JPH0631128A - 脱臭方法 - Google Patents

脱臭方法

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JPH0631128A
JPH0631128A JP4187984A JP18798492A JPH0631128A JP H0631128 A JPH0631128 A JP H0631128A JP 4187984 A JP4187984 A JP 4187984A JP 18798492 A JP18798492 A JP 18798492A JP H0631128 A JPH0631128 A JP H0631128A
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JP
Japan
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zeolite
mordenite
gas
ammonia
malodorous component
Prior art date
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Pending
Application number
JP4187984A
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English (en)
Inventor
Masahiro Nitta
昌弘 新田
Hiroshi Akama
弘 赤間
Yoshiki Ueda
美喜 上田
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Mitsubishi Power Ltd
Original Assignee
Babcock Hitachi KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 し尿処理場,ごみ処理場,食品工場,紙パル
プ工場,石油化学工場をはじめ、調理器,暖房器具等か
らの悪臭成分を除去する方法を提供すること。 【構成】 チオール類,スルフィド類,ジスルフィド
類,アンモニア,アミン類,アルデヒド類のうち少なく
とも一つを主要悪臭成分とするガスを、コバルトの酸化
物及び/またはマンガンの酸化物とゼオライトとから成
る脱臭剤に接触させる。この脱臭剤は、約50℃以下の
低温では、吸着により悪臭成分を除去し、約50℃以上
の高温で悪臭成分を酸化分解でき、効率のよい脱臭方法
となる。例えば、アンモニアに関しては、図示のように
Co34 /モルデナイト(曲線3)が除去率が高い。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は脱臭方法に係り、特にガ
ス中のチオール類,スルフィド類,ジスルフィド類,ア
ンモニア,アミン類,アルデヒド類などの悪臭成分を脱
臭剤に接触させて除去するするための方法に関する。
【0002】
【従来の技術】し尿処理場,ごみ処理場,食品工場,紙
パルプ工場,石油化学工場をはじめ、調理器,暖房器具
などにおいては悪臭を放つチオール類,スルフィド類,
ジスルフィド類,アンモニア,アミン類,アルデヒド類
などを含有するガスの発生を伴う。従来より、かかる悪
臭成分を吸着除去する方法として活性炭やゼオライトを
用いることが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような悪臭成分の
うち、メタンチオール等の低級チオール類,メチルスル
フィド等の低級スルフィド類,ジメチルジスルフィド等
の低級ジスルフィド類,アセトアルデヒド等の低級アル
デヒド類,アンモニアおよびトリメチルアミン等の低級
アミン類は通常の活性炭やゼオライトでは吸着容量が小
さいか、ほとんど吸着しないため、これらの成分を含む
悪臭ガスを完全に脱臭することはできなかった。
【0004】また、これを改良する方法として、酸や塩
基で処理した活性炭あるいはゼオライトを用いて前記悪
臭ガスを除去することも提案されているが、万能的とい
う訳ではない。すなわち、酸を添着した活性炭では塩基
性ガスのアンモニアやアミン類は良く吸着することがで
きるが、酸性ガスのチオール類には全く有効ではない。
【0005】一方、悪臭ガスを酸化触媒に接触させて接
触燃焼して脱臭する方法も知られているが、これを効率
良く行なうためには、高活性で耐久性のある酸化触媒が
