JPH06338391A - エレクトロルミネッセンス表示素子 - Google Patents
エレクトロルミネッセンス表示素子Info
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- JPH06338391A JPH06338391A JP5125934A JP12593493A JPH06338391A JP H06338391 A JPH06338391 A JP H06338391A JP 5125934 A JP5125934 A JP 5125934A JP 12593493 A JP12593493 A JP 12593493A JP H06338391 A JPH06338391 A JP H06338391A
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Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 明るく且つコントラストが良好な表示画像を
得ることができるエレクトロルミネッセンス表示素子を
提供する。 【構成】 ガラス基板７の表面上には透明電極４が形成
されており、この透明電極４上には絶縁層２を介して発
光層１が選択的に形成されている。この発光層１は絶縁
層３に被覆されており、この絶縁層３上には黒色系薄膜
６を介して金属電極５が選択的に形成されている。黒色
系薄膜６はチタンとアルミニウムとの合金の酸化物又は
窒化物からなる。
得ることができるエレクトロルミネッセンス表示素子を
提供する。 【構成】 ガラス基板７の表面上には透明電極４が形成
されており、この透明電極４上には絶縁層２を介して発
光層１が選択的に形成されている。この発光層１は絶縁
層３に被覆されており、この絶縁層３上には黒色系薄膜
６を介して金属電極５が選択的に形成されている。黒色
系薄膜６はチタンとアルミニウムとの合金の酸化物又は
窒化物からなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、パーソナルコンピュー
タ及び車載用電子機器等の表示装置として好適のエレク
トロルミネッセンス表示素子に関する。
タ及び車載用電子機器等の表示装置として好適のエレク
トロルミネッセンス表示素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】パーソナルコンピュータ及び車載用電子
機器等の表示装置として、フラットパネルディスプレイ
（平面表示装置）が広く使用されている。フラットパネ
ルディスプレイには、主に、液晶を利用した液晶表示素
子と、エレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬという）
を利用したＥＬ表示素子とがある。液晶表示素子では、
一般的に表示素子の後方に光源が配設されており、電圧
の印加により液晶が偏光することを利用して透過光を制
御するものである。一方、ＥＬ表示素子は、電流又は電
圧を印加することによって発光する素子であり、光源を
設ける必要がないという利点がある。
機器等の表示装置として、フラットパネルディスプレイ
（平面表示装置）が広く使用されている。フラットパネ
ルディスプレイには、主に、液晶を利用した液晶表示素
子と、エレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬという）
を利用したＥＬ表示素子とがある。液晶表示素子では、
一般的に表示素子の後方に光源が配設されており、電圧
の印加により液晶が偏光することを利用して透過光を制
御するものである。一方、ＥＬ表示素子は、電流又は電
圧を印加することによって発光する素子であり、光源を
設ける必要がないという利点がある。
【０００３】図８は、従来のＥＬ表示素子の一例を示す
断面図である。ガラス基板７上には透明電極４が形成さ
れており、この透明電極４上には第１の絶縁層２が選択
的に形成されている。この第１の絶縁層２上には発光層
１が選択的に形成されていると共にこの発光層１を被覆
する第２の絶縁層３が形成されている。また、第２の絶
縁層３上には、金属電極５が選択的に形成されている。
断面図である。ガラス基板７上には透明電極４が形成さ
れており、この透明電極４上には第１の絶縁層２が選択
的に形成されている。この第１の絶縁層２上には発光層
１が選択的に形成されていると共にこの発光層１を被覆
する第２の絶縁層３が形成されている。また、第２の絶
縁層３上には、金属電極５が選択的に形成されている。
【０００４】このように構成されたＥＬ表示素子におい
て、透明電極４と金属電極５との間に所定の電圧を印加
すると、発光層１が発光する。この発光層１から出力さ
