JPH0633332B2 - 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 - Google Patents

半導体封止用エポキシ樹脂成形材料

Info

Publication number
JPH0633332B2
JPH0633332B2 JP1010423A JP1042389A JPH0633332B2 JP H0633332 B2 JPH0633332 B2 JP H0633332B2 JP 1010423 A JP1010423 A JP 1010423A JP 1042389 A JP1042389 A JP 1042389A JP H0633332 B2 JPH0633332 B2 JP H0633332B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
molding material
semiconductor
moisture resistance
semiconductor encapsulation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1010423A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH02189330A (ja
Inventor
幸司 池田
宗朝 鳥井
裕彦 香川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP1010423A priority Critical patent/JPH0633332B2/ja
Publication of JPH02189330A publication Critical patent/JPH02189330A/ja
Publication of JPH0633332B2 publication Critical patent/JPH0633332B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、半導体封止用エポキシ樹脂成形材料に関す
るものである。さらに詳しくは、この発明は、バリ発生
抑制性および耐湿性に優れた半導体封止用エポキシ樹脂
成形材料に関するものである。
(従来の技術) 半導体素子の封止用成形材料としては、従来より耐湿
性、耐熱性等の性能や、価格などの点においてエポキシ
樹脂を主成分とするものが広く使用されているが、近年
では半導体素子の高密度化、高集積化によりパッケージ
の超小型化、薄型化が進み、樹脂成形材料の成形性、耐
湿性の向上が重要な課題となっている。
成形性としては、半導体封止の成形時にバリが生じない
こと等が要求され、この成形性の向上を図るために従来
よりリン系(TPP等)または第三級アミン系(DBU
等)等の硬化助剤が使用されてきている。
また、耐湿性の向上を図るためには、半導体素子と封止
樹脂との間に発生する熱応力を低減させることが必要で
あることから、膨脹係数や弾性率を低下させることが種
々の方法により試みられてきている。たとえば、官能基
としてエポキシ基を有する変性シリコーンオイル等のシ
リコーン系低応力改質剤を耐湿性付与剤として添加する
ことなどが試みられている。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、成形性と耐湿性の双方の向上を図るた
め、これまでの硬化助剤と耐湿性付与剤とを併用して
も、耐湿性は良好なものとなるが、成形性は十分に向上
したものとならず、成形時に多量のバリが発生してい
た。そのため、これまでの封止用成形材料は、超ミニパ
ッケージ用の封止に十分に適用できるものとはなってい
ないのが実状である。
この発明は以上の通りの事情に鑑みてなされたものであ
り、従来の半導体素子の封止用成形材料の欠点を改善
し、良好な耐湿性を有し、かつ、バリの発生量が極めて
少なく、成形性にも優れ、超ミニパッケージの封止にも
好適に使用することのできる半導体封止用成形材料を提
供することを目的としている。
(課題を解決するための手段) この発明は、上記の目的を実現するため、エポキシ樹脂
系成形材料であって、エポキシ樹脂、硬化剤としてのノ
ボラック型フェノール樹脂並びに結晶シリカもしくは溶
融シリカを含有する組成物に、この組成物の重量に対し
て0.5〜5wt%の硬化助剤としての7−メチル−
1,5,7−トリアザビシクロ(4,4,0)デセン−
5またはその誘導体を配合してなることを特徴とするバ
リ発生抑制性の耐湿性半導体封止用エポキシ樹脂成形材
料を提供する。
以下、この発明の半導体封止用成形材料について詳細に
説明する。
この発明の半導体封止用成形材料は、硬化助剤として、
7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ(4,4,
0)デセン−5またはそのアルキル、アルケニル、シク
ロアルキル、アミノ基置換等の誘導体を含有することに
より耐湿性と成形性の双方を向上させたものとなってい
る。
この7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ(4,
4,0)デセン−5は、エポキシ樹脂の硬化促進剤とし
てすでに知られているもの(特開昭63−146919
号公報)であるが、その構造が特異なものであって、製
造や応用について多分に留意することが必要であると考
えられるため、その利用についての検討はほとんど進め
られていないのが実情である。実際にも、硬化特性につ
いては検討されているものの、この発明のように、精密
な成形と高度な耐湿性等の要求される半導体封止の分野
においては、これを用いるための組成要件等は全く予想
するのができなかった。
この発明は、以上の状況において、7−メチル−1,
5,7−トリアザビシクロ(4,4,0)デセン−5ま
たはその誘導体の半導体封止用成形材料への応用に新し
い地平を拓くものであって、上記の通りの特定の組成と
配合においてのみ優れた特性の半導体封止材料となるこ
とを見出し、これを完成したものである。
この場合の7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ
(4,4,0)デセン−5またはその誘導体の成形材組
成物、すなわち上記の通りの、エポキシ樹脂、硬化剤と
してのノボラック型フェノール樹脂、並びに結晶シリカ
もしくは溶融シリカを含有する組成物の重量に対する添
加量は触媒量であって、0.5〜5wt%とする。0.
5wt%未満であると、添加効果が少なく、また、5w
t%を超えて添加しても大きな効果はなく不経済とな
