JPH06317701A - マイクロレンズおよびその作製方法 - Google Patents
マイクロレンズおよびその作製方法Info
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- JPH06317701A JPH06317701A JP5128256A JP12825693A JPH06317701A JP H06317701 A JPH06317701 A JP H06317701A JP 5128256 A JP5128256 A JP 5128256A JP 12825693 A JP12825693 A JP 12825693A JP H06317701 A JPH06317701 A JP H06317701A
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- microlens
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 化学的な耐久性が高く、高温、高湿、経時変
化等により劣化してしまうことがないものを得る。 【構成】 ガラス等の作製方法の一つであるゾルゲル法
を応用し、このときに用いるゾルを調製する。穴を有し
た平板透明部材をゾル溶液に触れさせることにより、表
面張力によって穴内のゾルに凹形状部を付与する。この
ゾルは反応してゲルとなり、凹形状のままの状態で固化
し、これを乾燥、焼成することによって凹形状部がガラ
ス化する。これにより、透明部材1の表面に形成した穴
2にガラスからなる凹面集光部3を埋設したマイクロレ
ンズを作製する。
化等により劣化してしまうことがないものを得る。 【構成】 ガラス等の作製方法の一つであるゾルゲル法
を応用し、このときに用いるゾルを調製する。穴を有し
た平板透明部材をゾル溶液に触れさせることにより、表
面張力によって穴内のゾルに凹形状部を付与する。この
ゾルは反応してゲルとなり、凹形状のままの状態で固化
し、これを乾燥、焼成することによって凹形状部がガラ
ス化する。これにより、透明部材1の表面に形成した穴
2にガラスからなる凹面集光部3を埋設したマイクロレ
ンズを作製する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば感度向上のため
に固体撮像装置などの受光面の前方に配置されるマイク
ロレンズおよびその作製方法に関する。
に固体撮像装置などの受光面の前方に配置されるマイク
ロレンズおよびその作製方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、CCD(Chrage Cou
pled Device)やCMD(Chrage M
odulation Device)等を用いた固体撮
像装置は、半導体表面に光電変換部および信号読み出し
部を備えているので、実際に光電変換に寄与する領域
は、画素面積に対して20〜50%程度に制限されるこ
とになる。
pled Device)やCMD(Chrage M
odulation Device)等を用いた固体撮
像装置は、半導体表面に光電変換部および信号読み出し
部を備えているので、実際に光電変換に寄与する領域
は、画素面積に対して20〜50%程度に制限されるこ
とになる。
【0003】従来、この欠点を解決するための手段とし
て、集光のためのマイクロレンズを画素毎に設け、入射
光を光電変換部に対して効率的に集光する方法が特公昭
60−59752号公報などに提案されている。この公
報記載のマイクロレンズ付きの固体撮像装置の断面図を
図5に示す。同図において、11はP型のシリコン基板
であり、このシリコン基板11には、チャンネルストッ
プ12、垂直転送用拡散層13、フォトダイオード14
が形成されるとともに、表面には絶縁層15が形成され
ている。また、この絶縁層15の上には、電荷転送用の
ポリシリコンゲート16が形成されている。さらに、そ
の受光表面には、屈折率が1より大きくて光を透過させ
る材料よりなる半球状のマイクロレンズ17が、隣接す
る2つのポリシリコンゲート16に接するように設けら
れている。
て、集光のためのマイクロレンズを画素毎に設け、入射
光を光電変換部に対して効率的に集光する方法が特公昭
60−59752号公報などに提案されている。この公
報記載のマイクロレンズ付きの固体撮像装置の断面図を
図5に示す。同図において、11はP型のシリコン基板
であり、このシリコン基板11には、チャンネルストッ
プ12、垂直転送用拡散層13、フォトダイオード14
が形成されるとともに、表面には絶縁層15が形成され
ている。また、この絶縁層15の上には、電荷転送用の
ポリシリコンゲート16が形成されている。さらに、そ
の受光表面には、屈折率が1より大きくて光を透過させ
る材料よりなる半球状のマイクロレンズ17が、隣接す
る2つのポリシリコンゲート16に接するように設けら
れている。
【0004】そして、上記マイクロレンズ17は、フォ
トレジスト等の有機材料を受光表面に塗布し、フォトエ
ッチング工程により半球体の端部となるべき部分を取り
除いた後、熱を加えてレジストを軟化させ、角部をだれ
させることにより作製されている。
