択的に照射される。第1に、低いレベルのエ
ネルギーが個々の光ファイバーに連続的に与えられ、光
ファイバーの先端に近い組織方の反射が、切除する組織
から健康な組織を区別するためにモニターされる。そし
て、高い影響力を有するレーザエネルギーが、一つの光
ファイバーに一旦与えられた後、切除する組織を照射す
る光ファイバーのみに与えられる。この特許において
は、同時照射のためにアレイを形成する1つ以上の光フ
ァイバーのグループの要望も、可能性すらも示唆されて
いない。実際、そのような配列は、この特許に説明され
ている基本的な機能とシステムの目的とを破壊する。
【0006】アルスターによる米国特許第4,614,
868号公報には、イメージシステムが開示されてい
る。このイメージシステムでは、複数の光ファイバーの
各々を、或いはレーザビームのスポットサイズと同じ大
きさの光ファイバーのグループを照射することにより、
レーザビームを光ファイバー束に通して走査することが
できる。しかし、この特許は、組織を切除するのに十分
な影響力を有するレーザビームを、直線状に配列された
光ファイバーに通して走査することが、運ばれるエネル
ギーの総計の減少、すなわち、要求されるレーザのサイ
ズの減少に効果的であることを言及していない。
【0007】サイモンその他による米国特許第4,00
7,377号公報には、世界共通の製品コードに対して
用いられる光学的走査システムが開示されている。ガル
バノメータを有する一連の光学構成要素がレーザビーム
を拡散させるために用いられており、これによってバー
コードの全体が照射される。切除システムにおいてエネ
ルギーを減少してはいるものの、どの様にして走査シス
テムが十分に高い影響力を保つために使用されるかは示
唆されていない。
【0008】ホッチキスによる米国特許第3,984,
171号公報には、垂直及び水平に規定されて所定の長
さ連続的に延出した直線のリニア走査システムが開示さ
れている。ホッチキスは直線状に走査可能であると思わ
れる機器を開示してはいるが、選択的に所定のグループ
の光ファイバーを連続的に照射することはまったく示唆
されていない。
【0009】シャンドによる米国特許第4,838,6
31号公報には、パルス変調されたレーザの連続的なビ
ームパルスを異なる複数の光ファイバーに指向するレー
ザビーム指向システムが開示されている。この発明は、
製造工業に用いられるレーザシステムに特に有用であ
り、単一のレーザが複数の製造ステーションの間で使用
される場合にはさらに有用である。しかし、この機器が
医療分野で使用できるという記載はどこにもない。ま
た、この特許は、組織を切除するのに十分な影響力を有
するレーザビームを、直線状に配列された光ファイバー
に通して走査することが、運ばれるエネルギーの総計の
減少、すなわち、要求されるレーザのサイズの減少に効
果的であることを言及していない。本発明は、光ファイ
バーアレイへのエネルギーの移送をさらに能率的に行う
装置及び方法に向けられている。
【0010】
【課題を解決するための手段及び作用】アレイ内の光フ
ァイバーは、光ファイバーとエネルギーとの間の直線相
対移動のコースに従って異なるグループの光ファイバー
を、エネルギー源が連続的に照射するように配列されて
いる。本発明は医療分野に非常に有用でる。なぜなら、
本発明は、パルス当りに患者に送られるエネルギー(定
常波(cw)のエネルギー源に対する単位時間当りのエ
ネルギー)が少なく、弱いパワーのエネルギー源を使用
することができる。本発明では、光ファイバーアレイの
すべてが一度に照射されるわけではない。従って、パル
ス当りに患者に送られる総合エネルギー量(またはcw
等価量)が減少され得る。光ファイバーアレイの照射部
分は、各々の光ファイバーの部分において組織を切除す
るのに十分なレベルを保ちながら、パルス当りのエネル
ギーを外科手術が行われている組織に対して送り、かつ
受け取る。このパルス当りのエネルギーは、もしアレイ
内のすべての光ファイバーが同時に照射された場合より
も弱く、従って患者が負傷する危険が少なくなる。医療
分野において、大量のエネルギーを人間の組織に単一の
パルスで移送する場合に引き起こされる損害を多大に軽
減できる。
【0011】本発明は、エネルギーを光ファイバーのア
レイに結合するように「多重結合」に依存している。な
ぜならば、アレイ内の光ファイバーのすべてが同時に照
射されるわけではなく、影響力の計算に用いられる光フ
ァイバー領域が小さいからである。領域における減少を
補償するために、パルス当りのエネルギーは減少され
得、これによってすべての光ファイバーがパルス当りに
高いエネルギーで照射されたときと同じ影響力を生じさ
せることができる。この様にして、パルス当りに少ない
レーザエネルギーが患者に移送される。
【0012】本発明はエネルギー源の広いアレイと共に
使用することができるが、しかし、好ましい実施例は、
直線的に収束されたレーザビームを使用しており、この
使用によって、照射される光ファイバーの部分全体にエ
ネルギーを実質的に均一に分布することができる。すな
わち、その部分におけるすべての光ファイバーは、直線
的に収束されたレーザビームを使用した結果、形式的に
同様な反応を起こす。本発明の好ましい実施例は、1つ
の光ファイバーアレイの部分は各々のレーザパルスで連
続して照射される。即ち、レーザビームはアレイを横切
って直線的に走査され得、各々のパルス内のアレイの光
ファイバーの1/4又は1/3、或いは1/2を照射す
る。もちろん、光ファイバーの分数は1/4と1/3と
