JPH0636344B2

JPH0636344B2 - 液体金属イオン発生方法とその装置

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Publication number: JPH0636344B2
Application number: JP60044722A
Authority: JP
Inventors: 博司山口; 聡原市; 朗嶋瀬; 建興宮内
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1985-03-08
Filing date: 1985-03-08
Publication date: 1994-05-11
Anticipated expiration: 2009-05-11
Also published as: JPS61206143A

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の利用分野〕イオン化物質が外部からのレーザビームによって加熱溶
融されることで、効率的に液体金属イオンが発生される
ようにした液体金属イオン発生方法とその装置に関する
ものである。

〔発明の背景〕

従来の液体金属イオン源におけるイオン化物質溶融方法
は主として通電加熱手段が使用されている。たとえば第
９図に示す如く、イオン放出用ニードル２を複数個の支
持部３にて支持している場合には、上記支持部３を通電
加熱してその表面に付着するイオン化物質１を溶融させ
ている。然るにこの場合には、イオン物質１を大量に貯
溜することができない。また高融点のイオン化物質を溶
融するため支持部３に大電流を流すと、該支持部３が破
損することがある。つぎに第10図は1980年に発行された
インストウ．フイズ．コンフ．セル．No.54チヤプター
７（Inst.Phys.Conf.Ser.No54：Chapter７）第316頁乃
至第321頁に記載されたリキッドメタルフイールド
エミッションイオンソースイズアンド・ゼア・
アプリケーションズ；ピー．デイー．プリューエッド
アンドデイー．ケー．ジェフェリーズ（Liquid Metal
field emission ion sources and their application
s;P.D.Prewett and D.K.Jefferries）に記載されている
もので、この場合には、円筒形状をし、その底面4aを中
央に行くに伴って下方に位置する如く傾斜させその中央
部に貫通穴4bを形成した溜め部４を設け、この溜め部４
内にはイオン化物質１が溜められるが、溜め部４内には
また、図示のように、イオン放出用ニードル２がその下
端部が貫通穴４ｂより一部突出された状態としてその中
央部に配されたものとなっている。また上記溜め部４の
外周に絶縁物にて形成された筒６を固定し、この筒６の
外周面に加熱ヒータ５を固定している。而して上記の構
成においては、加熱ヒータ５の加熱により、筒６を介し
て溜め部４内のイオン化物質１を溶融している。然るに
上記の構成では高融点のイオン化物質１を使用する場合
には加熱ヒータ５に大電流を供給する必要があり、かつ
イオン化物質１の加熱効率が低下する等の問題点を含ん
でいる。このように従来の通電加熱方式によるものにお
いては、高融点のイオン化物質を使用する場合、大電流
を必要とするため、大電流を流すための電源や電線が必
要である。一般にイオンビーム装置においては、その構
成上イオン源部には数ｋＶ以上の高電圧が印加され、か
つ高真空容器中に内装する必要があるので、電線の容量
を大きくすると、構成が複雑になる。また第10図に示す
如くイオン化物質１を溜めるための溜め部４を設けた場
合には、加熱効率が低下する等の問題点を含んでいる。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、簡単容易にして、しかも効率的にイオ
ン化物質を加熱溶融した上、液体金属イオンを発生し得
る液体金属イオン発生方法とその装置を供するにある。

〔発明の概要〕

上記目的は、真空室壁の一部としての窓ガラスを介し、
該真空室の外部より照射されたレーザビームにより、少
なくともリザーバが加熱されることで、イオン化物質が
加熱溶融されることで達成される。また、レーザビーム
を射出する、単一のレーザ発振器と、該発振器より射出
されるレーザビームを、真空室壁の一部としての窓ガラ
スを介し少なくともリザーバに照射せしめるレーザビー
ム照射光学系とを少なくとも具備せしめることで達成さ
れる。