要求され、通常は白金系金属触媒が使用されている。し
かし白金系触媒はいずれも価格及び供給量の点で問題が
あり、安価で高性能(脱臭率、耐久性)を有する脱臭方
法の開発が望まれていた。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記従来
技術の欠点を鑑み種々検討した結果、チオール類,スル
フィド類,ジスルフィド類,アンモニア,アミン類,ア
ルデヒド類を悪臭成分として含有するガスを、コバルト
酸化物および/またはマンガン酸化物を担持したゼオラ
イトに接触させることによって効率よく脱臭できること
を見出した。
【0007】すなわち、本発明はチオール類,スルフィ
ド類,ジスルフィド類,アンモニア,アミン類,アルデ
ヒド類のうち少なくとも一つを主要悪臭成分とするガス
をコバルトおよび/またはマンガン酸化物とゼオライト
とから成る脱臭剤に接触させることを特徴とする脱臭方
法を提供するものである。
【0008】本発明の方法において、除去の対象となる
悪臭成分としてのチオール類としては、例えばメタンチ
オール,エタンチオール,プロペンチオールなどのアル
キルチオールが挙げられ、スルフィド類としては、例え
ばメチルスルフィド、エチルスルフィドなどのアルキル
ススルフィドが挙げられ、ジスルフィド類としては例え
ばジメチルジスルフィド,ジエチルジスルフィドなどの
ジアルキルジスルフィドが挙げられ、アミン類として
は、例えばメチルアミン,ジメチルアミン,トリメチル
アミン,エチルアミン,ジエチルアミン,トリエチルア
ミン,プロピルアミンなどのアルキルアミン,ジアルキ
ルアミン,トリアルキルアミン,またヒドロキシルアミ
ン,エタノールアミンなどのヒドロキシルアルキルアミ
ンピリジン,ピロール,インドール,スカトールなどの
含窒素複素環式化合物などが挙げられる。
【0009】本発明の方法において、コバルトの酸化物
としては化学的にCo34 で表され、コバルトの硝酸
塩,硫酸塩,炭酸塩,酢酸塩または塩化物を空気中で通
常200〜600℃で焼成して調製され、マンガンの酸
化物としては化学的にMnO2 ,Mn23 で表され、
マンガンの硝酸塩,硫酸塩,酢酸塩または塩化物を空気
中で通常200〜600℃で焼成して調製される。
【0010】また、上記コバルトの水溶液塩水溶液とマ
ンガンの水溶液塩水溶液との混合液にアンモニア,水酸
化アルカリなどの中和剤の水溶液を添加して中和塩類を
共沈させたものを空気中、通常200〜600℃で焼成
して調製される。
【0011】本発明の方法において、使用されるゼオラ
イトは天然ゼオライト,合成ゼオライトのいずれでもよ
く、細孔径は約5A以上のものであればいかなるもので
もよいが、その比表面積が200m2 /g以上のものが
好ましく、特にモルデナイトが望ましい。
【0012】コバルトの酸化物および/またはマンガン
の酸化物をゼオライトと複合化させる場合、ゼオライト
を前述のコバルトおよび/またはマンガンの水溶液塩水
溶液に含浸させ、これを焼成するか、または混合液中に
ゼオライトを共存させ、共沈させたのちに焼成しても調
製できる。
【0013】これらコバルトおよび/またはマンガンの
酸化物とゼオライトを複合化して得た脱臭剤は、顆粒
状,錠剤状またはハニカム状,板状として用いることが
できる。
【0014】本発明において、脱臭剤に被処理ガスを接
触させる場合、ガスの空間速度は100〜30000h
~ 1であり、また接触温度は0〜500℃、好ましくは
室温〜400℃である。この時、ガスと脱臭剤との気固
接触方式は固定床,流動床,移動床などいずれであって
もよい。
【0015】本発明の脱臭方法は活性炭あるいはゼオラ
イトを用いた吸着除去による脱臭方法よりも高い性能を
有している。またコバルト酸化物あるいはマンガン酸化
物の脱臭性能よりも高い脱臭性能を有している。
【0016】図1及び図2において、1〜6は脱臭剤の
例を示しており、1はモルデナイト、2はCo34
3はCo34 /モルデナイト、4は活性炭、5はMn
2、6はMnO2 / モルデナイトである。これらの
脱臭剤を用いてアンモニア(図1)及びメタンチオール
(図2)を除去する例を示している。
【0017】図1及び図2から明らかなように、活性炭
(曲線4)は、アンモニアの除去率が極めて小さい。こ
れは活性炭に本質的な性質で、同じく塩基性ガスのメタ
ンチオールにもほとんど除去活性を示さない。
【0018】しかるにゼオライトの一種であるモルデナ
イトは図1の曲線1に示すようにアンモニアの除去率が
