JPH06294935A

JPH06294935A - 光ビーム走査光学装置

Info

Publication number: JPH06294935A
Application number: JP5082240A
Authority: JP
Inventors: Etsuko Shibata; 悦子芝田; Hiroshi Nakamura; 弘中村
Original assignee: Minolta Co Ltd
Current assignee: Minolta Co Ltd
Priority date: 1993-04-08
Filing date: 1993-04-08
Publication date: 1994-10-21
Also published as: US5532866A

Abstract

(57)【要約】【目的】ポリゴンミラーの反射面の面精度が取れてい
ない場合においても、光学的手段に頼ることなく、受光
面上でのジッタを低減すること。【構成】光源から放射された光ビームをポリゴンミラ
ー１０で偏向し、ｆθ光学系を介して感光体面を走査す
る光ビーム走査光学装置。光ビームが収束光のとき、反
射面１０ａが凹形状であればその軸面間距離をＡ＋Δｄ
に補正し、反射面１０ａが凸形状であればＡ−Δｄに補
正する。光ビームが発散光のとき、反射面１０ａが凹形
状であればその軸面間距離をＡ−Δｄに補正し、反射面
１０ａが凸形状であればＡ＋Δｄに補正する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ビーム走査光学装
置、特に、電子写真複写機、レーザプリンタ、ファクシ
ミリ等の画像形成装置の画像書込みヘッドあるいは画像
読取りヘッドとして使用される光ビーム走査光学装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、プリンタやイメージリーダに用い
られている光ビーム走査光学装置としては、ポリゴンス
キャナを備えたものが知られている。ポリゴンスキャナ
は、外周部に複数の反射面を有する多角体であって、モ
ータによって定速で回転駆動され、光源から放射された
光ビームを各反射面で等角速度に偏向走査する。偏向さ
れた光ビームはｆθ光学系を介して受光面上に結像す
る。

【０００３】ところで、ポリゴンミラーの各反射面に要
求される性能としては、（１）面精度（平面度）、
（２）分割精度、（３）面倒れ精度、がある。分割精度
は印字開始位置の精度に影響するが、偏向された光ビー
ムをセンサで検出していわゆるＳＯＳ信号を取ることに
よって、補正をすることが可能である。面倒れ精度はバ
ンディング（１行ごとの印字ピッチ）の精度に影響する
が、光学素子に面倒れ補正機能を持たせることにより、
補正することが可能である。面精度はジッタとして現
れ、従来この面精度を補正する光学的手段は存在しなか
った。従って、ポリゴンミラーの各反射面においては高
い平面度が要求されている。特に、近年、軽量化や量産
性、コストダウンを図るため樹脂材でポリゴンミラーを
製作することが行われているが、樹脂成形によって各反
射面を高精度の平面に仕上げるのは非常に困難であり、
生産性の低下、即ち、歩留まりの低下、成形時間の長大
化を招いている。

【０００４】

【発明の目的、構成、作用、効果】そこで、本発明の目
的は、ポリゴンミラーの反射面の面精度が取れていない
場合においても、光学的手段に頼ることなく、ジッタを
低減できる光ビーム走査光学装置を提供することにあ
る。ポリゴンミラーの反射面の面精度が取れていないと
は、反射面が凹形状か凸形状の傾向を有していることを
いう。そこで、本発明は、ｆθ光学系に入射する光ビー
ムと、ポリゴンミラーの各反射面形状と各反射面の軸面
間距離との関係が、平面反射面の軸面間距離Ａに対し
て、以下の条件を満足するようにした。なお、軸面間距
離とはポリゴンミラーの回転軸心から反射面までの距離
をいう。また、平面反射面とは、面精度が許容値以下の
高精度に仕上げられている反射面をいう。

【０００５】前記条件とは、（ａ）光ビームが収束光の
とき、反射面形状が凹形状であれば、その軸面間距離は
前記距離Ａよりも僅かに大きい、（ｂ）光ビームが収束
光のとき、反射面形状が凸形状であれば、その軸面間距
離は前記距離Ａよりも僅かに小さい、（ｃ）光ビームが
発散光のとき、反射面形状が凹形状であれば、その軸面
間距離は前記距離Ａよりも僅かに小さい、（ｄ）光ビー
ムが発散光のとき、反射面形状が凸形状であれば、その
軸面間距離は前記距離Ａよりも僅かに大きいことをい
う。

