JPH06321855A - Production of high-purity terephthalic acid - Google Patents

Production of high-purity terephthalic acid

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JPH06321855A
JPH06321855A JP11157393A JP11157393A JPH06321855A JP H06321855 A JPH06321855 A JP H06321855A JP 11157393 A JP11157393 A JP 11157393A JP 11157393 A JP11157393 A JP 11157393A JP H06321855 A JPH06321855 A JP H06321855A
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oxidation reactor
terephthalic acid
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inner wall
molecular oxygen
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JP11157393A
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Katsunori Fukuda
Yoshiaki Izumisawa
義昭 泉沢
勝則 福田
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Mitsubishi Kasei Corp
三菱化成株式会社
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    • Y02P20/52Improvements relating to the production of products other than chlorine, adipic acid, caprolactam, or chlorodifluoromethane, e.g. bulk or fine chemicals or pharmaceuticals using catalysts, e.g. selective catalysts

Abstract

PURPOSE: To improve the quality of produced terephthalic acid in a method for producing terephthalic acid by oxidizing p-xylene with an oxygen-containing gas in an acetic acid solvent in which catalysts containing a heavy metal and bromine are dissolved.
CONSTITUTION: An apparatus equipped with plural vertical baffle plates 22 arranged in parallel is used as an oxidation reaction vessel 21 and an oxidizing gas is supplied 24 to each area separated by the baffle plates. The content of 4-CBA is low and terephthalic acid excellent in transmissibility can be produced.
COPYRIGHT: (C)1994,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明はテレフタル酸の製造法に関するものである。 The present invention relates to a manufacturing method of the terephthalic acid. 詳しくは酸化反応器に供給する分子状酸素含有ガスの供給方法を改良して、高純度のテレフタル酸を製造する方法に関するものである。 For more information to improve the method of supplying the molecular oxygen-containing gas supplied to the oxidation reactor, to a method for producing high-purity terephthalic acid.

【0002】 [0002]

【従来の技術】テレフタル酸はポリエステルの原料として極めて重要な化合物である。 BACKGROUND ART Terephthalic acid is an extremely important compound as a raw material for polyester. テレフタル酸の製造法としては、パラキシレンを重金属及び臭素を含む触媒の存在下に酢酸溶媒中で分子状酸素含有ガスで酸化する方法が代表的なものであり、工業的に大規模に実施されている。 Methods for producing terephthalic acid, a method for oxidizing paraxylene with a molecular oxygen-containing gas in acetic acid solvent in the presence of a catalyst comprising a heavy metal and bromine are those representative, conducted in a large industrial scale ing. この方法では、撹拌槽型の酸化反応器に触媒を溶解した酢酸溶媒を収容しておき、これにパラキシレンと分子状酸素含有ガスとを連続的に供給する。 In this way, it leaves accommodate the acetic acid solvent containing dissolved catalyst in stirred tank oxidation reactor is continuously fed to the paraxylene and a molecular oxygen-containing gas thereto. パラキシレンはテレフタル酸に酸化され、生成したテレフタル酸を含む反応混合物は酸化反応器から抜出され、所望により更に追酸化したのち析出しているテレフタル酸結晶を分離回収する。 Para-xylene is oxidized to terephthalic acid, the reaction mixture containing the produced terephthalic acid is withdrawn from the oxidation reactor, further separating and recovering terephthalic acid crystals precipitated After additionally optionally oxidized. 結晶を分離した後の反応母液は、不純物の蓄積を防ぐためその一部を系外に排出し、残余は酸化反応器に循環する。 The crystals separated reaction mother liquid after the part thereof to prevent the accumulation of impurities was discharged out of the system, the remainder is recycled to the oxidation reactor. 燃焼及び系外への排出等により反応系から失なわれる酢酸溶媒及び触媒は、新たな酢酸及び触媒を系外から供給することにより補充され、系内の酢酸濃度及び触媒濃度等は、常に一定の状態に保つようにする。 Acetic acid solvent and catalyst are lost from the reaction system by a discharge or the like to the combustion and the outside of the system is supplemented by supplying a fresh acetic acid and catalyst from the outside of the system, acid concentration and catalyst concentration or the like in the system is always constant to keep in the state.