1/2とに限定されるものではなく、照射される光ファ
イバーの数が1以上でかつ光ファイバーの総計数よりも
少ない限り、どんな分数でも良い。
【0013】アレイの一つの実施例は光ファイバーの単
一の列を含んでいる。上述したように、入射レーザビー
ムは光ファイバーの1/2、1/3、1/4などを連続
的なパルスで照射する。
【0014】アレイは光ファイバーの単一の列以上であ
っても良い。例えば、アレイは光ファイバーの2つの平
行な列であっても良い。光ファイバーの双方の列の連続
的な部分が照明されるか、或いは、第1の列と第2の列
とが順次レーザ光によって照明される。
【0015】アレイの形状としてその他に可能であるの
は、共通の横断軸に沿って配置され、各々が同一サイズ
である複数の光ファイバーの複数の束である。各々の束
は1つ以上の光ファイバーを有している。さらに、各々
の束は、例えば、光ファイバーの総計の1/2、1/
3、1/4などを形成している。本発明は複数の光ファ
イバー束を連続的に照射することにより作動する。
【0016】本発明がエネルギーの各々のパルスで光フ
ァイバーアレイの断片を照明しているのみであるので、
患者に送られるパルス当りのエネルギー(又はcw等価
量)を減少でき、エネルギー源のサイズを小さくするこ
とができる。ゆえに、本発明の目的は、エネルギー源の
ための直線光走査システムを提供することによって、患
者に送られるパルス当りのエネルギー(又はcw等価
量)を減少し、エネルギー源のサイズを小さくすること
である。
【0017】さらに、本発明は、本発明のスキャニング
配列に特に適した迅速結合システムを使用することがで
きる。
【0018】本発明のその他の目的、特徴、そして特性
は、関連の要素の機能と動作の方法と同様に、そのすべ
てが本明細書の一部分をなす添付図面を参照して下記の
説明と従属クレームとを熟考することにより明らかとな
る。図面において、異なる図面にて付された同一の参照
符号は同一の部材を示している。
【0019】
【実施例】図1に本発明の一実施例の概略を示す。エネ
ルギー、例えばレーザビーム10は、好ましくはエクサ
イマーレーザによって形成され、断面においてリニアな
光になるようにレンズシステムによって焦点が合わせら
れる。レーザ及び光学系集合体は、符号70で示されて
おり、米国特許第5,016,964号公報にその詳細
が説明されている。もちろん、レーザビーム10は、エ
クサイマーレーザ以外のレーザによっても形成され得
る。実際に、エネルギーはレーザ以外のエネルギー源に
よっても生成され得る。
【0020】平行光となったレーザビーム10はフォー
カス/ガイド装置14に位置11のところで入射し、ス
キャナ12上に配設された誘電体ミラー13上に照射さ
れる。ミラー13を形成するために用いられる正確な誘
電体のコーティングは、使用されるレーザ輻射に依存し
て変化する。すなわち、誘電体ミラー13は使用される
レーザエネルギーの特定の波長の反射光を最大限に利用
するように選択される。スキャナ12は、所定の間隔ミ
ラー13を移動するステップモータであることが望まし
い。また、スキャナ12は、モータやカム、或いはピエ
ゾクリスタル積層体によって駆動されるガルバノメータ
又はリニアトランスレータであり得る。ガルバノメータ
は精密さ及び走査スピードを改善し得る。
【0021】スキャナ12はミラー13を矢印15で示
すように回転する。矢印15は非常に大きな回転を示し
ているように見えるが、実際にはミラー13の回転は非
常に小さいものである。ミラー13の回転はレーザビー
ム10が光ファイバーアレイ(以下、単に「アレイ」と
称する)20を越えて走査するのに十分なだけのもので
ある。スキャナ12はレーザビーム10を矢印21で示
す方向に移動させる。レーザビーム10よりもアレイ2
0を移動させることも可能である。このようなシステム
は図4を参照して後述される。
【0022】光学素子16,18はスキャナ12とアレ
イ20との間で装置14に設けられている。光学素子1
6,18はレンズやフィルタなどの機器であり得る。レ
ンズは平行光となったレーザビーム10のサイズを調節
するのに用いられる。
【0023】レーザビーム10の通常位置又は休止位置
を、図1及び図2において符号28で示す。即ち、レー
ザビーム10がアレイ20を走査しなかった場合、ビー
ム10は位置28上に位置し、位置28を照射する。側
方部分25,27は、ビーム10の通常位置28に対し
て並列して設置されている。この様にして、アレイ20
は、これをビーム10が走査していないときには、3つ
の部分に区別され得る。これら部分は、ビーム10の通
常位置28と、2つの側方部分25,27とである。
【0024】本発明の第1実施例はアレイ20を覆うよ
うなビーム10による走査が達成され得るような様式と
関連して説明される。第1実施例は、レーザエネルギー
が2つの走査位置の間で移動され得るように構成されて
いる。即ち、アレイ20は、これの半分に等しい部分に
おいて走査される。
【0025】ビーム10は、走査方向を示す矢印21に
よって示唆されるようにアレイ20を横切って移動され
る。アレイ20は複数の光ファイバー22を有してお
り、これら光ファイバー22はすべて均一な直径Dを備
えている。スキャナ12は誘電体ミラー13を移動させ
る。この結果、ビーム10はアレイ20の一側端から半
分の光ファイバー22を覆うように通常位置28から第
1の走査位置24に移動される。レーザからのレーザパ
ルスは第1の走査位置24によって囲まれた光ファイバ