れた光は、ガラス基板７を介して外部に出力される。Ｅ
Ｌ表示素子においては、例えば発光層１及び金属電極５
を複数個設け、各発光層１を選択的に発光又は非発光状
態とすることによって、所望の表示画像を得ることがで
きる。
て、透明電極４と金属電極５との間に所定の電圧を印加
すると、発光層１が発光する。この発光層１から出力さ
れた光は、ガラス基板７を介して外部に出力される。Ｅ
Ｌ表示素子においては、例えば発光層１及び金属電極５
を複数個設け、各発光層１を選択的に発光又は非発光状
態とすることによって、所望の表示画像を得ることがで
きる。
【０００５】ところで、上述のＥＬ表示素子では、ガラ
ス基板７を介して外部から入射した光が金属電極５に反
射し、この反射光によって発光層１が発光していないに
も拘らず発光しているように誤認識する虞れがある。こ
のため、通常のＥＬ表示素子においては、図９に示すよ
うに、ＥＬ表示素子１３の前面（ガラス基板側）に反射
防止板１４が配設されている。
ス基板７を介して外部から入射した光が金属電極５に反
射し、この反射光によって発光層１が発光していないに
も拘らず発光しているように誤認識する虞れがある。こ
のため、通常のＥＬ表示素子においては、図９に示すよ
うに、ＥＬ表示素子１３の前面（ガラス基板側）に反射
防止板１４が配設されている。
【０００６】反射防止板１４としては、例えば図１０に
示すように、２枚の偏光板（直線偏光板８及び１／４波
長位相差板９）を組み合わせて構成された反射防止板が
用いられている。このように構成された反射防止板にお
いて、直線偏光板８は外部からの入射光１１の直線偏光
成分以外の成分を遮断する。直線偏光板８を透過した光
は、１／４波長位相差板９によって円偏光となる。この
光は、金属電極のような反射板１０では偏光状態が保存
されて反射される。反射板１０で反射された光は、更に
１／４波長位相差板９を通過することで合計１／２波長
分だけ位相が遅れ、偏光成分が入射時に対し垂直とな
る。従って、この反射光１２は直線偏光板８を透過する
ことができない。つまり、図９に示すように、ＥＬ表示
素子１３の前面に反射防止板１４を設置することによ
り、金属電極５による外部光の反射を遮断することがで
きて、視認側１５では非発光部分は常に黒色となり、反
射光による誤認識を防止することができる。
示すように、２枚の偏光板（直線偏光板８及び１／４波
長位相差板９）を組み合わせて構成された反射防止板が
用いられている。このように構成された反射防止板にお
いて、直線偏光板８は外部からの入射光１１の直線偏光
成分以外の成分を遮断する。直線偏光板８を透過した光
は、１／４波長位相差板９によって円偏光となる。この
光は、金属電極のような反射板１０では偏光状態が保存
されて反射される。反射板１０で反射された光は、更に
１／４波長位相差板９を通過することで合計１／２波長
分だけ位相が遅れ、偏光成分が入射時に対し垂直とな
る。従って、この反射光１２は直線偏光板８を透過する
ことができない。つまり、図９に示すように、ＥＬ表示
素子１３の前面に反射防止板１４を設置することによ
り、金属電極５による外部光の反射を遮断することがで
きて、視認側１５では非発光部分は常に黒色となり、反
射光による誤認識を防止することができる。
【０００７】なお、特開平3-138892号及び特開平4-1749
96号には、ＥＬ表示素子のコントラストを向上させるた
めに、第２の絶縁層と金属電極との間に酸化タンタル等
からなる黒色の絶縁膜が設けられたＥＬ表示素子が記載
されている。また、前記特開平3-138892号には、第２の
電極として黒色の電極材が用いられたＥＬ表示素子も記
載されている。
96号には、ＥＬ表示素子のコントラストを向上させるた
めに、第２の絶縁層と金属電極との間に酸化タンタル等
からなる黒色の絶縁膜が設けられたＥＬ表示素子が記載
されている。また、前記特開平3-138892号には、第２の
電極として黒色の電極材が用いられたＥＬ表示素子も記
載されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た反射板を備えたＥＬ表示素子においては、表示が暗
く、認識性が低いという問題点がある。即ち、従来のＥ
Ｌ表示素子においては、発光層の前方に２枚の偏光板
（直線偏光板８及び１／４波長位相差板９）があるた
め、各偏光板の光吸収によって光透過率は約２５％にま
で低下し、発光層から出力された光の多くがこれらの偏
光板に吸収されてしまう。従って、従来のＥＬ表示素子
においては、見かけの輝度が低く、表示画像が暗いとい
う欠点がある。また、２枚の偏光板を介して表示画像を
視認するため、各偏光板の表面及び裏面での乱反射によ
って表示ににじみが発生し、コントラストも低下してし
まう。
