JPS625694A - Manufacture of multilayer interconnection substrate - Google Patents

Manufacture of multilayer interconnection substrate

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JPS625694A
JPS625694A JP14558485A JP14558485A JPS625694A JP S625694 A JPS625694 A JP S625694A JP 14558485 A JP14558485 A JP 14558485A JP 14558485 A JP14558485 A JP 14558485A JP S625694 A JPS625694 A JP S625694A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はIC,LSIまた小型受動部品を実装した高機
能、高性能、高密度実装用に用いる多層配線基板の製造
方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer wiring board used for high functionality, high performance, and high density mounting on which ICs, LSIs, and small passive components are mounted.

従来の技術 近年、機器の小型化や多機能化の要望が年を追って強く
なってきている。一方、信号の高速度処理の技術の進歩
も大きい。このような状況のなかにあって、セラミック
を用いた多層配線基板技術は小型デバイスの高密度実装
用基板や高速デバイス実装用基板として重要な位置にあ
る。従来、セラミックの多層配線基板技術には大きく分
けて2通りの技術がある(例えば、電子技術、第24巻
4号P26〜30)。
BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years, the demand for smaller devices and more multifunctional devices has become stronger over the years. On the other hand, there has also been significant progress in high-speed signal processing technology. Under these circumstances, multilayer wiring board technology using ceramics is playing an important role as a board for high-density mounting of small devices and a board for high-speed device mounting. Conventionally, there are roughly two types of ceramic multilayer wiring board technologies (for example, Electronic Technology, Vol. 24, No. 4, pages 26-30).

そのひとつは、アルミナ粉を主成分とする無機成分と有
機バインダ、可塑剤とからなるグリーンシートにタング
ステンまだはモリブデンのペーストを印刷し、これらの
複数枚を重ね合わせ、熱と圧力で積層一体化させるかま
たは、アルミカブリーンシートの上にタングステンまだ
はモリブデンペーストとアルミナベーヌトを順次印刷積
層一体化させたものを還元雰囲気中高温で焼結させる方
法である。この方法で得だ多層基板では、腐食を防いだ
り半田付ができるようにするため表層部のタングステン
まだはモリブデン金属に金などのメッキを施すのが通例
である。もう一方の方法は厚膜印刷法とも称すべきもの
で、焼結されたアルミナ基板上に導体ペースト(人u、
 kg/Pd、 Cuなど)とガラスペーストを各々一
層毎に印刷、乾燥、焼成を繰り返す方法である。この方
法のうち、ムU。
One method is to print tungsten or molybdenum paste on green sheets made of an inorganic component mainly composed of alumina powder, an organic binder, and a plasticizer, then stack multiple sheets of these sheets and laminate them together using heat and pressure. Alternatively, tungsten or molybdenum paste and alumina beanite are sequentially printed and integrated on an aluminum carbureen sheet and sintered at high temperature in a reducing atmosphere. In multilayer boards obtained using this method, the surface layer of tungsten or molybdenum metal is usually plated with gold or other metal to prevent corrosion and enable soldering. The other method is also called the thick film printing method, in which a conductive paste (such as
This is a method in which printing, drying, and firing are repeated for each layer of glass paste (kg/Pd, Cu, etc.) and glass paste. Of this method, MuU.

Ag/Pdノ導体は空気中850〜9oo℃で焼成する
ものであり、Cuは窒素雰囲気中860〜soo’cで
焼成するものである。
The Ag/Pd conductor is fired at 850 to 90°C in air, and the Cu is fired at 860 to soo'C in a nitrogen atmosphere.