ー22を照射する。本実施例では、第1の走査位置24
は側方部分25内の光ファイバー22と、通常位置28
内の光ファイバー22の半分とを含んでいる。
【0026】この様にして、レーザ及び光学系集合体
(エクサイマーレーザ/リニアフォーカス光学系)70
は、アレイ20の半分を照射する。もちろん、前述した
ように、第1のパルスは、1/3や1/4、その他のい
かなる分数の量のアレイ20を照射し得る。パルスは光
ファイバーの基準によって光ファイバーを走査している
のではなく、各々のパルスが少なくとも2つの光ファイ
バー22を照射している。図示された実施例では、各々
のパルスは約20個の光ファイバー22を照射する。も
しレーザ及び光学系集合体70からの第1のパルスがア
レイ20の1/3を照射するようにされたならば、8本
のみの光ファイバー22が各々のパルスによって照明さ
れる。アレイ20の1/4のみが各々のパルスによって
照明されたときには、図示の実施例のように、ビーム1
0がアレイ20を走査している間に6本の光ファイバー
が各々のパルスによって照明される。
【0027】エクサイマレーザからのレーザパルスが第
1の走査位置24内の光ファイバー22に向けられる
と、スキャナ12は、次のレーザパルスを第2の走査位
置26に向けるように誘電体ミラー13を移動させる。
第2の走査位置26は、本実施例では、第1の走査位置
24内に含まれない光ファイバー22を囲んでいる。即
ち、第2の走査位置26はアレイ20の第2の半分を含
んでいる。この第2の半分は、側方部分27と通常位置
28内に光ファイバー22の半分とを含んでいる。上述
したように、アレイ20をパルス当たり半分以外の方法
で走査しても良い。この場合、レーザ及び光学系集合体
70からの第2のパルスは、アレイ20の3分の2、4
分の2等にしても良い。
【0028】本発明では、エネルギー源はアレイ20を
越えて走査することができるので、患者に与えられるパ
ルス当たりのエネルギー(又はcw等価量)を減少する
ことができ、従ってエネルギー源のサイズを小さくする
ことができる。さらに、単一のファイバー以上が各々の
エクサイマーレーザパルスによって同時に照射されるの
で、パルス変調されたビーム10を焦点制御するのに必
要な光学系は、米国特許第5,016,964号公報か
らも分かるように簡単で良い。
【0029】上述したようなファイバーのアレイは、以
下の工程によって製造される。第1に、ファイバーは、
例えば切削石によって切断される。切断端部はアルコー
ルで清掃される。ファイバーはその次に束にまとめられ
て、照射されるファイバーのグループを形成するように
する。例えば、ファイバーのアレイの半分が各々のパル
スによって照射されるのであれば、ファイバーは2つの
グループに分けられる。一片の収縮チューブによって束
が覆われる。ファイバーの束は雄プラグ部分のハンドル
に挿入される(雄プラグ部分は図24及び図25を参照
して後述する)。ファイバーをカバーするプラスチック
コーティングの少なくとも1インチが、600度Cから
800度Cの間にセットされた溶鉱炉を用いて引き剥が
される。ファイバー束は、後述する雄結合部分の基板上
に設置される。剥きだしのファイバーは基板の端部より
延出し、約25mm突出する。ファイバーをカバーして
いる部分は基板上で延出している。加硫可能な接着剤、
例えばノーランド123UVを、チューブと基板とを接
続するようにしてチューブに添加する。このとき、ファ
イバーに接着剤が解かないように注意する。
【0030】ファイバーはその次に基板上で単一の列に
広げられる。ファイバーが早期状態にもたらされるよう
にファイバーがそれぞれのグループ内に維持されること
は重要である。これは、ファイバーの互いに隣接するグ
ループの間隔を保つように基板に隣接した末端拡張装置
を用いることによって行われる。末端拡張装置は基板に
当接し、ファイバーと平行に延出した隆起或いは突起を
含み、上方に位置するファイバーの分離を容易にしてい
る。レーザビームの連続したパルスで各々のグループの
端部に設けられた単数又は複数のファイバーを照射する
ことは望ましくなく、これは基板状のファイバーのグル
ープを離間させることにより確保される。
【0031】ファイバーが一旦基板上に広げられたとき
には、針又はその他の手段がファイバーを強化するのに
用いられる。例えば、一滴のノーランド81が25本以
下のファイバーを有するカテーテルに与えられる。25
本以上のファイバーをカテーテルが有しているときには
2滴が与えられる。そして接着剤が滑らかにファイバー
上に広げられる。接着剤内に形成されているかもしれぬ
泡が一旦取り去られると、接着剤はUV光を用いて加硫
される。その後、突出したファイバーは基板の近傍で切
断される。
【0032】使用され得るファイバーアレイの他の実施
例を図3の(A)及び(B)に示す。図3の(A)及び
(B)は、2×12本のファイバーのアレイ100を示
している。確かに、アレイ100は、2つまたは3つの
セグメント(2つのセグメントの場合には2×6)に分
けて、図1及び図2を参照して上述した様式で走査する
ことができる。エネルギー源はファイバーの2つの列を
同時に照射するように単純にかつラフに焦点が絞られ
る。また、図3の(A)及び(B)に示すように、第1
のレーザパルスの焦点が1×12のサイズのアレイ11
0の部分に絞られた後、装置は第2のパルスを、これも
1×12のディメンションである残りのファイバー12
0に向けられる。もちろん、2列以上のファイバーを備
えることもでき、これらファイバーの列に、図3の