【0003】 [0003]

【発明が解決しようとする課題】テレフタル酸の製造においては、酸化反応器内の液相及びこれに導入される分子状酸素含有ガスの混合・分散をよくすることが必要である。 In the production of terephthalic acid [0004], it is necessary to improve the mixing and dispersion of the molecular oxygen-containing gas introduced liquid phase and to the oxidation reactor. 特に分子状酸素含有ガスの分散が不均一で酸素の供給不良な箇所ができると、その部分では酸化反応が十分に進行しないだけでなく、着色不純物が増加して生成するテレフタル酸の品質を大幅に低下させる。 In particular the dispersion of the molecular oxygen-containing gas can supply failure locations oxygen heterogeneous, not only oxidation reaction proceeds well in the portion, substantially the quality of terephthalic acid colored impurities generated increases It is reduced to. 更に場合によっては反応操作上種々の障害を引きおこすことすらある。 Furthermore in some cases it may even cause a variety of disorders on reaction operations. 従って本発明は高品質のテレフタル酸を製造する方法を提供せんとするものである。 Accordingly, the present invention is to St. provide a method of producing high quality terephthalic acid.

【0004】 [0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは酸化反応器内への分子状酸素含有ガスの供給態様と生成するテレフタル酸の品質との関係について検討した結果、酸化反応器の内壁に設置されている邪魔板が分子状酸素含有ガスの均一分散に大きな障害となっていること、及び各邪魔板で区画された領域毎に分子状酸素含有ガスを供給するようにするとこの障害を克服し得ることを見出し、本発明を達成した。 Means for Solving the Problems The present inventors have results of investigation of the relationship between the quality of terephthalic acid produced with the supply mode of the molecular oxygen-containing gas to the oxidation reactor, placed on the inner wall of the oxidation reactor the baffle being is a major obstacle to the uniform dispersion of the molecular oxygen-containing gas, and when to supply the molecular oxygen-containing gas in each partitioned area in the baffle to overcome this obstacle found that to obtain, we have achieved the present invention.

【0005】本発明によれば、重金属と臭素を含む触媒を溶解した酢酸溶媒が収容されており、且つ内壁上に複数の邪魔板が縦方行に並設されている酸化反応器に、パラキシレンと分子状酸素含有ガスとを連続的に供給してパラキシレンを酸化するテレフタル酸の製造法において、各邪魔板で区画された領域毎に分子状酸素含有ガスを供給することにより高品質のテレフタル酸を製造することができる。 In accordance with the present invention are acetic acid solvent is accommodated by dissolving a catalyst comprising a heavy metal and bromine, and the oxidation reactor in which a plurality of baffle plates are arranged in vertical direction line on the inner wall, para in the preparation of terephthalic acid to oxidize para-xylene, xylene and molecular oxygen-containing gas was continuously fed, high quality by feeding the molecular oxygen-containing gas in each area partitioned by the baffle plate it is possible to produce terephthalic acid.

【0006】本発明について更に詳細に説明するに、本発明では内壁上に複数枚の邪魔板が縦方向に並設されている酸化反応器を用いる。 [0006] present invention will be described in more detail, in the present invention using an oxidation reactor which is arranged a plurality of baffles in the longitudinal direction on the inner wall. 邪魔板の数は4〜8枚が好ましく、且つ内壁上に等間隔で設置されているのが好ましい。 Preferably 4 to 8 sheets is the number of baffles, and preferably are disposed at equal intervals on the inner wall. 邪魔板の幅、すなわち内壁からの突出長さは、撹拌効果からして酸化反応器内径の1/15以上である。 The width of the baffle, i.e. the length of projection from the inner wall, is 1/15 or more oxidation reactor internal diameter and the stirring effect. しかし幅が広すぎても撹拌効果の向上はないので、酸化反応器内径の1/8〜1/12が好ましい。 However, since the width is not increased stirring effect too wide, 1 / 8-1 / 12 of the oxidation reactor inside diameter is preferred.