る。
また、この発明の半導体封止用成形材料においては、ベ
ース樹脂としては、耐湿性、耐熱性等の性能の良好なも
のとして知られているエポキシ樹脂の適宜なものを使用
することができる。このようなエポキシ樹脂としては、
たとえば、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール
A型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、
脂環式エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂などを例
示することができる。
硬化剤としては、ノボラック型フェノール樹脂を用い
る。特に、1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を
有するものを好適な硬化剤として例示することができ
る。
さらにこの発明の封止用樹脂成形材料には、封止材とし
ての強度、耐熱性、成形性等の特性を所要のものとする
ために、結晶性シリカまたは溶融シリカを配合する。も
ちろん、特性を損なわない限り他の種々の充填剤や添加
剤をさらに含有することもできる。たとえば、低応力改
質剤、難燃剤、硬化促進剤、離型剤、着色剤などを半導
体素子の種類、用途に応じて適宜配合することができ
る。
以上の各配合成分については、その重量比において、通
常は、エポキシ樹脂100重量部当り、硬化剤としての
ノボラック型フェノール樹脂30〜80重量部、粒径約
50μm〜500μm程度の結晶シリカまたは溶融シリ
カ30〜200重量部程度とすることができる。
そしてこれらの成分を配合した成形材料組成物の全体量
に対して、この発明では前記の通りの7−メチル−1,
5,7−トリアザビシクロ(4,4,0)デセン−5ま
たはその誘導体を0.5〜5wt%配合して、半導体封
止用エポキシ樹脂成形材料とする。
また、この発明の半導体封止用成形材料を用いて半導体
を封止する方法としては、従来と同様の方法を封止する
半導体素子等に応じて適宜採用することができる。
(作 用) この発明の半導体封止用成形材料は、硬化助剤として、
7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ(4,4,
0)デセン−5またはその誘導体を所要の組成物に対し
て、特有の割合で配合することにより、半導体素子の封
止の耐湿性に優れたものにすると共に、その成形性、す
なわちバリ発生の抑制も著しく向上させることができ
る。
(実施例) 以下、実施例を示して、この発明の半導体封止用成形材
料を具体的に説明する。
実施例1 クレーゾールノボラック型エポキシ樹脂(100重量
部)にフェノールノボラック系樹脂硬化剤(60重量
部)、結晶シリカ(120重量部)を配合し、これに硬
化助剤として、7−メチル−1,5,7−トリアザビシ
クロ(4,4,0)デセン−5を1wt%添加して半導
体封止用エポキシ樹脂成形材料を製造した。
得られた半導体封止用エポキシ樹脂成形材料により半導
体素子を封止し、成形性と耐湿性を評価した。この場
合、複合耐湿性と成形性を評価する半導体素子として
は、耐湿性評価用標準素子を用い、成形性は20μmの
スリットをしみ出すバリの最大距離(mm)によって評
価し、また、耐湿性はPCTテスト(2atm,151
℃,100RH%,500時間)の不良数によって評価
した。
これらの評価結果は表1に示す通りであった。
後述の比較例との対比から明らかなように、この実施例
の封止は、優れたバリ特性と十分な耐湿性の双方を示し
た。
実施例2 硬化助剤として7−メチル−1,5,7−トリアザビシ
クロ(4,4,0)デセン−5を4wt%添加し、実施
例1と同様に半導体封止用エポキシ樹脂成形材料を製造
し、半導体素子を封止してその性質を評価した。
結果を表1に示す。
この実施例の封止においても、実施例1と同様に、バリ
特性と耐湿性の双方に優れた性質を示した。
実施例3 実施例1において、結晶シリカを溶融シリカに代えて半
導体封止材とした。
その特性は実施例1と同様に、耐湿性、バリ特性ともに
優れたものであった。
実施例4 実施例1において、3−メチル−7−メチル−1,5,
7−トリアザビシクロ(4,4,0)デセン−5を用い
て半導体封止材とした。
同様に優れた半導体封止特性が得られた。
比較例1 硬化助剤としてTPPを使用し、実施例1と同様に半導
体封止用エポキシ樹脂成形材料を製造し、半導体素子を
封止してその性質を評価した。
結果を表1に示す。
この比較例の封止においては、耐湿性が著しく低下して
いた。
比較例2 硬化助剤としてDBU(ジアザビシクロウンデセン−
7)を使用し、実施例1と同様に半導体封止用エポキシ
樹脂成形材料を製造し、半導体素子を封止してその性質
を評価した。
結果を表1に示す。
この比較例の封止においても耐湿性が著しく低下してい
た。
比較例3 硬化助剤としてTPPを使用し、さらに耐湿性付与剤と
してエポキシ変性シリコンオイルを添加して実施例1と
同様に半導体封止用エポキシ樹脂成形材料を製造し、半
導体素子を封止してその性質を評価した。
結果を表1に示す。
この比較例の封止においては、耐湿性は良好であった
が、バリ特性が著しく劣っていた。
比較例4 硬化助剤としてDBUを使用し、さらに耐湿性付与剤と
してエポキシ変性シリコンオイルを添加して実施例1と
同様に半導体封止用エポキシ樹脂成形材料を製造し、半
導体素子を封止してその性質を評価した。
結果を表1に示す。
この比較例の封止においても、耐湿性は良好であった
が、バリ特性が著しく劣っていた。
比較例5 実施例1において、結晶シリカを配合することなく、水
酸化アルミニウムおよびマイカ(50:50)を配合し
た。
半導体封止材としての特性は、表1に示した通り、耐湿
性、バリ特性ともに劣っていた。
比較例6 実施例1において、7−メチル−1,5,7−トリアザ
ビシクロ(4,4,0)デセン−5を0.2wt%配合
して半導体封止材とした。
表1に示した通り、その特性は満足できるものではなか
った。
(発明の効果) この発明の半導体素子封止用エポキシ樹脂成形材料によ
れば、封止樹脂の耐湿性を向上させ、かつ、成形性も著
しく向上させることができ、特に、バリの発生量を極め
て少なくすることができる。このため、この発明の半導
体封止用エポキシ樹脂成形材料を用いることにより、パ
ワートランジスタデバイスや高集積化LSIの超ミニパ
ッケージに対しても樹脂封止を良好に行うことが可能と
なる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/31

