JPH0632380B2 - Method for manufacturing multilayer wiring board - Google Patents

Method for manufacturing multilayer wiring board

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JPH0632380B2
JPH0632380B2 JP14558485A JP14558485A JPH0632380B2 JP H0632380 B2 JPH0632380 B2 JP H0632380B2 JP 14558485 A JP14558485 A JP 14558485A JP 14558485 A JP14558485 A JP 14558485A JP H0632380 B2 JPH0632380 B2 JP H0632380B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はIC,LSIまたは小型受動部品を実装した高
機能,高性能,高密度実装用に用いる多層配線基板の製
造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer wiring board used for high-performance, high-performance and high-density mounting of IC, LSI or small passive components.

従来の技術 近年、機器の小型化や多機能化の要望が年を追って強く
なってきている。一方、信号の高速度処理の技術の進歩
も大きい。このような状況のなかにあって、セラミック
を用いた多層配線基板技術は小型デバイスの高密度実装
用基板や高速デバイス実装用基板として重要な位置にあ
る。従来、セラミックの多層配線基板技術には大きく分
けて2通りの技術がある(例えば、電子技術,第24巻
4号P26〜30)。
2. Description of the Related Art In recent years, demands for miniaturization and multi-functionalization of devices have been increasing year by year. On the other hand, there are great advances in the technology of high-speed signal processing. Under such circumstances, multilayer wiring board technology using ceramics is in an important position as a board for high-density mounting of small devices and a board for high-speed device mounting. Conventionally, there are roughly two types of ceramic multilayer wiring board technologies (for example, Electronic Technology, Vol. 24, No. 4, P 26 to 30).

そのひとつは、アルミナ粉を主成分とする無機成分と有
機バインダ,可塑剤とからなるグリーンシートにタング
ステンまたはモリブデンのペーストを印刷し、これらを
複数枚を重ね合わせ、熱と圧力で積層一体化させるかま
たは、アルミナグリーンシートの上にタングステンまた
はモリブデンペーストとアルミナペーストを順次印刷積
層一体化させたものを還元雰囲気中高温で焼結させる方
法である。この方法で得た多層基板では、腐食を防いだ
り半田付ができるようにするため表層部のタングステン
またはモリブデン金属に金などのメッキを施すのが通例
である。もう一方の方法は厚膜印刷法とも称すべきもの
で、焼結されたアルミナ基板上に導体ペースト(Au,Ag
/Pd,Cuなど)とガラスペーストを各々一層毎に印刷,
乾燥,焼成を繰り返す方法である。この方法のうち、A
u,Ag/Pdの導体は空気中850〜900℃で焼成するも
のであり、Cuは窒素雰囲気中850〜900℃で焼成す
るものである。
One of them is to print a tungsten or molybdenum paste on a green sheet consisting of an inorganic component whose main component is alumina powder, an organic binder, and a plasticizer. Alternatively, a method in which a tungsten or molybdenum paste and an alumina paste are sequentially printed and integrated on an alumina green sheet and sintered at a high temperature in a reducing atmosphere. In the multilayer substrate obtained by this method, it is customary to plate the surface layer portion of tungsten or molybdenum metal with gold or the like in order to prevent corrosion and enable soldering. The other method, which should also be called thick-film printing, is used to print conductor paste (Au, Ag) on a sintered alumina substrate.
/ Pd, Cu, etc.) and glass paste are printed for each layer,
This is a method of repeating drying and firing. Of this method, A
The conductors of u and Ag / Pd are fired at 850 to 900 ° C. in air, and Cu is fired at 850 to 900 ° C. in a nitrogen atmosphere.