た反射板を備えたＥＬ表示素子においては、表示が暗
く、認識性が低いという問題点がある。即ち、従来のＥ
Ｌ表示素子においては、発光層の前方に２枚の偏光板
（直線偏光板８及び１／４波長位相差板９）があるた
め、各偏光板の光吸収によって光透過率は約２５％にま
で低下し、発光層から出力された光の多くがこれらの偏
光板に吸収されてしまう。従って、従来のＥＬ表示素子
においては、見かけの輝度が低く、表示画像が暗いとい
う欠点がある。また、２枚の偏光板を介して表示画像を
視認するため、各偏光板の表面及び裏面での乱反射によ
って表示ににじみが発生し、コントラストも低下してし
まう。
【０００９】また、特開平3-138892号及び特開平4-1749
96号に記載されたＥＬ表示素子においては、黒色の絶縁
膜として黒色系タンタル酸化物が使用されるが、通常、
黒色系タンタル酸化物は、光学的に透明な酸化タンタル
（組成比は、通常、Ｔａ2Ｏ5）に比べて酸素不足のタン
タル酸化物であり、電気絶縁特性が著しく低いため絶縁
材料としての使用に適していないという難点がある。
96号に記載されたＥＬ表示素子においては、黒色の絶縁
膜として黒色系タンタル酸化物が使用されるが、通常、
黒色系タンタル酸化物は、光学的に透明な酸化タンタル
（組成比は、通常、Ｔａ2Ｏ5）に比べて酸素不足のタン
タル酸化物であり、電気絶縁特性が著しく低いため絶縁
材料としての使用に適していないという難点がある。
【００１０】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、表示画像が明るいと共にコントラストが良
好であり、認識性が高いエレクトロルミネッセンス表示
素子を提供することを目的とする。
のであって、表示画像が明るいと共にコントラストが良
好であり、認識性が高いエレクトロルミネッセンス表示
素子を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本願の第１発明に係るエ
レクトロルミネッセンス表示素子は、基板の一方の面側
に形成された光透過性の第１の電極と、この第１の電極
に対向して配設された第２の電極と、前記第１及び第２
の電極間に第１及び第２の絶縁層を介して配設された発
光層とを有するエレクトロルミネッセンス表示素子にお
いて、前記発光層と前記第２の電極との間にチタンとア
ルミニウムとの合金の酸化物又は窒化物からなる光吸収
層が設けられていることを特徴とする。
レクトロルミネッセンス表示素子は、基板の一方の面側
に形成された光透過性の第１の電極と、この第１の電極
に対向して配設された第２の電極と、前記第１及び第２
の電極間に第１及び第２の絶縁層を介して配設された発
光層とを有するエレクトロルミネッセンス表示素子にお
いて、前記発光層と前記第２の電極との間にチタンとア
ルミニウムとの合金の酸化物又は窒化物からなる光吸収
層が設けられていることを特徴とする。
【００１２】本願の第２発明に係るエレクトロルミネッ
センス表示素子は、基板の一方の面側に形成された光透
過性の第１の電極と、この第１の電極の表面上に形成さ
れた第１の絶縁層と、この第１の絶縁層の表面上に選択
的に形成された発光層と、この発光層を被覆する第２の
絶縁層と、この第２の絶縁層の表面上に選択的に形成さ
れた第２の電極とを有するエレクトロルミネッセンス表
示素子において、前記第２の絶縁層及び前記第２の電極
のうちの少なくとも一方がチタンとアルミニウムとの合
金の酸化物又は窒化物により構成されていることを特徴
とする。
センス表示素子は、基板の一方の面側に形成された光透
過性の第１の電極と、この第１の電極の表面上に形成さ
れた第１の絶縁層と、この第１の絶縁層の表面上に選択
的に形成された発光層と、この発光層を被覆する第２の
絶縁層と、この第２の絶縁層の表面上に選択的に形成さ
れた第２の電極とを有するエレクトロルミネッセンス表
示素子において、前記第２の絶縁層及び前記第２の電極
のうちの少なくとも一方がチタンとアルミニウムとの合
金の酸化物又は窒化物により構成されていることを特徴
とする。
【００１３】
【作用】本願の第１発明においては、発光層と第２の電
極との間に光吸収層が設けられている。この光吸収層
は、チタンとアルミニウムとの合金の酸化物又は窒化物
からなり、黒色系の薄膜である。このため、外部から入
射した光は、その一部又は大部分がこの光吸収層に吸収
される。従って、外部から入射し第２の電極に反射して
外部に出力される光の光量を著しく低減することができ
て、発光層が発光していないにも拘らず反射光により発
光していると誤認識することを防止できる。また、本発
明によれば、偏光板等により構成される反射防止板が不
要であるため、発光層から出力された光は殆ど吸収され
