JPH06339682A - 含窒素化合物の酸化方法 - Google Patents

含窒素化合物の酸化方法

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JPH06339682A
JPH06339682A JP12951593A JP12951593A JPH06339682A JP H06339682 A JPH06339682 A JP H06339682A JP 12951593 A JP12951593 A JP 12951593A JP 12951593 A JP12951593 A JP 12951593A JP H06339682 A JPH06339682 A JP H06339682A
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JP
Japan
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nitrogen
photocatalyst
ammonia
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aqueous solution
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JP12951593A
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Akira Kidoguchi
晃 木戸口
Toshiharu Inaba
利晴 稲葉
Hidenobu Ito
秀伸 伊藤
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Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd
Original Assignee
Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】光触媒を用いた光化学反応によりアンモニアを
速やかに酸化でき、さらには排液、河川、湖沼等に含ま
れる含窒素有機化合物を低コストで分解、除去すること
ができる含窒素化合物の酸化方法を提供する。 【構成】水中に溶解している含窒素化合物を、光触媒の
存在下で酸化する方法において、該含窒素化合物の水溶
液中での状態が非イオン性となるように含窒素化合物水
溶液のpHを保持することを特徴とする含窒素化合物の
酸化方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は含窒素化合物の酸化方法
に係り、さらに詳しくは排水処理、浄水処理および河
川、湖沼等の浄化処理などにおける含窒素化合物の分
解、除去に好適な含窒素化合物の酸化方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から産業活動によって生じる廃液や
排ガス中から有害な化学物質を除去し、または無害化す
る技術の開発が盛んに行われており、近年、光触媒を利
用した環境汚染物質の分解、除去が注目を集めている。
光反応では反応に必要なエネルギーの一部または全部を
光で与えるため、反応の選択性が高く、また処理対象物
質全体を高温にする必要がない。さらに光触媒を用いる
と光エネルギーの利用率が高まり反応速度を速くするこ
とが可能である。このため、光触媒を用いた反応を環境
中の低濃度の汚染物質の分解、除去に利用し、低コスト
で効率的に環境浄化を行う方法および装置の種々の開発
がなされている。
【0003】例えば、特開昭60−187322号公報
には光触媒と廃棄物が入った反応容器中に光を照射して
廃棄物中の有害物質を分解する方法、特開昭63−11
1929号公報には光触媒を用いて排ガス中の亜酸化窒
素を分解し、無害化する方法、特開平1−143630
号公報には光触媒でフロンガスを処理する方法、特表平
3−502426号公報には窒素酸化物気体を光触媒を
用いて還元する方法、特表平2−501541号公報に
は有機または無機物質で汚染された水を光触媒を用いて
浄化する方法、特表平2−501543号公報には液体
有機物質に過酸化物を添加し、光触媒により酸化して二
酸化炭素とする液体有機物質の無害化方法、特開平3−
193191号公報および特開平4−45896号公報
には水道水を光触媒で浄化する方法、特開平3−194
号公報には二酸化チタンを光触媒として用いる汚染物質
水溶液の処理方法がそれぞれ開示されている。一方、ア
ンモニアおよび含窒素有機化合物は、排液、河川、湖沼
等の悪臭の原因物質である場合が多く、これらを水中よ
り除去することは環境保全上非常に有益である。このた
め、特開平1−288322号公報、特開平1−288
3321号公報、特開平1−231926号公報、特開
平1−218635号公報、特開平1−159031号
公報、特開昭63−80833号公報等には、光触媒を
用いて悪臭物質を分解、除去する装置が種々提案されて
いる。
【0004】しかしながら、光触媒を用いて光化学反応
によりアンモニアを硝酸イオンに酸化する反応は、同じ
光触媒を用いて光化学反応により有機化合物を酸化分解
