JPH06345871A - オルガノ珪素化合物を縮合するか、および／または平衡化する方法 - Google Patents
オルガノ珪素化合物を縮合するか、および／または平衡化する方法Info
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- JPH06345871A JPH06345871A JP6115674A JP11567494A JPH06345871A JP H06345871 A JPH06345871 A JP H06345871A JP 6115674 A JP6115674 A JP 6115674A JP 11567494 A JP11567494 A JP 11567494A JP H06345871 A JPH06345871 A JP H06345871A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G79/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen, and carbon with or without the latter elements in the main chain of the macromolecule
- C08G79/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen, and carbon with or without the latter elements in the main chain of the macromolecule a linkage containing phosphorus
- C08G79/025—Polyphosphazenes
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
- C08G77/08—Preparatory processes characterised by the catalysts used
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 酸素含有ホスファゼンの存在下に、オルガノ
珪素化合物を縮合および／または平衡化する方法の提
供。 【構成】 一般式： Ｙ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ（−ＰＣｌ2 ＝Ｎ）n −ＰＣｌ2 Ｏ で示される酸素含有ホスファゼンの存在下に、オルガノ
珪素化合物を縮合および／または平衡化する。 【効果】 本発明による方法は簡単に実施でき、かつ高
い収量が達成される。
珪素化合物を縮合および／または平衡化する方法の提
供。 【構成】 一般式： Ｙ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ（−ＰＣｌ2 ＝Ｎ）n −ＰＣｌ2 Ｏ で示される酸素含有ホスファゼンの存在下に、オルガノ
珪素化合物を縮合および／または平衡化する。 【効果】 本発明による方法は簡単に実施でき、かつ高
い収量が達成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、酸素含有ホスファゼン
の存在下に縮合反応および／または平衡化反応させるこ
とによってオルガノポリシロキサンを製造する方法に関
する。
の存在下に縮合反応および／または平衡化反応させるこ
とによってオルガノポリシロキサンを製造する方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】本発明の範囲では、オルガノポリシロキ
サンの概念はオリゴマー性シロキサンとも理解されるは
ずである。
サンの概念はオリゴマー性シロキサンとも理解されるは
ずである。
【０００３】触媒としてのリン−窒素化合物の存在下で
の縮合反応および／または平衡化反応によるオルガノポ
リシロキサンの製造は、既に公知である。この場合、リ
ン−窒素化合物としては、殊に比較的簡単に入手できる
ことから、しばしば塩化リンニトリルまたは塩化リンニ
トリドとしても表わされるクロルホスファゼンが使用さ
れる。その上、例えばドイツ連邦共和国特許出願公告第
２２２９５１４号明細書（バッカーヘミー社(Wacker-Ch
emie GmbH)、1978年4 月20日発行）もしくは相応する米
国特許第３８３９３８８号明細書が示されるが、この明
細書中には、ハロゲン化炭化水素中に溶解されているリ
ン対窒素の割合が１を上回るクロルホスファゼンについ
て記載されている。更に、ドイツ連邦共和国特許出願公
開第３９０３１３７号明細書（バッカーヘミー社(Wacke
r-Chemie GmbH)、1990年8 月16日発行）もしくは相応す
る米国特許第５００８２２９号明細書には、ハロゲン不
含の有機溶剤中ではあるが、専ら溶解助剤の添加下に溶
解されたクロルホスファゼンについて記載されている。
の縮合反応および／または平衡化反応によるオルガノポ
リシロキサンの製造は、既に公知である。この場合、リ
ン−窒素化合物としては、殊に比較的簡単に入手できる
ことから、しばしば塩化リンニトリルまたは塩化リンニ
トリドとしても表わされるクロルホスファゼンが使用さ
れる。その上、例えばドイツ連邦共和国特許出願公告第
２２２９５１４号明細書（バッカーヘミー社(Wacker-Ch
emie GmbH)、1978年4 月20日発行）もしくは相応する米
国特許第３８３９３８８号明細書が示されるが、この明
細書中には、ハロゲン化炭化水素中に溶解されているリ
ン対窒素の割合が１を上回るクロルホスファゼンについ
て記載されている。更に、ドイツ連邦共和国特許出願公
開第３９０３１３７号明細書（バッカーヘミー社(Wacke
r-Chemie GmbH)、1990年8 月16日発行）もしくは相応す
る米国特許第５００８２２９号明細書には、ハロゲン不
含の有機溶剤中ではあるが、専ら溶解助剤の添加下に溶
解されたクロルホスファゼンについて記載されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の対象は、酸素
含有ホスファゼンが存在する場合に、オルガノ珪素化合
物を縮合および／または平衡化する方法である。
含有ホスファゼンが存在する場合に、オルガノ珪素化合
物を縮合および／または平衡化する方法である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明により使用される
酸素含有ホスファゼンは、有利に一般式： Ｙ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）n−ＰＣｌ2Ｏ （Ｉ） ［式中、Ｙは塩素原子またはヒドロキシル基を表わし、
ｎは０または１〜８までの整数、有利に０または１〜４
の整数、特に有利に１〜３を表わす］で示される酸素含
有クロルホスファゼンである。
酸素含有ホスファゼンは、有利に一般式： Ｙ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）n−ＰＣｌ2Ｏ （Ｉ） ［式中、Ｙは塩素原子またはヒドロキシル基を表わし、
ｎは０または１〜８までの整数、有利に０または１〜４
の整数、特に有利に１〜３を表わす］で示される酸素含
有クロルホスファゼンである。
【０００６】Ｙがヒドロキシル基を表わす場合、次の互
変異性：
変異性：
【０００７】
【化１】
【０００８】が存在し（但し、ｎは前記の意味を表わ
す）、この場合、一般にｐＨ＜７での平衡はむしろ左
側、即ち化合物（Ｉ）にあり、ｐＨ＞７ではむしろ右
側、即ち化合物（Ｉ｀）にある。
す）、この場合、一般にｐＨ＜７での平衡はむしろ左
側、即ち化合物（Ｉ）にあり、ｐＨ＞７ではむしろ右
側、即ち化合物（Ｉ｀）にある。
【０００９】更に、Ｙがヒドロキシル基および３個を上
回るリン原子を有するホスファゼンである場合には、他
の、中間の鎖員に関する極限構造、例えば、
回るリン原子を有するホスファゼンである場合には、他
の、中間の鎖員に関する極限構造、例えば、
【００１０】
【化２】
【００１１】が存在する。
【００１２】従って、式（Ｉ）の化合物（但し、ＹはＯ
Ｈである）に対する全ての詳述は、制限なしに互変異性
体化合物、例えば式（Ｉ｀）および式（Ｉ｀｀）で示さ
れる化合物にもあてはまる。
Ｈである）に対する全ての詳述は、制限なしに互変異性
体化合物、例えば式（Ｉ｀）および式（Ｉ｀｀）で示さ
れる化合物にもあてはまる。
【００１３】式（Ｉ）によって表わされてはいないが、
塩素原子は、全部または部分的に基Ｑによって置換され
ていてもよく、この場合、Ｑは例えばヒドロキシル基、
一価の有機基、例えばアルコキシ基、アリールオキシ
基、塩素としての他のハロゲン原子、オルガノ珪素基お
よびリン含有基を表わす。
塩素原子は、全部または部分的に基Ｑによって置換され
ていてもよく、この場合、Ｑは例えばヒドロキシル基、
一価の有機基、例えばアルコキシ基、アリールオキシ
基、塩素としての他のハロゲン原子、オルガノ珪素基お
よびリン含有基を表わす。
【００１４】有利に式（Ｉ）の酸素含有クロルホスファ
ゼンは、塩素原子が基Ｑによって置換されてはいないも
のである。
ゼンは、塩素原子が基Ｑによって置換されてはいないも
のである。
【００１５】本発明による、式（Ｉ）の酸素含有クロル
ホスファゼンの縮合生成物は、任意の縮合生成物であっ
てよい。例えば２つの酸素含有クロルホスファゼンの末
端リン原子の縮合工程が、ＨＣｌ分離または脱水によっ
て進行する場合、式（Ｉ）（但し、Ｙは−Ｏ−ＰＣｌ2
＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）n−ＰＣｌ2Ｏを表わし、ｎは前
記の意味を表わす）の酸素含有ホスファゼンが得られ
る。非末端リン原子の縮合反応の場合、殊に式（Ｉ）中
の少なくとも１つの塩素原子がヒドロキシル基に等しい
基Ｑを表わす場合、Ｑがリン含有基、例えば：
ホスファゼンの縮合生成物は、任意の縮合生成物であっ
てよい。例えば２つの酸素含有クロルホスファゼンの末
端リン原子の縮合工程が、ＨＣｌ分離または脱水によっ
て進行する場合、式（Ｉ）（但し、Ｙは−Ｏ−ＰＣｌ2
＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）n−ＰＣｌ2Ｏを表わし、ｎは前
記の意味を表わす）の酸素含有ホスファゼンが得られ
る。非末端リン原子の縮合反応の場合、殊に式（Ｉ）中
の少なくとも１つの塩素原子がヒドロキシル基に等しい
基Ｑを表わす場合、Ｑがリン含有基、例えば：
【００１６】
【化３】
【００１７】を表わす、式（Ｉ）の酸素含有ホスファゼ
ンが生じる。
ンが生じる。
【００１８】本発明により使用される酸素含有クロルホ
スファゼンの例は、ＰＣｌ3 ＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3
＝Ｎ−ＰＭｅＣｌＯ、ＰＣｌ3＝Ｎ−Ｐ（ＯＰｈ）2Ｏ、
ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＭｅ(ＯＰｈ)Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＥｔ
2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3
＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）2−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−
ＰＣｌ2＝Ｎ）3−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2
＝Ｎ）4−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）5
−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）6-PCl
2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ（Ｎ＝ＰＣｌ3）−ＰＣｌ
2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ−Ｐ（Ｎ＝ＰＣｌ3）2−ＰＣｌ2Ｏ、
ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−
Ｐ（ＯＰｈ）2Ｏ、ＨＯ−ＰＰｈ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、Ｈ
Ｏ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＥｔ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−Ｐ
Ｃｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2
＝Ｎ）2−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝
Ｎ）3−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝
Ｎ）4−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝
Ｎ）5−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝
Ｎ）6−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ（Ｎ＝