ることなく外部に出力される。従って、明るく且つコン
トラストが良好な表示画像を得ることができる。
極との間に光吸収層が設けられている。この光吸収層
は、チタンとアルミニウムとの合金の酸化物又は窒化物
からなり、黒色系の薄膜である。このため、外部から入
射した光は、その一部又は大部分がこの光吸収層に吸収
される。従って、外部から入射し第２の電極に反射して
外部に出力される光の光量を著しく低減することができ
て、発光層が発光していないにも拘らず反射光により発
光していると誤認識することを防止できる。また、本発
明によれば、偏光板等により構成される反射防止板が不
要であるため、発光層から出力された光は殆ど吸収され
ることなく外部に出力される。従って、明るく且つコン
トラストが良好な表示画像を得ることができる。
【００１４】また、前記光吸収層がチタンとアルミニウ
ムとの合金の窒化物又は酸化物からなるため、その組成
比を調整することにより、他の材料と比べてより一層黒
色で、絶縁特性が優れた材料を得ることができる。
ムとの合金の窒化物又は酸化物からなるため、その組成
比を調整することにより、他の材料と比べてより一層黒
色で、絶縁特性が優れた材料を得ることができる。
【００１５】また、本願の第２発明によれば、第２の絶
縁層及び第２の電極のうちの少なくとも一方がチタンと
アルミニウムとの合金の窒化物又は酸化物により構成さ
れている。従って、第２の絶縁層及び第２の電極の少な
くとも一方の色は黒色系であり、外部から入射した光の
一部又は大部分がこの第２の絶縁層又は第２の電極によ
り吸収され、外部に出力される反射光の光量が著しく低
減する。このため、反射光による誤認識を防止すること
ができる。この場合も、偏光板等により構成される反射
防止板が不要であるため、発光層から出力された光は殆
ど吸収されることなく外部に出力される。従って、明る
く且つコントラストが良好な表示画像を得ることができ
る。
縁層及び第２の電極のうちの少なくとも一方がチタンと
アルミニウムとの合金の窒化物又は酸化物により構成さ
れている。従って、第２の絶縁層及び第２の電極の少な
くとも一方の色は黒色系であり、外部から入射した光の
一部又は大部分がこの第２の絶縁層又は第２の電極によ
り吸収され、外部に出力される反射光の光量が著しく低
減する。このため、反射光による誤認識を防止すること
ができる。この場合も、偏光板等により構成される反射
防止板が不要であるため、発光層から出力された光は殆
ど吸収されることなく外部に出力される。従って、明る
く且つコントラストが良好な表示画像を得ることができ
る。
【００１６】
【実施例】次に、本発明の実施例について添付の図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
【００１７】図１は本発明の実施例に係るＥＬ（エレク
トロルミネッセンス）表示素子を示す断面図である。ガ
ラス基板７上には透明電極４が形成されており、この透
明電極４上には第１の絶縁層２が選択的に形成されてい
る。また、この第１の絶縁層２上には発光層１が選択的
に形成されていると共にこの発光層１を被覆する第２絶
縁層３が形成されている。そして、この第２の絶縁層３
上にはチタンとアルミニウムとの合金の酸化物又は窒化
物からなる黒色系薄膜６が形成されており、この黒色系
薄膜６上には金属電極５が選択的に形成されている。
トロルミネッセンス）表示素子を示す断面図である。ガ
ラス基板７上には透明電極４が形成されており、この透
明電極４上には第１の絶縁層２が選択的に形成されてい
る。また、この第１の絶縁層２上には発光層１が選択的
に形成されていると共にこの発光層１を被覆する第２絶
縁層３が形成されている。そして、この第２の絶縁層３
上にはチタンとアルミニウムとの合金の酸化物又は窒化
物からなる黒色系薄膜６が形成されており、この黒色系
薄膜６上には金属電極５が選択的に形成されている。
【００１８】このように構成されたＥＬ表示素子におい
て、透明電極４と金属電極５との間に所定の電圧を印加
すると、発光層１が発光する。この発光層１から出力さ
れた光は、絶縁層２、透明電極４及びガラス基板７を透
過し、外部に出力される。
て、透明電極４と金属電極５との間に所定の電圧を印加
すると、発光層１が発光する。この発光層１から出力さ
れた光は、絶縁層２、透明電極４及びガラス基板７を透
過し、外部に出力される。
【００１９】本実施例においては、基板７を介して外部
から入射した光はその大部分が黒色系薄膜６により吸収
される。このため、外部から入射し金属電極５で反射し
て外部に出力される反射光の光量は極めて少ない。従っ
て、本実施例に係るＥＬ表示素子においては、反射光に
よる誤認識を確実に回避することができる。また、本実
施例においては、ＥＬ表示素子の前面（ガラス基板側の