〔発明の実施例〕

以下本発明の実施例を示す第１図乃至第８図について説
明する。第１図は本発明の一実施例を示すイオン放出用
ニードル加熱装置の説明用正面図、第２図はイオン放出
用ニードルおよびリザーバ部加熱装置の説明用正面図、
第３図はイオン化物質加熱装置の説明用正面図、第４図
はイオン放出用ニードルおよびイオン化物質同時加熱装
置の一例を示す説明用平面図、第５図はイオン放出用ニ
ードルおよびイオン化物質同時加熱装置の他の一例を示
す説明用平面図、第６図(a)はイオン放出用ニードル加
熱装置の他の一例を示す説明用正面図、第６図(b)はそ
のＡ−Ａ′矢視平面図、第７図はイオン放出用ニードル
およびイオン化物質加熱装置の他の一例を示す説明用正
面図、第８図は第７図に示すイオン放出用ニードルおよ
びイオン化物質加熱装置用イオンビーム出力制御装置を
示す説明用正面図である。第１図において、７は真空容
器にして、内部にはＧａなどのイオン化物質１を収納
し、その中心部にタングステン等にて形成されたイオン
放出用ニードル２を保持するリザーバ部（溜め部）４を
保持し、側壁の１部には窓7aを形成しこの窓7aを窓ガラ
ス12にて密閉している。８はレーザ発振器にしてたとえ
ばＹＡＧレーザ等にて形成されレーザビーム8aを出力す
る如くしている。９，10は２個の調整ミラー、11は集光
レンズ，13は集光ビーム，14は上記集光ビーム13がイオ
ン放出用ニードル２の先端部に形成された集光スポット
である。なお、上記２個の調整ミラー９，10は上下矢印
方向に移動可能で、また集光レンズ11は上下矢印方向お
よび左右矢印方向に移動可能で、これにより集光スポッ
ト14の位置を調整可能にしている。上記の構成であるか
ら、レーザ発振器８より出力されたレーザビーム8aは２
個の調整ミラー９，10で反射されたのち、集光レンズ11
で集光されてその集光ビーム13が窓ガラス12を通って真
空容器７内に導入し、イオン放出用ニードル２の先端部
に集光スポット14を形成してイオン放出用ニードル２の
先端部を照射加熱する。したがって本実施例において
は、イオン放出用ニードル２の先端部を局部的に直接加
熱することができるので、加熱効率を向上することがで
きる。また従来のように加熱源が真空容器内に設置され
ていないので、構成が簡単である。

つぎに第２図においては、前記第１図と比較すれば明ら
かな如く、３個の調整ミラー９，10a，10bと２個の集光
レンズ11a，11bとを設け、レーザ発振器８よりのレーザ
ビーム8aを３個の調整ミラー９，10a，10bにて２個に分
割し、各レーザビーム8aを２個の集光レンズ11a，11bに
て夫々集光して各集光ビーム13a，13bを窓ガラス12を通
じて真空容器７内に導入し、イオン放出用ニードル２の
先端部と、リザーバ部４とに同時に集光スポット14a，1
4bを形成してイオン放出用ニードル２およびリザーバ部
４を同時に加熱するものである。したがって本実施例に
おいては第１図に示す実施例と比較してイオン放出用ニ
ードル２の他にイオン化物質１も同時に加熱することが
できるので、イオン化物質１は短時間で加熱することが
でき、これによって融点の高いイオン化物質１にも適用
することができる。

つぎに第３図においては、２個の集光レンズ11a，11bに
より集光された２個の集光ビーム13a，13bが窓ガラス12
を通じて真空容器７内に導入する。而して本実施例にお
いてはリザーバ部４がレーザビーム8aを透過可能な物質
たとえば耐熱性の石英ガラス等にて形成されているの
で、上記２個の集光ビーム13a，13bはリザーバ部４を通
過してその内部のイオン化物質１に直接集光スポット14
c，14dを形成してこれを加熱することができる。したが
って、本実施例においては、加熱効率をさらに向上する
ことができ、かつ加熱時間の短縮をはかることができ
る。