(A)及び(B)に示す12本よりも多いか、又は少な
い数のファイバーを備えても良い。
【0033】図3の(A)及び(B)の実施例の走査を
達成するために、ビームの傾きを図1に示し説明したの
と同様に機器を用いてずらしても良い。また、アレイは
図4に示すようにずらしても良い。
【0034】図4はアレイ100の異なる部分を照射す
るようにアレイ100を移動させる装置を示している。
ピエゾクリスタル積層体400は矢印406で示すよう
に伸縮する。この伸縮は、ピエゾクリスタル駆動電子装
置402から送られる信号404によって行われる。ピ
エゾクリスタル駆動電子装置402は、レーザトリガー
52から信号58によって制御される。このレーザトリ
ガー52は、レーザマイクロプロセッサ50によって制
御される。レーザトリガー52とレーザマイクロプロセ
ッサ50とは、図7に関してさらに説明される。 積層
されたアレイ100は、ファイバー設置基板/結合器ボ
ディ(以下、単に「設置基板」と称する)408によっ
て支持されている。この設置基板408は、付勢鋼台4
10などの要素に支持されている。この付勢鋼台410
は、ピエゾクリスタル積層体400の伸縮に伴ったアレ
イ100の移動を可能にする。移動装置基準面412
は、アレイ100の部分110,120が連続して照射
されるようにアレイ100の適正なアライメントを行う
ようにしている。
【0035】レーザ及び光学系集合体70(図1に図
示)によって生成された第1のパルスは、図3の(A)
に示すアレイ100の部分110の部分を照射する。す
ると、ピエゾクリスタル積層体400は膨脹し、この結
果、アレイ100の部分120が図3の(B)に示すよ
うに照射される。図3の(A)及び(B)においては1
2本であるが、図4においては、各々の部分110及び
120は8本のファイバーしか含んでいないということ
は注意されるべきである。
【0036】ファイバーのアレイのさらなる実施例が図
5の(A)及び(B)に示されている。図5の(A)
は、溝を有するファイバーホルダ205を示している。
このファイバーホルダ205は、等しいサイズの2つの
ファイバー束200及び210を保持している。2つの
束200,210は、同一の平行横軸225を中心とし
て共に配置されている。レーザビームは、第1の入射ビ
ームパルス215が全体のファイバーの半分であるファ
イバー束200のすべてを照射するように焦点制御され
る。そして、ビームとファイバーとのうちどちらかが、
レーザビームの次のパルス220が束210上に焦点制
御されるように移動される。
【0037】図5の(B)はファイバー300の3つの
束300,305,310を示している。各々の束30
0,305,310は、全体のファイバーの1/3を有
している。これら束300,305,310は、ファイ
バーホルダ315の溝内に配置されている。第1の走査
位置325はファイバー束300を照射する。ビーム及
ファイバーは、ビームがファイバー束305を照射する
ように互いに相対的に移動する。次のレーザパルスは、
第3の走査位置335内に配置されたファイバーの第3
の束310に向けられる。図5の(B)に示すように、
ファイバーの束300,305,310は、リニアスキ
ャンを可能にするように同一の平行横軸320に沿って
直線的に配置されている。
【0038】図8の(A)及び(B)は、レーザカテー
テルのプラグ部分800を示している。このカテーテル
は、図5の(B)に示すような配列の基端部を有するフ
ァイバーアレイを備えている。溝を有するファイバーホ
ルダ315は、例えば、その中に3つの溝を形成したプ
ラスチック基板である。ファイバー束300,305,
310はファイバーホルダ315内の溝内に配置されて
いる。ファイバーホルダ315は基端部に傾斜面806
を含んでいる。傾斜面806はファイバーホルダ315
の底面からプラグハンドル808に向かって傾斜してい
る。
【0039】プラグ部分800はさらに上部プレート8
02を有している。上部プレート802はこのましくは
モールドされたプラスチックより形成されており、接続
部材810,812によってファイバーホルダ315に
接続されている。接続部材810,812は、上部プレ
ート802と一体的に形成されている。ファイバーホル
ダ315と同様に、上部プレート802は傾斜した面、
即ち傾斜面804を含んでいる。傾斜面804は上部プ
レート802の上面からプラグハンドル808に向かっ
て傾斜している。2つの傾斜面804,806によっ
て、ファイバー束300,305,310ははファイバ
ーホルダ315及び上部プレート802から露出する。
これら傾斜面804,806を上部プレート802及び
ファイバーホルダ315の残りから切り返すことも可能
である。主たる目的は、ファイバーをファイバーホルダ
315及び上部プレート802の端部を越えて延出させ
ることである。この様な突出は図18に示されており、
入力側の表面の汚染を防ぐことによってファイバーの耐
久性を高めている。このような汚染は、基板を設置する
ことの副産物である切除によって生じる場合がある。
【0040】プラグ部分800のうちで、ファイバー束
300,305,310は、単一の束に接続される。こ
の単一の束は、カテーテル600としてプラグ部分80
0から延出している。このカテーテル600は図6を参
照して後述する。
【0041】図9乃至図23は、ファイバーホルダ上の
一つの溝にファイバー束を挿入する方法を示している。
この様な方法はファイバーホルダに保持される各々の束
に利用される。