発明が解決しようとする問題点 しかし、以上説明した2通りの方法のうち、グリーンシ
ート法は絶縁材料にアルミナを用いるため絶縁特性,熱
伝導性にすぐれ積層数を大きくできるという利点がある
一方、導体材料にタングステンやモリブデンを用いてい
るため配線部の導体抵抗が高い(Cuの5〜10倍)とい
う不利な点があるとともに表面導体層に金メッキする必
要があるという点でコストが高い。また、この方法では
未焼成一体物を焼成する関係上、焼成後の寸法にバラツ
キが生じるため配線のパターン精度が十分だせないとい
う欠点もある。
Problems to be Solved by the Invention However, of the two methods described above, the green sheet method uses alumina as an insulating material, and thus has the advantage of being excellent in insulating characteristics and thermal conductivity and capable of increasing the number of stacked layers. Since tungsten or molybdenum is used as the conductor material, there is a disadvantage that the conductor resistance of the wiring portion is high (5 to 10 times that of Cu), and the cost is high in that the surface conductor layer must be plated with gold. Further, in this method, there is a drawback that the pattern accuracy of the wiring cannot be sufficient because the dimensions after firing are varied due to firing of the unfired integrated body.

一方、厚膜印刷法ではAuやCuといったような十分導体抵
抗の低い材料の使用が可能という点で信号の高速処理用
基板としては有利であり、また焼結された基板上に積層
してゆくため寸法精度も十分であるという利点がある。
しかし、この方法では導体、絶縁層の形成に印刷,乾
燥,焼成を一層毎に行う必要があるため工程が面倒とな
るとともに、一回毎の焼成で絶縁層の劣化が生じ絶縁特
性が十分でなく、歩どまり低下をまねくという欠点があ
る。この方法のうち、Au使用のものは極めてコストが高
く低コストで低導体抵抗材料であるCuの使用がつよく望
まれている。
On the other hand, the thick film printing method is advantageous as a substrate for high-speed signal processing because it can use materials with sufficiently low conductor resistance, such as Au and Cu, and it will be stacked on a sintered substrate. Therefore, there is an advantage that the dimensional accuracy is sufficient.
However, in this method, it is necessary to perform printing, drying, and firing layer by layer in order to form the conductor and the insulating layer, which complicates the process and deteriorates the insulating layer with each firing, resulting in insufficient insulation characteristics. However, there is a drawback in that the yield is reduced. Among these methods, the method using Au is extremely expensive, and it is strongly desired to use Cu, which is a low cost and low conductor resistance material.

本発明は上記問題点に鑑み、グリーンシート法と厚膜印
刷法の両者の利点を持ち合わせた低コスト,低抵抗銅配
線とタングステン配線層の両方を含む多層配線基板の製
造方法を提供するものである。
In view of the above problems, the present invention provides a method for manufacturing a multi-layer wiring board including both low cost, low resistance copper wiring and tungsten wiring layers, which has the advantages of both the green sheet method and the thick film printing method. is there.

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明の多層配線基板の製
造方法は、アルミナとタングステンまたはモリブデンと
からなる積層一体焼結物の最上層の絶縁層の小孔に、Pt
またはPdまたはこれらの混合粉とタングステンまたはモ
リブデンを酸化させない低融点ガラスとアルミナ粉とか
らなるペーストを充てんし、熱処理し充てん物を緻密化
する工程と、これの上に酸化銅ペーストとガラスまたは
これとセラミックスの混合粉ペーストを繰り返し印刷,
乾燥する工程と、これを空気中熱処理しバインダを除去
したのち還元雰囲気中熱処理により酸化銅を銅メタルし
たのち焼成,緻密化する工程とからなるものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention includes a small hole in the uppermost insulating layer of a laminated integral sintered body made of alumina and tungsten or molybdenum. , Pt
Or a step of filling a paste consisting of Pd or a mixed powder of these and a low melting point glass that does not oxidize tungsten or molybdenum and alumina powder, and heat treating to densify the filling, and a copper oxide paste and glass or this on top of this. Repeatedly printing mixed powder paste of ceramics and ceramics,
It comprises a step of drying, a step of heat treating this in air to remove the binder, a step of heat treating in a reducing atmosphere to copper metal copper oxide, followed by firing and densification.

作 用 本発明は、上記した工程により各々次に示す理由,作用
により本発明の多層配線基板の製造を可能とするもので
ある。
Operation The present invention makes it possible to manufacture the multilayer wiring board of the present invention by the above-mentioned processes and the following reasons and actions.