つぎに第４図においては、レーザ光に対して透明なイオ
ン化物質を使用した場合を示し、この場合には、レーザ
光としてＣＯ₂レーザ8bを使用し前記第３図における調
整ミラー９，10a，10bおよび集光レンズ11a，11bの代り
に上記ＣＯ₂レーザ8bの波長に対して透明なGe，Cd−T
e，ZnSeなどで形成された２個のレンズ15，16を設け、
かつ上記２個のレンズ15，16と同様透明な物質で形成さ
れ、該レンズ15，16側を開口する円弧状に形成された反
射部18aと、この反射部18ａの内周面に固定され上記レ
ンズ16よりの平行レーザビーム17a，17b…17gを反射さ
せてその内部に挿入するイオン放出用ニードル19に集光
させるため、たとえば金の蒸着膜などの反射材料で形成
された反射膜18bと、上記反射部18aの開口部分に固定さ
れた平板状の透過部18cとからなるリザーバ部18を設け
ている。なお、上記２個のレンズ15，16は平行光線束17
a，…17gを得る装置すなわちコリメータ（Colimater）
を形成している。また上記リザーバ部18内のイオン化物
質20はＣＯ₂レーザ8bに対して透明な材料たとえばSi，G
aAsなどを使用している。上記の構成であるから、レー
ザ発振器８よりのＣＯ₂レーザ8bは２個のレンズ15，16
によって平行レーザビーム17a…17gとなり、真直に窓ガ
ラス12および透過部18cを通過して反射膜18bで反射さ
れ、イオン放出用ニードル19に集光されてこれを加熱す
る。したがって本実施例においては、ＣＯ₂レーザ8bが
イオン放出用ニードル19に到達する以前にその周囲のイ
オン化物質20を部分的に吸収されてこれを加熱すること
ができる。

つぎに第５図においては、前記第４図に示す一方のレン
ズ16と、窓ガラス12との間にレンズ16よりの平行レーザ
ビーム17a…17gを窓ガラス12とリザーバ部18の透過部18
cとの間の焦点21に集光させたのち、リザーバ部18の反
射膜18bに導くための集光レンズ22を設けている。また
上記リザーバ部18の反射部18aおよび反射膜18bは楕円筒
形状に形成され、上記焦点21より反射膜18bに導かれた
ＣＯ₂レーザビームを反射してイオン放出用ニードル19
に集光させる如くしている。上記の構成であるから、レ
ーザ発振器８よりのＣＯ₂レーザ8bは２個のレンズ15，1
6によって平行レーザビーム17a…17gとなり、ついでこ
の平行レーザビーム17a…17gが集光レンズ22により窓ガ
ラス12を通じて真空容器４内のイオン化物質20中の焦点
21に集光したのち、リザーバ部18内に導かれて反射膜18
bで反射され、イオン放出用ニードル19に集光されてこ
れを加熱する。したがって本実施例においてはイオン放
出用ニードル19およびイオン化物質20を均一に加熱する
ことができる。

つぎに第６図(a)，(b)においては、前記第４図に示すも
のと同様な方式にてイオン放出用ニードル２の先端部を
加熱する場合である。この場合には、反射用の放物面ミ
ラー23をリザーバ部４の下方のイオン放出用ニードル２
の先端部の周囲に設けている。この場合には、使用する
レーザビームはイオン化物質１に対して不透明であって
もよい。上記の構成であるから、前記第４図に示すレー
ザ発振器８よりのＣＯ₂レーザ８ｂがレンズ１５，１６
によって平行レーザビーム１７ａ〜１７ｄとなり、これ
が真直に窓ガラス12を通過して放物面ミラー23に反射さ
れ、イオン放出用ニードル２に集光されてこれを加熱す
る。なお本実施例は第４図と同様な方式を使用した場合
について述べたが、これに限定されるものでなく、第５
図と同様な方式を使用することも可能である。

つぎに第７図においては、イオン放出用ニードルの先端
部を加熱する他の一例を示すもので、同図において、24
はフランジにして、真空容器（図示せず）の上方部に固
定され、中央部にはＯリング25を介してガラス製窓26を
固定している。27は複数個の絶縁碍子にして、上方部に
電源（図示せず）に接続する高圧端子28を締着し内部に
電線（図示せず）を挿入している。29は複数個の上方支
持部にして、上端部を上記フランジ24に固定され、下端
部に固定板30を固定し、内部に上記絶縁碍子27内よりの
電線を挿入している。31は凹レンズを形成するガラス板
にして、上記固定板30の中央部に固定されている。32は
円筒形状をした下方支持部にして、上端部を上記固定板
30に固定され、下端部を内方に折り曲げてその上面に底
のない椀形状をしたミラー33を固定している。34はリザ
ーバ部にして、上記下方支持部32内に支持され、内部に
イオン化物質35を介してイオン放出用ニードル36をその
下端部が外部に突出する如く支持されている。37はミラ
ーにして、レーザ源（図示せず）よりのレーザビーム38
を下方の上記窓26に向って反射させる如くしている。な
お上記上方支持部29および下方支持部32内に挿入する電
線は図示していないが、電源からの高電圧はその電線を
介しイオン化物質３５に印加されている。上記の構成で
あるから、ミラー37を反射した平行状態のレーザビーム
38は窓26を通過して真空容器内に導入すると、ガラス板
31にて分散し、その中心のレーザビーム38はリザーバ部
34の上方より内部のイオン化物質35に入射してイオン化
物質35およびイオン放出用ニードル36を加熱する。また
リザーバ部34の外周に分散したレーザビーム38はミラー
33で反射しイオン放出用ニードル36の先端部周囲を照射
してこれを加熱する。したがって本実施例においては、
リザーバ部34と、イオン化物質35およびイオン放出用ニ
ードル36へのレーザ導入部と、このレーザ導入部へのレ
ーザ導入のための光学系とが一体に形成されているか
ら、取付時各部間の調整を行えば以後その必要がなくな
って操作が容易になる。