【0042】図9はテールチューブ900を示してい
る。このテールチューブ900は、ファイバー束902
が長さX露出するようにファイバー束902から引き戻
されている。この長さXは、ファイバー305の1.8
75インチから2インチまでの長さにほぼ等しい。図1
0において、接着プラグ904はチューブ900の端部
の丁度下方に形成されている。接着プラグ904は急速
に乾燥するエポキシによって形成されている。図11に
示すように、クリスタルボンド(又はこれと同様なポッ
ティング材)906は、むき出しになったファイバーに
沿って、約0.25から0.375インチの長さYだけ
加えられている。熱ガン又は熱ボックス(図示せず)が
クリスタルボンドの溶解とファイバーの端部の加熱とに
用いられる。これによって、クリスタルボンド906は
ファイバーの間で作用し、艶出しの間に良い支持を生じ
させる。図12に示すように、シュリンクチューブ90
8の長さqは、ポットされた領域とファイバーとを覆っ
て艶出しの間にさらなる支持を行うように縮んでいる。
長さqは約0.75インチである。
【0043】ファイバー束902のチップは、クリスタ
ルボンド(又はこれと同様なポッティング材)906が
図13に示すように切り取られるように、図示しないダ
イヤモンドワイヤソーを用いて切断される。ファイバー
束902の長さzは露出したまま残り、この長さzは約
1.75インチとなる。ファイバー束902のチップは
この後、ビューラー(BUEHLER)艶出し装置(図
示せず)等の装置によって、12ミクロンと、3ミクロ
ンと、0.3ミクロンのラッピング紙を用いて艶出しさ
れる。艶出しは全てのチップが取り除かれ、全てのファ
イバーが光学的な質の艶出しを備えるまで行われる。
【0044】そして、シュリンクチューブ908はファ
イバー束902から取り除かれる。これはポットされた
端部を熱に入れ、シュリンクチューブをスライドして取
り外すことによって行われる。ファイバー束902の艶
出しされた端部は、クリスタルボンド(又はこれと同様
なポッティング材)906を完全に取り除くように、ア
セトン内に入れられ、ウルトラソニッククリーナ内に設
置される。ポッティング材をファイバー束902の端部
から取り外すときには、艶出しされたファイバーにダメ
ージを与えないように、または、割れが起こらないよう
に注意しなければならない。このステップは図14に示
されている。
【0045】この後、ポリイミド(polyimide )がファ
イバーの端部の長さwだけ取り除かれる。この取り除き
は、約780度Fの温度で1.5分間、図示しない管状
炉内にファイバー束を挿入することによって行われる。
この様にして、露出されたファイバー910が残る。こ
れらは極めて慎重に扱わねばならない。なぜならば、フ
ァイバーは非常に脆いからである。長さwは約1インチ
に等しい。図15はこのステップを示している。
【0046】図16では、シュリンクチューブ912の
約1.25インチ片が長さvだけファイバーの露出した
部分と重ね合わされるように、シュリンクチューブ91
2の約1.25インチ片が位置している。長さvは、約
0.125インチである。シュリンクチューブ912は
この時に縮む。この状態においても、ファイバー910
は脆いので露出したファイバー910を操作するときに
は注意しなければならない。
【0047】図17は、ファイバー束が配設される設置
スライドを示している。スライド上の3つの溝へのファ
イバー束300,305,310の挿入の目的のため
に、この工程は3回繰り返される。
【0048】図18はスライド上の溝へのファイバーの
挿入を示している。ファイバー束902は、艶出しされ
たファイバーの端部がスライドの端部と同一平面になる
ように溝内に位置決めされる。ファイバー束902のチ
ップ916は、溝の末端から突出している。この様な構
造は入力側の表面の汚染を防ぐことによってファイバー
の耐久性を高めている。浄化された水によってファイバ
ーを湿らすと、溝へのファイバー束902の挿入が容易
になる。石英で満たされた紫外線硬化接着剤914は、
ファイバーをスライドの固着する。
【0049】図19及び図20に示すように、シリコン
又はゴム楔によって、湿ったファイバーに圧力が加えら
れる。図示しない顕微鏡で観察しながら、まだ湿ったフ
ァイバーを有しているチップ916は、矩形の密閉パッ
ク内にファイバー305が入るように慎重にそして優し
く調査され操作される。
【0050】図21及び図22は、どの様にしてファイ
バー910が溝内に固定されるかを示している。シリコ
ン又はゴム楔918によって圧力が保たれている間、タ
ック920は露出しているファイバー910上に位置さ
れる。このステップはファイバー910が湿っている間
に行われる。ファイバー910のパッキングを妨害しな
いことが望ましい。そして最後に、図23に示すよう
に、ファイバーと溝との集合体全体がポットされ、かく
してファイバーが溝内に確実に位置させることができ
る。図9乃至図23を参照して説明したのと同一の手順
が、スライドに乗せるべき他の全てのファイバー束に適
用される。
【0051】図6はレーザカテーテル集合体に用いられ
る本発明を示している。レーザ及び光学系集合体70は
ビーム10を生成し、このビーム10は、図1又は図4
のうちどちらかの装置を提供する指向及び結合装置に送
られる。レーザビーム10は指向及び結合装置からカテ
ーテル600に入る。カテーテル600の基端部605
は指向及び結合装置に接続されている。基端部605は
