JPH0632375B2 - Printed wiring board manufacturing method - Google Patents

Printed wiring board manufacturing method

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JPH0632375B2
JPH0632375B2 JP62010797A JP1079787A JPH0632375B2 JP H0632375 B2 JPH0632375 B2 JP H0632375B2 JP 62010797 A JP62010797 A JP 62010797A JP 1079787 A JP1079787 A JP 1079787A JP H0632375 B2 JPH0632375 B2 JP H0632375B2
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printed wiring
wiring board
hole
holes
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喜一郎 島倉
良永 山川
秀雄 宮城
俊之 鈴木
正巳 高木
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ARUMETSUKUSU KK
Panasonic Electric Works Co Ltd
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ARUMETSUKUSU KK
Matsushita Electric Works Ltd
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  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、プリント配線板の製法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board.

〔背景技術〕[Background technology]

プリント配線板には、部品実装のため、スルホールが形
成されている。このように、スルホールが形成されたプ
リント配線板を得るには、従来、第2図(a)〜(g)にみる
ようにされていた。
Through holes are formed in the printed wiring board for component mounting. As described above, in order to obtain a printed wiring board having through holes, it has been conventionally performed as shown in FIGS. 2 (a) to (g).

すなわち、第2図(a)にみるように、アルミニウムベー
ス銅張り積層板(アルミCCL)50を用意する。この
アルミニウムベース銅張り積層板50は、アルミニウム
基板501をベースとし、その両面にアルマイト層50
2,接着剤層503,銅箔504が順に積層されたもの
である。第2図(b)にみるように、アルミニウムベース
銅張り積層板50にスルホール用の穴51をあける。第
2図(c)にみるように、スルホール用穴51の内壁面に
電解エッチングを施すことにより、内壁面にあらわれて
いるアルミニウム基板の部分およびアルマイト層の部分
を平滑化する。第2図(d)にみるように、アルマイト処
理を施すことにより、平滑化したアルミニウム基板およ
びアルマイト層部分にアルマイト層52を形成する。さ
らに、第2図(e)にみるように、粉体静電塗装を施すこ
とにより、アルマイト層52上に粉体静電塗装層53を
形成する。第2図(f)にみるように、無電解銅めっきを
施すことにより、スルホール用穴51の内壁面上および
銅箔504上に無電解銅めっき層54を形成する。その
後、テンティング(スルホール用穴の穴埋め)を施し、
所望の電路となるようにエッチングレジストを塗布して
からエッチングを行い、レジストの除去およびテンティ
ングの削除をすることにより、第2図(g)にみるよう
に、スルホール用穴および両面に導体層が形成された、
すなわち、スルホール51′および電路55が形成され
たプリント配線板が得られるのである。
That is, as shown in FIG. 2 (a), an aluminum base copper clad laminate (aluminum CCL) 50 is prepared. This aluminum-based copper-clad laminate 50 is based on an aluminum substrate 501 and has an alumite layer 50 on both sides thereof.
2, an adhesive layer 503, and a copper foil 504 are sequentially laminated. As shown in FIG. 2 (b), a hole 51 for a through hole is made in the aluminum-based copper-clad laminate 50. As shown in FIG. 2 (c), the inner wall surface of the through hole hole 51 is subjected to electrolytic etching to smooth the aluminum substrate portion and the alumite layer portion exposed on the inner wall surface. As shown in FIG. 2 (d), the alumite layer 52 is formed on the smoothed aluminum substrate and the alumite layer portion by performing the alumite treatment. Further, as shown in FIG. 2 (e), powder electrostatic coating is applied to form a powder electrostatic coating layer 53 on the alumite layer 52. As shown in FIG. 2 (f), electroless copper plating is applied to form an electroless copper plating layer 54 on the inner wall surface of the through hole hole 51 and on the copper foil 504. After that, perform tenting (filling the holes for through holes),
As shown in Fig. 2 (g), by applying an etching resist to form a desired electric path and then etching, the resist is removed and the tenting is removed. Was formed,
That is, a printed wiring board in which the through hole 51 'and the electric path 55 are formed can be obtained.