つぎに第８図においては、前記第７図に示すレーザによ
るイオン化物質およびイオン放出用ニードル加熱装置を
用いたレーザ制御装置を示し、同図において39は真空容
器にして、前記第７図に示す如くフランジ24と、このフ
ランジ24の上面に支持された絶縁碍子27および高圧端子
28と、上記フランジ部24の中央部に支持された窓26と、
上記フランジ24の下面に上方支持部29を介して支持さ
れ、固定板30、ガラス31、下方支持部32、ミラー33、リ
ザーバブ34、イオン化物質35およびイオン放出用ニード
ル36からなるイオン源40と、このイオン源40の下方位置
に上下方向に間隔をおいて配置された板状の引き出し電
極41aおよびアパーチャ41bと、このアパーチャ41bおよ
び上記イオン源のイオン放出用ニードル36に支持された
熱電対55を夫々外方のビーム電流制御系42に接続するた
めの導線43a，43bをシールするコネクタ44a，44bとを保
有している。45はレーザ発振器にして、電源コントロー
ラ部46により一定の出力に制御されたレーザビーム47を
２個の凸レンズからなるビームエクスパンダ48に向かっ
て出力する如くしている。このビームエクスパンダ48は
レーザビーム47の径を調整する如くしている。49は透過
率可変フイルターにして、透明なガラスにて円板状に金
属製の薄膜を連続的にその濃厚を変化させて蒸着して形
成され、その外周部をエクスパンダ48から前記第７図に
示すミラー37に向かって流れるレーザビーム50内に挿入
して上記レーザビーム50の透過光量を調整する如くして
いる。51はフイルター駆動用モータにして、その軸端部
に上記透過率可変フイルタ49と同軸上に固定されたピニ
オン52aに噛合うギヤ52bを固定支持している。53はデイ
テクターにして、上記ミラー37を通過した約１％のレー
ザビームを受けこのレーザビームのレーザパワに相当す
るモニタ信号を上記ビーム電流制御系42に送信する如く
している。上記ビーム電流制御系42は上記デイテクター
53よりのモニタ信号と、アパーチャ41bよりのビーム電
流およびイオン放出用ニードル36の熱電対55からの温度
を受信し、上記ビーム電流もしくは熱電対55からの温度
が変化したとき、モータ制御回路54に信号を送信する如
くしている。このモータ制御回路54は上記ビーム電流制
御系42よりの信号に連動してフイルター駆動用モータ51
を回転させ、透過率可変フイルター49を回転させてビー
ムエクスパンダ48からミラー37へのレーザビーム50の光
量を調整する如くしている。なお図示の56は上記イオン
放出用ニードル36から上記引き出し電極41aによって上
記アパーチャ41bに入射するイオンビーム、57はイオン
放出用ニードル36から上記アパーチャ41b間を通過する
中央付近のイオンビームにして加工、露光、打込みなど
に使用される。上記の構成であるから、レーザ発振器45
から一定出力のレーザビーム47をビームエクスパンダ48
に向って出力すると、ビームエクスパンダ48にて径を調
整されたレーザビーム50がミラー37にて反射され、窓26
を通過して真空容器39内に導入される。ついで、レーザ
ビーム50がガラス板31を通過しつつ分散されてイオン源
40内に設けたリザーバ部34内のイオン化物質35中に導入
されてイオン化物質35およびイオン放出用ニードル36を
加熱する。またリザーバ部34の外周を分散するレーザビ
ームがミラー33で反射されてイオン放出用ニードル36の
先端部周囲を加熱する。ついで上記イオン放出用ニード
ル36の先端部周囲に照射したレーザビームが引き出し電
極41aによってその周囲のイオンビーム56がアパーチャ4
1bに入射し、同時に中央のイオンビーム57がアパーチャ
41b間を通過して加工、露光、打込みなどに使用され
る。而して上記アパーチャ41bよりビーム電流制御系42
に送られるビーム電流もしくはイオン放出用ニードル36
の熱電対55から上記ビーム電流制御系42に送られる温度
が変化すると、これをビーム電流制御系42が検出してモ
ータ制御回路54に信号を送信し、モータ制御回路54より
の信号によってフイルター駆動用モータ51を駆動させる
ので、透過率可変フイルター49が回転してエクスパンダ
48からミラー37に向かって流れるレーザビーム50の透過
光量を調整する。したがって本実施例においてはイオン
放出用ニードル36からのビーム電流、イオン化物質35お
よびイオン放出用ニードル36に照射するレーザの出力お
よびリザーバ部34内の温度をモニタしてイオン電流値を
一定に保持することができる。