図3の(A)及び(B)に示すように、積層されたファ
イバーアレイのような形状をしていても良い。もちろ
ん、基端部605は、図5の(A)及び(B)を参照し
て説明したアレイの形状にしてもよい。
【0052】上述したもののうちのいずれかの形状の基
端部において、積層されたファイバーアレイは、カテー
テルに用いるために実質的に円形のファイバー束に変え
られる。カテーテル600の先端部601は実質的に円
形であり、患者に挿入される。
【0053】組み立て工程においては、ファイバーは、
先端部601において隣接するファイバーが同時に照射
されるように分類される。この様にして、2つの部分に
別れて照射される基端部のファイバーのために、一部分
のファイバーが部分602を形成している。同様に、他
の部分のファイバーがカテーテル600の先端部601
の所で部分604となっている。
【0054】以下に、図1に示すスキャナ12の制御
を、図7を参照して説明する。レーザマイクロプロセッ
サ50は、信号54,56を介してトリガー回路52と
通信する。信号54は走査可能信号であり、レーザシス
テムが作動可能でかつ走査が望まれていることを示して
いる。レーザが射出されようとしているとき、マイクロ
プロセッサ50はサイラトロントリガー信号を生成し
て、レーザ駆動回路内にサイラトロンを引き起こして、
レーザのトリガリングを導く。走査可能信号54が可能
にされている一方、レーザが射出された後、トリガー回
路52は線58上の信号を生成し、この信号58によっ
て、スキャナ12又はピエゾ電子積層体400は、ファ
イバーの次の部分がレーザの次の射出で照射されるよう
に移動する。千58上の信号は、例えば、スキャナを漸
次移動する矩形波である。
【0055】トリガー回路52は、可能信号としての走
査可能信号54と、クロック信号としてのサイラトロン
トリガー信号56とを受け取るDフリップフロップ回路
を含み得る。フリップフロップの出力は、スキャナ12
又はピエゾ電子積層体400に加えられる前に増幅させ
ても良い。好ましい実施例では、走査可能信号54は走
査の間継続的なレベルにとどまっている。切除の間、サ
イラトロントリガー信号56は周期的にレーザパルスを
発振する。各々のレーザパルスの後、スキャナ12また
はピエゾ電子積層体400は、ファイバーの次の部分が
次のレーザパルスによって照射されるように駆動され
る。
【0056】走査システムに用いるのに特に適した機構
は、図24及び図25に示されている。これら図面で
は、カテーテル600は雄結合部分1020に取り付け
られている。雄結合部分1020はハンドル部材100
3と、スライド1000と、ベース基板1018とを含
んでいる。ハンドル部材1003は、取扱いを容易にし
ていると共に、不要なレーザ放射がお起こらないように
している。ファイバーはスライド1000とベース基板
1018との間に配置されている。基板1018に、図
2のアレイ20や、図3のアレイ100、或いは、図5
の(A)及び(B)のホルダ205,315を保持させ
ても良い。
【0057】雄結合部分1020は雌結合部分1022
に取り付けられている。雌結合部分1022は雄結合部
分1020を、その中に形成された溝又は開口内に収納
する。この溝又は開口の形状は、スライド100及び基
板1018がきちんとフィットするようなものである。
雄結合部分1020に設けられているキーピン1002
は、カテーテル600のサイズを認識するために用いら
れる。ピン1002は、雌結合部分1022内に配置さ
れたマイクロスイッチ1004に接触する。ピン100
2がスイッチ1004に接触する様式は、マイクロスイ
ッチ1004によって生成される独自の信号を制御す
る。雄及び雌結合部分1020,1022の間には、気
泡部材1001が配置されている。この気泡部材100
1は、雄結合部分1020が雌結合部分1022に挿入
されたときにレーザ放射の漏れを防いでいる。
【0058】雄結合部分1020は、ばねプランジャ1
016及び基準ボール1006,1012によって雌結
合部分1022内の適正な位置に配置される。ばねプラ
ンジャ1016は、後方の基準ボール1006上のシー
トカップラに圧力を与えており、ばねプランジャ101
6がスライド1000内に形成された図示しないV溝内
に入ったとき、雄結合部分102011を雌結合部分1
022内にロックする。基準ボール1006は雄結合部
分1020の突出部分を雌結合部分1022内に形成さ
れた受取り溝又は開口に案内している。基準ボール10
12は基板1018をファイバーがレーザ輻射によって
照射されるような位置に向かって押圧することによって
基板1018上に配置されたファイバーに繰り返し性を
与えている。ばね鋼シャッタ1010は、基準ボール1
012が適正に位置するように基板1018の後部を付
勢している。さらに、ばね歯がねシャッタ1010は、
雄結合部分1020が雌結合部分1022から取り外さ
れたときにレーザビームを遮断する。
【0059】雌結合部分1022は図示しないレーザ及
び光学系集合体に設置プレート1008を介して接続さ
れている。設置プレート1008と雌結合部分1022
は、結合機がアライメントを矯正又は改善するために回
転されるようにしてスリップフィットそしている。本発
明は、現在何が最も現実的で最も好ましい実施例かを熟
考して説明されてきたが、その一方で、本発明は説明さ
れた実施例のみに限定されるものではない。その反対
に、本発明は、従属クレームの精神及び範囲内に含めら
れる数種の変形例及び同様な配設方法をカバーすること