以上にみてきたようにして、スルホール付プリント配線
板はつくられていたが、この方法によれば、スルホール
用の穴51をあけた時、第3図にみるように、銅箔50
4等の金属箔を巻き込み(図中、B部が巻き込み部分。
なお、図中、矢印Aは穴あけ方向を示す。)この巻き込
まれた金属箔がアルミニウム基板501等の金属基板に
接触して、金属箔と金属基板との間の絶縁性を不良にす
ることがあった。このため、得られたプリント配線板に
おいて、スルホールの導体層と金属基板との間の絶縁不
良が起こっていた。また、銅箔等の金属箔が付いた状態
でアルマイト処理等の化成処理を行うと、銅箔等の金属
箔が溶解するため、銅箔等の金属箔の保護マスクが必要
であり、その結果、その保護マスクの取付,取外しの作
業を要していた。しかも、銅箔等の金属箔が付いた状態
で粉体静電塗装等の塗装をすると、銅箔等の金属箔表面
に塗料が付着するため、その除去が必要であった。その
他、テンティング等の作業が必要であり、作業工程が多
く、生産性が悪いという欠点があった。
As described above, the printed wiring board with through holes was manufactured. According to this method, when the holes 51 for through holes are opened, as shown in FIG.
Incorporate a metal foil such as No. 4 (the part B in the figure is the part involved.
In the figure, arrow A indicates the drilling direction. In some cases, the wound metal foil comes into contact with a metal substrate such as the aluminum substrate 501, resulting in poor insulation between the metal foil and the metal substrate. Therefore, in the obtained printed wiring board, insulation failure between the conductor layer of the through hole and the metal substrate has occurred. Also, when chemical conversion treatment such as alumite treatment is performed with the metal foil such as the copper foil attached, the metal foil such as the copper foil dissolves, and thus a protective mask for the metal foil such as the copper foil is required. The work of attaching and removing the protective mask was required. Moreover, when powder electrostatic coating or the like is applied in the state where the metal foil such as copper foil is attached, the paint adheres to the surface of the metal foil such as copper foil, so that it is necessary to remove it. In addition, there is a drawback that work such as tenting is required, there are many work steps, and productivity is poor.

一方、金属箔の巻き込みに起因する絶縁不良がなく、生
産性のよくスルホール付のプリント配線板を得る方法と
して、従来、第4図(a)〜(f)に示す方法がある。
On the other hand, as a method for obtaining a printed wiring board with through holes which does not cause insulation failure due to the winding of the metal foil and has good productivity, there are conventionally methods shown in FIGS. 4 (a) to 4 (f).

この方法の場合には、先ず、第4図(a)に示すアルミニ
ウム基板71の両面に、第4図(b)にみるように、絶縁
樹脂層72を形成してから、第4図(c)にみるように、
アルミニウム基板71にスルホール用の穴73を形成す
る。そして、第4図(d)にみるように、スルホール用の
穴73の内壁面に化成処理によりアルマイト層74を形
成し、続いて、第4図(e)にみるように、無電解めっき
層75を形成し、ついで、必要部分を覆うマスク(図示
省略)を設けておいて、電気めっきを行い、マスクを除
去し、無電解めっき層75の不用部分を除去すれば、第
4図(f)にみるように、スルホール用の穴73が電気め
っき層76で覆われスルホールが出来るとともに配線用
電路回路(図示省略)も出来ることになる。
In the case of this method, first, as shown in FIG. 4 (b), an insulating resin layer 72 is formed on both surfaces of the aluminum substrate 71 shown in FIG. ),
A hole 73 for a through hole is formed in the aluminum substrate 71. Then, as shown in FIG. 4 (d), an alumite layer 74 is formed on the inner wall surface of the through hole 73 by chemical conversion treatment, and subsequently, as shown in FIG. 4 (e), an electroless plating layer is formed. 75 is formed, and then a mask (not shown) for covering a necessary portion is provided, electroplating is performed, the mask is removed, and an unnecessary portion of the electroless plating layer 75 is removed. ), The holes 73 for through holes are covered with the electroplating layer 76 to form through holes, and a wiring electric circuit (not shown) can be formed.