本発明によれば、低抵抗銅配線層形成には出発原料に酸
化銅を用いている。この酸化銅を用いる理由は酸化銅層
及びそれととも積層されている絶縁層には印刷をする必
要上原料はペースト状で用意され、そのペーストには多
量に有機バインダが含まれている。この有機バインダは
緻密化の過程で炭素などの形で膜中に残っているとピン
ホールや泡発生の原因となるもので完全に除去する事が
望ましい。したがって、本発明では銅導体層の出発原料
に酸化銅を用い空気中で完全に有機バインダを然焼させ
たのち還元し、更に緻密化する。導体材料に銅メタル粉
原料を用いたりすると、バインダの除去には窒素雰囲気
中など酸素の存在しない雰囲気で行う必要がある。その
ため、バインダが膜中に微量残る事になり絶縁特性を劣
化させる事となる。本発明の銅多層部は上記の工程をと
るため絶縁層は非常に緻密化され、すぐれた絶縁特性を
示す。一方、内部積層体部の導体材料にはタングステン
やモリブデンを使用している。これらの材料は還元雰囲
気中では極めて安定であるが空気に触れると400℃か
ら500℃程度の温度から酸化が急激に進み、揮発性の
ガスとなって消失するという性質を持っている。そのた
め、本発明のように銅多層部を形成するのに空気中での
処理が伴うような場合は内部タングステンまたはモリブ
デンの導体層は酸化されてしまい導体としての用をたさ
ない事となる。本発明では、内部タングステンまたはモ
リブデン層がこのような空気中熱処理に耐えるような構
造とする事が重要なポイントのひとつである。その手段
として本発明では、白金(Pt)またはパラジウム(Pd)
またはこれらの混合物とタングステンまたはモリブデン
を酸化しない成分からなる低融点ガラス粉とアルミナ粉
と有機ビークルとで混練したペーストを充てんして、空
気中または窒素雰囲気中で熱処理して緻密化する事を行
う。この目的は、内層にタングステンやモリブデンを含
むものに対して、最上層と内層部を電気的に継ぐととも
に内層部が空気中熱処理後も酸化されないようにする事
にある。緻密化した充てん材料ではPtまたはPdまたはこ
れらの混合物が導体とて働き、またガラスとアルミナは
内部への酸素の侵入を防ぐ働きをする。この充てん機の
緻密化のための熱処理は空気中でも可能であるが、これ
は昇温の過程でタングステンまたはモリブデンが酸化し
始める前に低融点ガラスが流れ始め表面を被覆するた
め、外部の酸素との反応が進まなくなるためである。ま
た、ガラス中には酸化鉛(PbO)のような成分を含まな
い方が望ましい。それは、酸化鉛のような還元され易い
成分が含まれると、これによってタングステンやモリブ
デンが容易に酸化され導通性を示さなくなるためであ
る。
According to the present invention, copper oxide is used as a starting material for forming the low resistance copper wiring layer. The reason for using this copper oxide is that the raw material is prepared in the form of paste because the copper oxide layer and the insulating layer laminated therewith are required to be printed, and the paste contains a large amount of organic binder. If the organic binder remains in the film in the form of carbon or the like during the densification process, it causes pinholes and bubbles, and it is desirable to completely remove it. Therefore, in the present invention, copper oxide is used as the starting material for the copper conductor layer, and the organic binder is completely calcined in air, then reduced, and further densified. When a copper metal powder raw material is used as the conductor material, it is necessary to remove the binder in an atmosphere containing no oxygen such as a nitrogen atmosphere. Therefore, a small amount of the binder remains in the film, which deteriorates the insulating property. Since the copper multi-layered part of the present invention takes the above steps, the insulating layer is extremely densified and exhibits excellent insulating properties. On the other hand, tungsten or molybdenum is used as the conductor material of the internal laminated body portion. These materials are extremely stable in a reducing atmosphere, but have a property that when they come into contact with air, oxidation rapidly proceeds from a temperature of about 400 ° C. to 500 ° C. and disappears as a volatile gas. Therefore, when the treatment in air is required to form the copper multilayer portion as in the present invention, the internal tungsten or molybdenum conductor layer is oxidized and cannot be used as a conductor. In the present invention, one of the important points is that the internal tungsten or molybdenum layer has a structure that can withstand such heat treatment in air. As a means for this, in the present invention, platinum (Pt) or palladium (Pd) is used.
Alternatively, a paste obtained by kneading a mixture of these and a low melting point glass powder made of a component that does not oxidize tungsten or molybdenum, an alumina powder and an organic vehicle is filled, and heat treatment is performed in air or a nitrogen atmosphere to densify. . The purpose of this is to electrically connect the uppermost layer and the inner layer portion with respect to the inner layer containing tungsten or molybdenum and to prevent the inner layer portion from being oxidized even after the heat treatment in air. In the densified packing material, Pt or Pd or a mixture thereof acts as a conductor, and the glass and alumina function to prevent oxygen from penetrating inside. The heat treatment for densifying this filling machine can be performed in air, but this is because the low-melting glass begins to flow and coats the surface before tungsten or molybdenum starts to oxidize in the process of heating, so that it does not react with external oxygen. This is because the reaction of does not proceed. Further, it is desirable that the glass does not contain a component such as lead oxide (PbO). This is because if a component that is easily reduced, such as lead oxide, is included, tungsten or molybdenum is easily oxidized by this, and conductivity is lost.

