JPH0637346B2 - 帯溶融精製装置 - Google Patents

帯溶融精製装置

Info

Publication number
JPH0637346B2
JPH0637346B2 JP4378689A JP4378689A JPH0637346B2 JP H0637346 B2 JPH0637346 B2 JP H0637346B2 JP 4378689 A JP4378689 A JP 4378689A JP 4378689 A JP4378689 A JP 4378689A JP H0637346 B2 JPH0637346 B2 JP H0637346B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rod
shaped body
base
refining
melting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4378689A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH02225391A (ja
Inventor
和彦 鳥井
昭人 黒坂
輝之 高山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikura Ltd filed Critical Fujikura Ltd
Priority to JP4378689A priority Critical patent/JPH0637346B2/ja
Publication of JPH02225391A publication Critical patent/JPH02225391A/ja
Publication of JPH0637346B2 publication Critical patent/JPH0637346B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は高周波誘導加熱による帯溶融精製装置に関し、
特に、縦型及び横型の併用使用を可能としたものであ
る。
「従来の技術」 帯溶融法は、金属あるいは半導体の精製方法として良く
知られた方法であり、溶融物質が凝固する際に生じる不
純物元素の偏析を利用することを精製の原理としてい
る。例えば、金属の棒状体を高周波誘導コイルで加熱す
ることによって狭い溶融帯を作製し、高周波誘導コイル
を移動させることによって溶融帯を移動させ、この移動
操作を繰り返し行うことによって、金属の棒状体中の不
純物を棒状体の一端側に集め、金属あるいは半導体を精
製する方法であり、近年、銅などの高純度化にも多用さ
れてきている。
「発明が解決しようとする課題」 従来一般に、帯溶融精製方法に用いる装置は、ボート等
の容器に棒状体を横向きに設置し、棒状体に沿って溶融
帯の移動方向を横方向にするもの(以下横型と称する。)
が一般的であるが、この横型の装置を用いた場合、棒状
体と黒鉛ボート等の容器を用いざるを得ないので、容器
側から溶融帯側に不要元素の拡散現象が生じて棒状体が
汚染される問題があった。
そこで、容器と棒状体との非接触の浮遊溶融帯を作製す
ることができ、溶融帯の移動方向が縦方向である装置
(以下、縦型と称する。)を用いて前記汚染の問題を回避
することが行なわれてきた。しかしながらこの縦型の帯
溶融精製装置は、安定な浮遊溶融帯が得られないと、溶
融帯の部分から原料素材が切断されてしまう問題があ
り、特に、純度の低い原料素材の棒状体を直接縦型の帯
溶融精製装置で精製すると、帯溶融の部分からの切断が
顕著に生じる問題があった。
上述した理由により最近においては、一定レベルの純度
までの精製を横型の帯溶融精製装置を用いて精製した
後、得られた棒状体を縦型の帯溶融精製装置にセットし
直し、縦型の帯溶融精製装置で再び精製を行って所望の
レベルの高純度化を行うといった方法が用いられてきて
いる。ところがこの方法を実施する場合、縦型と横型の
帯溶融精製装置を別々に用意して帯溶融精製を行ってい
るために、帯溶融精製に伴う精製コストが向上する問題
があり、しかも、2種類の装置を使用しなければならな
いので装置の維持管理が極めて繁雑になる問題があっ
た。
本発明は前記課題を解決するためになされたもので、帯
溶融精製を行う場合に、縦型と横型の両用に使用するこ
とができ、帯溶融精製による精製コストを低減すること
ができるとともに、維持管理が容易な帯溶融精製装置を
提供することを目的とする。
「課題を解決するための手段」 本発明は前記課題を解決するために、基台の一端側と他
端側に棒状体の支持部を形成し、前記両支持部の間に前
記支持部に支持される棒状体を囲む保護管を設けるとと
もに、前記基台に保護管の長手方向に移動自在に高周波
変成器を設け、この高周波変成器に保護管に沿って移動
する誘導加熱コイルを接続し、前記基台に前記高周波変
成器を移動させる移動機構を設ける一方、前記基台を保
護管を含む鉛直な面に沿って起倒自在に設けてなるもの
である。
「作用」 基台を水平にして保護管内部の棒状体を水平にした状態