しかしながら、アルミニウム基板の表面部分を化成処理
で形成したアルマイト層は、密着性はよいけれども、多
孔質なために無電解めっき時にめっき液が層内に入り残
存し易い上に吸湿し易く絶縁性が低下したり、ヒートサ
イクルや熱衝撃に弱くてクラックが入り、その上に形成
された導体層に亀裂が入り導通不良となったりするとい
う欠点がある。絶縁性低下や導通不良が起こったりして
は実用的であるとは言いがたい。
However, the alumite layer formed by chemical conversion treatment on the surface portion of the aluminum substrate has good adhesion, but since it is porous, the plating solution easily enters the layer during electroless plating and easily absorbs moisture and has an insulating property. However, there is a drawback in that the conductive layer formed on the conductive layer formed on the surface of the conductor layer is cracked due to a decrease in strength or a weakness against heat cycle or thermal shock, resulting in cracks. It is hard to say that it is practical if the insulation is deteriorated or conduction is poor.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

以上の事情に鑑みて、この発明は、スルホール用の穴あ
けの際の金属箔の巻き込みによる絶縁不良が起こらず、
生産性が高く、スルホール用の穴の内壁面の絶縁層は、
絶縁不良や導通不良の心配のない確っかりしたものであ
って、さらには、プリント配線板の高密度化に十分に対
応できる上、アルミニウム基板のもつ優れた放熱性が損
なわれずに保持するようにして、スルホール付のプリン
ト配線板を得ることが出来る方法を提供することを目的
とする。
In view of the above circumstances, the present invention does not cause insulation failure due to the winding of the metal foil at the time of drilling a through hole,
Highly productive, the insulating layer on the inner wall of the through hole is
It is a solid product with no concern about insulation failure or conduction failure. Furthermore, it can sufficiently support the high density of printed wiring boards and keeps the excellent heat dissipation of the aluminum substrate. It aims at providing the method which can obtain the printed wiring board with a through hole.

〔発明の開示〕[Disclosure of Invention]

前記目的を達成するため、この発明は、スルホールが形
成されたプリント配線板を得るにあたり、両面に絶縁樹
脂層が形成されたアルミニウム基板にスルホール用の穴
を形成し、その穴の内壁面に化成処理によりアルマイト
層を形成して、このアルマイト層にクラック生成処理を
施してから、アルマイト層の上に電着塗装により電着塗
料層を形成し、その後、この電着塗料層上および前記絶
縁樹脂層上にめっき法により導体層を形成することを特
徴とするプリント配線板の製法をその要旨としている。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a printed wiring board having through holes formed with holes for through holes in an aluminum substrate having insulating resin layers formed on both surfaces thereof, and forming a hole on the inner wall surface of the holes. An alumite layer is formed by treatment, and a crack generation treatment is applied to the alumite layer, and then an electrodeposition coating layer is formed on the alumite layer by electrodeposition coating, and then on the electrodeposition coating layer and the insulating resin. The gist is a method for producing a printed wiring board, which is characterized in that a conductor layer is formed on the layer by a plating method.

以下に、この発明を、その一実施例をあらわす図面を参
照しながら詳しく説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings showing an embodiment thereof.

第1図(a)〜(i)はこの発明にかかるプリント配線板の製
法の一実施例をあらわしている。
FIGS. 1 (a) to 1 (i) show an embodiment of a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.

第1図(a)にみるように、アルミニウム基板(金属
基板)1を用意する。
As shown in FIG. 1 (a), an aluminum substrate (metal substrate) 1 is prepared.

第1図(b)にみるように、アルミニウム基板1の両
面に接着剤を塗布することにより、接着剤層(絶縁樹脂
層)2を形成する。
As shown in FIG. 1 (b), an adhesive layer (insulating resin layer) 2 is formed by applying an adhesive agent to both surfaces of the aluminum substrate 1.

金型等を用いて、第1図(c)にみるように、スルホ
ール用の穴3を形成する。
As shown in FIG. 1 (c), holes 3 for through holes are formed using a mold or the like.

バリ取りおよび接着剤層2の表面粗化を行う。これ
は、サンドペーパ,バフ研摩,液体ホーニング等のいず
れかを用いるか、または、それらを兼用するかして行
う。
Deburring and surface roughening of the adhesive layer 2 are performed. This is performed by using any of sandpaper, buffing, liquid honing, etc., or by using them in combination.

第1図(d)にみるように、電解研摩を施すことによ
り、スルホール用穴3の内壁面の突起物を除去して内壁
面を平滑化する。
As shown in FIG. 1 (d), electrolytic polishing is performed to remove the protrusions on the inner wall surface of the through-hole 3 and smooth the inner wall surface.

第1図(e)にみるように、アルマイト処理(化成処
理)を施すことにより、スルホール用穴3の内壁面にあ
らわれているアルミニウム基板部分上にアルマイト層4
を形成する。
As shown in FIG. 1 (e), by performing the alumite treatment (chemical conversion treatment), the alumite layer 4 is formed on the aluminum substrate portion exposed on the inner wall surface of the through hole hole 3.
To form.