〔発明の効果〕

本発明は以上述べたる如く、イオン化物質を十分に保有
することの可能なリザーバを設けて、このイオン化物質
を効率よくレーザ光により加熱することができ、イオン
化物質加熱溶融装置を簡単な構成にすることができ、か
つリザーバの温度およびイオン放出用ニードルからのイ
オン電流の出力量をモニタにしてイオン電流値を一定に
保持することができる効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すイオン放出用ニードル
加熱装置の説明用正面図、第２図はイオン放出用ニード
ルおよびリザーバ部加熱装置の説明用正面図、第３図は
イオン化物質加熱装置の説明用正面図、第４図はイオン
放出用ニードルおよびイオン化物質同時加熱装置の一例
を示す説明用平面図、第５図はイオン放出用ニードルお
よびイオン化物質同時加熱装置の他の一例を示す説明用
平面図、第６図(a)はイオン放出用ニードル先端部加熱
装置の他の一例を示す説明用正面図、第６図(b)はその
Ａ−Ａ′矢視断面平面図、第７図はイオン放出用ニード
ルおよびイオン化物質加熱装置の他の一例を示す説明用
正面図、第８図は第７図に示すイオン放出用ニードルお
よびイオン化物質加熱装置用イオンビーム出力制御装置
を示す説明用正面図、第９図は従来の液体金属イオン源
のイオン化物質加熱装置の一例を示す説明図、第10図は
従来の他の一例を示す説明図である。１，20，35…イオン化物質、２，19，36…イオン放出用
ニードル、３…支持部、４…溜め部、５…加熱ヒータ、
６…筒、７，39…真空容器、８，45…レーザ発振器、
９，10，23，33，37…ミラー、11…集光レンズ、13…集
光ビーム、14…集光スポット、15，16…レンズ、17…平
行レーザビーム、18，34…リザーバ部、21…焦点、24…
フランジ、25…Ｏリング、26…窓、27…絶縁碍子、28…
高圧端子、29…上方支持部、30…固定板、31…ガラス
板、32…下方支持部、38，47，50…レーザビーム、40…
イオン源、41a…引き出し電極、41b…アパーチャ、42…
ビーム電流制御系、43…導線、44…コネクタ、46…電源
コントローラ部、48…ビームエクスパンダ、49…透過率
可変フイルタ、51…フイルタ駆動用モータ、53…デイテ
クター、54モータ制御回路、55…熱電対、56，57…イオ
ンビーム。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者宮内建興神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立製作所生産技術研究所内 (56)参考文献特開昭58−87742（ＪＰ，Ａ) 特開昭58−204445（ＪＰ，Ａ) 特開昭49−10493（ＪＰ，Ａ)