する反応と較べると反応速度が遅いという欠点がある。
このため、光触媒による酸化反応でアンモニアを酸化処
理しようとすると大きな反応装置が必要となり、さらに
照射される光エネルギーも格段に増加するため、アンモ
ニアの分解除去に対する光化学反応の応用は実用にいた
っていないというのが現状である。また、含窒素有機化
合物を光触媒を用いて光化学反応により酸化分解する
と、反応の途中でアンモニアが生成する場合が多いこと
から、アンモニアの光触媒による酸化反応の遅延は、ア
ンモニアのみならず含窒素有機化合物の酸化分解処理に
おいても半導体光触媒を用いた光化学反応を適用する上
で克服すべき課題であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
従来技術の問題を解決し、光触媒を用いた光化学反応に
よりアンモニアを速やかに酸化でき、さらには排液、河
川、湖沼等に含まれる含窒素有機化合物を低コストで分
解、除去することができる含窒素化合物の酸化方法を提
供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の含窒素化合物の
酸化方法は、水中に溶解している含窒素化合物を、光触
媒の存在下で酸化する方法において、該含窒素化合物の
水溶液中での状態が非イオン性となるように含窒素化合
物水溶液のpHを保持することを特徴とする。
【0007】本発明の方法に用いられる光触媒は、その
存在によって光反応が促進されるものであればよく、必
ずしも光触媒自身が光で励起される必要はない。このよ
うな光触媒としては、二酸化チタン(TiO2 )、チタ
ン酸ストロンチウム(SrTiO3 )、酸化亜鉛(Zn
O)、酸化タングステン(WO3 )、硫化カドミウム
(CdS)、硫化モリブデン(MoS2 )、カドミウム
テルル(CdTe)、カドミウムセレン(CdSe)、
酸化銅(CuO2 )、酸化鉄(Fe2 3 )、酸化錫
(SnO2 )、ガリウム砒素(GaAs)、シリコン
(Si)などの紫外から可視域にかけての光のエネルギ
ーに相当するバンド・ギャップを有する半導体単体また
はこれらの半導体に金(Au)、白金(Pt)、パラジ
ウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(R
u)、ニオブ(Nb)、銅(Cu)、錫(Sn)、酸化
ロジウム(RhO2 )、酸化ルテニウム(RuO2 )、
酸化ニッケル(NiO)、酸化イリジウム(IrO2
等の金属もしくは金属酸化物を担持したものが挙げられ
るが、これら以外の光触媒を用いても本発明には何ら差
し支えない。
【0008】上記光触媒は、例えば、粒径50〜0.0
1μm、好ましくは5〜0.1μmの微粒子状で含窒素
化合物を含んだ液中に1〜0.01重量%の割合で混入
し、懸濁状態で用いられる。光触媒の微粒子は多孔質
材、ガラス繊維などの担体に担持して用いてもよい。ま
たこれらの担持物を液中に適当な間隔で配置してもよ
く、またこれらの光触媒自体を箔状または糸状に成形し
て液中に適当な間隔で配置してもよく、さらにこれらの
光触媒を板状または糸状の基材の上に厚さ10〜0.0
1μm、好ましくは1〜0.01μmの薄層に成形し、
これを液中に適当な間隔で配置して用いてもよい。また
光触媒は単一で用いても複数組み合わせて用いてもよ
く、また使用形態も単一である必要はなく、複数の形態
を組合わせて用いてもよい。
【0009】本発明における含窒素化合物には、アンモ
ニア、各種脂肪族アミン、アニリンまたはその誘導体、
ピリジンまたはその誘導体等が含まれる。これらはいず
れも塩基性を示す化合物であり、水溶液中では水溶液の
pHに応じて水素イオンを受け入れたり放出したりす
る。あるpHの水溶液中でそれぞれの物質がイオン化し
た状態で存在する割合は、それぞれの物質の解離定数よ
り容易に計算することができる。例えば、水中でのアン
モニアの酸塩基平衡は(I)式で与えられる。これよ
り、あるpH値でのアンモニアのアンモニアイオンに対
する存在比ra は(II)式で表わすことができる。 ka =〔NH3 〕〔H+ 〕/〔NH4 + 〕 (I) ra =〔NH3 〕/〔NH4 + 〕=ka /〔H+ 〕=ka /10-pH (II)
【0010】上記式において、pka =log10(−k
a )とすると、pH=pka =9.24のときにはra
=1であり、pH=pka +1のときにはra =10、
pH=pka −1のときにはra =0.1である。従っ
て、アンモニアの場合はpHを9.24以上、好ましく
は10前後に保てば良好な反応速度が得られることとな
る。アンモニア以外の含窒素化合物についても同様な方
法で最適なpH値を決定することができる。代表的な含
窒素化合物の解離定数は化学便覧等の資料より容易に知
ることができる。
【0011】水溶液中の含窒素化合物を非イオン性の状
態とするために水溶液のpHを調整するが、このpH調
整は、例えば、適当なpHに調整した緩衝液を含窒素化
合物水溶液に添加することによって行うことができる。
反応前の含窒素化合物水溶液の含窒素化合物の種類と濃
度および該水溶液の量が明らかな場合は、添加すべき緩