100deg 以上の熱衝撃(ヒートショック)を与
え、アルマイト層4にクラックを生じさせる。
A thermal shock (heat shock) of 100 deg or more is applied to cause cracks in the alumite layer 4.

第1図(f)にみるように、電着塗装を施すことによ
り、アルマイト層4上に電着塗料層5を形成する。これ
ら〜の工程により、スルホール用穴の内壁面上にア
ルマイト層4および電着塗料層5からなる絶縁処理層が
形成される。
As shown in FIG. 1 (f), the electrodeposition coating layer 5 is formed on the alumite layer 4 by applying the electrodeposition coating. Through these steps, an insulation treatment layer including the alumite layer 4 and the electrodeposition coating layer 5 is formed on the inner wall surface of the through hole.

第1図(g)にみるように、無電解銅めっきを施すこ
とにより、絶縁処理層(この実施例では、電着塗料層
5)上および接着剤層2上に厚み1μm程度の無電解め
っき層6を形成する。
As shown in FIG. 1 (g), electroless copper plating is applied to form an electroless plating layer having a thickness of about 1 μm on the insulating treatment layer (the electrodeposition coating layer 5 in this embodiment) and the adhesive layer 2. Form layer 6.

第1図(h)にみるように、パターンレジスト7を印
刷した後、電気銅めっきを施すことにより、所望の部分
(スルホール用穴の内壁面および電路となる部分)に電
気銅めっき層8を形成する。
As shown in FIG. 1 (h), after the pattern resist 7 is printed, electrolytic copper plating is performed to form an electrolytic copper plating layer 8 on a desired portion (inner wall surface of the through hole hole and a portion to be an electric path). Form.

パターンレジスト7を除去する。 The pattern resist 7 is removed.

全面にエッチングを施すことにより、不要な無電解
銅めっき層6を溶解除去し、無電解銅めっき層および電
気銅めっき層8からなる導体層を所望の部分のみ残し
て、第1図(i)にみるようなスルホール3′および電路
8′が形成されたプリント配線板を得るようにする。
By etching the entire surface, the unnecessary electroless copper-plated layer 6 is dissolved and removed, leaving only the desired portion of the conductor layer composed of the electroless copper-plated layer and the electrolytic copper-plated layer 8. A printed wiring board having through holes 3'and electric paths 8'as shown in FIG.

以上みるように、このプリント配線板の製法は、銅箔等
の金属箔がアルミニウム基板等の金属基板に付けられて
いない状態でスルホール用穴の穴あけが行われるので、
銅箔等の金属箔の巻き込みが起こらない。しがって、得
られるプリント配線板において、スルホールの導体層と
金属基板との間の絶縁不良が起こらないようになる。ま
た、銅箔等の金属箔がアルミニウム基板等の金属基板に
付けられていない状態でアルマイト処理等の化成処理を
行うので、銅箔等の金属箔が溶解する恐れがない(接着
剤は影響を受けないため)。したがって、銅箔等の金属
箔の保護マスクが不要となり、その保護マスクの取付,
取り外しの作業工程が省略できる。しかも、銅箔等の金
属箔がアルミニウム基板等の金属基板に付けられていな
い状態で電着塗装等の塗装を行うので、銅箔等の金属箔
表面に塗料が付着すると言う恐れがなく、付着した塗料
の除去作業工程が省略できる。さらに、セミアディティ
ブ法(無電解めっきおよび電気めっきを用いためっき
法)で絶縁樹脂層上の導体層(電路)とスルホールの導
体層とを同時に形成でき、テンティング等の作業工程が
省略できる。以上のように、従来の製法と比べ、全体を
通して作業工程が少なく、生産性が良い。
As described above, in the method for manufacturing this printed wiring board, the through hole is drilled in the state where the metal foil such as the copper foil is not attached to the metal substrate such as the aluminum substrate.
Metal foil such as copper foil does not get caught. Therefore, in the obtained printed wiring board, insulation failure between the conductor layer of the through hole and the metal substrate will not occur. Also, since the chemical conversion treatment such as alumite treatment is performed in the state where the metal foil such as the copper foil is not attached to the metal substrate such as the aluminum substrate, there is no fear that the metal foil such as the copper foil will be dissolved (the adhesive may affect Not to receive). Therefore, a protective mask for metal foil such as copper foil becomes unnecessary, and the mounting of the protective mask,
The work process of removal can be omitted. In addition, since the metal foil such as copper foil is not applied to the metal substrate such as the aluminum substrate, the coating such as electrodeposition coating is performed, so there is no fear that the paint will adhere to the surface of the metal foil such as copper foil. It is possible to omit the work step for removing the paint. Further, the conductor layer (electric path) on the insulating resin layer and the conductor layer of the through hole can be simultaneously formed by the semi-additive method (plating method using electroless plating and electroplating), and the work steps such as tenting can be omitted. As described above, compared with the conventional manufacturing method, the number of working steps is small throughout and the productivity is good.