発明が解決しようとする問題点 しかし、以上説明した2通りの方法のうち、グリーンシ
ート法は絶、禄伺料にアルミナを用いるだめ絶縁特性、
熱伝導性にすぐれ債層数を大きくできるという利点があ
る一方、導体材料にタングステンやモリブデンを用いて
いるため配線部の導体抵抗が高い(Cuの5〜10倍)
という不利な点があるとともに表面導体層に金メッキす
る必要があるという点でコストが高い。寸だ、この方法
では未焼成一体物を焼成する関係上、焼成後の寸法にバ
ラツキが生じるため配線のパターン精度が十分だせない
という欠点もある。
Problems to be Solved by the Invention However, of the two methods explained above, the green sheet method is unsuitable, and the use of alumina as a material for insulation has poor insulation properties.
Although it has the advantage of excellent thermal conductivity and the ability to increase the number of bond layers, it uses tungsten and molybdenum as the conductor material, so the conductor resistance of the wiring part is high (5 to 10 times that of Cu).
In addition to this disadvantage, the cost is high because the surface conductor layer must be plated with gold. However, since this method involves firing an unfired monolithic product, the dimensions after firing will vary, so there is also the drawback that sufficient accuracy in the wiring pattern cannot be achieved.

一方、厚膜印刷法では人UやCu  といったような十
分導体抵抗の低い材料の使用が可能という点で信号の高
速処理用基板としては有利であり、また焼結された基板
上に積層してゆくため寸法精度も十分であるという利点
がある。しかし、この方法では導体、絶縁層の形成に印
刷、乾燥、焼成を一層毎に行う必要があるため工程が面
(至)jとなるとともに、−回毎の焼成で絶縁層の劣化
が生じ絶縁特性が十分でなく、歩どまり低下をまねくと
いう欠点がある。この方法のうち、 Au 使用のもの
は極めてコストが高く低コストで低導体抵抗材料である
Cuの使用がつよく望まれている。
On the other hand, the thick film printing method is advantageous in that it allows the use of materials with sufficiently low conductor resistance, such as U or Cu, as a substrate for high-speed signal processing. It has the advantage of sufficient dimensional accuracy. However, in this method, printing, drying, and firing must be performed layer by layer to form the conductor and insulating layers, making the process time consuming. It has the disadvantage of not having sufficient characteristics and resulting in a decrease in yield. Among these methods, the method using Au is extremely expensive, and the use of Cu, which is a low cost and low conductor resistance material, is strongly desired.

本発明は上記問題点に鑑み、グリーンシート法と厚膜印
刷法の両者の利点全持ち合わせた低コスト、低抵抗銅配
線とタングステン配線層の両方を含む多層配線基板の製
造方法を提供するものである。
In view of the above-mentioned problems, the present invention provides a method for manufacturing a multilayer wiring board including both low-resistance copper wiring and tungsten wiring layers at a low cost and having all the advantages of both the green sheet method and the thick film printing method. be.

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明の多層配線基板の製
造方法は、アルεすとタングステンまたはモリブデンと
からなる積層一体焼結物の最上層の絶縁層の小孔に、P
tまたばPdまたはこれらの混合粉とタングステンまた
はモリブデンを酸化させない低融点ガラスとアルミナ粉
とからなるペーストを充てんし、熱処理して充てん物を
緻密化する工程と、これの上に酸化銅ペーストとガラス
またはこれとセラミックスの混合粉ペーストを繰り返し
印刷、乾燥する工程と、これを空気中熱処理しバインダ
を除去したのち還元雰囲気中熱処理により酸化銅を銅メ
タルとしたのち焼成、緻密化する工程とからなるもので
ある。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the method for manufacturing a multilayer wiring board of the present invention provides a method for manufacturing a multilayer wiring board of the present invention. In the hole, P
Alternatively, a process of filling a paste consisting of Pd or a mixed powder thereof, a low-melting glass that does not oxidize tungsten or molybdenum, and alumina powder, heat-treating it to make the filling dense, and applying copper oxide paste on top of this. A process of repeatedly printing and drying glass or a mixed powder paste of glass and ceramics, and a process of heat-treating this in air to remove the binder, then heat-treating it in a reducing atmosphere to turn copper oxide into copper metal, and then firing and densifying it. It is what it is.

作用 本発明は、上記した工程により各々次に示す理由9作用
により本発明の多層配線基板の製造を可能とするもので
ある。
Functions The present invention makes it possible to manufacture the multilayer wiring board of the present invention through the above-described steps for the following nine reasons.