大きい。これはゼオライトが酸性を有しているためで、
塩基物質を良く吸着することができることに起因する。
しかしゼオライトは図2の曲線1に示すようにメタンチ
オールの除去率は極めて小さい。これはゼオライトが酸
性を有するため、酸性物質のメタンチオールの吸着に有
効ではないためである。一方、酸化コバルト及び酸化マ
ンガンは図1及び図2中に、曲線2、5で示すようにア
ンモニアもメタンチオールも高い除去率をもって脱臭で
きる。
【0019】図1及び図2において、曲線3のCo3
4 /モルデナイト、曲線6のMnO 2 / モルデナイト
は、アンモニア及びメタンチオールのいずれに高い除去
率を示している。したがってゼオライトと酸化コバルト
および/または酸化マンガンとを複合化することによ
り、いずれの悪臭ガスも除去できる脱臭剤となり安定し
た脱臭方法が期待できることとなる。
【0020】しかるに本発明の脱臭方法は悪臭ガスの吸
着除去がその作用の主因であるので、脱臭剤が悪臭ガス
で飽和した場合は、脱臭剤を再生するか廃棄交換するこ
とになる。後者の場合は経済的に有利とは言えないので
前者すなわち再生処理して、くり返し使用が好ましい。
この場合、活性炭の再生処理温度は高くても150℃に
限定され、それ以下であることが望まれる。しかしチオ
ール類,アミン類は吸着力が強く、150℃までの再生
脱着処理では完全に脱着しない。しかるにゼオライトや
金属酸化物は耐熱性が高いので400℃の再生処理に十
分耐えられる。この温度では吸着したアミン類もチオー
ル類もほとんど脱着する。
【0021】したがって、コバルトおよび/またはマン
ガンの酸化物とゼオライトとの複合体によって悪臭ガス
を効率よく吸着・脱着しうる高性能で経済的脱臭方法が
可能となる。
【0022】本発明の脱臭方法は各種産業における乾
燥,加熱工程で生じる悪臭を含んだ排ガスの浄化装置と
して、厨房用器具から生じる悪臭を浄化する装置として
利用が期待され、本発明の実用的価値は極めて大きい。
【0023】
【実施例】
実施例 1 16mmφのガラス製吸着管に10〜20メッシュの脱
臭剤4mlを充填した。この吸着管にNH3 20ppm
を含有する空気を流通し、50℃におけるNH3 の除去
率の経時変化を調べ、その結果を表1に示す。このとき
の空間速度は30000h~ 1とした。
【0024】
【表1】
【0025】表1からモルデナイト、Co34 /モル
デナイト、Mn23 /モルデナイトがアンモニアの除
去率が高いことを示している。
【0026】実施例 2 実施例1におけるNH3 20ppmの代わりにCH3
H 100ppmを含有する50℃の空気を用いた他
は、実施例1と同じ条件でCH3 SHの除去率を調べ
た。結果は表2のとおりである。
【0027】
【表2】
【0028】表2からCH3 SHの除去率は、Co3
4 、Mn23 、Co34 /モルデナイト、Mn2
3 /モルデナイトが優れていることがわかる。
【0029】実施例3 実施例1におけるNH3 20ppmの代わりに(CH
32 S50ppmを含有する50℃の空気を用いた他
は、実施例1と同じ条件で(CH32 Sの除去率を測
定した結果を表3に示した。
【0030】
【表3】
【0031】表3から(CH32 Sの除去率は、Mn
23 /モルデナイトが優れていることがわかる。
【0032】実施例4 実施例1におけるNH3 20ppmの代わりに(CH
33 N20ppmを含有する50℃の空気を用いた他
は、実施例1と同じ条件で(CH33 Nの除去テスト
を行い、結果を表4に示した。
【0033】
【表4】
【0034】表4から、(CH33 Nの除去率は、C
34 /モルデナイト、Mn23/モルデナイトが優
れていることがわかる。
【0035】実施例 5 実施例1におけるNH3 20ppmの代わりにCH3
HO 100ppmを含有する50℃の空気を用いた他
は、実施例1と同じ条件でCH3 CHOの除去テストを
を行い、結果を表5に示した。
【0036】
【表5】
【0037】表5からCH3 CHOの除去率は、活性
炭、モルデナイト、Mn23 /モルデナイトのいずれ
も優れており、Mn23 /モルデナイトは広い温度範
囲で除去率が高いことを示している。
【0038】実施例 6 実施例1においてNH3 20ppmを含有する空気を流
通し、脱臭剤の温度を50℃,75℃,100℃,15
0℃,200℃にした場合のNH3 除去率を測定した。
その結果を図1に示した。図1の評価は、前述した通り
である。