以上、説明したように本発明ではタングステンやモリブ
デン内層を有するアルミナ焼成基板最上層小孔部分に充
てん機を形成し、空気中熱処理しても内部が酸化されな
い処理を施したのち、酸化銅ペーストとガラス粉または
これとセラミック粉の混合物ペーストを交互に印刷,乾
燥を繰り返したのち、一括して空気中で脱バインダし、
更に還元雰囲気中で緻密化する工程をとる事により、ア
ルミナ−タングステンまたはモリブデン系多層構造体と
銅−ガラスまたはガラス−セラミックス系多層構造体を
一体化する事を可能にする。
As described above, according to the present invention, the filling machine is formed in the alumina fired substrate uppermost layer small hole portion having the tungsten or molybdenum inner layer, and after the heat treatment in the air does not oxidize the inside, the copper oxide paste is added. Alternately printing and drying glass powder or a mixture paste of this and ceramic powder, and then removing the binder in the air all at once,
Further, by taking a step of densifying in a reducing atmosphere, it is possible to integrate the alumina-tungsten or molybdenum-based multilayer structure with the copper-glass or glass-ceramics-based multilayer structure.

なお、充てん機の組成は導体成分として60〜90w%
の範囲にある事が望ましい。60w%より少い時は導電
性が十分とれず、また90w%以上になると内部への酸
素の侵入を完全に防ぎきれなくなるためである。
The composition of the filler is 60 to 90 w% as a conductor component.
It is desirable to be in the range of. This is because if it is less than 60 w%, the conductivity cannot be sufficiently obtained, and if it is 90 w% or more, it becomes impossible to completely prevent the invasion of oxygen into the inside.

実施例 以下に実施例について示す。Examples Examples are shown below.

実施例1 シリカ,マグネシアなどの焼結助剤成分を含むアルミナ
92w%の絶縁層とタングステン導体層とからなり、最
上部には内部導体層の微少部分(0.3mm角)が複数個
露出するようにした小孔を設けた絶縁層を形成した積層
焼結体を用意した。これは、アルミナグリーンシート上
にタングステンペーストとアルミナペーストを交互に印
刷,乾燥を繰返した積層体を1580℃、含湿窒素−水
素混合雰囲気中で焼成したものである。この積層焼結体
の小孔部分に表Iに示す成分のペーストをスクリーン印
刷充てんしたのち100℃,10分空気中で乾燥したの
ち、厚膜ベクトルで空気中850℃,30分間で焼成し
た。
Example 1 An insulating layer of 92 w% alumina containing a sintering aid component such as silica and magnesia and a tungsten conductor layer were formed, and a plurality of minute portions (0.3 mm square) of the inner conductor layer were exposed at the uppermost portion. A laminated sintered body on which an insulating layer having such small holes was formed was prepared. This is a laminate obtained by alternately printing and drying a tungsten paste and an alumina paste on an alumina green sheet and firing the laminate at 1580 ° C. in a wet nitrogen-hydrogen mixed atmosphere. The small pores of this laminated sintered body were screen-printed with pastes of the components shown in Table I, dried in air at 100 ° C. for 10 minutes, and then baked in a thick film vector at 850 ° C. in air for 30 minutes.