トレジスト等の有機材料を受光表面に塗布し、フォトエ
ッチング工程により半球体の端部となるべき部分を取り
除いた後、熱を加えてレジストを軟化させ、角部をだれ
させることにより作製されている。
【0005】このような構成の固体撮像装置では、図5
においてDで示す範囲の入射光がマイクロレンズ17で
集束され、受光素子であるフォトダイオード14に照射
される。すなわち、固体撮像装置の表面に入射した光が
できるだけ多くフォトダイオード14に導かれるように
なっており、感度の向上が図られている。
においてDで示す範囲の入射光がマイクロレンズ17で
集束され、受光素子であるフォトダイオード14に照射
される。すなわち、固体撮像装置の表面に入射した光が
できるだけ多くフォトダイオード14に導かれるように
なっており、感度の向上が図られている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来法に
より作製されたマイクロレンズ17は、フォトレジスト
等の有機材料より作製されているので、化学的な耐久性
が低く、高温、高湿、経時変化等により劣化してしまう
ことがあった。また、固体撮像装置の用途によっては、
図6に示すように、図5に示した固体撮像装置上に、カ
バーガラス接着層18を介してカバーガラス19を取付
けることが要求される場合がある。さらに、クリアモー
ルド実装の場合もマイクロレンズ17上に接してクリア
モールド材を形成させることとなる。このような構成と
した場合、通常の有機材料で形成されたマイクロレンズ
17の屈折率は約1.6であり、一方、カバーガラス接
着層18またはクリアモールド材の屈折率も、マイクロ
レンズ材料の屈折率値にほぼ近いために、レンズ効果が
大幅に低下するという欠点を有していた。
より作製されたマイクロレンズ17は、フォトレジスト
等の有機材料より作製されているので、化学的な耐久性
が低く、高温、高湿、経時変化等により劣化してしまう
ことがあった。また、固体撮像装置の用途によっては、
図6に示すように、図5に示した固体撮像装置上に、カ
バーガラス接着層18を介してカバーガラス19を取付
けることが要求される場合がある。さらに、クリアモー
ルド実装の場合もマイクロレンズ17上に接してクリア
モールド材を形成させることとなる。このような構成と
した場合、通常の有機材料で形成されたマイクロレンズ
17の屈折率は約1.6であり、一方、カバーガラス接
着層18またはクリアモールド材の屈折率も、マイクロ
レンズ材料の屈折率値にほぼ近いために、レンズ効果が
大幅に低下するという欠点を有していた。
【0007】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、化学的な耐久性が高く、高温、高湿、経
時変化等により劣化してしまうことがないマイクロレン
ズおよびその作製方法を提供することを目的とする。
されたもので、化学的な耐久性が高く、高温、高湿、経
時変化等により劣化してしまうことがないマイクロレン
ズおよびその作製方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、透明部材の表面に形成した穴にガラスま
たはセラミックスからなる凹面集光部を埋設してマイク
ロレンズを構成した。
に、本発明は、透明部材の表面に形成した穴にガラスま
たはセラミックスからなる凹面集光部を埋設してマイク
ロレンズを構成した。
【0009】また、このようなマイクロレンズを作製す
るにあたり、表面に穴を有した透明部材を液体に触れさ
せ、その穴にガラスまたはセラミックスの原料となる液
体を滞留させて表面張力により凹面を形成し、この液体
を固化することにより凹面集光部を形成することとし
た。ここに、前記液体はゾルであることが好ましい。
るにあたり、表面に穴を有した透明部材を液体に触れさ
せ、その穴にガラスまたはセラミックスの原料となる液
体を滞留させて表面張力により凹面を形成し、この液体
を固化することにより凹面集光部を形成することとし
た。ここに、前記液体はゾルであることが好ましい。
【0010】本発明では、例えば、ガラス等の作製方法
の一つであるゾルゲル法を応用している。ゾルゲル法で
は、まずゾルを調製し、このゾルが反応により固化して
ゲルとなった後、このゲルをガラス転移温度付近まで加
熱して目的とするガラス、セラミックス等を得ている。
の一つであるゾルゲル法を応用している。ゾルゲル法で
は、まずゾルを調製し、このゾルが反応により固化して
ゲルとなった後、このゲルをガラス転移温度付近まで加
熱して目的とするガラス、セラミックス等を得ている。
【0011】いま、穴を有した平板透明部材をゾル等の
液体に触れさせると、表明張力により穴の内部にゾルが
凹形状の表面を形成して滞留する。このゾルは反応して
ゲル化するため穴の内部に凹形状の表面を持ったゲルが
形成される。このゲルを乾燥させ、透明部材全体を加熱
してゲルを焼成することによりゲルをガラス化する。こ
れにより、図1に示すように、透明部材1の表面に形成
した穴2にガラスからなる凹面集光部3を埋設したマイ
クロレンズを作製することができる。
液体に触れさせると、表明張力により穴の内部にゾルが