で誘導加熱コイルによって棒状体を部分的に溶融して溶
融帯を形成し、次いで誘導加熱コイルを保護管に沿って
水平移動することで溶融帯を水平移動させて棒状体の精
製を行う。また、基台を起立させて保護管内部の棒状体
を起立させた状態で誘導加熱コイルを保護管に沿って移
動させることにより溶融帯を上下移動させて棒状体を精
製する。このように溶融帯を水平方向に移動させて精製
を行った後に上下方向に移動させて精製することによ
り、棒状体に損傷を与えることなく所望の純度に精製す
る。また、基台を水平状態と起立状態にすることにより
横型の帯溶融精製と縦型の帯溶融精製を1台の装置で兼
用する。
「実施例」 第1図と第2図は、本発明の一実施例を示すもので、第
1図において1は水平に設置された盤状の中空の基台を
示し、この基台1の右端部側上面と左端部側上面には、
各々棒状体の支持部2が立設され、支持部2,2の間に
は石英管などからなる保護管3が水平に設けられてい
る。
前記支持部2は、基台1上に立設された中空部材2aの
内部に中空部材2aと絶縁された状態の把持機構を備え
てなるもので、中空部材2a,2aの中空部は保護管3に
よって連通されるとともに、中空部材2aは不活性ガス
などのガス供給源に接続されていて、保護管3と中空部
材2a,2aの中空部によって形成される空間に不活性ガ
スなどを導入できるようになっている。なお、前記中空
部材2a,2aと保護管3の接続部分には継手4が設けら
れていて、保護管3は継手4の着脱により支持部材2a,
2aから分離できるとともに、中空部材2aの内部に設け
られている把持機構によって支持部材2a,2aの間に棒
状体を把持し、把持した棒状体を保護管3で覆うことが
できるようになっている。なお、棒状体の把持機構とし
て一般的なものを例示すると、ステンレスなどからなる
金属製の筒体の周壁に複数のねじ孔を形成し、各ねじ孔
に調整ねじを螺合した構造のものを採用することができ
る。この把持機構では、筒体に棒状体の端部を挿入し、
複数の調整ねじの先端を棒状体の周面に当接させて棒状
体を把持することができる。
また、基台1の内部には、保護管3と平行に配置された
スクリューシャフト7が周回りに回転自在に設けられ、
スクリューシャフト7の一端側にはスクリューシャフト
回転用のモータ8が接続されている。そして、前記基台
1上には前記スクリューシャフト7に係合されてスクリ
ューシャフト7の回転によりスクリューシャフト7と平
行に移動する高周波変成器9が設けられ、この高周波変
成器9に接続された誘導加熱コイル10が保護管3を囲
んで設けられている。
更に、第1図に示す基台1の底部側であってスクリュー
シャフト7の下方にはスクリューシャフト7と直行する
方向に回転軸11が取り付けられるとともに、この回転
軸11の両端には支柱12が取り付けられ、前記回転軸
11を中心として保護管3が鉛直になるまで基台1を回
動できるようになっている。なお、支柱12において回
転軸11に近い部分には透孔が形成されるとともに、基
台1を起立させた状態で支柱12の透孔に対向する部分
にも透孔が形成されていて、支柱12の透孔と基台1の
透孔にピン13を挿通することにより基台1を第2図に
示すように起立状態で係止できるようになっている。
ところで、基台1の内部には、歯車14,14が設けら
れるとともに、この歯車14,14にはチェンなどの線
状体15が巻き掛けられていて、この線状体15の他端
は高周波変成器9に接続されている。
なお、第1図に符号16で示すものは基台1の右端部側
上面に突設された吊り上げ用のフック部である。
以下に前記構成の精製装置によって金属を精製する場合
について説明する。
この発明の装置を用いて金属の精製を行うには、出発原
料として、純度を高めた銅(例えば、残留抵抗比(以下、
RRRと略称する。)が200程度の銅)などからなる金
属製の棒状体を用意する。また、基台1を第1図に示す
ように水平に設置し、黒鉛ボートなどの試料設置ボート
上に前記棒状体を横置きにしてこのボートごと棒状体を
保護管3の内部に設置する。棒状体を設置した保護管3
を支持部2,2に接続したならば、保護管3の内部に不
活性ガスを満たす。
次に高周波変成器9を作動させて誘導加熱コイル9によ
り棒状体を部分加熱して棒状体に溶融帯を形成するとと
もに、モータ8によりスクリューシャフト7を回転させ
て高周波変成器9と誘導加熱コイル10を保護管3に沿
って水平移動させる。この場合、誘導加熱コイル10の
水平移動速度は数十mm/時間程度で良い。このように誘
導加熱コイル10を保護管3に沿って左右に数回水平移
動させて帯溶融を行えば、棒状体の不純物を棒状体の端
部側に集めて棒状体の中央部側を精製することができ
る。このように横置きした棒状体の精製を行うことによ
り、銅製の棒状体であればRRR1000以上の高純度
まで高めることができる。
前記横型の精製を行ったならば、保護管3から棒状体を
取り出し、次いで、支持部2の内部に設けられている把
持機構により棒状体を把持し、その周囲を保護管3で覆
う。続いて基台1のフック部16を利用して基台1を吊