なお、この実施例では、アルマイト層を形成した後、ヒ
ートショックを与え、あらかじめアルマイト層にクラッ
クを生じさせた後、電着塗装を施すようにしている。そ
のため、クラックの部分に電着塗料が浸透し、絶縁信頼
性が高められているとともに、プリント配線板を完成し
た後にアルマイト層に再びクラックが生じにくくなる。
In this embodiment, after the alumite layer is formed, heat shock is applied to previously generate cracks in the alumite layer, and then electrodeposition coating is applied. Therefore, the electrodeposition coating material penetrates into the cracked portion to improve the insulation reliability, and it becomes difficult for the alumite layer to crack again after the printed wiring board is completed.

導体層を形成する方法は、前記実施例ではセミアディテ
ィブ法を用いているが、無電解めっきのみによるフルア
ディティブ法を用いてもよい。電着塗装に用いられる塗
料としては、アクリルメラミン,エポキシ系電着塗料な
どを用いる。絶縁樹脂層となる接着剤としては、金属基
板と導体層との密着性を確保するため、特開昭59-81369
に示された、シリコン変性エポキシ樹脂とNBRとを主
剤とし硬化剤が配合されてなるもの、特開昭59-81368に
示された、シリコン変性エポキシ樹脂とNBRとを主剤
とし硬化剤として三フッ化ホウ素アミンコンプレックス
が配合されてなるもの、特開昭59-81370に示された、シ
リコン変性エポキシ樹脂とNBRとを主剤とし硬化剤と
して芳香族ポリアミンおよび硬化促進剤が配合されてな
るものなどを用いることが好ましい。
As the method for forming the conductor layer, the semi-additive method is used in the above-mentioned embodiment, but the full-additive method using only electroless plating may be used. As the paint used for electrodeposition coating, acrylic melamine, epoxy-based electrodeposition coating, etc. are used. An adhesive for forming an insulating resin layer is used in order to ensure adhesion between the metal substrate and the conductor layer.
A mixture of a silicone-modified epoxy resin and NBR as a main agent and a curing agent, and a silicone-modified epoxy resin and NBR as a main agent as disclosed in JP-A-59-81368. A compound containing a borohydride amine complex, a compound shown in JP-A-59-81370 containing a silicon-modified epoxy resin and NBR as a main component, and an aromatic polyamine as a curing agent and a curing accelerator. It is preferable to use.

つぎに、前記実施例をより具体的に示す。Next, the above embodiment will be described more specifically.

(実施例) 〜 アルミニウム基板の両面に下記組成の接着剤を
70μmずつ塗布し、150℃,60分の条件で硬化さ
せた。
(Example) An adhesive having the following composition was applied to both surfaces of an aluminum substrate in an amount of 70 μm each and cured under the conditions of 150 ° C. and 60 minutes.

〔接着剤の組成〕[Composition of adhesive]

シリコン変性エポキシ樹脂 100重量部 NBR 100重量部 アルミナ 100重量部 硬化剤と溶剤 適量 金型を用いて、1mm径のスルホール用の穴をあけ
た。
Silicon modified epoxy resin 100 parts by weight NBR 100 parts by weight Alumina 100 parts by weight Curing agent and solvent Appropriate amount Using a mold, holes for through holes having a diameter of 1 mm were opened.

#600耐水ペーパで両平面研摩後、液体ホーニン
グで表面を粗化すると同時にバリの除去を行った。
After polishing both surfaces with # 600 waterproof paper, liquid honing was used to roughen the surface and simultaneously remove burrs.