ＰＣｌ3）−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−Ｐ（Ｎ＝
ＰＣｌ3）2−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ
（ＯＨ）＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ
（ＯＨ）＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−Ｐ（Ｎ
＝ＰＣｌ2ＯＨ）（Ｎ＝ＰＣｌ3）−ＰＣｌ2Ｏ、ＯＰＣ
ｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2−Ｏ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＯＰ
Ｃｌ2（−Ｎ＝ＰＣｌ2）2−Ｏ−（ＰＣｌ2＝Ｎ−）2Ｐ
Ｃｌ2Ｏ、ＯＰＣｌ2（−Ｎ＝ＰＣｌ2）3−Ｏ−（ＰＣｌ
2＝Ｎ−）3ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ（ＯＢｕ）＝Ｎ−
ＰＣｌ（ＯＢｕ）＝Ｎ−ＰＣｌ（ＯＢｕ）Ｏ、ＨＯ−Ｐ
Ｃｌ（ＯＰｈ）＝Ｎ−ＰＣｌ（ＯＰｈ）＝Ｎ−ＰＣｌ
（ＯＰｈ）Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ（ＯＰＣｌ2
＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ）＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏおよ
びＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ（ＯＳｉＭ
ｅ2［ＯＳｉＭｅ2］10ＯＨ）＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏであり、
この場合、ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ−Ｐ
Ｃｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）
2−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）3−ＰＣ
ｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）4−ＰＣｌ2Ｏ、
ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−
ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣ
ｌ2＝Ｎ）2−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ
2＝Ｎ）3−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2
＝Ｎ）4−ＰＣｌ2Ｏ、ＯＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2−Ｏ−Ｐ
Ｃｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＯＰＣｌ2（−Ｎ＝ＰＣｌ2）2
−Ｏ−（ＰＣｌ2＝Ｎ−）2ＰＣｌ2ＯおよびＯＰＣｌ
2（−Ｎ＝ＰＣｌ2）3−Ｏ−（ＰＣｌ2＝Ｎ−）3ＰＣｌ2
Ｏが有利に使用され、かつＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−
ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）2−ＰＣｌ2
Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）3−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ
−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣ
ｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）2−ＰＣｌ2ＯおよびＨＯ−Ｐ
Ｃｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）3−ＰＣｌ2Ｏが特に有利に
使用される（但し、Ｍｅはメチル基を表わし、Ｅｔはエ
チル基を表わし、Ｂｕはｎ−ブチル基を表わし、かつＰ
ｈはフェニル基を表わす）。
スファゼンの例は、ＰＣｌ3 ＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3
＝Ｎ−ＰＭｅＣｌＯ、ＰＣｌ3＝Ｎ−Ｐ（ＯＰｈ）2Ｏ、
ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＭｅ(ＯＰｈ)Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＥｔ
2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3
＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）2−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−
ＰＣｌ2＝Ｎ）3−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2
＝Ｎ）4−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）5
−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）6-PCl
2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ（Ｎ＝ＰＣｌ3）−ＰＣｌ
2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ−Ｐ（Ｎ＝ＰＣｌ3）2−ＰＣｌ2Ｏ、
ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−
Ｐ（ＯＰｈ）2Ｏ、ＨＯ−ＰＰｈ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、Ｈ
Ｏ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＥｔ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−Ｐ
Ｃｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2
＝Ｎ）2−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝
Ｎ）3−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝
Ｎ）4−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝
Ｎ）5−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝
Ｎ）6−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ（Ｎ＝
ＰＣｌ3）−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−Ｐ（Ｎ＝
ＰＣｌ3）2−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ
（ＯＨ）＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ
（ＯＨ）＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−Ｐ（Ｎ
＝ＰＣｌ2ＯＨ）（Ｎ＝ＰＣｌ3）−ＰＣｌ2Ｏ、ＯＰＣ
ｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2−Ｏ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＯＰ
Ｃｌ2（−Ｎ＝ＰＣｌ2）2−Ｏ−（ＰＣｌ2＝Ｎ−）2Ｐ
Ｃｌ2Ｏ、ＯＰＣｌ2（−Ｎ＝ＰＣｌ2）3−Ｏ−（ＰＣｌ
2＝Ｎ−）3ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ（ＯＢｕ）＝Ｎ−
ＰＣｌ（ＯＢｕ）＝Ｎ−ＰＣｌ（ＯＢｕ）Ｏ、ＨＯ−Ｐ
Ｃｌ（ＯＰｈ）＝Ｎ−ＰＣｌ（ＯＰｈ）＝Ｎ−ＰＣｌ
（ＯＰｈ）Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ（ＯＰＣｌ2
＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ）＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏおよ
びＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ（ＯＳｉＭ
ｅ2［ＯＳｉＭｅ2］10ＯＨ）＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏであり、
この場合、ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ−Ｐ
Ｃｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）
2−ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）3−ＰＣ
ｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）4−ＰＣｌ2Ｏ、
ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ−
ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣ
ｌ2＝Ｎ）2−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ
2＝Ｎ）3−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2
＝Ｎ）4−ＰＣｌ2Ｏ、ＯＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2−Ｏ−Ｐ
Ｃｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＯＰＣｌ2（−Ｎ＝ＰＣｌ2）2
−Ｏ−（ＰＣｌ2＝Ｎ−）2ＰＣｌ2ＯおよびＯＰＣｌ
2（−Ｎ＝ＰＣｌ2）3−Ｏ−（ＰＣｌ2＝Ｎ−）3ＰＣｌ2
Ｏが有利に使用され、かつＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−
ＰＣｌ2Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）2−ＰＣｌ2
Ｏ、ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）3−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ
−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ、ＨＯ−ＰＣ
ｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）2−ＰＣｌ2ＯおよびＨＯ−Ｐ
Ｃｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）3−ＰＣｌ2Ｏが特に有利に
使用される（但し、Ｍｅはメチル基を表わし、Ｅｔはエ
チル基を表わし、Ｂｕはｎ−ブチル基を表わし、かつＰ
ｈはフェニル基を表わす）。
【００１９】酸素含有ホスファゼンならびにこの製造法
は、既に公知である。その上、例えば J.Emsley 他、J.
Chem. Soc. A (1971) 2863 頁以下には、五塩化リンと
酸素含有化合物、例えばヒドロキシルアミン、塩化ホス
ホリル、アミドリン酸、酸化窒素および硫酸塩との反応
が記載されており、これらの化合物は、まず第一に短鎖
のホスホリルクロルホスファゼン、殊にジクロルホスホ
リルホスホルイミドトリクロリドの製造に適当である。
この場合、基−ＰＣｌ2 Ｏはホスホリル基と呼ばれる。
H.R. Allcock 他による J. Am. Chem. Soc. 107 (1985)
5167頁以下の詳述に相応して、五塩化リンの代わりに
イオン性クロルホスファゼンが使用される場合、比較的
長鎖の酸素含有クロルホスファゼンが製造されることが
できる。R. De Jaeger他、Marcomolecules 25 (1992) 1
254 頁以下には、比較的長鎖のホスホリルクロルホスフ
ァゼンを、短鎖のホスホリルクロルホスファゼンを熱処
理することによる、比較的長鎖のホスホリルクロルホス
ファゼンの製造が示されている。更に、酸素含有ホスフ
ァゼンは、イオン性ホスファゼンとヒドロキシル基含有
化合物との反応によって製造されることができる。
は、既に公知である。その上、例えば J.Emsley 他、J.