凹形状の表面を形成して滞留する。このゾルは反応して
ゲル化するため穴の内部に凹形状の表面を持ったゲルが
形成される。このゲルを乾燥させ、透明部材全体を加熱
してゲルを焼成することによりゲルをガラス化する。こ
れにより、図1に示すように、透明部材1の表面に形成
した穴2にガラスからなる凹面集光部3を埋設したマイ
クロレンズを作製することができる。
【0012】このとき、図1中の矢印に示すように、光
線は2つの凹面の間の凸部を中心として集光される。し
たがって、この凸部の下にフォトダイオード14が位置
するように透明部材1を固体撮像素子に接着固定すれ
ば、感度の優れた固体撮像装置を得ることができる。な
お、図1の固体撮像素子の構成は図5に示したものと同
じなので説明は省略する。
線は2つの凹面の間の凸部を中心として集光される。し
たがって、この凸部の下にフォトダイオード14が位置
するように透明部材1を固体撮像素子に接着固定すれ
ば、感度の優れた固体撮像装置を得ることができる。な
お、図1の固体撮像素子の構成は図5に示したものと同
じなので説明は省略する。
【0013】凹面集光部3の凹面の曲率半径rは、ゾル
の粘度と透明部材1に設けられた穴2の大きさおよび深
さにより決定される。この曲率半径rが制限されて充分
な集光作用が得られない場合には、図2に示すように、
透明部材1に設けられた穴2を貫通孔とすれば、表面張
力によりゾルの上下の面が凹面となるので、集光作用を
持つ面が2面形成されるため、充分な集光作用を確保す
ることができる。
の粘度と透明部材1に設けられた穴2の大きさおよび深
さにより決定される。この曲率半径rが制限されて充分
な集光作用が得られない場合には、図2に示すように、
透明部材1に設けられた穴2を貫通孔とすれば、表面張
力によりゾルの上下の面が凹面となるので、集光作用を
持つ面が2面形成されるため、充分な集光作用を確保す
ることができる。
【0014】なお、これらにおいて更に集光させるため
には、透明部材1の平坦部1aを小さくしたり、平坦部
1aの上部に凸レンズ作用を持つレンズを配すれば良
い。
には、透明部材1の平坦部1aを小さくしたり、平坦部
1aの上部に凸レンズ作用を持つレンズを配すれば良
い。
【0015】本発明において用いるゾルは、種々の組成
のものを選択することが容易であり、SiO2 を主成分
として、例えばTiO2 、ZrO2 、GeO2 、Al2
O3、Nb2 O5 など屈折率を高める成分をドープした
ガラスや、B2 O3 など屈折率を低くする成分をドープ
したガラスでもよく、透明な凹面集光部を形成すること
のできるものであれば、ガラスに制限はされず、一般に
セラミックスと呼ばれるものでもよい。したがって、凹
面集光部には、種々の屈折率を選択することができ、部
分的に屈折率を変えることもできる。このようなガラス
またはセラミックスによれば、化学的な耐久性は従来の
マイクロレンズに用いられている有機樹脂に比較すると
格段に良好であり、高温、高湿、経時変化等により劣化
してしまうことはない。一方、穴のパターンは撮像素子
の受光部にあわせて作るが、ガラスを用いた場合、マス
ク材をフォトレジストで形成し、露光、現像によりパタ
ーン化した後に、フッ酸などでエッチングして作製する
ことができる。
のものを選択することが容易であり、SiO2 を主成分
として、例えばTiO2 、ZrO2 、GeO2 、Al2
O3、Nb2 O5 など屈折率を高める成分をドープした
ガラスや、B2 O3 など屈折率を低くする成分をドープ
したガラスでもよく、透明な凹面集光部を形成すること
のできるものであれば、ガラスに制限はされず、一般に
セラミックスと呼ばれるものでもよい。したがって、凹
面集光部には、種々の屈折率を選択することができ、部
分的に屈折率を変えることもできる。このようなガラス
またはセラミックスによれば、化学的な耐久性は従来の
マイクロレンズに用いられている有機樹脂に比較すると
格段に良好であり、高温、高湿、経時変化等により劣化
してしまうことはない。一方、穴のパターンは撮像素子
の受光部にあわせて作るが、ガラスを用いた場合、マス
ク材をフォトレジストで形成し、露光、現像によりパタ
ーン化した後に、フッ酸などでエッチングして作製する
ことができる。
【0016】さらに、図1に示したマイクロレンズの凹
面集光部3に、例えば、ゾルをコーティングして更に異
なった屈折率を持つ物質を埋め込むこともできる。初め
に凹面集光部3を形成した物質4よりも低屈折率の物質
5を穴2に埋め込んだ場合は、図3に示すように光は集
光されるが、初めに凹面集光部3を形成した物質4より
も高屈折率の物質6を穴2に埋め込んだ場合は、図4に
示すように光は集光し、この場合、図3とは異なった位
置に固体撮像素子の受光部を配置する。
面集光部3に、例えば、ゾルをコーティングして更に異
なった屈折率を持つ物質を埋め込むこともできる。初め
に凹面集光部3を形成した物質4よりも低屈折率の物質
5を穴2に埋め込んだ場合は、図3に示すように光は集
光されるが、初めに凹面集光部3を形成した物質4より
も高屈折率の物質6を穴2に埋め込んだ場合は、図4に
示すように光は集光し、この場合、図3とは異なった位
置に固体撮像素子の受光部を配置する。