【0007】各邪魔板間、すなわち隣接する2枚の邪魔板と内壁とで囲まれた部分では、上下方向への気・液の移動は速やかに行なわれるが、邪魔板を越えての気・液の移動は極めて遅い。 [0007] Each baffle plates, that is, in a portion surrounded by the baffle plate and the inner wall of the two adjoining, but the movement of the gas-liquid in the vertical direction are promptly performed, the air-fuel beyond the baffle plate, movement of the liquid is very slow. 本発明では邪魔板で区画された領域毎に分子状酸素含有ガスを供給することにより、各領域での酸素濃度を均一とし、以って局所的な酸素濃度不足から生ずるテレフタル酸の品質低下を回避することができる。 By supplying the molecular oxygen-containing gas in each region partitioned by the baffle plate in the present invention, the oxygen concentration in each area are uniform, deterioration in the quality of terephthalic acid resulting from the local oxygen concentration deficient I than it can be avoided. なお本発明において邪魔板で区画された領域とは、邪魔板の先端を酸化反応器の中心軸まで延長したと想定したときに隣接する邪魔板間に形成される、上方から見て扇状の領域を指す。 In still a compartment area in baffle present invention, it is formed in the way plates adjacent to when it is assumed that extended the tip of the baffle plate to the center axis of the oxidation reactor, the fan-shaped region when viewed from above the point. 従って、本発明では酸化反応器は、邪魔板の数だけの領域に区画されているものと見做される。 Thus, the oxidation reactor in the present invention is deemed to have been divided into the region of the number of baffles. 各領域への分子状酸素含有ガスの供給量は、 The supply amount of the molecular oxygen-containing gas to each area,
それぞれの領域の単位液量当りのガス量がほぼ等しくなるような量、すなわち全供給量を領域数で除した値に対し±20%の範囲内にあるのが好ましい。 Amount such that the amount of gas are approximately equal in the unit liquid amount per each region, i.e., preferably within a range of ± 20% relative to the value obtained by dividing the total supply amount of the number of regions. 各領域内における分子状酸素含有ガスの供給口は、酸化反応器の中心軸と内壁を結ぶ直線上で、通常は中心軸から0.1〜 Supply port of the molecular oxygen-containing gas in each region on a straight line connecting the center axis and the inner wall of the oxidation reactor, is generally 0.1 to from the central axis
0.9R、好ましくは0.2〜0.8R(R:中心軸から内壁までの距離)の位置に配置する。 0.9R, preferably 0.2~0.8R: placed in the position of (R distance from the central axis to the inner wall). 特に好ましくは、中心軸と内壁を結ぶ直線上で酸化反応器に設置されている撹拌機の撹拌翼の先端の近傍、すなわち先端から±0.1Rの範囲内に設置する。 Particularly preferably, placed near the stirring blade tip in the agitator installed in the oxidation reactor on a straight line connecting the center axis and an inner wall, i.e. from the tip in the range of ± 0.1 R. 撹拌翼の先端は通常、 The tip of the stirring blade is usually,
中心軸から0.2〜0.7Rの位置にあるが、この先端から±0.1Rの位置にガス供給口があると、反応が極めて良好に行なわれる。 Although from the center axis to the position of 0.2~0.7R, when the position of ± 0.1 R from the tip there is a gas supply port, the reaction is very well done. また、分子状酸素含有ガスの供給位置は、液面から酸化反応器底部までの距離の2/3 The supply position of the molecular oxygen-containing gas is 2/3 of the distance from the liquid surface to the oxidation reactor bottom
より下方に位置させるのが好ましい。 Preferably it is more positioned below. なお、主酸化と追酸化とから成るプロセスの場合には、少くとも主酸化を本発明に従って行なえばよい。 In the case of a process consisting of the main oxidation and add oxidation least it may be performed in accordance with the present invention the main oxidation.

【0008】本発明は上述の如く邪魔板で区画された各領域毎に分子状酸素含有ガスの供給口を有する酸化反応器を用いる以外は常法に従って行なうことができる。 [0008] The present invention except for using oxidation reactor having a supply port of the foregoing as baffles molecular oxygen-containing gas in each partitioned region in can be carried out according to a conventional method. 反応は酢酸溶媒中で行なわれ、この中には20重量%程度までの水を含んでいてもよい。 The reaction is carried out in acetic acid solvent, it may contain water up to about 20% by weight therein. 触媒は通常、コバルト− The catalyst is usually, cobalt -
マンガン−臭素の3元素からなっており、その反応液中の濃度は通常、コバルトが金属換算で120〜3000 Manganese - has become the three elements of the bromine, the concentration of the reaction solution is usually cobalt in terms of metal 120-3000
ppm、好ましくは150〜400ppm、マンガンはコバルトに対して金属換算で0.01〜3重量倍、臭素は元素換算で500〜6000ppm、好ましくは60 ppm, 500~6000Ppm, preferably preferably 150~400Ppm, manganese from 0.01 to 3 times by weight in terms of metal relative to cobalt, bromine in terms of element 60
0〜1500ppmである。 It is 0~1500ppm. 触媒の調整に際しては、コバルトとしては酢酸コバルト、ナフテン酸コバルトなどのコバルト化合物、マンガンとしては酢酸マンガン、ナフテン酸マンガンなどのマンガン化合物、臭素としては臭化水素、臭化ナトリウムなどが用いられる。 At the time of adjustment of the catalyst, the cobalt cobalt acetate, cobalt compounds such as cobalt naphthenate, manganese acetate as a manganese, a manganese compound such as manganese naphthenate, hydrogen bromide, sodium bromide is used as the bromine. また、臭化コバルト、臭化マンガンなどを用いることもできる。 Further, cobalt bromide, also be used as manganese bromide.