【０００６】ポリゴンミラーの各反射面の軸面間距離と
受光面上での像高との関係を考察すると、光ビームが平
行光である場合には軸面間距離の変化に拘らず像高は一
定であるのに対して、収束光及び発散光である場合には
軸面間距離の変化に応じて像高は主走査方向の内側又は
外側にシフトする。本発明では、このような現象を利用
して、ポリゴンミラーの各反射面が面精度誤差（凹又は
凸の曲率）を有する場合、この曲率によって生じる像高
のシフトを各反射面の軸面間距離の大小によって生じる
像高のシフトで相殺するようにし、ジッタの低減を図
る。

【０００７】例えば、ｆθ光学系に入射する光ビームが
収束光であり、反射面が凹形状であれば、像高はその反
射面が平面であるときよりも主走査方向の外側にシフト
することとなる。この場合には、反射面の軸面間距離を
該反射面が平面であるときよりも大きく設定し、像高を
内側にシフトさせる。これによって、結果的に反射面が
平面であるときと同じ像高となり、ジッタが解消され
る。

【０００８】

【実施例】以下、本発明に係る光ビーム走査光学装置の
実施例について添付図面を参照して説明する。図１は本
発明が適用される光ビーム走査光学装置を示し、１は半
導体レーザ、２はコリメータレンズ、３はシリンドリカ
ルレンズ、１０はポリゴンミラー、１５はトーリックレ
ンズ、２０は球面ミラー、２５は平面ミラー、３０はド
ラム状の感光体である。

【０００９】半導体レーザ１は図示しない制御回路によ
って強度変調（オン、オフ）され、画像情報を乗せた発
散光ビームを放射する。この発散光ビームはコリメータ
レンズ２を透過することにより所定の発散光又は収束光
又は平行光に修正される。さらに、この光ビームはシリ
ンドリカルレンズ３を透過することにより走査方向に、
即ち、以下のポリゴンミラー１０の反射面付近に（偏向
面内の）直線状に収束される。ポリゴンミラー１０は図
示しないモータにて支軸１１を中心に矢印ａ方向に一定
速度で回転駆動される。従って、シリンドリカルレンズ
３から射出された光ビームは、ポリゴンミラー１０の反
射面で連続的に反射され、等角速度で走査される。この
光ビームはトーリックレンズ１５を透過した後、球面ミ
ラー２０の凹面側にて反射され、さらに、平面ミラー２
５で反射された後感光体ドラム３０上に結像される。こ
のときの光ビームは感光体ドラム３０の軸方向に等速で
走査され、これを主走査と称する。また、感光体ドラム
３０は矢印ｂ方向に一定速度で回転駆動され、この回転
による走査を副走査と称する。

【００１０】一方、ポリゴンミラー１０で偏向走査され
た光ビームのうち主走査方向先端部分の光ビームは、ト
ーリックレンズ１５を透過した後、ミラー２６で反射さ
れ、集光レンズ２７を介してセンサ２８へ入射する。こ
のセンサ２８での光ビーム検出信号に基づいて感光体ド
ラム３０上への１走査ラインごとの印字開始位置が決め
られる（分割精度誤差の補正）。

【００１１】ここで、トーリックレンズ１５は、主走査
方向の形状がメニスカスであってかつ正のパワーを有す
るトーリックレンズであり、具体的には、入射側又は出
射側のいずれか一方の面がトロイダル面で他方の面が球
面又はシリンドリカル面であるレンズをいう。トロイダ
ル面とは二つの主経線がそれぞれ異なった曲率中心を有
する面をいう。

【００１２】以上の構成からなる光ビーム走査光学装置
においては、半導体レーザ１の強度変調と前記主走査、
副走査とによって感光体ドラム３０上に画像（静電潜
像）が形成される。そして、球面ミラー２０がトーリッ
クレンズ１５と共に主走査方向に対する走査速度を走査
域中心からその両端部にわたって均等となるように（歪
曲収差を）補正すると共に、感光体ドラム３０上での主
走査方向の像面歪曲を補正する。