【0039】実施例 7 実施例1においてNH3 20ppmの代わりにCH3
H 100ppmを流通し、脱臭剤の温度を50℃,7
5℃,100℃,150℃,200℃にした場合のCH
3 SH除去率を調べた。結果を図2に示した。図2の評
価は、前述した通りである。
【0040】実施例 8 実施例1において吸着管に10〜20メッシュのCo3
4 および/またはMn23 2mlをガス入口側に、
ゼオライト2mlをガス出口側に充填し、CH3 SH1
00ppmを含有する50℃の空気を流通し、SV30
000h~ 1でCH3 SH除去率を調べた結果を表6に
示した。なお、比較のため、ガス入口側とガス出口側に
それぞれゼオライトをそれぞれ2ml充填した結果を併
記した。
【0041】
【表6】
【0042】表6から、ゼオライト単独に比較して本発
明の方法では、CH3 SHの除去率が高いことを示して
いる。
【0043】実施例9 実施例1において、吸着管に10〜20メッシュのCo
34 および/またはMn23 の2mlとゼオライト
2mlを均一に混合したものを充填し、CH3SH10
0ppmを含有する50℃の空気を流通し、SV300
00h~ 1でCH3 SH除去率を調べた結果を表7に示
した。比較のため、ゼオライトのみを4ml充填した例
を併記した。
【0044】
【表7】
【0045】表7からゼオライト単独に比較して本発明
の方法では、CH3 SHの除去率が高いことを示してい
る。
【0046】
【発明の効果】以上のように本発明の脱臭方法を用いる
と、約50℃以下の低温では吸着により悪臭物質を除去
し、約50℃以上の高温では悪臭物質を酸化分解する作
用も加わって除去できるので、効率の良い脱臭が広い温
度範囲で可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】各種脱臭剤の温度とNH3 除去率との関係を表
わすグラフである。
【図2】各種脱臭剤の温度とCH3 SH除去率との関係
を表わすグラフである。
【符号の説明】
1 モルデナイト 2 Co34 3 Co34 /モルデナイト 4 活性炭 5 MnO2 6 MnO2 / モルデナイト

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チオール類,スルフィド類,ジスルフィ
    ド類,アンモニア,アミン類,アルデヒド類のうち少な
    くとも一つを主要悪臭成分とするガスを、コバルトの酸
    化物及び/またはマンガンの酸化物とゼオライトとから
    成る脱臭剤に接触させることを特徴とする脱臭方法。
JP4187984A 1992-07-15 1992-07-15 脱臭方法 Pending JPH0631128A (ja)

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JP4187984A JPH0631128A (ja) 1992-07-15 1992-07-15 脱臭方法

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6267941B1 (en) 1997-01-08 2001-07-31 Nec Corporation Catalyst system for deodorization of a mixture of sulfur compounds and compounds such as aldehydes, alcohols and/or hydrocarbons
EP1775013A1 (en) * 2005-10-13 2007-04-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Deodorising composition, device and air conditioner using the same
JP2007105215A (ja) * 2005-10-13 2007-04-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 脱臭体および脱臭体を用いた脱臭装置および空気調和機
JP2007209833A (ja) * 2005-10-21 2007-08-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 触媒体

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