Chem. Soc. A (1971) 2863 頁以下には、五塩化リンと
酸素含有化合物、例えばヒドロキシルアミン、塩化ホス
ホリル、アミドリン酸、酸化窒素および硫酸塩との反応
が記載されており、これらの化合物は、まず第一に短鎖
のホスホリルクロルホスファゼン、殊にジクロルホスホ
リルホスホルイミドトリクロリドの製造に適当である。
この場合、基−ＰＣｌ2 Ｏはホスホリル基と呼ばれる。
H.R. Allcock 他による J. Am. Chem. Soc. 107 (1985)
5167頁以下の詳述に相応して、五塩化リンの代わりに
イオン性クロルホスファゼンが使用される場合、比較的
長鎖の酸素含有クロルホスファゼンが製造されることが
できる。R. De Jaeger他、Marcomolecules 25 (1992) 1
254 頁以下には、比較的長鎖のホスホリルクロルホスフ
ァゼンを、短鎖のホスホリルクロルホスファゼンを熱処
理することによる、比較的長鎖のホスホリルクロルホス
ファゼンの製造が示されている。更に、酸素含有ホスフ
ァゼンは、イオン性ホスファゼンとヒドロキシル基含有
化合物との反応によって製造されることができる。
【００２０】本発明により使用される酸素含有ホスファ
ゼンの使用される量は、本発明による方法の範囲内で、
縮合および／または平衡化によってオルガノ珪素化合物
を製造する従来公知の方法の場合と同一であってよい。
しかし、本発明により使用される酸素含有ホスファゼン
の高い効果に基づき、一般に従来公知の方法の場合より
も少ない量で全く十分である。
ゼンの使用される量は、本発明による方法の範囲内で、
縮合および／または平衡化によってオルガノ珪素化合物
を製造する従来公知の方法の場合と同一であってよい。
しかし、本発明により使用される酸素含有ホスファゼン
の高い効果に基づき、一般に従来公知の方法の場合より
も少ない量で全く十分である。
【００２１】有利に、オルガノ珪素化合物の縮合反応お
よび／または平衡化反応を促進する触媒として有効な酸
素含有クロルホスファゼンは、縮合および／または平衡
化されるべきオルガノ珪素化合物の全体量に対して、
０．１〜１０００重量ｐｐｍ（１００万重量部当たりの
重量部）、特に有利に１〜３００重量ｐｐｍの量で使用
される。
よび／または平衡化反応を促進する触媒として有効な酸
素含有クロルホスファゼンは、縮合および／または平衡
化されるべきオルガノ珪素化合物の全体量に対して、
０．１〜１０００重量ｐｐｍ（１００万重量部当たりの
重量部）、特に有利に１〜３００重量ｐｐｍの量で使用
される。
【００２２】本発明による方法の場合、酸素含有ホスフ
ァゼンは、殊に液体である場合には、純粋物質として使
用されてよい。しかし、この化合物は、オルガノ珪素化
合物の縮合および／または平衡化を促進する作用が明白
に低減されるような方法では酸素含有クロルホスファゼ
ンと反応しないか、または少なくとも短時間、即ち数時
間内では反応しない物質との混合物でも、使用されるこ
とができる。
ァゼンは、殊に液体である場合には、純粋物質として使
用されてよい。しかし、この化合物は、オルガノ珪素化
合物の縮合および／または平衡化を促進する作用が明白
に低減されるような方法では酸素含有クロルホスファゼ
ンと反応しないか、または少なくとも短時間、即ち数時
間内では反応しない物質との混合物でも、使用されるこ
とができる。
【００２３】有利に、本発明による方法の場合、酸素含
有ホスファゼンはハロゲン不含の有機溶剤との混合物で
使用され、この場合、常圧で１６０℃まで、殊に１２０
℃までの沸点もしくは沸点範囲を有する溶剤および溶剤
混合物が有利である。
有ホスファゼンはハロゲン不含の有機溶剤との混合物で
使用され、この場合、常圧で１６０℃まで、殊に１２０
℃までの沸点もしくは沸点範囲を有する溶剤および溶剤
混合物が有利である。
【００２４】このような溶剤の例は、アルコール、例え
ばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソー
プロパノールおよびｎ−ブタノール、カルボン酸、例え
ばギ酸および酢酸、エーテル、例えばジオキサン、テト
ラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびジエチレング
リコールジメチルエーテル、エステル、例えば酢酸メチ
ル、酢酸エチル、ｎ−酢酸プロピルおよび酢酸イソプロ
ピル、炭酸ジエチルおよびギ酸エチル、炭化水素、例え
ばペンタン、ｎ−ヘキサン、ヘキサン−異性体混合物、
シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、洗浄用ガソリン
(Waschbenzin）、石油エーテル、ベンゾール、トルオー
ル、およびキシロール、ケトン、例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン、ジエチルケトンおよびメチルイソブチ
ルケトン、アミド、例えばジメチルホルムアミドおよび
Ｎ−メチルピロリドン、ならびにこれらの溶剤の混合物
であり、この場合、炭化水素、殊にトルオールおよびキ
シロール、およびエステル、殊に酢酸エチルが特に有利
である。
ばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソー
プロパノールおよびｎ−ブタノール、カルボン酸、例え
ばギ酸および酢酸、エーテル、例えばジオキサン、テト
ラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびジエチレング
リコールジメチルエーテル、エステル、例えば酢酸メチ
ル、酢酸エチル、ｎ−酢酸プロピルおよび酢酸イソプロ
ピル、炭酸ジエチルおよびギ酸エチル、炭化水素、例え
ばペンタン、ｎ−ヘキサン、ヘキサン−異性体混合物、
シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、洗浄用ガソリン
(Waschbenzin）、石油エーテル、ベンゾール、トルオー
ル、およびキシロール、ケトン、例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン、ジエチルケトンおよびメチルイソブチ
ルケトン、アミド、例えばジメチルホルムアミドおよび
Ｎ−メチルピロリドン、ならびにこれらの溶剤の混合物
であり、この場合、炭化水素、殊にトルオールおよびキ
シロール、およびエステル、殊に酢酸エチルが特に有利
である。
【００２５】本発明による方法で、酸素含有クロルホス
ファゼンがハロゲン不含の有機溶剤との混合物で使用さ
れる場合、酸素含有ホスファゼンの濃度は、混合物の重
量に対して有利に０．０１〜５０重量％、特に有利に
０．１〜２０重量％である。
ファゼンがハロゲン不含の有機溶剤との混合物で使用さ
れる場合、酸素含有ホスファゼンの濃度は、混合物の重
量に対して有利に０．０１〜５０重量％、特に有利に
０．１〜２０重量％である。
【００２６】所望の場合には、酸素含有ホスファゼンは
もちろんハロゲン含有の溶剤との混合物でも使用されて
よいが、しかし殊に毒物学的な点から大抵は望ましくな
い。本発明による方法の場合、オルガノ珪素化合物とし
て、任意の、従来もホスファゼンを基礎とする触媒の存
在下に縮合および／または平衡化されることができたオ
ルガノ珪素化合物が使用されてよい。
もちろんハロゲン含有の溶剤との混合物でも使用されて
よいが、しかし殊に毒物学的な点から大抵は望ましくな
い。本発明による方法の場合、オルガノ珪素化合物とし
て、任意の、従来もホスファゼンを基礎とする触媒の存
在下に縮合および／または平衡化されることができたオ
ルガノ珪素化合物が使用されてよい。
【００２７】オルガノ珪素化合物の縮合反応は、殊に脱
水しながら２つのＳｉ結合されたヒドロキシル基を反応
させるか、更に例えば脱アルコールしながら、Ｓｉ結合
されたヒドロキシル基をＳｉ結合されたアルコキシ基と
反応させるか、またはハロゲン化水素を脱離しながらＳ
ｉ結合されたハロゲンと反応させることである。
水しながら２つのＳｉ結合されたヒドロキシル基を反応
させるか、更に例えば脱アルコールしながら、Ｓｉ結合
されたヒドロキシル基をＳｉ結合されたアルコキシ基と
反応させるか、またはハロゲン化水素を脱離しながらＳ
ｉ結合されたハロゲンと反応させることである。
【００２８】平衡化反応とは、シロキサン単位のシロキ
サン化合物転移を意味する。
サン化合物転移を意味する。
【００２９】縮合反応および平衡化反応は、しばしば同
時に進行する。
時に進行する。
【００３０】本発明による方法の場合に使用されてよい
オルガノ珪素化合物は、一般に公知であり、かつしばし
ば一般式： Ｘ（ＳｉＲ2 Ｏ）a ＳｉＲ2 Ｘ （ＩＩ） および （ＳｉＲ2 Ｏ）b （ＩＩＩ） ［式中、Ｒは同一か、または異なっていてよく、かつ水