【００１３】また、ポリゴンミラー１０からの反射光路
中に設置したトーリックレンズ１５のトロイダル面は、
ポリゴンミラー１０の面倒れ誤差を補正すると共に、感
光体ドラム３０上での副走査方向の像面歪曲を補正す
る。即ち、ポリゴンミラー１０の各反射面相互に垂直度
の誤差が生じていると、感光体ドラム３０上での走査線
が副走査方向にずれを生じ、画像にピッチむらが発生す
る。この面倒れ誤差はポリゴンミラー１０による偏向面
に垂直な断面においてポリゴンミラー１０の各反射面と
感光体ドラム３０の集光面とを共役関係に設定すれば補
正することができる。本光学装置ではシリンドリカルレ
ンズ３によって光ビームをポリゴンミラー１０に集光す
る一方、トーリックレンズ１５のトロイダル面によって
ポリゴンミラー１０の各反射面と集光面とが共役関係を
保持するようにしている。一方、トーリックレンズ１５
の球面は、主として主走査方向の像面湾曲を補正すると
共に、歪曲収差の補正を行う。

【００１４】ところで、前記ポリゴンミラー１０に関し
て、各反射面１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄの面精度
（平面度）は絶対値でλ／４（λ：光ビームの波長、６
３０×１０^-6ｍｍ）といったオーダーで抑える必要があ
る。面精度誤差がλ／４以上ずれると主走査方向の像高
の主走査方向へのずれ量が大きくなって感光体ドラム３
０上でのジッタが大きくなり、画像品質が劣化するため
である。面精度誤差とは、図２に示すように、任意の反
射面１０ａが曲率を有する場合に、曲面の頂点と端部と
の反射面法線方向の距離を意味する。反射面が精度よく
平面に仕上げられている場合（例えば、反射面１０
ｄ）、その面精度誤差は零である。

【００１５】一方、ポリゴンミラー１０の回転中心Ｏか
ら各反射面までの軸面間距離は、絶対値で１／１００ｍ
ｍオーダーのずれが生じていても問題とはならない。軸
面間距離がこのオーダーで設計値からずれてビームウエ
スト位置がシフトしたとしても（像面がシフトしたとし
ても）、このシフトはｆθ光学系の焦点深度内であるた
め、ピントずれが生じることはなく、画像への影響は少
ない。

【００１６】ここで、面精度誤差がｆθ光学系に与える
影響について考察する（図４参照）。平行光が平面（面
精度誤差が零）である反射面に入射するとき、光ビーム
がｆθ光学系に入射する角度をθ₁、ｆθ光学系の焦点
距離をｆとすると、その像高ｙ₁’はｆθ₁となる。平行
光が凹面である反射面に入射するとき、反射面での光ビ
ーム入射位置における反射面の法線ｃ₂は平面であると
きの法線ｃ₁に対して内側に向き、入射ビームと出射ビ
ームとで形成される角度は増大する。このとき、光ビー
ムがｆθ光学系に入射する角度をθ₂とすると、その像
高ｙ₂’はｆθ₂となる。平行光が凸面である反射面に入
射するとき、反射面での光ビーム入射位置における反射
面の法線ｃ₃は前記法線ｃ₁に対して外側に向き、入射ビ
ームと出射ビームとで形成される角度は減少する。この
とき、光ビームがｆθ光学系に入射する角度をθ₃とす
ると、その像高ｙ₃’はｆθ₃となる。

【００１７】収束光が反射面に入射するとき、像面はそ
れぞれｙ₄’，ｙ₅’，ｙ₆’へとマイナス方向にシフト
する。また、発散光が反射面に入射するとき、像面はそ
れぞれｙ₇’，ｙ₈’，ｙ₉’へとプラス方向にシフトす
る。収束光及び発散光のいずれにおいても、反射面の面
精度誤差（曲率が凹形状であるか凸形状であるか）に対
する像高のシフトは平行光と同じ方向である。

【００１８】以下の第１表は、図４に示されている像高
を反射面形状と光ビーム形状に分類して示したものであ
る。

【００１９】

【表１】

【００２０】次に、軸面間距離がｆθ光学系に与える影
響を考察する（図５参照）。まず、平行光が平面である
反射面に入射する場合について考察する。反射面の設計
上の軸面間距離をＡとし、その像高をｙ₁₁’とする。軸
面間距離がΔｄだけ小さくなると、反射点の移動によっ
てｆθ光学系には光ビームが外側から入射することとな
る。しかし、入射角θ₁は変らず、像高はｙ₁₁’で変化
はない。一方、軸面間距離がΔｄだけ大きくなると、反
射点の移動によってｆθ光学系には光ビームが内側から
入射することとなる。しかし、この場合にも入射角θ₁
は変わらず、像高はｙ₁₁’で変化はない。