本発明によれば、低抵抗銅配線層形成には出発原料に酸
化銅を用いている。この酸化銅を用いる理由は酸化銅層
及びそれとともに積層されている、絶縁層には印刷をす
る必要上原料はベーヌト状で用意され、そのペーストに
は多量に有機バインダが含まれている。この有機バイン
ダは緻密化の過程で次素などの形で膜中に残っていると
ピンホールや泡発生の原因となるもので完全に除去する
事が望ましい。しだがって、本発明では銅導体層の出発
原料に酸化銅を用い空気中で完全に有機バインダを熱焼
させたのち還元し、更に緻密化する。
According to the present invention, copper oxide is used as a starting material for forming a low resistance copper wiring layer. The reason why this copper oxide is used is because it is necessary to print the copper oxide layer and the insulating layer laminated together with it, so the raw material is prepared in the form of beanute, and the paste contains a large amount of organic binder. If this organic binder remains in the film in the form of subelements during the densification process, it will cause pinholes and bubbles, so it is desirable to completely remove it. Therefore, in the present invention, copper oxide is used as the starting material for the copper conductor layer, and after the organic binder is completely baked in air, it is reduced and further densified.

導体材料に銅メタル粉原料を用いたりすると、バインダ
の除去には窒素雰囲気中など酸素の存在しない雰囲気で
行う必要がある。そのため、パインダが膜中に微量残る
事になり絶縁特性を劣化させる事となる。本発明の銅多
層部は上記の工程をとるため絶縁層は非常に緻密化され
、すぐれた絶縁特性を示す。一方、内部積層体部の導体
材料にはタングステンやモリブデンを使用している。こ
れらの材料は還元雰囲気中では極めて安定であるが空気
に触れると400℃から500℃程度の温度から酸化が
急激に進み、揮発性のガスとなって消失するという性質
を持っている。そのため、本発明のように銅多層部を形
成するのに空気中での処理が伴うような場合は内部タン
グステンまたはモリブデンの導体層は酸化されてしまい
導体としての用をたさない事となる。本発明では、内部
タングステンまたはモリブデン層がこのような空気中熱
処理に耐えるような構造とする事が重要なポイントのひ
とつである。その手段として本発明では、白金(Pt)
またはパラジウム(Pd)またはこれらの混合物とタン
グステンまたはモリブデンを酸化しない成分からなる低
融点ガラス粉とアルミナ粉と有機ビーク/l<とで混練
したペーストを充てんして、空気中または窒素雰囲気中
で熱処理して緻密化する事を行う。この目的は、内層に
タングステンやモリブデンを含むものに対して、最上層
と内層部を電気的に継ぐとともに内層部が空気中熱処理
後も酸化されないようにする事(72:ある。緻密化し
た充てん材料ではPt″!たはPdまたはこれらの混合
物が導体として働き、まだガラスとアルミナは内部への
酸素の侵入を防ぐ働きをする。この充てん機の緻密化の
だめの熱処理は空気中でも可能であるが、これは昇温の
過程でタングステンまたはモリブデンが酸化し始める前
に低融点ガラスが流れ始め表面を被覆するため、外部の
酸素との反応が進まなくなるためである。また、ガラス
中には酸化鉛(PbO)のような成分を含まない方が望
ましい。それは、酸化鉛のような還元され易い成分が含
まれると、これによってタングステンやモリブデンが容
易に酸化され導通性を示さなくなるためである。
When a copper metal powder raw material is used as the conductor material, the binder must be removed in an atmosphere free of oxygen, such as a nitrogen atmosphere. Therefore, a small amount of binder remains in the film, degrading the insulation properties. Since the copper multilayer part of the present invention takes the above steps, the insulating layer is extremely dense and exhibits excellent insulating properties. On the other hand, tungsten or molybdenum is used as the conductor material for the internal laminated body. These materials are extremely stable in a reducing atmosphere, but when exposed to air, oxidation rapidly progresses from a temperature of about 400°C to 500°C, and they become volatile gases and disappear. Therefore, when forming a copper multilayer part as in the present invention involves treatment in air, the internal tungsten or molybdenum conductor layer is oxidized and becomes useless as a conductor. One of the important points in the present invention is to have a structure in which the internal tungsten or molybdenum layer can withstand such in-air heat treatment. As a means for achieving this, in the present invention, platinum (Pt)
Alternatively, a paste made by kneading palladium (Pd) or a mixture thereof, a low-melting glass powder made of components that do not oxidize tungsten or molybdenum, alumina powder, and organic beak/l is filled and heat-treated in air or nitrogen atmosphere. and refine the process. The purpose of this is to electrically connect the top layer and the inner layer for materials containing tungsten or molybdenum, and to prevent the inner layer from being oxidized even after heat treatment in air (72: Yes. In terms of materials, Pt''! or Pd or a mixture thereof acts as a conductor, while glass and alumina act to prevent oxygen from entering the inside.The heat treatment for densification in this filling machine is possible even in air. This is because the low melting point glass begins to flow and coat the surface before tungsten or molybdenum begins to oxidize in the process of temperature rise, preventing the reaction with external oxygen from proceeding.Also, there is lead oxide in the glass. It is preferable not to include a component such as (PbO).This is because if a component that is easily reduced such as lead oxide is included, tungsten and molybdenum will be easily oxidized and will not exhibit conductivity.