素原子または一価の、場合によっては置換された炭化水
素基を表わし、Ｘは同一かまたは異なっていてよく、か
つヒドロキシル基、基−ＯＲ1 （但し、Ｒ1は一価の有
機を表わす）、−ＯＳｉＲ3（但し、Ｒは前記の意味を
表わすか、またはハロゲン原子を表わす）を表わし、ａ
は０または少なくとも１〜１０００、有利に２〜１００
０、特に有利に２〜５００の整数であり、ｂは３〜１
２、有利に４〜８、特に有利に４の数値の整数である］
によって繰り返される。
オルガノ珪素化合物は、一般に公知であり、かつしばし
ば一般式： Ｘ（ＳｉＲ2 Ｏ）a ＳｉＲ2 Ｘ （ＩＩ） および （ＳｉＲ2 Ｏ）b （ＩＩＩ） ［式中、Ｒは同一か、または異なっていてよく、かつ水
素原子または一価の、場合によっては置換された炭化水
素基を表わし、Ｘは同一かまたは異なっていてよく、か
つヒドロキシル基、基−ＯＲ1 （但し、Ｒ1は一価の有
機を表わす）、−ＯＳｉＲ3（但し、Ｒは前記の意味を
表わすか、またはハロゲン原子を表わす）を表わし、ａ
は０または少なくとも１〜１０００、有利に２〜１００
０、特に有利に２〜５００の整数であり、ｂは３〜１
２、有利に４〜８、特に有利に４の数値の整数である］
によって繰り返される。
【００３１】しばしば使用される式によっては表わされ
ていないが、ジオルガノシロキサン単位５モル％まで
は、他のシロキサン単位、例えばＲＳｉＯ3/2 −および
／またはＳｉＯ4/2 −単位によって置き換えられてもよ
い（但し、Ｒは前述された意味を表わす）。
ていないが、ジオルガノシロキサン単位５モル％まで
は、他のシロキサン単位、例えばＲＳｉＯ3/2 −および
／またはＳｉＯ4/2 −単位によって置き換えられてもよ
い（但し、Ｒは前述された意味を表わす）。
【００３２】有利に基Ｒは、水素原子、および炭素原子
１〜１８個を有する炭化水素基であり、この場合炭素原
子１〜４個を有する炭化水素基、殊にメチル基が特に有
利である。
１〜１８個を有する炭化水素基であり、この場合炭素原
子１〜４個を有する炭化水素基、殊にメチル基が特に有
利である。
【００３３】基Ｒの例は、アルキル基、例えばメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ−プロピル基、ｎ
−ブチル基、イソ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペン
チル基、イソ−ペンチル基、ネオ−ペンチル基、ｔ−ペ
ンチル基、ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基、ヘプチ
ル基、例えばｎ−ヘプチル基、オクチル基、例えばｎ−
オクチル基およびイソ−オクチル基、例えば２，２，４
−トリメチルペンチル基、ノニル基、例えばｎ−ノニル
基、デシル基、例えばｎ−デシル基、ドデシル基、例え
ばｎ−ドデシル基、オクタデシル基、例えばｎ−オクタ
デシル基；アルケニル基、例えばビニル基、アリル基、
ｎ−５−ヘキセニル基、４−ビニルシクロヘキシル基お
よび３−ノルボルネンイル基；シクロアルキル基、例え
ばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−エチルシ
クロヘキシル基、シクロヘプチル基、ノルボルニル基お
よびメチルシクロヘキシル基；アリール基、例えばフェ
ニル基、ビフェニリル基、ナフチル基およびアントリル
基およびフェナントリル基；アルカリール基、例えばｏ
−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、キシリル基
およびエチルフェニル基；アラルキル基、例えばベンジ
ル基、α−フェニルエチル基およびβフェニルエチル基
である。
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ−プロピル基、ｎ
−ブチル基、イソ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペン
チル基、イソ−ペンチル基、ネオ−ペンチル基、ｔ−ペ
ンチル基、ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基、ヘプチ
ル基、例えばｎ−ヘプチル基、オクチル基、例えばｎ−
オクチル基およびイソ−オクチル基、例えば２，２，４
−トリメチルペンチル基、ノニル基、例えばｎ−ノニル
基、デシル基、例えばｎ−デシル基、ドデシル基、例え
ばｎ−ドデシル基、オクタデシル基、例えばｎ−オクタ
デシル基；アルケニル基、例えばビニル基、アリル基、
ｎ−５−ヘキセニル基、４−ビニルシクロヘキシル基お
よび３−ノルボルネンイル基；シクロアルキル基、例え
ばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−エチルシ
クロヘキシル基、シクロヘプチル基、ノルボルニル基お
よびメチルシクロヘキシル基；アリール基、例えばフェ
ニル基、ビフェニリル基、ナフチル基およびアントリル
基およびフェナントリル基；アルカリール基、例えばｏ
−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、キシリル基
およびエチルフェニル基；アラルキル基、例えばベンジ
ル基、α−フェニルエチル基およびβフェニルエチル基
である。
【００３４】一価の置換された炭化水素基Ｒの例は、シ
アンアルキル基、例えばβ−シアンエチル基、ハロゲン
化アルキル基、例えば３，３，３−トリフルオルプロピ
ル基およびγ−クロルプロピル基、ハロゲン化アリール
基、例えばｏ−クロルフェニル基、ｍ−クロルフェニル
基およびｐ−クロルフェニル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、アシルオキシアルキル基、例えばγ−アシルオキ
シプロピル基およびγ−メタクリルオキシプロピル基で
ある。
アンアルキル基、例えばβ−シアンエチル基、ハロゲン
化アルキル基、例えば３，３，３−トリフルオルプロピ
ル基およびγ−クロルプロピル基、ハロゲン化アリール
基、例えばｏ−クロルフェニル基、ｍ−クロルフェニル
基およびｐ−クロルフェニル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、アシルオキシアルキル基、例えばγ−アシルオキ
シプロピル基およびγ−メタクリルオキシプロピル基で
ある。
【００３５】基Ｒ1 は有利に炭素原子１〜４個を有する
アルキル基であり、特に有利にメチル基およびエチル基
である。
アルキル基であり、特に有利にメチル基およびエチル基
である。
【００３６】本発明による方法の場合に使用される式
（ＩＩ）のオルガノ珪素化合物の粘度は、２５℃の温度
で有利に０．６〜１０6 ｍｍ2 ／ｓ、特に有利に１０〜
１０4 ｍｍ2 ／ｓである。
（ＩＩ）のオルガノ珪素化合物の粘度は、２５℃の温度
で有利に０．６〜１０6 ｍｍ2 ／ｓ、特に有利に１０〜
１０4 ｍｍ2 ／ｓである。
【００３７】式（ＩＩ）の化合物の例は、２５℃で８０
ｍｍ2 ／ｓの粘度を有するα，ω−ジヒドロキシジメチ
ルポリシロキサン、２５℃で２００００ｍｍ2 ／ｓの粘
度を有するα，ω−ジヒドロキシジメチルポリシロキサ
ン、２５℃で４０ｍｍ2 ／ｓの粘度を有するα，ω−ジ
クロロジメチルポリシロキサン、２５℃で２５ｍｍ2 ／
ｓの粘度を有するα，ω−ビス（トリメチルシロキシ）
ポリメチルヒドロゲンシロキサン、２５℃で２０ｍｍ2
／ｓの粘度を有するα，ω−ビス（トリメチルシロキ
シ）ポリジメチルシロキサン、ヘキサメチルジシロキサ
ンおよび１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメ
チルジシロキサンである。
ｍｍ2 ／ｓの粘度を有するα，ω−ジヒドロキシジメチ
ルポリシロキサン、２５℃で２００００ｍｍ2 ／ｓの粘
度を有するα，ω−ジヒドロキシジメチルポリシロキサ
ン、２５℃で４０ｍｍ2 ／ｓの粘度を有するα，ω−ジ
クロロジメチルポリシロキサン、２５℃で２５ｍｍ2 ／
ｓの粘度を有するα，ω−ビス（トリメチルシロキシ）
ポリメチルヒドロゲンシロキサン、２５℃で２０ｍｍ2
／ｓの粘度を有するα，ω−ビス（トリメチルシロキ
シ）ポリジメチルシロキサン、ヘキサメチルジシロキサ
ンおよび１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメ
チルジシロキサンである。
【００３８】式（ＩＩＩ）の化合物の例は、ヘキサメチ
ルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシ
ロキサンおよびデカメチルシクロペンタシロキサンであ
る。式（ＩＩ）中でＸが−ＯＳｉＲ3 （但し、Ｒは前記
の意味を表わす）を表わす場合には、鎖長を調整するオ
ルガノ珪素化合物が重要である。
ルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシ
ロキサンおよびデカメチルシクロペンタシロキサンであ
る。式（ＩＩ）中でＸが−ＯＳｉＲ3 （但し、Ｒは前記
の意味を表わす）を表わす場合には、鎖長を調整するオ
ルガノ珪素化合物が重要である。
【００３９】更に、本発明による方法の場合には、任意
の、鎖長を調整するオルガノ珪素化合物が使用されてよ
く、この化合物は、ホスファゼンを基礎とする触媒の存
在下に縮合および／または平衡化する従来公知の方法で
も使用されることができたものである。
の、鎖長を調整するオルガノ珪素化合物が使用されてよ
く、この化合物は、ホスファゼンを基礎とする触媒の存
在下に縮合および／または平衡化する従来公知の方法で
も使用されることができたものである。
【００４０】有利に、この種の、式（ＩＩ）（但し、Ｘ
は−ＯＳｉＲ3 ）の化合物とともに鎖長を調整するオル
ガノ珪素化合物は、式： Ｒ2 3ＳｉＺ （ＩＶ） ［式中、Ｒ2 は同一か、または異なっていてよく、かつ
Ｒに前記された意味を表わし、Ｚはヒドロキシル基、基
−ＯＲ1 （但し、Ｒ1 は一価の有機基またはハロゲン原
子）を表わす］で示されるようなものである。
は−ＯＳｉＲ3 ）の化合物とともに鎖長を調整するオル
ガノ珪素化合物は、式： Ｒ2 3ＳｉＺ （ＩＶ） ［式中、Ｒ2 は同一か、または異なっていてよく、かつ
Ｒに前記された意味を表わし、Ｚはヒドロキシル基、基
−ＯＲ1 （但し、Ｒ1 は一価の有機基またはハロゲン原
子）を表わす］で示されるようなものである。
【００４１】基Ｒ2 の例は、基Ｒ、即ち有機基に記載さ
れた例である。
れた例である。
【００４２】Ｚは有利にヒドロキシル基、塩素原子、メ
トキシ基およびエトキシ基である。式（ＩＶ）の化合物
の例は、トリメチルクロルシランおよびトリメチルメト
キシシランである。
トキシ基およびエトキシ基である。式（ＩＶ）の化合物
の例は、トリメチルクロルシランおよびトリメチルメト
キシシランである。
【００４３】使用される、鎖長を調整するオルガノ珪素
化合物の量は、縮合および／または平衡化によって製造
されるオルガノポリシロキサンの分子量の所望の高さに
依存しており、既に公知である。
化合物の量は、縮合および／または平衡化によって製造
されるオルガノポリシロキサンの分子量の所望の高さに
依存しており、既に公知である。
【００４４】本発明により使用されるオルガノ珪素化合
物は、市販の製品であるか、もしくはシリコーン化学で
常用の方法により製造されることができる。
物は、市販の製品であるか、もしくはシリコーン化学で
常用の方法により製造されることができる。
【００４５】本発明による方法の場合に使用される個々
の成分は、それぞれこの種の１種類の成分、ならびにこ
の種の成分の少なくとも２種類のからなる混合物であっ
てよい。
の成分は、それぞれこの種の１種類の成分、ならびにこ
の種の成分の少なくとも２種類のからなる混合物であっ
てよい。
【００４６】使用される温度および圧力は、本発明によ
る方法の場合も、オルガノ珪素化合物を縮合および／ま
たは平衡化する従来公知の方法の場合と同一であってよ
い。縮合反応および／または平衡化反応は、有利に５０
〜２００℃、特に有利に８０〜１６０℃で実施される。
る方法の場合も、オルガノ珪素化合物を縮合および／ま
たは平衡化する従来公知の方法の場合と同一であってよ
い。縮合反応および／または平衡化反応は、有利に５０
〜２００℃、特に有利に８０〜１６０℃で実施される。
【００４７】縮合反応および／または平衡化反応は周囲
雰囲気の圧力、即ち９００〜１１００ｈＰａで実施され
てよい。縮合の際に形成される分離生成物、例えば水、
ＨＣｌまたはアルコールの導出を簡単にするため、オル
ガノ珪素化合物の縮合および／または平衡化は、有利に
８０ｋＰａを下回る圧力で実施される。縮合、しかし殊
に平衡化は、更に高い圧力でも実施されてよい。
雰囲気の圧力、即ち９００〜１１００ｈＰａで実施され
てよい。縮合の際に形成される分離生成物、例えば水、
ＨＣｌまたはアルコールの導出を簡単にするため、オル
ガノ珪素化合物の縮合および／または平衡化は、有利に
８０ｋＰａを下回る圧力で実施される。縮合、しかし殊
に平衡化は、更に高い圧力でも実施されてよい。
【００４８】本発明による方法は、回分法ならびに連続
法により実施されることができる。
法により実施されることができる。
【００４９】所望の粘度が達成された後、本発明により
使用される触媒もしくは、この触媒から、縮合されおよ
び／または平衡化されるべきオルガノ珪素化合物との反
応によって形成され、かつ同様にオルガノ珪素化合物の
縮合および／または平衡化を促進する反応生成物が、従
来もホスファゼンとの組合せで使用された抑制剤もしく
は失活剤、例えばトリイソノニルアミン、ｎ−ブチルリ
チウム、リチウムシロキサノレート、ヘキサメチルジシ
ラザンおよび酸化マグネシウムを添加することによっ
て、抑制されるか、または失活されることによって、本
発明による方法の範囲内で得られるオルガノ珪素化合物
の粘度は一定に保たれることができる。
使用される触媒もしくは、この触媒から、縮合されおよ
び／または平衡化されるべきオルガノ珪素化合物との反
応によって形成され、かつ同様にオルガノ珪素化合物の
縮合および／または平衡化を促進する反応生成物が、従
来もホスファゼンとの組合せで使用された抑制剤もしく
は失活剤、例えばトリイソノニルアミン、ｎ−ブチルリ
チウム、リチウムシロキサノレート、ヘキサメチルジシ
ラザンおよび酸化マグネシウムを添加することによっ
て、抑制されるか、または失活されることによって、本
発明による方法の範囲内で得られるオルガノ珪素化合物
の粘度は一定に保たれることができる。
【００５０】本発明による方法の場合に使用される成分
相互の良好な分布を保証するため、有利にこれらの物質
の混合物は本発明による方法の実施の際に運動される。
相互の良好な分布を保証するため、有利にこれらの物質
の混合物は本発明による方法の実施の際に運動される。
【００５１】本発明により製造されたオルガノポリシロ
キサン、殊に線状オルガノポリシロキサンは、従来公知
の方法によっても、オルガノ珪素化合物を縮合および／
または平衡化させることによって製造される線状オルガ
ノポリシロキサンが使用されてよかったような全ての用
途に使用されることができ、例えば、手入れ剤および化
粧用調剤に、繊維滑沢剤として、オルガノポリシロキサ
ンエラストマーを製造するため使用され、この場合、架
橋は線状オルガノポリシロキサンの末端単位の種類に応
じて、縮合によって、例えばＳｉＣ結合されたビニル基
へのＳｉ結合された水素付加によって、またはラジカル
形成によって、行なわれることができ、および粘着性物
質を拒否する被覆の製造のため使用される。
キサン、殊に線状オルガノポリシロキサンは、従来公知
の方法によっても、オルガノ珪素化合物を縮合および／
または平衡化させることによって製造される線状オルガ
ノポリシロキサンが使用されてよかったような全ての用
途に使用されることができ、例えば、手入れ剤および化
粧用調剤に、繊維滑沢剤として、オルガノポリシロキサ
ンエラストマーを製造するため使用され、この場合、架
橋は線状オルガノポリシロキサンの末端単位の種類に応
じて、縮合によって、例えばＳｉＣ結合されたビニル基
へのＳｉ結合された水素付加によって、またはラジカル
形成によって、行なわれることができ、および粘着性物
質を拒否する被覆の製造のため使用される。
【００５２】本発明による方法は、簡単に実施でき、か
つ高い収量が達成されるという利点を有する。
つ高い収量が達成されるという利点を有する。
【００５３】本発明により使用される、縮合工程および
平衡化工程を促進する酸素含有クロルホスファゼンは、
高い活性を示し、その上、著しく安定性である。即ち、
本発明により使用される酸素含有クロルホスファゼン
は、湿分を完全に排除した場合、多少とも無制限に貯蔵
できる。湿分が完全には排除されない場合、本発明によ
り使用されるクロルホスファゼンは、活性を失わない
か、極めて僅かにだけ失うという利点を有する。更に本
発明により使用される酸素含有クロルホスファゼンは、
多くのハロゲン不含の有機溶剤中で、溶剤の添加なしで
溶解性であるという利点を有する。本発明により使用さ
れる酸素含有ホスファゼンの他の利点は、溶剤なしでも
問題なく使用されることができる液体の種類が入手しや
すいことにある、それというのも固体と異なって液体の
種類は簡単かつ正確に分配できるからである。
平衡化工程を促進する酸素含有クロルホスファゼンは、
高い活性を示し、その上、著しく安定性である。即ち、
本発明により使用される酸素含有クロルホスファゼン
は、湿分を完全に排除した場合、多少とも無制限に貯蔵
できる。湿分が完全には排除されない場合、本発明によ
り使用されるクロルホスファゼンは、活性を失わない