【0009】酸化反応器内は、170〜230℃、好ましくは180〜210℃の温度、及び数kg/cm 2 [0009] The oxidation reactor, 170 to 230 ° C., preferably at temperatures of 180-210 ° C., and several kg / cm 2 ~
100kg/cm 2 、好ましくは10〜30kg/cm 100 kg / cm 2, preferably 10 to 30 kg / cm
2の圧力に維持される。 It is maintained at a second pressure. 反応温度が低すぎるとパラキシレンを十分に酸化することができない。 The reaction temperature is not possible to sufficiently oxidize too low paraxylene. 逆に高すぎても高純度テレフタル酸が得られないばかりか酢酸の燃焼損失が増大するので好ましくない。 Be contrary to too high undesirable combustion loss of only one acid can not be obtained high purity terephthalic acid is increased. 反応時間は通常、30 The reaction time is usually 30
〜200分、好ましくは40〜150分程度である。 200 minutes, and preferably about 40 to 150 minutes. この間にパラキシレンの95%以上、好ましくは98%以上が酸化される。 During this time the paraxylene 95% or more, preferably oxidized than 98%.

【0010】分子状酸素含有ガスとしては通常は空気ないしは酸素富化空気が用いられる。 [0010] The molecular oxygen-containing gas is usually air or oxygen-enriched air is used. ガス中の酸素濃度は通常18〜30容量%、好ましくは20〜28容量%である。 Oxygen concentration in the gas is generally 18 to 30% by volume, preferably 20 to 28 volume%. その供給量は、パラキシレンに対し分子状酸素として通常、3〜100倍モルである。 Its supply amount is usually to paraxylene as molecular oxygen is 3 to 100 times by mole. 分子状酸素含有ガスの供給量の制御は、通常は酸化反応器から系外に流出する排ガス中の酸素濃度が1.5〜8容量%となるように行なわれる。 Control of the supply amount of the molecular oxygen-containing gas is usually performed so that the oxygen concentration in the exhaust gas flowing out of the system from the oxidation reactor is 1.5 to 8% by volume. 酸化反応器へのパラキシレンと循環されてくる反応母液その他の溶媒との供給比率は、反応混合物中のテレフタル酸濃度(前述の如くパラキシレンの酸化率は95%以上に達しているが、それでも存在するパラキシレン及び反応中間体もテレフタル酸に換算して計算するものとする)が20〜50重量%となるように制御するのが好ましい。 Supply ratio of the reaction mother liquor other solvents which paraxylene to come is circulated to the oxidation reactor, the reaction of terephthalic acid concentration in the mixture (oxidation rate of para-xylene as described above has reached 95% or more, but still para-xylene and reaction intermediates present are also intended to be calculated in terms of terephthalic acid) is preferably controlled to be 20 to 50 wt%.

【0011】酸化反応器から抜出された反応混合物は、 [0011] The reaction mixture was withdrawn from the oxidation reactor,
所望により更に追酸化してテレフタル酸の純度を向上させたのち、結晶分離工程に送られ、テレフタル酸結晶と反応母液とに分離される。 After improving the purity of terephthalic acid optionally further additionally oxidized, sent to the crystal separation step, it is separated into terephthalic acid crystals and the reaction mother liquid. 追酸化は公知であり、酸化反応器の反応温度よりも低温で行なう低温追酸化と、低温追酸化したのちこれよりも高い温度で更に追酸化する低温追酸化−高温追酸化などいくつかの方法が知られている。 Is additionally oxidized known, and low temperature additionally oxidation performed at a lower temperature than the reaction temperature of the oxidation reactor, a low temperature additionally oxidized to further add oxidized at a temperature higher than this After cold additionally oxidized - several methods such as high temperature add oxide It has been known.