以上、説明したように本発明ではタングステンやモリブ
デン内層を有するアルミナ焼成基板膜上層部小孔部分に
充てん機を形成し、空気中熱処理しても内部が酸化され
ない処理を施したのち、酸化鋼ペーストとガラス粉また
はこれと七うミック粉の混合物ペーストを交互に印刷、
乾燥を繰り返したのち、一括して空気中で脱バインダし
、更に還元雰囲気中で緻密化する工程をとる事により、
アルミナ−タングステンまたはモリブデン系多層構造体
と銅−ガラスまたはガラス−セラミックス系多層構造体
を一体化する事を可能にする。
As explained above, in the present invention, a filling machine is formed in the small pores in the upper layer of the alumina fired substrate film having an inner layer of tungsten or molybdenum, and after a treatment that does not oxidize the inside even when heat-treated in air, an oxidized steel paste is applied. and glass powder or a mixture paste of this and seven umic powders are printed alternately,
After repeated drying, the binder is removed all at once in the air, and the process is further densified in a reducing atmosphere.
It is possible to integrate an alumina-tungsten or molybdenum multilayer structure with a copper-glass or glass-ceramics multilayer structure.

なお、充てん機の組成は導体成分として60〜90WX
の範囲にある事が望ましい。SOW%よシ少い時は導電
性が十分とれず、またSOW%以上だなると内部への酸
素の侵入を完全に防ぎきれなくなるためである。
The composition of the filling machine is 60 to 90WX as a conductor component.
It is desirable that it be within the range of . This is because when the SOW% is less than the SOW%, sufficient conductivity cannot be obtained, and when the SOW% is more than the SOW%, it is not possible to completely prevent oxygen from entering the interior.

実施例 以下に実施例について示す。Example Examples are shown below.

実施例1 シリカ、マグネシアなどの焼結助剤成分を含むアルミナ
92W%の絶縁層とタングステン導体層とからなり、最
上部には内部導体層の微少部分(0,31fflll角
)が複数個露出するようにした小孔を設けた絶縁層を形
成した積層焼結体を用意した。
Example 1 Consists of an insulating layer made of 92W% alumina containing sintering aid components such as silica and magnesia, and a tungsten conductor layer, with a plurality of minute portions (0.31ffllll angle) of the internal conductor layer exposed at the top. A laminated sintered body having an insulating layer formed with small holes as described above was prepared.

これは、アルミナグリーンシート上にタングステンペー
ストトアルミナペーストを交互に印刷、乾燥を繰返した
積層体を1680℃、含湿窒素−水素混合雰囲気中で焼
成したものである。この積層焼結体の小孔部分に表IK
示す成分のペーストをスクリーン印刷光てんしたのち1
00’C,10分空気中で乾燥したのち、厚膜ベクトル
で空気中850℃、30分間で焼成した。
This is a laminate in which tungsten paste and alumina paste are alternately printed on alumina green sheets and dried repeatedly, and then fired at 1680° C. in a humid nitrogen-hydrogen mixed atmosphere. Table IK is shown in the small hole part of this laminated sintered body.
After screen-printing a paste with the ingredients shown, 1.
After drying in air at 00'C for 10 minutes, it was fired in air at 850C for 30 minutes using a thick film vector.