衝液の量は容易に計算できる。水溶液の濃度または量が
把握できない場合は、該水溶液のpHを直接測定しなが
ら緩衝液を注入し、所定のpHに達したところで停止す
る方法が採用される。
【0012】緩衝液としては、入手および調製の容易さ
から、炭酸水素ナトリウム溶液、炭酸ナトリウム溶液ま
たはこれらの混合溶液が好ましい。これらの緩衝液は炭
酸塩で構成されているため、含窒素化合物が酸化分解さ
れて硝酸および亜硝酸イオンが生じると、弱酸である炭
酸イオンが炭酸を経て二酸化炭素に分解し、溶液から気
相に放散し、溶液中に無用な成分が残らないという利点
を有する。またこれらの緩衝液だけでは含窒素化合物水
溶液のpHを必要な値まで高くすることができない場合
は、pH調整液として水酸化ナトリウム水溶液等を用い
てもよい。
【0013】本発明においては、含窒素化合物水溶液の
pHを調整することによって水溶液中の含窒素化合物を
非イオン性の状態に保つことができ、これによって光触
媒を用いた光化学反応による含窒素化合物の酸化分解が
速やかに進行する。これの理由はおおむね次の3種類の
作用によるものと思われる。第1に、イオン性の状態で
は多くの含窒素化合物は正イオンとなり、水分子によっ
て強固に水和されてエネルギー的に安定な状態となって
いる。このため、イオン性の状態の含窒素化合物を酸化
分解するためには多くのエネルギーが必要となる。これ
に対して非イオン性の状態の含窒素化合物は水溶液中で
よりエネルギー的に不安定な状態であり、容易に酸化分
解を受ける。
【0014】第2に、水中の半導体(光触媒)表面はp
Hが低い場合は正に、pHが高い場合には負に帯電して
いる。半導体表面の電荷が零となるpHは等電点と呼ば
れ、個々の半導体により異なる。含窒素化合物水溶液の
pHが半導体光触媒の等電点より低いと、正イオンにイ
オン化した含窒素化合物と半導体光触媒表面の正電荷が
反発し、含窒素化合物の半導体光触媒表面への吸着が妨
げられる。光触媒による光化学反応は触媒表面で起こる
ので含窒素化合物の触媒表面への吸着が妨げられると反
応速度が低下する。非イオン性の状態にある含窒素化合
物は光触媒表面に吸着されやすく、反応速度が向上す
る。第3に、含窒素化合物水溶液のpHが高いと、含窒
素化合物の酸化によって生ずる硝酸および亜硝酸イオン
が半導体光触媒表面から離脱し易くなり、半導体光触媒
表面の硝酸および亜硝酸イオン濃度が低くなって反応が
促進される。上記の3種類の作用のいずれが主となるか
は、半導体光触媒の種類と含窒素化合物の種類により異
なるものと思われる。いずれにしろ上記3種類の作用の
相乗効果によって含窒素化合物の酸化分解反応が加速さ
れると考えられる。
【0015】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1および比較例1 市販のアンモニア特級試薬を蒸留水で希釈し、アンモニ
ア濃度1ppmの溶液を調製し、これに0.05モル濃
度の炭酸ナトリウム水溶液2ミリリットルを加えた。こ
のアンモニア水溶液約2リットルをパイレックスガラス
製のセパラブルフラスコに分取し、二酸化チタン微粉末
(アナタース型、平均粒径5μm)を水溶液に対して
0.1重量%添加し、スターラーで攪拌しながら紫外線
ランプ(10Wブラックライト×4本)をフラスコの四
方より照射した。所定の時間ごとにフラスコ中の液から
10ミリリットルを採取し、これをイオンクロマトグラ
フで分析して液中のアンモニア濃度を測定した。また反
応前後の溶液のpHをガラス電極式のpHメーターで測
定した。
【0016】アンモニア濃度の測定値を紫外線の照射開
始時を1とした相対値に直し、アンモニア残存率と照射
時間の関係を図1中に□印で示した。また測定開始時の
pH値は9.3であり、180分経過後のpHは8.8
であった。この条件下でのアンモニアの減少速度は比較
的速く、180分の紫外線照射で17%のアンモニア濃
度の減少が測定された。また比較のため、炭酸ナトリウ
ム水溶液を加えずに上記と同様にして光照射を行ってア
ンモニア濃度および溶液のpHを測定した。アンモニア
残存率と照射時間の関係を上記と同様にして図1中に○
印で示した。また照射開始時のpH値は6.7であり、
照射停止時のpHは5.9であった。この条件下ではア
ンモニアの減少速度は非常に遅く、紫外線を800分照
射してもアンモニアは5%減少しただけであった。図1
から、本発明の反応の条件の下限に近い最低限の量の炭
酸ナトリウムの添加でも、pH調整を行ったことによる
反応速度の顕著な増加が観察された。
【0017】実施例2および比較例2 市販のアンモニア特級試薬を蒸留水で希釈し、アンモニ
ア濃度1ppmの溶液を調製し、これに0.05モル濃
度の炭酸ナトリウム水溶液20ミリリットルを加えた。
このアンモニア水溶液約2リットルをパイレックスガラ
ス製のセパラブルフラスコに分取し、白金担持二酸化チ
タン微粉末(アナタース型、平均粒径5μm)を水溶液
に対して0.1重量%添加した。白金担持二酸化チタン
微粉末はKreutlerらの方法に従って作製した
(B.Kreutler andA.J.Bard,
J.Am.Chem.Soc.,100,4317(1
978))。二酸化チタンに対する白金の担持量は2.