【0012】テレフタル酸結晶を分離したのちの反応母液の一部は酸化反応器に循環され、残余は不純物の蓄積を防止するため系外に排出される。 [0012] Some of the reaction mother liquor after separating the terephthalic acid crystals is recycled to the oxidation reactor, the remainder is discharged out of the system to prevent accumulation of impurities. 通常は反応母液の1 1 is a normal reaction mother liquor
0〜90%、好ましくは40〜80%が酸化反応器に循環される。 0% to 90%, they are circulated preferably in 40 to 80% oxidized reactor. 酸化反応器からの排ガスは、酸化反応器上部に設置されている還流冷却器で冷却し、排ガス中に含まれている酢酸や水などの凝縮成分を凝縮させたのち、不凝縮ガスは系外に排出される。 Gas from the oxidation reactor is cooled in a reflux condenser installed in the oxidation reactor top, after condensed condensation component, such as acetic acid and water contained in the exhaust gas, uncondensed gas outside of the system It is discharged to. 凝縮液は酸化反応器に還流させるが、凝縮液の一部を系外に排出することにより、反応器内の水分を5〜15重量%と低濃度に調節することもできる。 Condensate is refluxed to the oxidation reactor, but by discharging a portion of the condensate out of the system, it is also possible to adjust the water content from 5 to 15 wt% and lower concentration in the reactor.

【0013】 [0013]

【実施例】以下に実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES a more detailed explanation of the present invention through examples and comparative examples below, the present invention unless departing from the gist of the present invention is not limited to the following examples. なお、反応装置としては、図1に示す第1酸化反応器1、第2酸化反応器2、第1晶析器3、第2晶析器4及び遠心分離機5から成るものを用いた。 As the reactor, a first oxidation reactor 1 shown in FIG. 1, the second oxidation reactor 2, a first crystallizer 3, it was used consisting of a second crystallizer 4 and centrifuge 5. また、第1酸化反応器としては等間隔に配置された4枚の邪魔板を有する円筒状の容器(図2,3参照)を用いた。 As the first oxidation reactor using a cylindrical container having a four baffle plates arranged at regular intervals (see FIGS. 2 and 3). 円筒の内径を1.0とするとき、液深すなわち底部から液面までの高さは2. When the inner diameter of the cylinder is 1.0, the height from the liquid depth or bottom to the liquid surface 2.
2、邪魔板の幅は0.11であり、分子状酸素含有ガスの供給口は邪魔板で区画された4個の領域の各々に底部から0.3の高さの位置に設けられている。 2, the width of the baffles is 0.11, the supply port of the molecular oxygen-containing gas is provided at a height position of 0.3 from the bottom in each of four regions partitioned by the baffle plate . また、 Also,
「部」は「重量部/時間」である。 "Parts" are "parts by weight / time".