を意図している。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を概略的に示す図。
【図2】レーザビームが横切って走査される光ファイバ
ー束の拡大図。
【図3】(A)は第2実施例に従った光ファイバーアレ
イが第1の走査位置にある状態を示す拡大図、(B)は
第2実施例の光ファイバーアレイが第2の走査位置にあ
る状態を示す拡大図。
【図4】図3の(A)及び(B)に示す走査を供給する
装置を示す図。
【図5】(A)は、光ファイバーアレイの別の実施例を
示す図、(B)は、本発明と共に用いられる光ファイバ
ーアレイのさらに別の実施例を示す図。
【図6】レーザカテーテルに利用された本発明を示す
図。
【図7】図1及び図4に示すスキャナの制御装置を示す
図。
【図8】(A)は本発明に従った雄側結合器の斜視図、
(B)は本発明に従った雄側結合器の正面図。
【図9】ファイバー束が長さX露出したテールチューブ
を示す上面図。
【図10】図9に示すファイバー束に接着プラグが取り
付けられた状態を示す上面図。
【図11】図10に示すファイバー束にクリスタルボン
ドが加えられた状態を示す上面図。
【図12】図11に示すファイバー束にシュリンクチュ
ーブが被せられた状態を示す上面図。
【図13】図12に示すファイバー束の端部が切り取ら
れた状態を示す上面図。
【図14】図13に示すファイバー束からシュリンクチ
ューブが取り外された状態を示す上面図。
【図15】図14に示すファイバー束から長さwだけポ
リイミドが取り除かれた状態を示す上面図。
【図16】図15に示すファイバー束及びテールチュー
ブにシュリンクチューブが被せられた状態を示す上面
図。
【図17】ファイバー束が設置される設置スライドを示
す上面図。
【図18】図17に示す設置スライドに、図16に示す
ファイバー束が設置された状態を示す上面図。
【図19】シリコン又はゴム楔によってファイバー束に
圧力が加えられている状態を示す上面図。
【図20】図19に示すシリコン又はゴム楔とファイバ
ー束とを示す断面図。
【図21】ファイバー束が設置スライドの溝に固定され
る状態を示す上面図。
【図22】図21に示すファイバー束の断面図。
【図23】ファイバー束と溝との全体がポットされた状
態を示す上面図。
【図24】本発明と共に用いるのに特に適した雄側結合
部分及び雌側結合部分を含む光ファイバー結合器を示す
図。
【図25】図24に示す結合器において雄側と雌側との
結合部分を離間した状態を示す図。
【符号の説明】
12…スキャナ、13…誘電体ミラー、20…アレイ、
24…第1の走査位置、26…第2の走査位置、70…
レーザ及び光学系集合体、200,210,300,3
05,310…ファイバー束、400…ピエゾクリスタ
ル積層体。

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パルス変調された出力ビームを生成する
    手段及び出力ビームの焦点制御を行う手段(70)と、
    光ファイバーのアレイ(100)と、焦点制御されたビ
    ームを受け取る雌結合部分(1022)と、直線アレイ
    内で前記光ファイバーのアレイの基端部が取り付けら
    れ、前記雌結合部分に取り外し可能に取り付けられた雄
    結合部分(1020)と、前記焦点制御されたビーム
    を、前記光ファイバーのアレイを横切って走査する手段
    (12)とを具備する組織切除装置において、 前記走査手段は、前記ビームの連続的なパルスが、少な
    くとも2以上で前記光ファイバーの全てよりも少ない数
    の光ファイバーを照射するように、かつ、連続的なパル
    スが異なる光ファイバーを照射するように、前記焦点制
    御されたビームを前記生成手段からのパルスに同期させ
    て移動させることを特徴とする組織切除装置。
  2. 【請求項2】 前記光光ファイバーのアレイは、溝付け
    された光ファイバーホルダ(800)内に配置された複
    数の束(200,210,又は、300,305,31
    0)を含んでいることを特徴とする請求項1に記載の組
    織切除装置。
  3. 【請求項3】 前記走査手段はピエゾ電子積層体(40
    0)を含んでいることを特徴とする請求項1に記載の組
    織切除装置。
  4. 【請求項4】 前記溝付けされたファイバーホルダ(8
    00)は、複数の溝を配置した第1のプレート部材(3
    15)を含み、前記溝は前記光ファイバーの束(30
    0,305,310)を保持し、各々の溝は少なくとも
    2つの光ファイバーを収容していることを特徴とする、
    請求項2に記載の組織切除装置のための溝付けされたフ
    ァイバーホルダ(800)。
  5. 【請求項5】 前記パルス変調された出力ビームを生成
    する手段(70)は、エクサイマレーザを備えているこ
    とを特徴とする請求項1に記載の組織切除装置。
  6. 【請求項6】 カテーテルにエネルギー源を結合する結
    合装置であって、雌部分(1022)と、光ファイバー
    カテーテル(600)を延出させて有するハンドル部分
    (1003)を具備する雄部分(1020)と、前記ハ
    ンドルに取り付けられ、カテーテルの第1の面上のアレ
    イ内に配置された前記カテーテルの光ファイバーを有す
    る第1のプレート部材(1018)と、前記第1のプレ
    ートの反対側となるように前記ハンドルに取り付けられ