【００２１】ところが、収束光又は発散光がｆθ光学系
に入射する場合、反射面の軸面間距離が変化すると像高
が内側又は外側にシフトする。収束光が平面である反射
面に入射する場合について考察すると、軸面間距離がＡ
であると、その像高はｙ₁₂’である。軸面間距離がΔｄ
だけ小さくなると、反射点の移動によってｆθ光学系に
は光ビームが外側から入射し、入射角θ₁は変らずとも
その像高はｙ₁₄’となり、ｙ₁₂’よりも外側にシフトす
る。一方、軸面間距離がΔｄだけ大きくなると、反射点
の移動によってｆθ光学系には光ビームが内側から入射
し、入射角θ₁は変らずともその像高はｙ₁₃’となり、
ｙ₁₂’よりも内側にシフトする。

【００２２】さらに、発散光が平面である反射面に入射
する場合について考察すると、軸面間距離がＡである
と、その像高はｙ₁₅’である。軸面間距離がΔｄだけ小
さくなると、反射点の移動によってｆθ光学系には光ビ
ームが外側から入射し、入射角θ₁は変らずともその像
高はｙ₁₆’となり、ｙ₁₅’よりも内側にシフトする。一
方、軸面間距離がΔｄだけ大きくなると、反射点の移動
によってｆθ光学系には光ビームが内側から入射し、入
射角θ₁は変らずともその像高はｙ₁₇’となり、ｙ₁₅’
よりも外側にシフトする。

【００２３】以下の第２表は、図５に示されている像高
を軸面間距離と光ビーム形状に分類して示したものであ
る。

【００２４】

【表２】

【００２５】以上の考察で明らかなように、平行光がｆ
θ光学系に入射されるときは、軸面間距離の変化に拘ら
ず像高は一定である。これに対して、収束光及び発散光
がｆθ光学系に入射されるときには、軸面間距離の変化
により像高は主走査方向に内側又は外側にシフトする。
本実施例ではこのような現象を利用して、ポリゴンミラ
ーが面精度誤差（曲率）を有する場合には、この曲率に
よって生じる像高のシフトを軸面間距離の大小によって
生じる像高のシフトで相殺する。

【００２６】即ち、図３（ａ）に示すように、反射面１
０ａが凹面であり、光ビームが収束光であるときは、像
高が平面である反射面１０ｄによる像高よりも外側にシ
フトするため、軸面間距離を反射面１０ｄの軸面間距離
ＡよりもΔｄだけ大きく補正する。この補正によって反
射面１０ａによる像高が内側にシフトし、結果的に反射
面１０ｄとほぼ同じ像高となる。

【００２７】図３（ｂ）に示すように、反射面１０ａが
凸面であり、光ビームが収束光であるときは、像高が平
面である反射面１０ｄによる像高よりも内側にシフトす
るため、軸面間距離を反射面１０ｄの軸面間距離Ａより
もΔｄだけ小さく補正する。この補正によって反射面１
０ａによる像高が外側にシフトし、結果的に反射面１０
ｄとほぼ同じ像高となる。

【００２８】図３（ｃ）に示すように、反射面１０ａが
凹面であり、光ビームが発散光であるときは、像高が平
面である反射面１０ｄによる像高よりも外側にシフトす
るため、軸面間距離を反射面１０ｄの軸面間距離Ａより
もΔｄだけ小さく補正する。この補正によって反射面１
０ａによる像高が内側にシフトし、結果的に反射面１０
ｄとほぼ同じ像高となる。

【００２９】図３（ｄ）に示すように、反射面１０ａが
凸面であり、光ビームが発散光であるときは、像高が平
面である反射面１０ｄによる像高よりも内側にシフトす
るため、軸面間距離を反射面１０ｄの軸面間距離Ａより
もΔｄだけ大きく補正する。この補正によって反射面１
０ａによる像高が外側にシフトし、結果的に反射面１０
ｄとほぼ同じ像高となる。