5%水酸化ナトリウム溶液を用いて、処理体を陽極
にし、直流約1〜2Vの電圧で5分間、電解研摩を施し
た。
The treated body was made into an anode using a 5% sodium hydroxide solution, and electropolishing was performed at a DC voltage of about 1-2 V for 5 minutes.

10%硫酸溶液を用いて、1.5A/dm2の電流で60分
間、アルマイト処理を施し、スルホール用穴の内壁面に
あらわれているアルミニウム基板部分上に厚み約30μ
mのアルマイト層を析出させた。
Alumite treatment was performed for 60 minutes at a current of 1.5 A / dm 2 using a 10% sulfuric acid solution, and a thickness of about 30 μ was formed on the aluminum substrate portion exposed on the inner wall surface of the through hole.
m alumite layer was deposited.

150℃で炉中に5分間投入した後、すぐに10℃
の水中へ投入するようにして、ヒートショックを与え
た。
Immediately after putting in the furnace at 150 ℃ for 5 minutes, 10 ℃
A heat shock was given by putting it in the water.

電着塗料としてアクリルメラミン(関西ペイント株
式会社製エレクロンNO3500R)を用い、直流180Vの
電圧で10分間、電着塗装を施した後、塗料を180℃
で30分間硬化させてアルマイト層上に厚み約15μm
の電着塗料層を付着させた。
Acrylic melamine (Electron NO3500R manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.) was used as the electrodeposition paint, and after the electrodeposition was applied at a voltage of DC 180 V for 10 minutes, the paint was applied at 180 ° C.
Cured for 30 minutes at a thickness of approximately 15 μm on the alumite layer
Was applied.

全面に無電解銅めっきを施すことにより、電着塗料
層上および接着剤層上に厚み約1μmの無電解銅めっき
層を析出させた。
By electroless copper plating on the entire surface, an electroless copper plating layer having a thickness of about 1 μm was deposited on the electrodeposition coating layer and the adhesive layer.

アルカリ可溶性レジストをスクリーン印刷すること
により、両面の電路となる部分以外をマスクし、その
後、電気銅めっきを施すことにより、所望の部分(スル
ホール用穴の内壁面および電路となる部分)に厚み約3
5μmの電気銅めっき層を析出させた。
By screen-printing the alkali-soluble resist, masking the parts other than the part that will be the electric path on both sides, and then performing electrolytic copper plating, the thickness of the desired part (the inner wall surface of the through hole and the part that will be the electric path) will be approximately Three
A 5 μm electrolytic copper plating layer was deposited.

5%水酸化ナトリウム溶液でアルカリ可溶性レジス
トを溶解剥離させた。
The alkali-soluble resist was dissolved and peeled off with a 5% sodium hydroxide solution.

全面にエッチング液でエッチングを施すことによ
り、不要な無電解銅めっき層を溶解除去し、無電解銅め
っき層および電気銅めっき層からなる導体層を所望の部
分のみ残して、スルホールおよび電路が形成されたプリ
ント配線板を得た。
By etching the entire surface with an etching solution, the unwanted electroless copper plating layer is dissolved and removed, leaving only the desired portion of the conductor layer consisting of the electroless copper plating layer and the electrolytic copper plating layer, and forming a through hole and electric path. The printed wiring board thus obtained was obtained.

以上のようにして得られたプリント配線板のスルホール
における電気的性能を測定した。なお、測定は、スルホ
ールを中心として1cm×1cmの導体層が両面に形成され
ている部分で行った。
The electrical performance of the through holes of the printed wiring board obtained as described above was measured. The measurement was carried out at a portion where conductor layers of 1 cm × 1 cm centering on the through hole were formed on both surfaces.

その結果、スルホールの導体層とアルミニウム基板との
間の耐電圧が1000V以上、スルホールの導体層とア
ルミニウム基板との間の絶縁抵抗が10゜MΩ以上であ
った。この結果よりこの発明にかかるプリント配線板の
製法によれば、得られるプリント配線板において、スル
ホールの導体層と金属基板との間の絶縁不良が起こるこ
とがなく、絶縁性の極めて高いものとなることがわか
る。
As a result, the withstand voltage between the conductor layer of the through hole and the aluminum substrate was 1000 V or more, and the insulation resistance between the conductor layer of the through hole and the aluminum substrate was 10 ° MΩ or more. From this result, according to the method for producing a printed wiring board according to the present invention, in the obtained printed wiring board, insulation failure between the conductor layer of the through hole and the metal substrate does not occur, and the insulating property is extremely high. I understand.