か、極めて僅かにだけ失うという利点を有する。更に本
発明により使用される酸素含有クロルホスファゼンは、
多くのハロゲン不含の有機溶剤中で、溶剤の添加なしで
溶解性であるという利点を有する。本発明により使用さ
れる酸素含有ホスファゼンの他の利点は、溶剤なしでも
問題なく使用されることができる液体の種類が入手しや
すいことにある、それというのも固体と異なって液体の
種類は簡単かつ正確に分配できるからである。
【００５４】下記の例中では、他に記載がない限り、部
およびパーセント表示の全記載は、重量に関する。更
に、全ての粘度記載は２５℃の温度に関する。他に記載
がない限り、下記の例は周囲雰囲気の圧力、即ち約２０
℃、もしくは室温で反応体を一緒に添加する場合に付加
的な加熱または冷却なしに調節される温度で実施され
た。
およびパーセント表示の全記載は、重量に関する。更
に、全ての粘度記載は２５℃の温度に関する。他に記載
がない限り、下記の例は周囲雰囲気の圧力、即ち約２０
℃、もしくは室温で反応体を一緒に添加する場合に付加
的な加熱または冷却なしに調節される温度で実施され
た。
【００５５】前記で既に引用された西ドイツ国特許出願
公告第２２２９５１４号明細書にならって、五塩化リン
と塩化アンモニウムとを２：１〜１．５：１の範囲内で
ＰＣｌ5 ：ＮＨ4 Ｃｌの割合で反応させることによっ
て、次の生成物もしくは生成混合物が得られる： ホスファゼンＡ：［ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ
3］+［ＰＣｌ6］~ ホスファゼンＢ：［ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ
3］+［ＰＣｌ6］~ ５％と［ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝
Ｎ）2−ＰＣｌ3］+［ＰＣｌ6］~ ９５％とからなる混合
物 ホスファゼンＣ：［ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）2−
ＰＣｌ3］+［ＰＣｌ6］~ １５％と［ＰＣｌ3＝Ｎ（−Ｐ
Ｃｌ2＝Ｎ）3−ＰＣｌ3］+［ＰＣｌ6］~ ８５％とから
なる混合物。
公告第２２２９５１４号明細書にならって、五塩化リン
と塩化アンモニウムとを２：１〜１．５：１の範囲内で
ＰＣｌ5 ：ＮＨ4 Ｃｌの割合で反応させることによっ
て、次の生成物もしくは生成混合物が得られる： ホスファゼンＡ：［ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ
3］+［ＰＣｌ6］~ ホスファゼンＢ：［ＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ
3］+［ＰＣｌ6］~ ５％と［ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝
Ｎ）2−ＰＣｌ3］+［ＰＣｌ6］~ ９５％とからなる混合
物 ホスファゼンＣ：［ＰＣｌ3＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）2−
ＰＣｌ3］+［ＰＣｌ6］~ １５％と［ＰＣｌ3＝Ｎ（−Ｐ
Ｃｌ2＝Ｎ）3−ＰＣｌ3］+［ＰＣｌ6］~ ８５％とから
なる混合物。
【００５６】
例１ 撹拌機および排気口を備えたフラスコ中で湿分の遮断下
に、ホスファゼンＡ６４．８２ｇ（０．１モル）をトル
オール１００ｍｌ中に分散する。撹拌下にこの混合物に
室温で脱イオン水３．６ｇ（０．２モル）を、混合物の
温度が発熱反応の結果４０℃を越えて上昇することがな
いように緩徐に添加する。反応混合物が均質になり、か
つＨＣｌガスがもはや逃出しない場合に、反応は終了し
た。３０℃および１００Ｐａで揮発性成分を除去する。
黄土色の油３８．２ｇが残留し、この油から０℃で短時
間の後に無色の結晶が析出する。２時間後、全部の物質
は淡黄色の蝋状固体に凝固した。収量：ＰＣｌ3＝Ｎ−
ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ ３２．７ｇ 融点：３４℃ 撹拌機を備えたフラスコ中で、約８０ｍｍ2ｓ~1の粘度
のα，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン４７５
ｇおよび約２０ｍｍ2ｓ~1の粘度のα，ω−ビス（トリ
メチルシロキシ）ポリジメチルシロキサン２５ｇを１５
０℃に加熱し、かつ撹拌下にトルオール１１３．５ｍｌ
中にＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ １ｇの溶
液０．３０ｍｌを添加する。触媒の添加後、反応容器中
の圧力を約１００Ｐａに低下させ、反応混合物をなお１
０分間１５０℃で撹拌する。引続き、圧力を再び周囲空
気の値に上昇させ、触媒を失活させるため、ｎ−ブチル
リチウム５ｇと３５０ｍｍ2ｓ~1の粘度のα，ω−ビス
（トリメチルシロキシ）ポリジメチルシロキサン２５０
ｇとを反応させることによって製造された、基礎となる
シロキサン混合物０．１５ｇを添加する。生成物とし
て、４０００ｍｍ2ｓ~1の粘度のα，ω−ビス（トリメ
チルシロキシ）ポリジメチルシロキサンが得られるが、
この生成物はガラスのように透明で、無色無臭であり、
かつ約２００℃の温度で数日貯蔵した場合にも、性質の
変化を示さない。
に、ホスファゼンＡ６４．８２ｇ（０．１モル）をトル
オール１００ｍｌ中に分散する。撹拌下にこの混合物に
室温で脱イオン水３．６ｇ（０．２モル）を、混合物の
温度が発熱反応の結果４０℃を越えて上昇することがな
いように緩徐に添加する。反応混合物が均質になり、か
つＨＣｌガスがもはや逃出しない場合に、反応は終了し
た。３０℃および１００Ｐａで揮発性成分を除去する。
黄土色の油３８．２ｇが残留し、この油から０℃で短時
間の後に無色の結晶が析出する。２時間後、全部の物質
は淡黄色の蝋状固体に凝固した。収量：ＰＣｌ3＝Ｎ−
ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ ３２．７ｇ 融点：３４℃ 撹拌機を備えたフラスコ中で、約８０ｍｍ2ｓ~1の粘度
のα，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン４７５
ｇおよび約２０ｍｍ2ｓ~1の粘度のα，ω−ビス（トリ
メチルシロキシ）ポリジメチルシロキサン２５ｇを１５
０℃に加熱し、かつ撹拌下にトルオール１１３．５ｍｌ
中にＰＣｌ3＝Ｎ−ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2Ｏ １ｇの溶
液０．３０ｍｌを添加する。触媒の添加後、反応容器中
の圧力を約１００Ｐａに低下させ、反応混合物をなお１
０分間１５０℃で撹拌する。引続き、圧力を再び周囲空
気の値に上昇させ、触媒を失活させるため、ｎ−ブチル
リチウム５ｇと３５０ｍｍ2ｓ~1の粘度のα，ω−ビス
（トリメチルシロキシ）ポリジメチルシロキサン２５０
ｇとを反応させることによって製造された、基礎となる
シロキサン混合物０．１５ｇを添加する。生成物とし
て、４０００ｍｍ2ｓ~1の粘度のα，ω−ビス（トリメ
チルシロキシ）ポリジメチルシロキサンが得られるが、
この生成物はガラスのように透明で、無色無臭であり、
かつ約２００℃の温度で数日貯蔵した場合にも、性質の
変化を示さない。
【００５７】例２ 排気口を備えたフラスコ中で、１，２，３−トリクロル
プロパン２５０ｍｌ中にホスファゼンＢ１２６．４ｇの
溶液に５０℃で、脱イオン水９．０ｇ（０．５モル）を
添加し、この温度で、ＨＣｌガスがそれ以上出なくなる
までの間撹拌する。引続き、溶剤を他の揮発性成分と一
緒に８０℃および５０Ｐａで除去する。残滓として、茶
色の油状液体が残留した。収量：ＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ−
ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2 Ｏ（５％）とＨＯ−ＰＣｌ2 ＝
Ｎ（−ＰＣｌ2 ＝Ｎ）2 −ＰＣｌ2 Ｏ（９５％）とから
なる混合物 ６９．４ｇ 撹拌機を備えたフラスコ中で、２５ｍｍ2ｓ~1の粘度の
α，ω−ビス（トリメチルシロキシ）ポリメチルヒドロ
ゲンシロキサン２４０ｇおよび３５０ｍｍ2ｓ~1の粘度
のα，ω−ビス（トリメチルシロキシ）ポリジメチルシ
ロキサン１００ｇを１２０℃で、ｐ−キシロール４０ｍ
ｌ中にＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ−ＰＣｌ2 Ｏ
とＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ（−ＰＣｌ2 ＝Ｎ）2 −ＰＣｌ2