【0017】
【実施例1】両面を平面に光学研磨したパイレックスガ
ラス基板に、通常のフォトリソ工程を用いて所定のパタ
ーンを形成し、パイレックスガラス基板にマスクをし
た。これを、12%フッ酸水溶液に浸漬して穴を明け
た。その後、洗浄、乾燥した。一方、145.8gのS
i(OC2 H5 )4 に128.8gのエタノールを加え
るとともに、12.6gの1規定塩酸を加えて部分加水
分解し、102.1gのTi(On C4 H9 )4 をエタ
ノールに溶解して混合した。このゾル溶液にエチレング
リコールを添加して粘度調整した後、ゾル中に穴を明け
たパイレックスガラス基板を浸漬し、引き上げて凹形状
部を形成させた。水分の存在下でゲル化させ、乾燥、焼
結して凹形状部をガラス化させ、凹面集光部を形成し
た。これにより、凹面集光部の屈折率が1.706であ
るレンズが得られた。
ラス基板に、通常のフォトリソ工程を用いて所定のパタ
ーンを形成し、パイレックスガラス基板にマスクをし
た。これを、12%フッ酸水溶液に浸漬して穴を明け
た。その後、洗浄、乾燥した。一方、145.8gのS
i(OC2 H5 )4 に128.8gのエタノールを加え
るとともに、12.6gの1規定塩酸を加えて部分加水
分解し、102.1gのTi(On C4 H9 )4 をエタ
ノールに溶解して混合した。このゾル溶液にエチレング
リコールを添加して粘度調整した後、ゾル中に穴を明け
たパイレックスガラス基板を浸漬し、引き上げて凹形状
部を形成させた。水分の存在下でゲル化させ、乾燥、焼
結して凹形状部をガラス化させ、凹面集光部を形成し
た。これにより、凹面集光部の屈折率が1.706であ
るレンズが得られた。
【0018】
【実施例2】実施例1と同様にして穴を有したガラス基
板を作製した。次に、145.8gのSi(OC
2 H5 )4 に128.8gのエタノールを加えるととも
に、12.6gの1規定塩酸を加えて部分加水分解し、
138.0gのB(On C4 H9 )4 をエタノールに溶
解して混合した。このゾル溶液をガラス基板に噴霧して
凹形状部を形成させ、水分の存在下でゲル化させた。次
に、Ti(On C4 H9 )4にアセト酢酸エチルを添加
して溶液を作製し、凹形状部を有したガラス基板にこの
溶液をスピンコートして、穴内の凹形状部に流し込み、
空気中でゲル化させた。これを乾燥後、電気炉で600
℃まで焼成し、図4に示すような構成のレンズを得た。
板を作製した。次に、145.8gのSi(OC
2 H5 )4 に128.8gのエタノールを加えるととも
に、12.6gの1規定塩酸を加えて部分加水分解し、
138.0gのB(On C4 H9 )4 をエタノールに溶
解して混合した。このゾル溶液をガラス基板に噴霧して
凹形状部を形成させ、水分の存在下でゲル化させた。次
に、Ti(On C4 H9 )4にアセト酢酸エチルを添加
して溶液を作製し、凹形状部を有したガラス基板にこの
溶液をスピンコートして、穴内の凹形状部に流し込み、
空気中でゲル化させた。これを乾燥後、電気炉で600
℃まで焼成し、図4に示すような構成のレンズを得た。
【0019】
【実施例3】実施例1に示す方法により穴を有した石英
ガラス基板を作製した。次に、Al(Osec C4 H9 )
4 にアセト酢酸エチルを添加し、エタノールで粘度調整
した後に、この溶液に石英ガラス基板を浸漬して引き上
げ、凹形状部を形成させた。水分の存在下でゲル化した
後、152.1gのSi(OC2 H5 )4 と128.8
gのエタノールに1規定塩酸を添加して加水分解した溶
液をスピンコートして、穴内の凹形状部に流し込み、空
気中でゲル化させた。これを乾燥後、電気炉で800℃
まで焼成し、図3に示すような構成のレンズを得た。
ガラス基板を作製した。次に、Al(Osec C4 H9 )
4 にアセト酢酸エチルを添加し、エタノールで粘度調整
した後に、この溶液に石英ガラス基板を浸漬して引き上
げ、凹形状部を形成させた。水分の存在下でゲル化した
後、152.1gのSi(OC2 H5 )4 と128.8
gのエタノールに1規定塩酸を添加して加水分解した溶
液をスピンコートして、穴内の凹形状部に流し込み、空
気中でゲル化させた。これを乾燥後、電気炉で800℃
まで焼成し、図3に示すような構成のレンズを得た。
【0020】
【発明の効果】以上のように、本発明のマイクロレンズ
およびその作製方法によれば、化学的な耐久性が高く、
高温、高湿、経時変化等により劣化してしまうこともな
く、しかもレンズ効果が大きいものとなる。
およびその作製方法によれば、化学的な耐久性が高く、
高温、高湿、経時変化等により劣化してしまうこともな
く、しかもレンズ効果が大きいものとなる。
【図1】本発明のマイクロレンズを示す断面図である。
【図2】本発明のマイクロレンズの変形例を示す断面図
である。
である。
【図3】本発明の実施例3で作製したマイクロレンズを
示す断面図である。
示す断面図である。
【図4】本発明の実施例2で作製したマイクロレンズを
示す断面図である。
示す断面図である。
【図5】従来の固体撮像装置を示す断面図である。
【図6】カバーガラスを設けた従来の固体撮像装置を示
す断面図である。
す断面図である。