なお、表Iに示したガラス成分は約450℃で軟化する
ものである。
The glass components shown in Table I soften at about 450 ° C.

この焼成体の上部に、前記充てん機と接触するように酸
化銅粉と10w%エチルセルロース溶解のテンピン油と
を混練して得たペーストをスクリーン印刷,乾燥し、こ
の上に更に表IIに示す成分からなるガラス粉−セラミッ
ク粉混合物と上記エチルセルロース−テレピノール系ビ
ークルを混練したペーストをスクリーン印刷,乾燥し
た。
A paste obtained by kneading copper oxide powder and tempinate oil dissolving 10 w% ethyl cellulose so as to come into contact with the filling machine was screen-printed and dried on the upper part of the fired body, and then the components shown in Table II were further added. A paste obtained by kneading the glass powder-ceramic powder mixture consisting of the above and the above ethylcellulose-terepinol vehicle was screen-printed and dried.

なお、この絶縁層ペーストの印刷は2回行った。前記工
程を繰り返し酸化銅層が最上層になるようにし、この最
上層を含め酸化銅層が3層になるように印刷した。これ
までの工程で、内部タングステン層と外部酸化銅層は各
層間ビアで接続されるよう設計されたスクリーン印刷版
を用いた。この印刷積層体を800℃空気中で15分間
処理したのち、H2/N2=10/90の混合雰囲気、45
0℃,15分間処理し、これにつづけて昇温し純N2中1
030℃,30分間保持したのち除冷し、炉より取り出
した。
The printing of the insulating layer paste was performed twice. The above steps were repeated so that the copper oxide layer became the uppermost layer, and printing was performed such that the copper oxide layer including this uppermost layer became three layers. In the steps so far, a screen printing plate designed to connect the inner tungsten layer and the outer copper oxide layer with each interlayer via was used. This printed laminate was treated in air at 800 ° C. for 15 minutes, and then a mixed atmosphere of H 2 / N 2 = 10/90, 45
Treat at 0 ° C for 15 minutes, then raise the temperature to 1 in pure N 2.
After holding at 030 ° C. for 30 minutes, it was cooled and taken out from the furnace.

焼成が完了した基板は緻密構造体として焼結されてお
り、銅多層部の配線抵抗は2〜3mΩ/口,銅導体の層
間絶縁抵抗は0.5×1×1013Ωであった。なお、タ
ングステン導体層の抵抗は15mΩ/口程度であった。
また、内部タングステンと銅メタライズ層をつなぐ抵抗
は極めて低く正確な評価は困難であったが、金属の量
(Pt)が75w%で最も抵抗値が小さく、60w%,9
0w%のとき各々75w%のものに比べ15〜20%程
度高い値を示した。
The fired substrate was sintered as a dense structure, the wiring resistance of the copper multilayer portion was 2 to 3 mΩ / port, and the interlayer insulation resistance of the copper conductor was 0.5 × 1 × 10 13 Ω. The resistance of the tungsten conductor layer was about 15 mΩ / port.
Also, the resistance connecting the internal tungsten and the copper metallization layer was extremely low, and accurate evaluation was difficult, but the resistance value was the smallest when the amount of metal (Pt) was 75 w%, 60 w%, 9 w
At 0 w%, the values were about 15 to 20% higher than those of 75 w%.

しかし、この値は実用上全く問題にならない程度に小さ
いものである。また、内層部がモリブデンの場合もタン
グステンの場合とほぼ同じ程度のものが得られ、内層導
体にモリブデンを使用してもタングステンと同様の効果
が得られた。
However, this value is so small as not to cause any problem in practical use. Also, when the inner layer portion was molybdenum, the same degree as that of tungsten was obtained, and even when molybdenum was used for the inner layer conductor, the same effect as tungsten was obtained.