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】真空室内に支持されているリザーバ内にイ
オン化物質が収容された上、該リザーバ内にはまた、イ
オン放出用針状電極が、該電極の下端部が上記リザーバ
底部に穿設されている貫通穴より一部突出された状態で
配された上、上記イオン化物質に高電圧が印加された状
態で、該イオン化物質が加熱溶融されることで、上記イ
オン放出用針状電極より、イオンビームが引き出し電極
により引き出されるようにした液体金属イオン発生方法
であって、真空室壁の一部としての窓ガラスを介し、該
真空室の外部より照射されたレーザビームにより、少な
くともリザーバが加熱されることで、イオン化物質が加
熱溶融されるようにした液体金属イオン発生方法。
【請求項２】真空室の外部より照射されたレーザビーム
によりリザーバおよびイオン放出用針状電極がともに加
熱されることで、イオン化物質が間接的に加熱溶融され
るようにした特許請求の範囲第１項記載の液体金属イオ
ン発生方法。
【請求項３】真空室の外部より照射されたレーザビーム
により、該レーザビームが透過可とされた部材からなる
リザーバを介し、該リザーバ内のイオン化物質が直接的
に加熱溶融されるようにした特許請求の範囲第１項記載
の液体金属イオン発生方法。
【請求項４】真空室の外部より照射されたレーザビーム
によりリザーバ、イオン化物質およびイオン放出用針状
電極がともに加熱されることで、イオン化物質が加熱溶
融されるに際して、真空室へのレーザビームの強度、イ
オン放出用針状電極から引き出されたイオンの電流値お
よび該針状電極での温度を常時モニタしつつ、イオンの
電流値、イオン放出用針状電極での温度の何れかの変化
に対してもイオン電流の値が一定となるべく、真空室へ
のレーザビームの強度が可変制御されるようにした特許
請求の範囲第１項記載の液体金属イオン発生方法。
【請求項５】真空室内に支持されているリザーバ内にイ
オン化物質が収容された上、該リザーバ内にはまた、イ
オン放出用針状電極が、該電極の下端部が上記リザーバ
底部に穿設されている貫通穴より一部突出された状態で
配された上、上記イオン化物質に高電圧が印加された状
態で、該イオン化物質が加熱溶融されることで、上記イ
オン放出用針状電極より、イオンビームが引き出し電極
により引き出されるようにした液体金属イオン発生装置
であって、レーザビームを射出する、単一のレーザ発振
器と、該発振器より射出されるレーザビームを、真空室
壁の一部としての窓ガラスを介し少なくともリザーバに
照射せしめるレーザビーム照射光学系とを含む液体金属
イオン発生装置。
【請求項６】レーザビーム照射光学系は、レーザ発振器
より射出されるレーザビームを、リザーバ、イオン放出
用針状電極各々の方向に分離照射せしめるレーザビーム
分離照射系と、該分離照射系から、上記リザーバ、イオ
ン放出用針状電極各々の方向へのレーザビームが、該リ
ザーバ、イオン放出用針状電極各々にスポット状態とし
て照射されるべく、上記イオン放出用針状電極各々の方
向へのレーザビームを窓ガラス手前位置で集光化せしめ
るレーザビーム集光光学系として構成されている特許請
求の範囲第５項記載の液体金属イオン発生装置。
【請求項７】リザーバがレーザビームが透過可とされた
部材からなるものとして、レーザビーム照射光学系は、
レーザ発振器より射出されるレーザビームがリザーバを
介しイオン化物質にスポット状態として照射されるべ
く、上記リザーバへのレーザビームを窓ガラス手前位置
で集光化せしめるレーザビーム集光光学系として構成さ
れている特許請求の範囲第５項記載の液体金属イオン発
生装置。
【請求項８】単一のレーザ発振器より射出されるレーザ
ビームにより、レーザビーム照射光学系を介し真空室外
部よりリザーバ、イオン化物質およびイオン放出用針状
電極を照射することで、イオン化物質が加熱溶融される
に際して、レーザビーム照射光学系はレーザビーム強度
可変手段として構成された上、該ビームの強度を検出す
る手段、イオン放出用針状電極から引き出されたイオン
の電流を検出する手段、および該針状電極での温度を検
出する手段各々からのレーザビームの強度、イオンの電
流値、イオン放出用針状電極での温度をモニタしつつ、
イオンの電流値、イオン放出用針状電極での温度の何れ
かの変化に対してもイオン電流値が一定となるべく、上
記レーザビーム強度可変手段から真空室へのレーザビー
ムの強度は、該強度可変手段で可変制御されるようにし
た特許請求の範囲第５項記載の液体金属イオン発生装
置。