なお、表Iに示したガラス成分は約460’Cで軟化す
るものである。
Note that the glass components shown in Table I soften at about 460'C.

表I 充てん機組成 ガラス:BaO,B2O3を主成分とし、その他5in
2゜λ120.. MgOを添加物とする組成、軟化侭
〜450’Cこの焼成体の上部だ、前記光てん機と接触
するように酸化銅粉と10W%エチルセルロース溶解の
テンビン油とを混練して得たペーストをスクリーン印刷
、乾燥し、この上〈更に表■に示す成分からなるガラス
粉−セラミック粉混合物と上記エチルセルロース−テレ
ピノール系ビークルを混練したペーストをスクリーン印
刷、乾燥した。
Table I Filling machine composition Glass: BaO, B2O3 as main components, other 5in
2゜λ120. .. Composition with MgO as an additive, softening time ~ 450'C At the top of this fired body, a paste obtained by kneading copper oxide powder and Tenbin oil dissolved in 10 W% ethyl cellulose was placed in contact with the Koten machine. The mixture was screen printed and dried, and then a paste obtained by kneading the glass powder-ceramic powder mixture consisting of the ingredients shown in Table 1 and the above ethyl cellulose-terepinol vehicle was screen printed and dried.

なお、この絶縁層ペーストの印刷は2回行った。Note that printing of this insulating layer paste was performed twice.

前記工程を繰り返し酸化銅層が最上層になるようにし、
この最上層を含め酸化銅層が3層になるように印刷した
。これまでの工程で、内部タングステン層と外部酸化銅
層は各層間ビアで接続されるよう設計されたスクリーン
印刷版を用いた。この印刷積層体を800°C空気中で
15分間処理したノチ、H2/N2=1o/90の混合
雰囲気、450’(: 、 15分間処理し、これにつ
づけて昇温し純N2中 1030℃、30分間保持した
のち除冷し、店より取り出した。
Repeat the above steps so that the copper oxide layer becomes the top layer,
Printing was performed so that there were three copper oxide layers including this top layer. In the previous steps, we used a screen printing plate designed to connect the inner tungsten layer and the outer copper oxide layer with interlayer vias. This printed laminate was treated at 800°C in air for 15 minutes, in a mixed atmosphere of H2/N2 = 1o/90, at 450°C for 15 minutes, and subsequently heated to 1030°C in pure N2. After being held for 30 minutes, it was slowly cooled and taken out from the store.

以下余白 表H絶縁ペースト1幾無機組成 焼成が完了した基板は緻密構造体として焼結されており
、銅多層部の配線抵抗は2〜3mΩ2佃。
Table H Insulating Paste 1 Geometric Inorganic Composition The substrate after firing is sintered as a dense structure, and the wiring resistance of the copper multilayer part is 2 to 3 mΩ2.

銅導体の層間絶縁抵抗は0.5〜I X 1 o15Ω
 であった。なお、タングステン導体層の抵抗は15m
Ω/口程度であった。また、内部タングステンと銅メタ
ライズ層をつなぐ抵抗は極めて低く正確な評価は困難で
あったが、金属の量(Pt)が75w%で最も抵抗値が
小さく、SOWに、90wπのとき各々75w%のもの
に比べ16〜20に程度高い値を示した。
The interlayer insulation resistance of the copper conductor is 0.5 to I x 1 o 15Ω
Met. Note that the resistance of the tungsten conductor layer is 15 m.
It was about Ω/mouth. In addition, the resistance connecting the internal tungsten and copper metallized layer is extremely low and difficult to accurately evaluate, but the resistance value is the lowest when the amount of metal (Pt) is 75w%, and when the amount of metal (Pt) is 75w%, the resistance value is the lowest, and when The value was about 16 to 20 higher than that of the standard.