この発明にかかるプリント配線板の製法は、前記実施例
に限定されない。
The method for manufacturing the printed wiring board according to the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上に説明したこの発明にかかるプリント配線板の製法
は、下記の効果(1)〜(5)を同時に奏することが出来るた
め、非常に実用性が高い。
The method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention described above is extremely practical because it can simultaneously achieve the following effects (1) to (5).

効果(1) スルホール用の穴あけの際の金属箔の巻き込
みによる絶縁不良が起こらない。
Effect (1) Insulation failure due to the inclusion of metal foil during drilling for through holes does not occur.

これは、この発明の場合、金属箔がアルミニウム基板に
付けられていない状態でスルホール用の穴あけが行われ
るため、穴あけの際に金属箔の巻き込みが起こらないか
らである。
This is because, in the case of the present invention, since the through hole is drilled in a state where the metal foil is not attached to the aluminum substrate, the metal foil is not rolled up during the drilling.

効果(2) 生産性が高い。Effect (2) High productivity.

これは、スルホール用の穴の内壁面に絶縁膜を形成する
際はアルミニウム基板の表面に絶縁樹脂層だけで金属箔
がないため、金属箔の保護マスクの取り付け・取り外し
や金属箔への付着塗料の除去が不要であるとともに、面
倒なテンティング作業も省略できるからである。
This is because when an insulating film is formed on the inner wall surface of a hole for a through hole, there is no metal foil only on the surface of the aluminum substrate, and there is no metal foil, so it is necessary to attach / remove a metal mask protective mask or to attach paint to the metal foil. This is because it is not necessary to remove and the troublesome tenting work can be omitted.

効果(3) スルホール用の穴の内壁面の絶縁層は、強く
て絶縁性も十分である。強くて絶縁性も十分な絶縁層
は、絶縁不良や導通不良の心配がない。
Effect (3) The insulating layer on the inner wall surface of the through hole is strong and has sufficient insulation. An insulating layer that is strong and has a sufficient insulating property does not cause insulation failure or conduction failure.

これは、絶縁層が化成処理によるアルマイト層にクラッ
ク生成処理を施したあと電着塗料層を塗布してなる層構
成によるものである。
This is due to the layer structure in which the insulating layer is formed by subjecting the alumite layer formed by chemical conversion treatment to crack generation treatment and then applying the electrodeposition coating layer.

アルミニウム基板の表面部分を化成処理(陽極酸化)で
酸化して形成したアルマイト層は、密着性はよいけれど
も、多孔質なために無電解めっき時にめっき液が層内に
入り残存し易い上に吸湿し易く絶縁性が低下したり、ヒ
ートサイクルや熱衝撃に弱くてクラックが入り、その上
に形成された導体層に亀裂が入り導通不良となったりす
るという欠点があるが、この発明の場合、クラック生成
処理を施してから電着塗膜層を形成しており、クラック
や微小孔が封止されているため、新たにクラックが発生
することはなく強化されているし、多孔質性が解消され
ているため、吸湿やめっき液残存が起こらず、絶縁性は
十分となる。
The alumite layer formed by oxidizing the surface of the aluminum substrate by chemical conversion treatment (anodic oxidation) has good adhesion, but since it is porous, the plating solution easily enters the layer during electroless plating and absorbs moisture. Insulation is easily deteriorated, or cracks are vulnerable to heat cycle or thermal shock, and there is a drawback that the conductive layer formed thereon has cracks and poor conduction, but in the case of the present invention, Since the electrodeposition coating layer is formed after the crack generation process is performed and the cracks and micropores are sealed, it is strengthened without the occurrence of new cracks and the porosity is eliminated. Therefore, moisture absorption and residual plating solution do not occur, and the insulation is sufficient.

効果(4) プリント配線板の高密度化に十分に対応する
ことができる。
Effect (4) It is possible to sufficiently cope with the high density of the printed wiring board.

化成処理のアルマイト層や電着塗料層は、薄い厚みで十
分に層形成できるため、径の小さなスルホール用の穴の
内壁面に絶縁層を設けても、層厚みの薄いものとし、穴
が詰まる状態を回避できる。プリント配線板の高密度化
はスルホールの小径化を伴うが、これに十分に対応でき
るのである。
Since the alumite layer and the electrodeposition paint layer of the chemical conversion treatment can be sufficiently formed with a small thickness, even if an insulating layer is provided on the inner wall surface of the hole for a small through hole, the layer thickness will be thin and the hole will be clogged. You can avoid the situation. The higher density of the printed wiring board is accompanied by the smaller diameter of the through hole, which can be sufficiently dealt with.