面）に偏光板等を配設する必要がないため、部品点数を
削減できると共に、明るく且つコントラストが良好な表
示画面を得ることができる。
から入射した光はその大部分が黒色系薄膜６により吸収
される。このため、外部から入射し金属電極５で反射し
て外部に出力される反射光の光量は極めて少ない。従っ
て、本実施例に係るＥＬ表示素子においては、反射光に
よる誤認識を確実に回避することができる。また、本実
施例においては、ＥＬ表示素子の前面（ガラス基板側の
面）に偏光板等を配設する必要がないため、部品点数を
削減できると共に、明るく且つコントラストが良好な表
示画面を得ることができる。
【００２０】次に、本実施例に係るＥＬ表示素子を実際
に製造し、その輝度及びコントラストを調べた結果につ
いて説明する。
に製造し、その輝度及びコントラストを調べた結果につ
いて説明する。
【００２１】図２乃至図７は上述の実施例に係るＥＬ表
示素子の製造方法を工程順に示す断面図である。先ず、
図２に示すように、その表面上に透明電極４が設けられ
たガラス基板７を用意した。このガラス基板７を有機溶
剤及び酸水溶液によって洗浄した後、スパッタリング法
により、透明電極４上に酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）及び
５酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5 ）を順次成膜し、図３に示
すように、厚さが約５０ｎｍの酸化シリコン層と厚さが
約４００ｎｍの５酸化タンタル層とにより構成される複
合絶縁層２を形成した。
示素子の製造方法を工程順に示す断面図である。先ず、
図２に示すように、その表面上に透明電極４が設けられ
たガラス基板７を用意した。このガラス基板７を有機溶
剤及び酸水溶液によって洗浄した後、スパッタリング法
により、透明電極４上に酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）及び
５酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5 ）を順次成膜し、図３に示
すように、厚さが約５０ｎｍの酸化シリコン層と厚さが
約４００ｎｍの５酸化タンタル層とにより構成される複
合絶縁層２を形成した。
【００２２】次に、図４に示すように、スパッタリング
法により、絶縁層２上に、１．５重量％のフッ化テルビ
ウム（ＴｂＦ3 ）を含有し残部が硫化亜鉛（ＺｎＳ）か
らなる発光層１を選択的に形成した。この発光層１の成
膜時の基板温度は２５０℃である。また、発光層１を成
膜した後、真空中において４００℃の温度で１時間の条
件で熱処理を施した。
法により、絶縁層２上に、１．５重量％のフッ化テルビ
ウム（ＴｂＦ3 ）を含有し残部が硫化亜鉛（ＺｎＳ）か
らなる発光層１を選択的に形成した。この発光層１の成
膜時の基板温度は２５０℃である。また、発光層１を成
膜した後、真空中において４００℃の温度で１時間の条
件で熱処理を施した。
【００２３】次に、図５に示すように、第１の絶縁層２
上に第２の絶縁層３を形成し、この第２の絶縁層３によ
り発光層１を被覆した。第２の絶縁層３は、第１の絶縁
層２と同様に、スパッタリング法により形成された厚さ
が約５０ｎｍの酸化シリコン層と、厚さが約４００ｎｍ
の５酸化タンタル層との複合絶縁膜である。なお、第１
及び第２の絶縁層２，３は、いずれも発光層１に接触す
る側が５酸化タンタル層である。
上に第２の絶縁層３を形成し、この第２の絶縁層３によ
り発光層１を被覆した。第２の絶縁層３は、第１の絶縁
層２と同様に、スパッタリング法により形成された厚さ
が約５０ｎｍの酸化シリコン層と、厚さが約４００ｎｍ
の５酸化タンタル層との複合絶縁膜である。なお、第１
及び第２の絶縁層２，３は、いずれも発光層１に接触す
る側が５酸化タンタル層である。
【００２４】次に、図６に示すように、第２の絶縁層３
上に、チタンとアルミニウムとの合金の酸化物及び窒化
物からなる黒色系薄膜６を形成した。この黒色系薄膜６
は、イオンプレーティング装置にチタン及びアルミニウ
ムの蒸着源を個別的に配置し、酸素及び窒素のイオン照
射下でこれらの金属の蒸着を行うことにより形成したも
のである。この黒色系薄膜６は、チタンとアルミニウム
との組成比が１０対１であり、膜厚が約２５０ｎｍであ
る。
上に、チタンとアルミニウムとの合金の酸化物及び窒化
物からなる黒色系薄膜６を形成した。この黒色系薄膜６
は、イオンプレーティング装置にチタン及びアルミニウ
ムの蒸着源を個別的に配置し、酸素及び窒素のイオン照
射下でこれらの金属の蒸着を行うことにより形成したも
のである。この黒色系薄膜６は、チタンとアルミニウム