【0014】実施例1 第1酸化反応器1に、導管6を経てパラキシレン1部、 [0014] Example 1 first oxidation reactor 1, para-xylene 1 part via conduit 6,
5%の水を含む酢酸5部、酢酸コバルト(4水和物) 5 parts of acetic acid containing 5% water, cobalt acetate (tetrahydrate)
0.0042部、酢酸マンガン(4水和物)0.004 0.0042 parts of manganese acetate (tetrahydrate) 0.004
5部、臭化水素酸0.00634部(47%水溶液として供給)からなる混合液を供給し、かつ導管7を経て酸素濃度21容量%の酸化ガスを供給し、温度195℃、 5 parts by supplying a mixture consisting of 0.00634 parts of hydrobromic acid (supplied as 47% aqueous solution), and via a conduit 7 supplying oxygen concentration of 21 volume% of the oxidizing gas, the temperature 195 ° C.,
圧力14.0kg/cm 2 G、滞留時間90分の反応条件でパラキシレンを酸化した。 Pressure 14.0kg / cm 2 G, it was oxidized paraxylene at the reaction conditions of residence time of 90 minutes. 第1酸化反応器から流出するガスは反応器上部の冷却凝縮器で冷却して酢酸、水などの凝縮性成分を凝縮させ、不凝縮ガスは系外に排出した。 Gas flowing out of the first oxidation reactor is cooled in a cooling condenser of the reactor upper acetate, to condense condensable components such as water, noncondensable gas was discharged out of the system. 第1反応器内の水分を10%近辺に制御するため凝縮液のうち1.8部は導管8を経て系外に抜出し、残余は第1酸化反応器に還流した。 1.8 parts of the condensate to control the moisture in the first reactor near 10% withdrawal from the system via conduit 8, the balance was refluxed to the first oxidation reactor. また、第1酸化反応器への酸化ガスの供給は、系外に排出される非凝縮ガス中の酸素濃度が5.5容量%となるように制御した。 The supply of the oxidizing gas to the first oxidation reactor was controlled so that the oxygen concentration in the non-condensable gas discharged to the outside of the system is 5.5% by volume. 生成したテレフタル酸結晶を含む反応混合物は導管9を経て第2酸化反応器2に供給した。 The reaction mixture containing the produced terephthalic acid crystals were supplied to the second oxidation reactor 2 via conduit 9. 第2酸化反応器は第1酸化反応器と同一仕様であるが、4個の酸化ガス供給口のうち3個は閉鎖し、1個のみ使用した。 Although the second oxidation reactor is the same specifications as the first oxidation reactor, three of the four oxidizing gas supply port is closed, and only one. 第2酸化反応器では185℃、11.0kg/cm 2 G、滞留時間40 In the second oxidation reactors 185 ℃, 11.0kg / cm 2 G , residence time 40
分の反応条件で反応を行なった。 And the reaction was carried out in minutes of reaction conditions. 第2酸化反応器上部の冷却凝縮器で生成した凝縮液は全量を第2酸化反応器に還流した。 Condensate produced in the second oxidation reactor upper portion of the cooling condenser was refluxed a total volume of second oxidation reactor. また第2酸化反応器へは導管10を経て酸化ガスを供給したが、その量は、系外に排出される非凝縮ガス中の酸素濃度が5.5容量%となるように制御した。 Also it has been supplying the second oxidation reactor oxidizing gas via conduit 10 to, the amount was controlled so that the oxygen concentration in the non-condensable gas discharged to the outside of the system is 5.5% by volume. 第2酸化反応器の反応混合物は導管11を経て第1 The reaction mixture of the second oxidation reactor via conduit 11 first
晶析器3へ供給し、第1晶析器3のスラリーは導管12 Supplied to crystallizer 3, a slurry of the first crystallizer 3 line 12
を経て第2晶析器4へ供給した。 Was fed to the second crystallizer 4 through. 第2晶析器4のスラリーは遠心分離装置5でテレフタル酸結晶と反応母液とに分離した。 The slurry of the second crystallizer 4 is separated into terephthalic acid crystals and the reaction mother liquors by centrifugation device 5. 分離したテレフタル酸結晶は酢酸で洗浄したのち乾燥した。 Separated terephthalic acid crystals were dried after washing with acetic acid. 結果を第1表に示す。 The results are shown in Table 1.

【0015】比較例1 実施例1において、第1酸化反応器の4個の酸化ガス供給口のうち3個を閉鎖し、1個の供給口から酸化ガスを供給した以外は実施例1と全く同様にしてパラキシレンの酸化を行なった。 [0015] In Comparative Example 1 Example 1, three of four of the oxidizing gas supply port of the first oxidation reactor was closed and from one supply port except for supplying the oxidizing gas of Example 1 exactly It was performed oxidation of paraxylene in a similar manner. 結果を第1表に示す。 The results are shown in Table 1.

【0016】比較例2 実施例1において、第1酸化反応器の4個の酸化ガス供給口のうち相対する位置の2個を閉鎖し、残りの2個の供給口(これも相互に対向する位置にある)から酸化ガスを供給した以外は実施例1と全く同様にしてパラキシレンの酸化を行なった。 [0016] In Comparative Example 2 Example 1, the two opposed positions of the four oxidizing gas supply port of the first oxidation reactor was closed, faces the remaining two supply ports (also mutually except for supplying an oxidizing gas from one) the position was carried out the oxidation of para-xylene in the same manner as in example 1. 結果を第1表に示す。 The results are shown in Table 1.