り上げ、基台1を回転軸11を中心として回動させて第
2図に示すように鉛直に起立させる。基台1を起立させ
たならば、ピン13を支柱12の透孔と基台1の透孔に
挿入して基台1を係止する。
この状態で鉛直に支持された棒状体に対し、前記と同様
に高周波変成器9を作動させて棒状体に溶融帯を形成
し、高周波変成器9と誘導加熱コイル10を上下移動さ
せることにより棒状体の精製を行う。この精製操作によ
り前記銅からなる棒状体を用いるならば、RRR360
0程度までの高純度銅を製造することができる。なお、
高周波変成器9が上下移動する場合、スクリューシャフ
ト7に高周波変成器9の重量が全て加わるとスクリュー
シャフト7を傷めるおそれがある。この点において前記
装置では、高周波変成器9の上下移動時に高周波変成器
9をスクリューシャフト7と線状体15で支持するの
で、スクリューシャフト7に加わる負荷を少なくして高
周波変成器9をバランス良く支持し、安定的に上下移動
させることができる。
前記したように横型精製を行った後に縦型精製を行うな
らば、棒状体を折損することなく高純度まで精製するこ
とができる。また、前記した精製装置によれば、帯溶融
に必要な装置を全て1つの基台1に設けているので、横
型と縦型の精製装置を別個に用いていた従来に比較して
1つの装置で横型精製と縦型精製を行うことができ、精
製に用いる装置の数が少なくなって装置の維持管理が容
易になるとともに、精製コストを低減できる効果があ
る。
「製造例」 RRR200の銅からなる棒状体(直径10mm、長さ3
00mm)を出発原料として、前記実施例の装置と同等の
構成の装置を用いて横型帯溶融精製と縦型帯溶融精製を
行った。
横型帯溶融精製において棒状体を設置する場合には、黒
鉛ボートを用い、高周波コイルに通電する際の周波数を
300kHz、出力を5kW、誘導加熱コイルの移動速度を
30mm/時間に設定し、保護管の内部をArガス雰囲気と
して高周波コイルが棒状体を5回通過するようにした。
得られた銅製の棒状体についてRRRを測定したとこ
ろ、1450となり、棒状体の直径と長さに変化は生じ
なかった。
続いて下記の条件で縦型帯溶融精製を行った。
ステンレス製の筒体とこの筒体周壁のねじ孔に螺合した
調製ねじとを有する把持機構を用意し、筒体に前記棒状
体の端部を挿入し、棒状体の端部を調製ねじで押さえ、
筒体を絶縁した状態で支持部の内部にセットし、棒状体
を保護管の内部に挿入して縦型帯溶融精錬を行った。高
周波コイルに通電する際の周波数は300kHz、出力は
7kW、コイルの移動速度は40mm/時間、保護管の内部
はArガス雰囲気に設定し、高周波コイルが棒状体を3回
通過するようにした。
精製した後の棒状体のRRRを測定したところ、360
0となった。
以上説明したように前記構成の装置を用いて横型精製と
縦型精製を行って精製するならば、銅からなるRRR2
00の棒状体からRRR3600の棒状体を得ることが
できる。
「発明の効果」 以上説明したように本発明は、棒状体を横向きにして帯
溶融を行った後に棒状体を縦向きに起立させて帯溶融で
きるので、横型帯溶融と縦型帯溶融を順次行うことで折
損事故などを起こすことなく、純度の高い金属の棒状体
を精製できる効果がある。また、本発明によれば、1つ
の装置で横型帯溶融と縦型帯溶融ができるので、2つの
装置を用いる必要があった従来に比較して装置コストが
安くなって精製コストを低減できる効果がある。また、
1つの装置で2通りの精製ができるので、2つの精製装
置を用いていた従来に比較して装置の維持管理が簡便に
なる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の装置を用いて横型帯溶融に
よる精製を行っている状態を示す側面図、第2図は本発
明の一実施例の装置を用いて縦型帯溶融による精製を行
っている状態を示す側面図である。 1……基台、2……支持部、2a……中空部材、 3……保護管、4……継手、7……スクリューシャフ
ト、 8……モータ、9……高周波変成器、10……誘導加熱
コイル、11……回転軸、1……支柱、13……ピン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基台の一端側と他端側に棒状体の支持部が
    形成され、前記両支持部の間に前記支持部に支持される
    棒状体を囲む保護管が設けられるとともに、前記基台に
    保護管の長手方向に移動自在に高周波変成器が設けら
    れ、この高周波変成器に保護管に沿って移動する誘導加
    熱コイルが接続され、前記基台に前記高周波変成器を移
    動させる移動機構が設けられる一方、前記基台が保護管
    を含む鉛直な面に沿って起倒自在に設けられてなること
    特徴とする帯溶融精製装置。