との組成比が１０対１であり、膜厚が約２５０ｎｍであ
る。
【００２５】次に、図７に示すように、真空蒸着法によ
り、黒色系薄膜６上に、厚さが約５００ｎｍのアルミニ
ウム電極５を選択的に形成した。これにより、本実施例
に係るＥＬ表示素子が完成した。
り、黒色系薄膜６上に、厚さが約５００ｎｍのアルミニ
ウム電極５を選択的に形成した。これにより、本実施例
に係るＥＬ表示素子が完成した。
【００２６】このようにして製造したＥＬ表示素子にお
いて、透明電極４と金属電極５との間に、周波数が５０
０Ｈｚ、電圧値が２００Ｖの交流電圧を印加した。その
結果、偏光フィルタにより構成される反射防止板を備え
た従来のＥＬ表示素子に比して、明るく、光散乱が少な
くてコントラストが良好の表示画像を得ることができ
た。
いて、透明電極４と金属電極５との間に、周波数が５０
０Ｈｚ、電圧値が２００Ｖの交流電圧を印加した。その
結果、偏光フィルタにより構成される反射防止板を備え
た従来のＥＬ表示素子に比して、明るく、光散乱が少な
くてコントラストが良好の表示画像を得ることができ
た。
【００２７】なお、上述の実施例においては、第２の絶
縁層３と金属電極５との間にチタンとアルミニウムとの
合金の酸化物及び窒化物からなる黒色系薄膜６が設けら
れている場合について説明したが、黒色系薄膜は第２の
絶縁層に埋め込まれて形成されていてもよい。また、黒
色系薄膜の絶縁性が十分に高い場合は、第２の絶縁層を
設ける必要がなく、発光層及び第１の絶縁層上に直接黒
色系薄膜を形成してもよい。更に、黒色系薄膜が良好な
導電性を有する場合は、金属電極に替えて黒色系薄膜を
電極としてもよい。
縁層３と金属電極５との間にチタンとアルミニウムとの
合金の酸化物及び窒化物からなる黒色系薄膜６が設けら
れている場合について説明したが、黒色系薄膜は第２の
絶縁層に埋め込まれて形成されていてもよい。また、黒
色系薄膜の絶縁性が十分に高い場合は、第２の絶縁層を
設ける必要がなく、発光層及び第１の絶縁層上に直接黒
色系薄膜を形成してもよい。更に、黒色系薄膜が良好な
導電性を有する場合は、金属電極に替えて黒色系薄膜を
電極としてもよい。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、発
光層と第２の電極との間にチタンとアルミニウムとの合
金の酸化物又は窒化物からなる光吸収層が設けられてい
るか、又は第２の絶縁層及び第２の電極のうちの少なく
とも一方がチタンとアルミニウムとの合金の酸化物又は
窒化物により構成されているから、外部光の反射を著し
く低減することができて、反射光による誤認識を防止す
ることができる。従って、本発明に係るエレクトロルミ
ネッセンス表示素子は、偏光板等により構成される反射
防止板が不要であり、部品点数を削減できると共に、明
るく且つコントラストが良好な表示画像を得ることがで
きるという効果を奏する。
光層と第２の電極との間にチタンとアルミニウムとの合
金の酸化物又は窒化物からなる光吸収層が設けられてい
るか、又は第２の絶縁層及び第２の電極のうちの少なく
とも一方がチタンとアルミニウムとの合金の酸化物又は
窒化物により構成されているから、外部光の反射を著し
く低減することができて、反射光による誤認識を防止す
ることができる。従って、本発明に係るエレクトロルミ
ネッセンス表示素子は、偏光板等により構成される反射
防止板が不要であり、部品点数を削減できると共に、明
るく且つコントラストが良好な表示画像を得ることがで
きるという効果を奏する。
【図１】本発明の実施例に係るＥＬ表示素子を示す断面
図である。
図である。
【図２】本発明の実施例に係るＥＬ表示素子の製造方法
の一工程を示す断面図である。
の一工程を示す断面図である。
【図３】本発明の実施例に係るＥＬ表示素子の製造方法
の一工程を示す断面図である。
の一工程を示す断面図である。
【図４】本発明の実施例に係るＥＬ表示素子の製造方法
の一工程を示す断面図である。
の一工程を示す断面図である。
【図５】本発明の実施例に係るＥＬ表示素子の製造方法
の一工程を示す断面図である。
の一工程を示す断面図である。
【図６】本発明の実施例に係るＥＬ表示素子の製造方法
の一工程を示す断面図である。
の一工程を示す断面図である。
【図７】本発明の実施例に係るＥＬ表示素子の製造方法
の一工程を示す断面図である。
の一工程を示す断面図である。
【図８】従来のＥＬ表示素子の一例を示す断面図であ
る。
る。
【図９】反射防止板が設けられたＥＬ表示素子を示す模
式図である。
式図である。
【図１０】反射防止板による反射防止作用を示す斜視図
である。
である。
１；発光層 ２，３；絶縁層 ４；透明電極 ５；金属電極 ６；黒色系薄膜 ７；ガラス基板 ８；直線偏光板 ９；１／４波長位相差板