【0017】 [0017]

【表1】 [Table 1] 注)透過率:テレフタル酸7.5gを2N−水酸化カリウム水溶液50mlに溶解した溶液につき、光路長1c Note) transmittance: per solution of terephthalic acid 7.5 g 2N-potassium hydroxide aqueous solution 50 ml, optical path length 1c
mの石英セルを用い、分光光度計で340nmにおける透過率を測定 With a quartz cell of m, measuring the transmittance in 340nm with a spectrophotometer

【0018】 [0018]

【発明の効果】本発明によれば酸化反応器への分子状酸素含有ガスの供給を、各邪魔板で区画された領域に分割して供給することにより、高品質のテレフタル酸を製造することができる。 The supply of molecular oxygen-containing gas to the oxidation reactor according to the effect the present invention, by supplying in partitioned regions each baffle, to produce high quality terephthalic acid can.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】実施例で用いたテレフタル酸製造装置の概念図である。 1 is a conceptual diagram of a terephthalic acid production apparatus used in Example.

【図2】実施例で用いた第1酸化反応器の見取図である。 2 is a sketch of the first oxidation reactor used in Examples.

【図3】図2の第1酸化反応器の上方からの見取図である。 3 is a sketch from above the first oxidation reactor of FIG.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 第1酸化反応器 2 第2酸化反応器 3 第1晶析器 4 第2晶析器 5 遠心分離装置 6 原料供給導管 7 酸化ガス供給導管 8 凝縮液抜出し管 10 酸化ガス供給導管 21 酸化反応器 22 邪魔板 23 撹拌機 24 酸化ガス供給管 1 first oxidation reactor 2 second oxidation reactor 3 first crystallizer 4 second crystallizer 5 centrifuge 6 the raw material feed conduit 7 oxidizing gas supply conduit 8 the condensate withdrawing pipe 10 oxidizing gas supply conduit 21 oxidation reaction vessel 22 baffle 23 stirrer 24 oxidizing gas supply pipe

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【手続補正書】 [Procedure amendment]

【提出日】平成5年7月5日 [Filing date] 1993 July 5

【手続補正1】 [Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書 [Correction target document name] specification

【補正対象項目名】請求項1 [Correction target item name] according to claim 1,

【補正方法】変更 [Correction method] change

【補正内容】 [Correction contents]

【手続補正2】 [Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書 [Correction target document name] specification

【補正対象項目名】0002 [Correction target item name] 0002

【補正方法】変更 [Correction method] change

【補正内容】 [Correction contents]

【0002】 [0002]

【従来の技術】テレフタル酸はポリエステルの原料として極めて重要な化合物である。 BACKGROUND ART Terephthalic acid is an extremely important compound as a raw material for polyester. テレフタル酸の製造法としては、パラキシレンを重金属及び臭素を含む触媒の存在下に酢酸溶媒中で分子状酸素含有ガスで酸化する方法が代表的なものであり、工業的に大規模に実施されている。 Methods for producing terephthalic acid, a method for oxidizing paraxylene with a molecular oxygen-containing gas in acetic acid solvent in the presence of a catalyst comprising a heavy metal and bromine are those representative, conducted in a large industrial scale ing. この方法では、撹拌槽型の酸化反応器に触媒、酢酸溶媒、パラキシレンおよび分子状酸素含有ガスとを連続的に供給し、パラキシレンをテレフタル酸に酸化する。 In this way, the catalyst to a stirred vessel-type oxidation reactor, acetic acid solvent, and a para-xylene and a molecular oxygen-containing gas is continuously fed, to oxidize para-xylene to terephthalic acid.
生成したテレフタル酸を含む反応混合物は酸化反応器から抜出され、所望により更に追酸化したのち析出しているテレフタル酸結晶を分離回収する。 The reaction mixture containing the produced terephthalic acid withdrawn from the oxidation reactor, further separating and recovering terephthalic acid crystals precipitated After additionally optionally oxidized. 結晶を分離した後の反応母液は、不純物の蓄積を防ぐためその一部を系外に排出し、残余は酸化反応器に循環する。 The crystals separated reaction mother liquid after the part thereof to prevent the accumulation of impurities was discharged out of the system, the remainder is recycled to the oxidation reactor. 燃焼及び系外への排出等により反応系から失なわれる酢酸溶媒及び触媒は、新たな酢酸及び触媒を系外から供給することにより補充され、系内の酢酸濃度及び触媒濃度等は、常に一定の状態に保つようにする。 Acetic acid solvent and catalyst are lost from the reaction system by a discharge or the like to the combustion and the outside of the system is supplemented by supplying a fresh acetic acid and catalyst from the outside of the system, acid concentration and catalyst concentration or the like in the system is always constant to keep in the state.