5重量%であった。
【0018】セパラブルフラスコ内の懸濁液をスターラ
ーで攪拌しながら紫外線ランプ(10Wブラックライト
×4本)をフラスコの四方より照射した。所定の時間ご
とにフラスコの中の液から10ミリリットルを採取し、
実施例1と同様にしてアンモニア濃度測定し、その結果
を図2中に□印で示した。また同様にして溶液のpHを
測定したところ、照射開始時のpH値は10.0であ
り、360分経過後のpHは9.9であった。この条件
下でのアンモニアの減少速度は非常に速く、360分の
紫外線照射で80%のアンモニア濃度の減少が測定され
た。
【0019】また比較のため、炭酸ナトリウム水溶液を
加えずに上記と同様にして光照射を行ってアンモニア濃
度を測定し、結果を図2中に○印で示した。また水溶液
の照射開始時のpH値は8.7であり、照射停止時での
pHは6.3であった。この条件下ではアンモニアの減
少速度は非常に遅く、紫外線を360分照射してもアン
モニアは10%減少しただけであった。図2から、pH
値を高く保つのに充分な量の炭酸ナトリウムを添加した
場合は、反応速度の顕著な増加が観察され、本発明の効
果が実証された。
【0020】実施例3 市販のジメチルアミン特級試薬を蒸留水で希釈し、ジメ
チルアミン濃度10ppmの溶液を調製し、これに0.
1モル濃度の水酸化ナトリウム水溶液20ミリリットル
を加えた。このアンモニア水溶液約2リットルをパイレ
ックスガラス製のセパラブルフラスコに分取し、二酸化
チタン微粉末(アナタース型、平均粒径5μm)を水溶
液にして0.01重量%添加し、スターラーで攪拌しな
がら紫外線ランプ(10Wブラックライト×4本)をフ
ラスコの四方より照射した。実施例1と同様にして所定
時間ごとのジメチルアミン濃度を測定し、その結果を図
3中に□印で示した。また水溶液のpHを測定したとこ
ろ、照射開始時のpH値は10.9であり、240分経
過後のpHは10.8であった。この条件下でのジメチ
ルアミンの減少速度は非常に速く、240分の紫外線照
射で92%のジメチルアミン濃度の減少が測定された。
また比較のため、水酸化ナトリウム水溶液を加えずに上
記と同様にして光照射を行ってアンモニア濃度を測定
し、結果を図3中に○印で示した。水溶液の照射開始時
のpH値は9.8であり、照射停止時のpHは8.7で
あった。この条件下ではジメチルアミンの減少速度は反
応の途中から非常に遅くなり、最終的に紫外線を240
分照射してもジメチルアミンは15%減少しただけであ
った。図3から、本発明の方法が含窒素有機化合物の分
解に対して有効であることが明らかとなった。
【0021】
【発明の効果】本発明の方法によれば、光触媒を用いた
光化学反応によって水溶液中の含窒素化合物の酸化分解
反応の反応速度が大幅に向上するため、反応に必要な時
間が大幅に減少し、従来と同一容積の反応装置で従来よ
り多量の含窒素化合物水溶液を処理することができ、ま
た反応に必要な光エネルギーの量が大幅に減少し、運転
コストの低減が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1および比較例1における光照射時間と
アンモニア残留率の関係を示す図。
【図2】実施例2および比較例2における光照射時間と
アンモニア残留率の関係を示す図。
【図3】実施例3および比較例3における光照射時間と
アミン残留率の関係を示す図。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水中に溶解している含窒素化合物を、光
    触媒の存在下で酸化する方法において、該含窒素化合物
    の水溶液中での状態が非イオン性となるように含窒素化
    合物水溶液のpHを保持することを特徴とする含窒素化
    合物の酸化方法。
JP12951593A 1993-05-31 1993-05-31 含窒素化合物の酸化方法 Withdrawn JPH06339682A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH094899A (ja) * 1995-06-16 1997-01-10 Matsushita Seiko Co Ltd 換気装置
JP2006113006A (ja) * 2004-10-18 2006-04-27 Nikkiso Co Ltd 化学分析用前処理装置

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