効果(5) アルミニウム基板のもつ優れた放熱性が損な
われない。
Effect (5) The excellent heat dissipation of the aluminum substrate is not impaired.

これは、この発明における電着塗料層はアルマイト層の
上だけに自然に選択形成され、アルミニウム基板表面に
は電着塗料層は形成されず、基板表面が必要以上に過度
に厚い被膜で覆われることはなく、アルミニウムの高い
熱伝導率に起因する優れた放射性が保持されているから
である。
This is because the electrodeposition coating layer in the present invention is naturally formed only on the alumite layer, the electrodeposition coating layer is not formed on the aluminum substrate surface, and the substrate surface is covered with an unnecessarily thick film. This is because the excellent emissivity due to the high thermal conductivity of aluminum is retained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図(a)〜(i)はこの発明にかかるプリント配線板の製
法の一実施例をあらわす説明図、第2図(a)〜(g)は従来
のプリント配線板の製法をあらわす説明図、第3図は従
来のプリント配線板の製法におけるスルホール用穴形成
後の状態をあらわす説明図、第4図(a)〜(f)は、従来の
他のプリント配線板の製法をあらわす説明図である。 1……アルミニウム基板(金属基板)、2……接着剤層
(絶縁樹脂層)、3……スルホール用の穴、4,5……
絶縁処理層、6,8……導体層
1 (a) to 1 (i) are explanatory views showing an embodiment of a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, and FIGS. 2 (a) to 2 (g) are explanations showing a method for manufacturing a conventional printed wiring board. FIGS. 3 and 4 are explanatory views showing a state after forming holes for through holes in a conventional printed wiring board manufacturing method, and FIGS. 4 (a) to (f) are explanatory drawings showing another conventional printed wiring board manufacturing method. It is a figure. 1 ... Aluminum substrate (metal substrate), 2 ... Adhesive layer (insulating resin layer), 3 ... Through hole, 4,5 ...
Insulation layer, 6, 8 ... Conductor layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山川 良永 栃木県鹿沼市さつき町12−1 東洋技研工 業株式会社鹿沼事業所内 (72)発明者 宮城 秀雄 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 鈴木 俊之 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 高木 正巳 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭52−59852(JP,A) 特開 昭51−132458(JP,A) 特開 昭53−111471(JP,A) 特開 昭55−19853(JP,A) 特開 昭57−126193(JP,A) 特公 昭58−35376(JP,B2) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Yoshinaga Yamakawa, 12-1 Satsuki-cho, Kanuma City, Tochigi Prefecture, Kanuma Plant, Toyo Giken Co., Ltd. (72) Hideo Miyagi, 1048, Kadoma, Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works (72) Inventor Toshiyuki Suzuki 1048, Kadoma, Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works Co., Ltd. (72) Masami Takagi, 1048, Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Works, Ltd. (56) References JP-A-52-59852 (JP, A) JP-A-51-132458 (JP, A) JP-A-53-111471 (JP, A) JP-A-55-19853 (JP, A) JP-A-57-126193 (JP , A) Japanese Patent Sho 58-35376 (JP, B2)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】スルホールが形成されたプリント配線板を
得るにあたり、両面に絶縁樹脂層が形成されたアルミニ
ウム基板にスルホール用の穴を形成し、その穴の内壁面
に化成処理によりアルマイト層を形成して、このアルマ
イト層にクラック生成処理を施してから、アルマイト層
の上に電着塗装により電着塗料層を形成し、その後、こ
の電着塗料層上および前記絶縁樹脂層上にめっき法によ
り導体層を形成することを特徴とするプリント配線板の
製法。
1. To obtain a printed wiring board having through holes, holes for through holes are formed in an aluminum substrate having insulating resin layers formed on both sides, and an alumite layer is formed on the inner wall surface of the holes by chemical conversion treatment. Then, after subjecting the alumite layer to a crack generation treatment, an electrodeposition coating layer is formed on the alumite layer by electrodeposition coating, and then a plating method is applied on the electrodeposition coating layer and the insulating resin layer. A method for producing a printed wiring board, which comprises forming a conductor layer.
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