【手続補正3】 [Amendment 3]

【補正対象書類名】明細書 [Correction target document name] specification

【補正対象項目名】0005 [Correction target item name] 0005

【補正方法】変更 [Correction method] change

【補正内容】 [Correction contents]

【0005】本発明によれば、内壁面上に複数の邪魔板が縦方向に並設されている酸化反応器に重金属と臭素を含む触媒、酢酸溶媒、パラキシレンおよび分子状酸素含有ガスとを連続的に供給してパラキシレンを酸化するテレフタル酸の製造法において、各邪魔板で区画された領域毎に分子状酸素含有ガスを供給することにより高品質のテレフタル酸を製造することができる。 In accordance with the present invention, a catalyst comprising a heavy metal and bromine oxidation reactor in which a plurality of baffles on the inner wall surface are juxtaposed in the longitudinal direction, acetic acid solvent, and a para-xylene and a molecular oxygen-containing gas in was continuously fed preparation of terephthalic acid to oxidize para-xylene, it is possible to manufacture a high-quality terephthalic acid by supplying molecular oxygen-containing gas in each partitioned area in the baffle.

Claims (3)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 重金属と臭素を含む触媒を溶解した酢酸溶媒が収容されており、且つ内壁面上に複数の邪魔板が縦方向に並設されている酸化反応器に、パラキシレンと分子状酸素含有ガスとを連続的に供給してパラキシレンを酸化するテレフタル酸の製造方法において、各邪魔板で区画された領域毎に分子状酸素含有ガスを供給することを特徴とする方法。 1. A are acetic acid solvent is accommodated by dissolving a catalyst comprising a heavy metal and bromine, and the oxidation reactor in which a plurality of baffle plates are arranged side by side in the longitudinal direction on the inner wall surface, paraxylene and molecular in the method for manufacturing terephthalic acid and oxygen-containing gas was continuously fed to oxidize para-xylene, wherein the supplying molecular oxygen-containing gas in each area partitioned by the baffle.
  2. 【請求項2】 酸化反応器の中心軸と内壁とを結ぶ直線上で、中心軸から0.2〜0.8R(R:中心軸から内壁までの距離)の位置に分子状酸素含有ガスを供給することを特徴とする請求項1記載の方法。 2. A on a straight line connecting the center axis and the inner wall of the oxidation reactor, 0.2~0.8R from the central axis: the position of the (R distance from the central axis to the inner wall) of the molecular oxygen-containing gas the method of claim 1, wherein the feeding.
  3. 【請求項3】 酸化反応器が撹拌翼を備えており、且つ酸化反応器の中心軸と内壁とを結ぶ直線上で、撹拌翼の先端から±0.1R(R:中心軸から内壁までの距離) Wherein the oxidation reactor is equipped with a stirring blade, and on a straight line connecting the center axis and the inner wall of the oxidation reactor, ± from the tip of the stirring blade 0.1 R (R: from the central axis to the inner wall distance)
    の位置に分子状酸素含有ガスを供給することを特徴とする請求項1又は2記載の方法。 The process according to claim 1 or 2, characterized in that to supply the molecular oxygen-containing gas at the position of.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5696285A (en) * 1995-12-29 1997-12-09 Praxair Technology, Inc. Production of terephthalic acid with excellent optical properties through the use of pure or nearly pure oxygen as the oxidant in p-xylene oxidation
JP2008500946A (en) * 2003-06-13 2008-01-17 テレフタラトス メキシカノス エス.エー. デ シー.ヴイ. Method and apparatus for efficient oxidation of alkylaromatics
KR100988684B1 (en) * 2008-04-16 2010-10-18 삼남석유화학 주식회사 Oxidation reactor for manufacturing of crude terephtalic acid

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5696285A (en) * 1995-12-29 1997-12-09 Praxair Technology, Inc. Production of terephthalic acid with excellent optical properties through the use of pure or nearly pure oxygen as the oxidant in p-xylene oxidation
JP2008500946A (en) * 2003-06-13 2008-01-17 テレフタラトス メキシカノス エス.エー. デ シー.ヴイ. Method and apparatus for efficient oxidation of alkylaromatics
JP4780566B2 (en) * 2003-06-13 2011-09-28 テレフタラトス メキシカノス エス.エー. デ シー.ヴイ. Method and apparatus for efficient oxidation of alkylaromatics
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