    た第2のプレート部材(1000)とを具備し、前記雌
    部分は、前記サイズ認識手段と相互作用しカテーテルの
    サイズの示す信号を備える相互作用手段(1004)
    と、エネルギーが前記カテーテルに接続され得るような
    位置に前記雄部分を繰り返し位置決めする手段(100
    6,1012)と、前記雄部分と前記雌部分とが結合さ
    れたときに前記エネルギーを遮断する手段(1010)
    とを備える、カテーテルにエネルギー源を結合する結合
    装置において、 前記光ファイバーは前記第1の面に形成された溝内に配
    置されていることを特徴とする結合装置。
  7. 【請求項7】 前記エネルギー源はエクサイマレーザを
    有し、前記結合装置は前記エクサイマレーザを前記光フ
    ァイバーカテーテルに接続することを特徴とする請求項
    6に記載の結合装置。
  8. 【請求項8】 エネルギーを生成し前記エネルギーの焦
    点制御を行う手段(70)と、アレイ内に配置された基
    端部を有する光ファイバーの束(20)と、焦点制御さ
    れた前記エネルギーを、少なくとも2本以上であって前
    記光ファイバーの全ての数よりも少ない数の光ファイバ
    ーのグループ(25,28,27)に指向する手段(1
    3,15)と、前記光ファイバーのグループの焦点制御
    されたビームを指向するように前記指向手段を走査する
    リニア走査手段(12)とを具備する組織切除装置にお
    いて、 前記リニア走査手段は、光ファイバーの異なるグループ
    上に前記エネルギー生成手段からのエネルギー出力の射
    出を連続的に指向するように前記射出に同期して移動す
    ることを特徴とする組織切除装置。
  9. 【請求項9】 前記リニア走査手段は、光ファイバーの
    2つのグループを走査する事を特徴とする請求項8に記
    載の組織切除装置。
  10. 【請求項10】 前記リニア走査手段は、光ファイバー
    の3つのグループを走査する事を特徴とする請求項8に
    記載の組織切除装置。
  11. 【請求項11】 前記光ファイバーのグループは、溝付
    けされた光ファイバーホルダ内に配置されていることを
    特徴とする請求項8又は9のうちいずれか1項に記載の
    組織切除装置。
  12. 【請求項12】 前記エネルギーを生成する手段(7
    0)は、エクサイマレーザを有していることを特徴とす
    る請求項8に記載の組織切除装置。
  13. 【請求項13】 パルス変調されたエネルギーのビーム
    を生成し前記ビームの焦点制御を行う手段と、光ファイ
    バーのアレイ(300,305,310,又は、20
    0,210)と、前記焦点制御されたビームを前記光フ
    ァイバーのアレイに結合する手段であって前記アレイが
    取り付けられる雄部分(1020)と前記焦点制御され
    たビームを受け取る雌部分(1022)とを有する結合
    手段と、前記ビームを少なくとも2以上であって前記光
    ファイバーの全ての数よりも少ない数の光ファイバーに
    指向する指向手段(12)とを具備する組織切除装置に
    おいて、 前記指向手段は、前記焦点制御されたビームを前記生成
    手段からのパルスに同期させて前記アレイの異なる光フ
    ァイバーに指向するように、前記光ファイバーのアレイ
    と前記焦点制御されたビームとの間の相対的な運動を生
    じさせることを特徴とする組織切除装置。
  14. 【請求項14】 前記雄結合部分(1022)は溝付け
    されたファイバーホルダ(800)を有していることを
    特徴とする請求項13に記載の組織切除装置。
  15. 【請求項15】 前記生成手段(70)はパルス変調さ
    れるエクサイマレーザを有していることを特徴とする請
    求項13に記載の組織切除装置。
  16. 【請求項16】 前記溝付けされたファイバーホルダ
    (800)は、これの上に配置された複数の溝を有して
    いることを特徴とする請求項14に記載の組織切除装
    置。
  17. 【請求項17】 前記雄接続部分(1020)はサイズ
    認識手段(1002)を有していることを特徴とする請
    求項13に記載の組織切除装置。
  18. 【請求項18】 エネルギーを生成し前記エネルギーの
    焦点制御を行う手段と、光ファイバーのアレイ(30
    0,305,310,又は、200,210)と、前記
    焦点制御されたエネルギーを前記光ファイバーのアレイ
    に結合する手段であって前記アレイが取り付けられる雄
    部分(1020)と前記焦点制御されたレーザビームを
    受け取る雌部分(1022)とを有する結合手段と、前
    記レーザビームを少なくとも2以上であって前記光ファ
    イバーの全ての数よりも少ない数の光ファイバーに指向
    する指向手段(12)とを具備する組織切除装置におい
    て、 前記指向手段は、ピエゾ電子積層体(400)を有し、
    前記レーザを前記生成手段からのパルスに同期させて前
    記アレイの異なる光ファイバーに指向するように、前記
    光ファイバーのアレイと前記焦点制御されたレーザビー
    ムとの間の相対的な運動を生じさせることを特徴とする
    組織切除装置。
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