Ｏとからなる前記で製造された混合物２ｇの溶液０．１
５ｍｌを添加し、この温度で１０分間撹拌する。室温に
冷却後、触媒を失活させるため、酸化マグネシウム０．
５ｇを反応混合物中に撹拌導入し、引続き濾過する。生
成物として、平均的な式：Ｍｅ3 Ｓｉ［ＯＳｉＭｅ2 ］
13.5［ＯＳｉＭｅＨ］36.5ＯＳｉＭｅ3 のシロキサンが
得られるが、この生成物はガラスのように透明で、無色
無臭であり、かつ約１５０℃の温度で数日貯蔵した場合
にも、性質の変化を示さない。29Ｓｉ−ＮＭＲ−スペク
トルはジメチルシロキシ単位およびメチルヒドロゲンシ
ロキシ単位が統計的に分布されていることを示す。ジメ
チルシロキシ単位の１／１０未満は、なお２つのジメチ
ルシロキシ単位で囲まれている。
プロパン２５０ｍｌ中にホスファゼンＢ１２６．４ｇの
溶液に５０℃で、脱イオン水９．０ｇ（０．５モル）を
添加し、この温度で、ＨＣｌガスがそれ以上出なくなる
までの間撹拌する。引続き、溶剤を他の揮発性成分と一
緒に８０℃および５０Ｐａで除去する。残滓として、茶
色の油状液体が残留した。収量：ＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ−
ＰＣｌ2＝Ｎ−ＰＣｌ2 Ｏ（５％）とＨＯ−ＰＣｌ2 ＝
Ｎ（−ＰＣｌ2 ＝Ｎ）2 −ＰＣｌ2 Ｏ（９５％）とから
なる混合物 ６９．４ｇ 撹拌機を備えたフラスコ中で、２５ｍｍ2ｓ~1の粘度の
α，ω−ビス（トリメチルシロキシ）ポリメチルヒドロ
ゲンシロキサン２４０ｇおよび３５０ｍｍ2ｓ~1の粘度
のα，ω−ビス（トリメチルシロキシ）ポリジメチルシ
ロキサン１００ｇを１２０℃で、ｐ−キシロール４０ｍ
ｌ中にＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ−ＰＣｌ2 Ｏ
とＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ（−ＰＣｌ2 ＝Ｎ）2 −ＰＣｌ2
Ｏとからなる前記で製造された混合物２ｇの溶液０．１
５ｍｌを添加し、この温度で１０分間撹拌する。室温に
冷却後、触媒を失活させるため、酸化マグネシウム０．
５ｇを反応混合物中に撹拌導入し、引続き濾過する。生
成物として、平均的な式：Ｍｅ3 Ｓｉ［ＯＳｉＭｅ2 ］
13.5［ＯＳｉＭｅＨ］36.5ＯＳｉＭｅ3 のシロキサンが
得られるが、この生成物はガラスのように透明で、無色
無臭であり、かつ約１５０℃の温度で数日貯蔵した場合
にも、性質の変化を示さない。29Ｓｉ−ＮＭＲ−スペク
トルはジメチルシロキシ単位およびメチルヒドロゲンシ
ロキシ単位が統計的に分布されていることを示す。ジメ
チルシロキシ単位の１／１０未満は、なお２つのジメチ
ルシロキシ単位で囲まれている。
【００５８】比較例１ 例２に記載の作業方法を繰返すが、変更する点は、ｐ−
キシロール４０ｍｌ中にＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ−ＰＣｌ2
＝Ｎ−ＰＣｌ2 ＯとＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ（−ＰＣｌ2 ＝
Ｎ）2 −ＰＣｌ2 Ｏとからなる混合物２ｇの溶液０．１
５ｍｌの代わりに、前述のドイツ連邦共和国特許出願公
告第２２２９５１４号明細書の記載により製造され、リ
ンと窒素とを２対１の割合で含有するホスホルニトリル
クロリドの１％溶液０．５０ｍｌを、１，２，３−トリ
クロルプロパン中で使用する。
キシロール４０ｍｌ中にＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ−ＰＣｌ2
＝Ｎ−ＰＣｌ2 ＯとＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ（−ＰＣｌ2 ＝
Ｎ）2 −ＰＣｌ2 Ｏとからなる混合物２ｇの溶液０．１
５ｍｌの代わりに、前述のドイツ連邦共和国特許出願公
告第２２２９５１４号明細書の記載により製造され、リ
ンと窒素とを２対１の割合で含有するホスホルニトリル
クロリドの１％溶液０．５０ｍｌを、１，２，３−トリ
クロルプロパン中で使用する。
【００５９】生成物として、平均的な式：Ｍｅ3 Ｓｉ
［ＯＳｉＭｅ2 ］13.5［ＯＳｉＭｅＨ］36.5ＯＳｉＭｅ
3 で示される４５ｍｍ2 ／ｓの粘度を有する無色で透明
な油が得られる。29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルは、ジメチ
ルシロキシ単位およびメチルヒドロゲンシロキシ単位が
統計的には分布されていないことを示す。ジメチルシロ
キシ単位の半分はなお２つのジメチルシロキシ単位で囲
まれている。
［ＯＳｉＭｅ2 ］13.5［ＯＳｉＭｅＨ］36.5ＯＳｉＭｅ
3 で示される４５ｍｍ2 ／ｓの粘度を有する無色で透明
な油が得られる。29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルは、ジメチ
ルシロキシ単位およびメチルヒドロゲンシロキシ単位が
統計的には分布されていないことを示す。ジメチルシロ
キシ単位の半分はなお２つのジメチルシロキシ単位で囲
まれている。
【００６０】例３ スクリュー型反応器中で連続的に、約１２０ｍｍ2ｓ~1
の粘度を有するα，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロ
キサン１５００ｋｇ／ｈ、およびＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ−
ＰＣｌ2 ＝Ｎ−ＰＣｌ2 （５％）とＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ
（−ＰＣｌ2 ＝Ｎ）2 −ＰＣｌ2 Ｏ（９５％）とから例
２により製造された混合物の酢酸エチル中に０．５％の
溶液５００ｍｌ／ｈを添加する。反応器中の温度は１６
０℃、圧力は６ｋＰａである。約２分間の平均滞留時間
の後、連続的にトリイソノニルアミン１０ｍｌ／ｈを添
加することによって、触媒を失活させる。生成物とし
て、約３５００００ｍｍ2ｓ~1の粘度を有するα，ω−
ジヒドロキシポリジメチルシロキサンが得られ、この化
合物はガラスのように透明で、無色無臭である。
の粘度を有するα，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロ
キサン１５００ｋｇ／ｈ、およびＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ−
ＰＣｌ2 ＝Ｎ−ＰＣｌ2 （５％）とＨＯ−ＰＣｌ2 ＝Ｎ
（−ＰＣｌ2 ＝Ｎ）2 −ＰＣｌ2 Ｏ（９５％）とから例
２により製造された混合物の酢酸エチル中に０．５％の
溶液５００ｍｌ／ｈを添加する。反応器中の温度は１６
０℃、圧力は６ｋＰａである。約２分間の平均滞留時間
の後、連続的にトリイソノニルアミン１０ｍｌ／ｈを添
加することによって、触媒を失活させる。生成物とし
て、約３５００００ｍｍ2ｓ~1の粘度を有するα，ω−
ジヒドロキシポリジメチルシロキサンが得られ、この化
合物はガラスのように透明で、無色無臭である。
【００６１】比較例２ スクリュー型混練器中で連続的に、約１２０ｍｍ2ｓ~1
の粘度を有するα，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロ
キサン１５００ｋｇ／ｈ、および既に引用されたドイツ
連邦共和国特許出願公告第２２２９５１４号明細書の記
載により、五塩化リン２モルと塩化アンモニウム１モル
とを反応させることによって製造される酸素不含のホス
ホルニトリルクロリドの、既に引用されたドイツ連邦共
和国特許出願公開第３９０３１３７号明細書により製造
された、アンモニウムラウリルスルフェート０．０４重
量％を含有する酢酸エチル中に１％の溶液４５０ｍｌ／
ｈを添加する。反応器中の温度は１６０℃、圧力は６ｋ
Ｐａである。約２分間の平均滞留時間の後、トリイソノ
ニルアミン２０ｍｌ／ｈを連続的に添加することによっ
て、触媒を失活させる。生成物として、約３５００００
ｍｍ2ｓ~1の粘度を有するα，ω−ジヒドロキシポリジ
メチルシロキサンが得られ、この化合物はガラスのよう
に透明で、無色無臭である。
の粘度を有するα，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロ
キサン１５００ｋｇ／ｈ、および既に引用されたドイツ
連邦共和国特許出願公告第２２２９５１４号明細書の記
載により、五塩化リン２モルと塩化アンモニウム１モル
とを反応させることによって製造される酸素不含のホス
ホルニトリルクロリドの、既に引用されたドイツ連邦共
和国特許出願公開第３９０３１３７号明細書により製造
された、アンモニウムラウリルスルフェート０．０４重