【００３０】以下の第３表は、図３に示されている軸面
間距離の補正を光ビーム形状と反射面形状に分類して示
したものである。

【００３１】

【表３】

【００３２】ところで、軸面間距離の補正値Δｄは反射
面の曲率の程度に応じて変化させる。例えば、反射面が
凹面であり、光ビームが収束光であるときには、曲率が
大きくなる程（曲率半径が小さくなる程）、補正値Δｄ
を大きくする。本実施例において、ポリゴンミラー１０
は四つの反射面を有し、樹脂材によって射出成形法で製
造される。そこで、まず、金型を製作して軸面間距離Ａ
でポリゴンミラー１０を成形し、各反射面の面精度誤差
を測定する。次に、各反射面の面精度誤差（曲率）と光
ビーム形状（収束光又は発散光）とに基づいて補正値Δ
ｄを決定し、金型の各面の位置を調整する。

【００３３】次に、図１に示した光ビーム走査光学装置
における各光学素子の具体的構成例を数値を用いて説明
する。（第１構成例）以下に示す第４表は図１に示した光ビー
ム走査光学装置における各光学素子の第１構成例を示
す。

【００３４】

【表４】

【００３５】この第１構成例において、ポリゴンミラー
の反射面の面精度誤差による像高の値を、平行光と収束
光に分けて、以下の第５表に示す。第５表では、反射面
の曲率半径Ｒをそれぞれ±１００００ｍｍ、±２０００
０ｍｍに設定し、画角３０゜での像高を示す。なお、括
弧内の数値は面精度誤差が零（平面）である場合の像高
との差である。

【００３６】

【表５】

【００３７】次に、軸面間距離の変化による像高の値
を、平行光と収束光に分けて、以下の第６表に示す。第
６表では、内接円形３０ｍｍ（軸面間距離：１５ｍｍ）
のポリゴンミラーに、設計値である軸面間距離Ａに誤差
Δｄとして±０．１ｍｍを与えたときの画角３０゜での
像高を示す。平行光使用時には軸面間距離の変化によっ
ても像高は変化しない（図５参照）。ここで使用された
収束光は像点までの距離がポリゴンミラー反射面を基準
として＋６０１．９２ｍｍのものであり、軸面間距離Ａ
の誤差Δｄが±０．１ｍｍに対して、それぞれ−０．０
５２ｍｍ、＋０．０５１ｍｍだけ像高が変化している。

【００３８】

【表６】

【００３９】以下に示す第７表は、反射面の面精度誤差
（内接円径：２４ｍｍ、軸面間距離：１２ｍｍ）及び軸
面間距離誤差に対する特定の画角での設計値に対するジ
ッタ値ｐｐｍ（parts per million）である。光ビーム
としては前述の収束光を使用し、ＳＯＳ信号を取ること
により反射面の分割誤差を補正している。

【００４０】

【表７】

【００４１】なお、第７表中のジッタ値は以下のように
して算出した。ＳＯＳ信号発生時点から所定の画角まで
の走査時間を、面精度誤差及び軸面間距離誤差が零の場
合をｔ、面精度又は軸面間距離の少なくともいずれかに
誤差を持つ場合をｔ’とする。そして、｛（ｔ’−ｔ）
／ｔ｝×１０⁶をジッタ値とした。この数値が大きい程
ジッタが多くなる。

【００４２】例えば、四つの反射面からなるポリゴンミ
ラーにおいて、第１面ないし第４面の面精度誤差及び軸
面間距離誤差が以下の第８表に示す数値を持つ場合、以
下の第９表に示すように、第１面と第４面の軸面間距離
をそれぞれ−０．０４ｍｍと＋０．０３ｍｍに補正す
る。この補正によって、７７ｐｐｍのジッタ値が４ｐｐ
ｍまで減少した。なお、第８表、第９表でのジッタとは
面別ジッタの最大値から最小値を差し引いた値をいう。

【００４３】

【表８】

【００４４】

【表９】

【００４５】（第２構成例）以下に示す第１０表は図１
に示した光ビーム走査光学装置における各光学素子の第
２構成例を示す。

【００４６】

【表１０】

【００４７】この第２構成例において、ポリゴンミラー
の反射面の面精度誤差による像高の値を、平行光と発散
光に分けて、以下の第１１表に示す。第１１表では、反
射面の曲率半径Ｒをそれぞれ±１００００ｍｍ、±２０
０００ｍｍに設定し、画角３０゜での像高を示す。な
お、括弧内の数値は面精度誤差が零（平面）である場合
の像高との差である。