Claims (2)
- 【請求項１】 基板の一方の面側に形成された光透過性
の第１の電極と、この第１の電極に対向して配設された
第２の電極と、前記第１及び第２の電極間に第１及び第
２の絶縁層を介して配設された発光層とを有するエレク
トロルミネッセンス表示素子において、前記発光層と前
記第２の電極との間にチタンとアルミニウムとの合金の
酸化物又は窒化物からなる光吸収層が設けられているこ
とを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示素子。 - 【請求項２】 基板の一方の面側に形成された光透過性
の第１の電極と、この第１の電極の表面上に形成された
第１の絶縁層と、この第１の絶縁層の表面上に選択的に
形成された発光層と、この発光層を被覆する第２の絶縁
層と、この第２の絶縁層の表面上に選択的に形成された
第２の電極とを有するエレクトロルミネッセンス表示素
子において、前記第２の絶縁層及び前記第２の電極のう
ちの少なくとも一方がチタンとアルミニウムとの合金の
酸化物又は窒化物により構成されていることを特徴とす
るエレクトロルミネッセンス表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5125934A JPH06338391A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | エレクトロルミネッセンス表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5125934A JPH06338391A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | エレクトロルミネッセンス表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06338391A true JPH06338391A (ja) | 1994-12-06 |
Family
ID=14922585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5125934A Pending JPH06338391A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | エレクトロルミネッセンス表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06338391A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996034514A1 (fr) * | 1995-04-25 | 1996-10-31 | Citizen Watch Co., Ltd. | Dispositif d'electroluminescence organique |
| US9666324B2 (en) | 2013-11-29 | 2017-05-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Transparent conductive thin film |
-
1993
- 1993-05-27 JP JP5125934A patent/JPH06338391A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996034514A1 (fr) * | 1995-04-25 | 1996-10-31 | Citizen Watch Co., Ltd. | Dispositif d'electroluminescence organique |
| US6181062B1 (en) | 1995-04-25 | 2001-01-30 | Citizen Watch Co., Ltd. | Multiple layered organic electroluminescent device structure with plural transparent electrode, color filters and organic/inorganic transparent coating to enhance light diffusion effects |
| US9666324B2 (en) | 2013-11-29 | 2017-05-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Transparent conductive thin film |
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