量％を含有する酢酸エチル中に１％の溶液４５０ｍｌ／
ｈを添加する。反応器中の温度は１６０℃、圧力は６ｋ
Ｐａである。約２分間の平均滞留時間の後、トリイソノ
ニルアミン２０ｍｌ／ｈを連続的に添加することによっ
て、触媒を失活させる。生成物として、約３５００００
ｍｍ2ｓ~1の粘度を有するα，ω−ジヒドロキシポリジ
メチルシロキサンが得られ、この化合物はガラスのよう
に透明で、無色無臭である。
【００６２】例４ 排気口を備えたフラスコ中で、室温で脱イオン水３．６
ｇ（０．２モル）を、撹拌下にトルオール１００ｍｌ中
にホスファゼンＣ８６．３ｇ（０．１モル）の分散液に
滴下する。この場合、水添加速度は、混合物の温度が加
熱反応の結果４０℃を上回ることがないように調節す
る。ＨＣｌガスがもはや逃出しない場合に、反応は終了
した。４０℃および２００Ｐａで揮発性成分を除去す
る。黄褐色の液体が残留する。収量：ＰＣｌ3 ＝Ｎ（−
ＰＣｌ2 ＝Ｎ）2 −ＰＣｌ2 Ｏ（１５％）とＰＣｌ3 ＝
Ｎ（−ＰＣｌ2 ＝Ｎ）3 −ＰＣｌ2 Ｏ（８５％）とから
なる混合物５７．１ｇ スクリュー型反応器中で連続的に、約１２０ｍｍ2ｓ~1
の粘度を有するα，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロ
キサン６００ｋｇ／ｈ、トルオール中に、ＰＣｌ3 ＝Ｎ
（−ＰＣｌ2 ＝Ｎ）2 −ＰＣｌ2 ＯとＰＣｌ3 ＝Ｎ（−
ＰＣｌ2 ＝Ｎ）3 −ＰＣｌ2 Ｏとから前記で製造された
ホスファゼン混合物１．５重量％を含有する触媒溶液５
００ｍｌ／ｈ、ならびに１８０ｍｍ2 ／ｓの粘度を有す
るα，ω−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ポリジメチ
ルシロキサン８０ｋｇ／ｈを供給する。反応器中の温度
は１６０℃、圧力は５００Ｐａ未満である。約３分間の
平均滞留時間の後、１，２−ジビニル−１，１，２，２
−テトラメチルジシラザン３０００ｍｌ／ｈを連続的に
添加することによって、触媒を失活させる。生成物とし
て、約２００００ｍｍ2ｓ~1の粘度を有するα，ω−ビ
ス（ビニルジメチルシロキシ）ポリジメチルシロキサン
が得られる。
ｇ（０．２モル）を、撹拌下にトルオール１００ｍｌ中
にホスファゼンＣ８６．３ｇ（０．１モル）の分散液に
滴下する。この場合、水添加速度は、混合物の温度が加
熱反応の結果４０℃を上回ることがないように調節す
る。ＨＣｌガスがもはや逃出しない場合に、反応は終了
した。４０℃および２００Ｐａで揮発性成分を除去す
る。黄褐色の液体が残留する。収量：ＰＣｌ3 ＝Ｎ（−
ＰＣｌ2 ＝Ｎ）2 −ＰＣｌ2 Ｏ（１５％）とＰＣｌ3 ＝
Ｎ（−ＰＣｌ2 ＝Ｎ）3 −ＰＣｌ2 Ｏ（８５％）とから
なる混合物５７．１ｇ スクリュー型反応器中で連続的に、約１２０ｍｍ2ｓ~1
の粘度を有するα，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロ
キサン６００ｋｇ／ｈ、トルオール中に、ＰＣｌ3 ＝Ｎ
（−ＰＣｌ2 ＝Ｎ）2 −ＰＣｌ2 ＯとＰＣｌ3 ＝Ｎ（−
ＰＣｌ2 ＝Ｎ）3 −ＰＣｌ2 Ｏとから前記で製造された
ホスファゼン混合物１．５重量％を含有する触媒溶液５
００ｍｌ／ｈ、ならびに１８０ｍｍ2 ／ｓの粘度を有す
るα，ω−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ポリジメチ
ルシロキサン８０ｋｇ／ｈを供給する。反応器中の温度
は１６０℃、圧力は５００Ｐａ未満である。約３分間の
平均滞留時間の後、１，２−ジビニル−１，１，２，２
−テトラメチルジシラザン３０００ｍｌ／ｈを連続的に
添加することによって、触媒を失活させる。生成物とし
て、約２００００ｍｍ2ｓ~1の粘度を有するα，ω−ビ
ス（ビニルジメチルシロキシ）ポリジメチルシロキサン
が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 オットー シュナイダー ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン カー ル−ボッシュ−シュトラーセ ６ (72)発明者 ヨハン シュースター ドイツ連邦共和国 エマーティング シラ ーシュトラーセ ２
Claims (3)
- 【請求項１】 酸素含有ホスファゼンの存在下にオルガ
ノ珪素化合物を縮合するか、および／または平衡化する
ことを特徴とする、オルガノ珪素化合物を縮合するか、
および／または平衡化する方法。 - 【請求項２】 酸素含有ホスファゼンが、一般式： Ｙ−ＰＣｌ2＝Ｎ（−ＰＣｌ2＝Ｎ）n−ＰＣｌ2Ｏ （Ｉ） ［式中、Ｙは塩素原子またはヒドロキシル基を表わし、
ｎは０または１〜８までの整数を表わす］で示される酸
素含有クロルホスファゼンであるか、および／または該
化合物の縮合生成物である、請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 酸素含有ホスファゼンを、ハロゲン不含
の有機溶剤との混合物で使用する、請求項１または２記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4317909A DE4317909A1 (de) | 1993-05-28 | 1993-05-28 | Verfahren zum Kondensieren und/oder Äquilibrieren von Organosiliciumverbindungen |
| DE4317909.6 | 1993-05-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06345871A true JPH06345871A (ja) | 1994-12-20 |
| JP2667365B2 JP2667365B2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=6489207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6115674A Expired - Lifetime JP2667365B2 (ja) | 1993-05-28 | 1994-05-27 | オルガノ珪素化合物を縮合するか、および／または平衡化する方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5380902A (ja) |
| EP (1) | EP0626415B1 (ja) |
| JP (1) | JP2667365B2 (ja) |
| CN (1) | CN1047175C (ja) |
| CA (1) | CA2124518C (ja) |
| DE (2) | DE4317909A1 (ja) |
| ES (1) | ES2096974T3 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| JP3962898B2 (ja) * | 2001-12-17 | 2007-08-22 | 信越化学工業株式会社 | 線状オルガノシロキサンポリマーの製造方法 |
| US20080020253A1 (en) * | 2004-07-09 | 2008-01-24 | Ingo Neubert | Method for Producing a Membrane-Electrode Unit |
| JP5894911B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2016-03-30 | ダウ コーニング コーポレーションＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 分岐オルガノポリシロキサン |
| JP2018532018A (ja) * | 2015-11-04 | 2018-11-01 | ダウ シリコーンズ コーポレーション | オルガノポリシロキサンの調製方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| NL127441C (ja) * | 1966-02-11 | |||
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| DE3725377A1 (de) * | 1987-07-31 | 1989-02-09 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zum kondensieren und/oder aequilibrieren von organo(poly)siloxanen |
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