1 透明部材 2 穴 3 凹面集光部
Claims (3)
- 【請求項1】 透明部材の表面に形成した穴にガラスま
たはセラミックスからなる凹面集光部を埋設したことを
特徴とするマイクロレンズ。 - 【請求項2】 表面に穴を有する透明部材を液体に触れ
させることにより、その穴の内部に前記液体を凹形状の
表面を持つように滞留させ、該液体を固化することによ
りガラスまたはセラミックスからなる凹面集光部を形成
することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。 - 【請求項3】 前記液体がゾルであることを特徴とする
請求項2記載のマイクロレンズの作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5128256A JPH06317701A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | マイクロレンズおよびその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5128256A JPH06317701A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | マイクロレンズおよびその作製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06317701A true JPH06317701A (ja) | 1994-11-15 |
Family
ID=14980361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5128256A Withdrawn JPH06317701A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | マイクロレンズおよびその作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06317701A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0945884A (ja) * | 1995-07-31 | 1997-02-14 | Nec Corp | 固体撮像装置及びその製造方法 |
US7375893B2 (en) | 2005-05-19 | 2008-05-20 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing microlens, microlens, optical film, screen for projection, projector system, electrooptical device and electronic equipment |
JP2008277793A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Fujifilm Corp | 半導体素子及び半導体素子の製造方法 |
WO2010082464A1 (ja) * | 2009-01-19 | 2010-07-22 | パナソニック株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
CN101924114A (zh) * | 2009-06-10 | 2010-12-22 | 索尼公司 | 固态成像装置、用于制造固态成像装置的方法和成像设备 |
JP2011508253A (ja) * | 2007-12-19 | 2011-03-10 | ヘプタゴン・オサケ・ユキチュア | 光学要素の製造 |
-
1993
- 1993-04-30 JP JP5128256A patent/JPH06317701A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8643953B2 (en) | 2007-12-19 | 2014-02-04 | Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. | Manufacturing optical elements |
WO2010082464A1 (ja) * | 2009-01-19 | 2010-07-22 | パナソニック株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
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JP2010287676A (ja) * | 2009-06-10 | 2010-12-24 | Sony Corp | 固体撮像素子及びその製造方法、撮像装置 |
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A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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