しかし、この値は実用上全く問題にならない程度に小さ
いものである。また、内層部がモリブデンの場合もタン
グステンの場合とほぼ同じ程度の−ものが得られ、内層
導体にモリブデンを使用してもタングステンと同様の効
果が得られた。 。
However, this value is so small that it poses no problem in practice. Moreover, when the inner layer was made of molybdenum, almost the same level of - was obtained as when using tungsten, and even when molybdenum was used for the inner layer conductor, the same effect as tungsten was obtained. .

発明の詳細 な説明したように、本発明はすなわちアルミナ−タング
ステンまたはモリブデン系の多層構造焼結体にptまた
はPdと低融点ガラスとアルミナとからなる充てん機を
形成し、そのうち酸化銅ペーストと絶縁ベースIf交互
に繰返し印刷したのち、空気中熱処理と還元雰囲気処理
、緻密化処理を一括して行うことにより、アルミナ−タ
ングステンまたはモリブデン系とガラスまたはこれとセ
ラミックス混合物−銅系の複合された多層構造体が得ら
れる。
As described in detail, the present invention involves forming a filling machine made of PT or Pd, low melting point glass, and alumina in an alumina-tungsten or molybdenum-based multilayer structure sintered body, and forming a filling machine made of PT or Pd, low melting point glass, and alumina. After repeatedly printing the base If, heat treatment in air, reducing atmosphere treatment, and densification treatment are performed all at once, resulting in a composite multilayer structure of alumina-tungsten or molybdenum-based glass or a ceramic mixture thereof-copper-based You get a body.

これにより、高度の多層化工法ならびに熱伝導特性にす
ぐれた多層基板と配線抵抗の極めて小さい多層基板の組
合わせが可能となり、かつ銅多層基板部は焼結基板上に
印刷形成するためパターン精度が高く精度の必要の部品
の実装にも適するものである。
This makes it possible to combine an advanced multilayer construction method and a multilayer board with excellent thermal conductivity and a multilayer board with extremely low wiring resistance.In addition, since the copper multilayer board is printed on a sintered board, pattern accuracy is improved. It is also suitable for mounting parts that require high precision.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  アルミナを主成分とする絶縁層とタングステンまたは
モリブデン金属導体層とからなる積層体の最上層絶縁層
に内部導体が露出するよう小孔を設けた焼結体の小孔部
分に白金粉、パラジウム粉の一種またはこれらの混合物
を60〜90w%とタングステンまたはモリブデンを酸
化させない成分からなる低融点ガラス粉とアルミナ粉と
からなるフリット成分40〜10w%と有機ビークルと
からなるペーストを充てんする工程と、この積層体を空
気中またはN_2中で焼成し充てん部分を緻密化する工
程と、これに酸化銅粉と有機ビークルからなるペースト
を印刷する工程と銅の融点より低い温度で焼結するガラ
ス粉またはこれとセラミック粉の混合粉と有機ビークル
とからなるペーストを印刷、乾燥する工程とを繰り返す
工程と、これを空気中で熱処理しバインダを除去する工
程と、これを還元雰囲気中で熱処理し酸化銅を銅金属に
還元する工程と、これを中性雰囲気または還元雰囲気中
で熱処理し、銅および酸化物絶縁層を焼結、緻密化する
工程とからなる多層配線基板の製造方法。
Platinum powder, palladium powder, A step of filling a paste consisting of 60 to 90 w% of one type or a mixture thereof, 40 to 10 w% of a frit component consisting of low melting point glass powder and alumina powder made of components that do not oxidize tungsten or molybdenum, and an organic vehicle; A step of firing this laminate in air or N_2 to densify the filled part, a step of printing a paste consisting of copper oxide powder and an organic vehicle, and a step of sintering the laminate at a temperature lower than the melting point of copper with glass powder or A process of printing and drying a paste consisting of a mixed powder of ceramic powder and an organic vehicle is repeated, a process of heat-treating this in air to remove the binder, and a process of heat-treating this in a reducing atmosphere to produce copper oxide. A method for producing a multilayer wiring board, comprising the steps of reducing copper metal to copper metal, and heat-treating this in a neutral or reducing atmosphere to sinter and densify the copper and oxide insulating layers.
JP14558485A 1985-07-02 1985-07-02 Method for manufacturing multilayer wiring board Expired - Lifetime JPH0632380B2 (en)

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