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】エポキシ樹脂、硬化剤としてのノボラック
    型フェノール樹脂並びに結晶シリカもしくは溶融シリカ
    を含有する組成物に、この組成物重量に対して0.5〜
    5wt%の硬化助剤としての7−メチル−1,5,7−
    トリアザビシクロ(4,4,0)デセン−5またはその
    誘導体を配合してなることを特徴とするバリ発生抑制性
    の耐湿性半導体封止用エポキシ樹脂成形材料。
JP1010423A 1989-01-19 1989-01-19 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 Expired - Lifetime JPH0633332B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1010423A JPH0633332B2 (ja) 1989-01-19 1989-01-19 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1010423A JPH0633332B2 (ja) 1989-01-19 1989-01-19 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02189330A JPH02189330A (ja) 1990-07-25
JPH0633332B2 true JPH0633332B2 (ja) 1994-05-02

Family

ID=11749743

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1010423A Expired - Lifetime JPH0633332B2 (ja) 1989-01-19 1989-01-19 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0633332B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7842762B2 (en) 2007-08-08 2010-11-30 Ppg Industries Ohio, Inc. Electrodepositable coating composition containing a cyclic guanidine

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2638999A (en) 1998-02-19 1999-09-06 Hitachi Chemical Company, Ltd. Novel compounds, hardening accelerator, resin composition, and electronic part device
US8563560B2 (en) 2011-02-25 2013-10-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Preparation of bicyclic guanidine salts in an aqueous media
US9688874B2 (en) 2013-10-25 2017-06-27 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of making a bicyclic guanidine-cured acrylic coating

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63146916A (ja) * 1986-12-10 1988-06-18 Nissan Motor Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7842762B2 (en) 2007-08-08 2010-11-30 Ppg Industries Ohio, Inc. Electrodepositable coating composition containing a cyclic guanidine
US8884059B2 (en) 2007-08-08 2014-11-11 Ppg Industries Ohio, Inc. Electrodepositable coating composition containing a cyclic guanidine

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02189330A (ja) 1990-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3175979B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
JPH07278415A (ja) 半導体封止用樹脂組成物及び半導体装置
JPH05283560A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置
JP3334998B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JPH0633332B2 (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料
JPH09165495A (ja) エポキシ樹脂組成物及びエポキシ樹脂組成物の製造方法、半導体装置
JPH05247181A (ja) エポキシ樹脂組成物および半導体封止装置
JPH10173103A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP2904610B2 (ja) 半導体装置
JPH0637588B2 (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH0366151A (ja) 半導体装置
JPH02166753A (ja) 半導体封止用樹脂成形材料
JP3274265B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JPH05247182A (ja) エポキシ樹脂組成物および半導体封止装置
JPH0733432B2 (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料
JPH08337634A (ja) エポキシ樹脂組成物及び樹脂封止型半導体装置
JPH02189357A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料
JP2843247B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP3365065B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物
JP2716962B2 (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH0515744B2 (ja)
JP3255376B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2862777B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2807341B2 (ja) 半導体装置
JPH0525367A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物