発明の効果 以上説明したように、本発明はすなわちアルミナ−タン
グステンまたはモリブデン系の多層構造焼結体にPtまた
はPdと低融点ガラスとアルミナとからなる充てん機を形
成し、そのうち酸化銅ペーストと絶縁ペーストを交互に
繰返し印刷したのち、空気中熱処理と還元雰囲気処理,
緻密化処理を一括して行うことにより、アルミナ−タン
グステンまたはモリブデン系とガラスまたはこれとセラ
ミックス混合物−銅系の複合された多層構造体が得られ
る。
As described above, according to the present invention, the alumina-tungsten or molybdenum-based multilayer sintered body is formed with a filler made of Pt or Pd, a low melting point glass and alumina, and is insulated from the copper oxide paste. After printing the paste alternately and repeatedly, heat treatment in air and reduction atmosphere treatment,
By carrying out the densification treatment all at once, a composite multilayer structure of alumina-tungsten or molybdenum system and glass or this and ceramic mixture-copper system is obtained.

これにより、高度の多層化工法ならびに熱伝導特性にす
ぐれた多層基板と配線抵抗の極めて小さい多層基板の組
合わせが可能となり、かつ銅多層基板部は焼結基板上に
印刷形成するためパターン精度が高く精度の必要の部品
の実装にも適するものである。
As a result, it is possible to combine an advanced multi-layer method and a multi-layer substrate with excellent thermal conductivity with a multi-layer substrate with extremely low wiring resistance. It is also suitable for mounting parts that require high accuracy.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】アルミナを主成分とする絶縁層とタングス
テンまたはモリブデン金属導体層とからなる積層体の最
上層絶縁層に内部導体が露出するよう小孔を設けた焼結
体の小孔部分に白金粉,パラジウム粉の一種またはこれ
らの混合物を60〜90w%とタングステンまたはモリ
ブデンを酸化させない成分からなる低融点ガラス粉とア
ルミナ粉とからなるフリット成分40〜10w%と有機
ビークルとからなるペーストを充てんする工程と、この
積層体を空気中またはN中で焼成し充てん部分を緻密
化する工程と、これに酸化銅粉と有機ビークルからなる
ペーストを印刷する工程と銅の融点より低い温度で焼結
するガラス粉またはこれとセラミック粉の混合粉と有機
ビークルとからなるペーストを印刷,乾燥する工程とを
繰り返す工程と、これを空気中で熱処理しバインダを除
去する工程と、これを還元雰囲気中で熱処理し酸化銅を
銅金属に還元する工程と、これを中性雰囲気または還元
雰囲気中で熱処理し、銅および酸化物絶縁層を焼結,緻
密化する工程とからなる多層配線基板の製造方法。
1. A small hole portion of a sintered body in which a small hole is provided in the uppermost insulating layer of a laminate composed of an insulating layer containing alumina as a main component and a tungsten or molybdenum metal conductor layer so that the internal conductor is exposed. A paste composed of 60 to 90 w% of platinum powder, palladium powder or a mixture thereof and 40 to 10 w% of a frit component composed of a low melting point glass powder composed of a component that does not oxidize tungsten or molybdenum and an alumina powder and an organic vehicle. Filling step, firing the laminated body in air or N 2 to densify the filled portion, printing paste with copper oxide powder and organic vehicle on it, and at a temperature lower than the melting point of copper. A step of repeating a step of printing and drying a paste consisting of glass powder to be sintered or a mixed powder of this and ceramic powder and an organic vehicle; A step of heat-treating this in air to remove the binder, a step of heat-treating this in a reducing atmosphere to reduce copper oxide to copper metal, and a step of heat-treating this in a neutral atmosphere or a reducing atmosphere to remove copper and oxides. A method for manufacturing a multilayer wiring board, which comprises a step of sintering and densifying an insulating layer.
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