【００４８】

【表１１】

【００４９】次に、軸面間距離の変化による像高の値
を、平行光と発散光に分けて、以下の第１２表に示す。
第１２表では、内接円形３０ｍｍ（軸面間距離：１５ｍ
ｍ）のポリゴンミラーに、設計値である軸面間距離Ａに
誤差Δｄとして±０．１ｍｍを与えたときの画角３０゜
での像高を示す。平行光使用時には軸面間距離の変化に
よっても像高は変化しない（図５参照）。ここで使用さ
れた発散光は物点までの距離がポリゴンミラー反射面を
基準として−１３９２．７４ｍｍのものであり、軸面間
距離Ａの誤差Δｄが±０．１ｍｍに対して、それぞれ±
０．０２６ｍｍだけ像高が変化している。

【００５０】

【表１２】

【００５１】以下に示す第１３表は、反射面の面精度誤
差（内接円形：２４ｍｍ、軸面間距離：１２ｍｍ）及び
軸面間距離誤差に対する特定の画角での設計値に対する
ジッタ値ｐｐｍ（parts per million）である。光ビー
ムとしては前述の発散光を使用し、ＳＯＳ信号を取るこ
とにより反射面の分割誤差を補正している。

【００５２】

【表１３】

【００５３】なお、第１３表中のジッタ値は前記第７表
で説明したのと同様の方法で算出した。例えば、四つの
反射面からなるポリゴンミラーにおいて、第１面ないし
第４面の面精度誤差及び軸面間距離誤差が以下の第１４
表に示す数値を持つ場合、以下の第１５表に示すよう
に、第１面、第２面、第４面の軸面間距離をそれぞれ＋
０．０５ｍｍと０．０２ｍｍと−０．０５ｍｍに補正す
る。この補正によって、６６ｐｐｍのジッタ値が１１ｐ
ｐｍまで減少した。なお、ここでのジッタとは前記第８
表、第９表と同様に、面別ジッタの最大値から最小値を
差し引いた値をいう。

【００５４】

【表１４】

【００５５】

【表１５】

【００５６】なお、本発明に係る光ビーム走査光学装置
は前記実施例に限定するものではなく、その要旨の範囲
で種々に変更することができる。特に、ｆθ光学系の構
成は任意であり、トーリックレンズ、球面ミラー以外の
光学素子によって構成することも可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光ビーム走査光学装置の一実施例
を示す斜視図。

【図２】ポリゴンミラーの反射面における面精度誤差と
軸面間距離の説明図。

【図３】ポリゴンミラーの反射面の補正態様の説明図。

【図４】ポリゴンミラーの反射面形状の差異に基づくｆ
θ光学系での像高位置を示すチャート図。

【図５】ポリゴンミラーの軸面間距離の変化に基づくｆ
θ光学系での像高位置を示すチャート図。

【符号の説明】

１…半導体レーザ１０…ポリゴンミラー１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ…反射面１５…トーリックレンズ２０…球面ミラー３０…感光体ドラム

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源から放射された光ビームをポリゴン
ミラーで偏向し、ｆθ光学系を介して受光面を走査する
光ビーム走査光学装置において、前記ｆθ光学系に入射する光ビームと、ポリゴンミラー
の各反射面形状と各反射面の軸面間距離との関係が、平
面反射面の軸面間距離Ａに対して、以下の条件を満足す
る、（ａ）光ビームが収束光のとき、反射面形状が凹形状で
あれば、その軸面間距離は前記距離Ａより僅かに大き
い、（ｂ）光ビームが収束光のとき、反射面形状が凸形状で
あれば、その軸面間距離は前記距離Ａより僅かに小さ
い。（ｃ）光ビームが発散光のとき、反射面形状が凹形状で
あれば、その軸面間距離は前記距離Ａより僅かに小さ
い、（ｄ）光ビームが発散光のとき、反射面形状が凸形状で
あれば、その軸面間距離は前記距離Ａより僅かに大き
い、ことを特徴とする光ビーム走査光学装置。