JP4378689A 1989-02-23 1989-02-23 帯溶融精製装置 Expired - Lifetime JPH0637346B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4378689A JPH0637346B2 (ja) 1989-02-23 1989-02-23 帯溶融精製装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4378689A JPH0637346B2 (ja) 1989-02-23 1989-02-23 帯溶融精製装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02225391A JPH02225391A (ja) 1990-09-07
JPH0637346B2 true JPH0637346B2 (ja) 1994-05-18

Family

ID=12673438

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4378689A Expired - Lifetime JPH0637346B2 (ja) 1989-02-23 1989-02-23 帯溶融精製装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0637346B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9120053D0 (en) * 1991-09-19 1991-11-06 Razedge Ltd Induction heating apparatus
CN104907006B (zh) * 2015-06-08 2017-03-08 南京邮电大学 一种基于区域熔炼原理的有机固体纯化装置
CN109504864A (zh) * 2018-11-22 2019-03-22 云南驰宏国际锗业有限公司 一种5管区熔炉的改进方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02225391A (ja) 1990-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3086856A (en) Method and device for the successive zone melting and resolidifying of extremely pure substances
KR100495772B1 (ko) 실리카 도가니와 이들의 제조방법
JPS6150881B2 (ja)
US3337303A (en) Crystal growing apparatus
US2890139A (en) Semi-conductive material purification method and apparatus
JPH0637346B2 (ja) 帯溶融精製装置
CN101469940B (zh) 一种环形区域熔炼炉
JP3402041B2 (ja) シリコン単結晶の製造装置
JPH07172981A (ja) 半導体単結晶の製造装置および製造方法
JP4164655B2 (ja) ガラスロッドの分断方法およびこれに用いられる分断装置
US3119778A (en) Method and apparatus for crystal growth
US6210478B1 (en) Refining and analysis of material using horizontal cold-crucible induction levitation melting
CA1053545A (en) Non-crucible zone-melting of a semi-conductor
JP3787452B2 (ja) シリコン単結晶の製造方法
US3160478A (en) Apparatus for floating-zone melting
JPH11255575A (ja) 単結晶引上げ装置及びその冷却方法
US3046100A (en) Zone melting of semiconductive material
US3607109A (en) Method and means of producing a large diameter single-crystal rod from a polycrystal bar
JPH0710682A (ja) 単結晶の引上方法及びその製造装置
JPS61261288A (ja) シリコン単結晶引上装置
KR100250393B1 (ko) 크조흐랄스키-방법에 따른, 운반 스탠드에서 지지된 결정 드로잉기의 무거운 부품을 조종하는 장치
RU2186160C1 (ru) Устройство для выращивания тугоплавких монокристаллов
JP4386551B2 (ja) 単結晶製造装置
US3643726A (en) Electric slag remelting process and apparatus for producing metal ingots having a change in transverse dimension
JPH07267777A (ja) 単結晶引上装置