JPH06294626A - プリント配線基板の検査装置 - Google Patents

プリント配線基板の検査装置

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JPH06294626A
JPH06294626A JP5107507A JP10750793A JPH06294626A JP H06294626 A JPH06294626 A JP H06294626A JP 5107507 A JP5107507 A JP 5107507A JP 10750793 A JP10750793 A JP 10750793A JP H06294626 A JPH06294626 A JP H06294626A
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Masahiro Okada
雅弘 岡田
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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 スルーホールを正確に検出して真の穴マスク
画像を作成することができ,コストの安い,プリント配
線基板の検査装置を提供すること。 【構成】 プリント配線基板10上の配線パターンを読
み取った撮像装置からのパターン画像と後記の穴マスク
画像とに基づいて真の欠陥データであるか否かを選別す
る検査部31と,穴認識マスク処理部4と,データ集計
手段33とよりなる。上記穴認識マスク処理部4は,穴
計測認識部41からの穴計測信号と穴認識有効信号とか
ら穴判定を行なって穴検知信号を出力する穴判定部44
と,穴マスク画像を作製する穴マスク生成部45と,穴
位置情報を記録する穴情報メモリ部42と,該穴情報メ
モリ部の穴位置情報を入力して穴認識有効信号を送信す
る穴認識領域生成部43を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は,スルーホールのランド
形状により発生する検査誤報を,スルーホール近傍のパ
ターン欠陥を見逃すことなく,マスキングすることがで
きるプリント配線基板の検査装置に関する。
【0002】
【従来技術】プリント配線基板には,スルーホールのラ
ンドを含めて多数の配線パターンが形成されている。こ
の配線パターンは,その製造過程において,断線,ショ
ート,欠け,ゴミ付着等による欠陥形状を生ずることが
ある。そのため,かかる欠陥形状を検出するための種々
の検査装置が提案されている。
【0003】この検査装置は,プリント配線基板上の配
線パターンを読み取るCCDカメラ等の撮像装置と,該
撮像装置のアナログ信号をディジタル信号に変換するA
/D変換器と,該ディジタル信号から欠陥形状を検出す
る検査部とを有する。この検査部としては,特徴抽出法
を検査アルゴリズムに用いたものがある。ところで,上
記欠陥形状は配線パターンにおけるリード線部分のみで
なく,スルーホール周りのランドにおいても生ずること
がある。
【0004】図20は,スルーホール91の周囲に設け
られたランド92と,該ランド92に接続されているリ
ード線93の状態を示している。そして図20(A)
は,ランド92が正常状態でスルーホール91の周囲に
設けられている状態を示している。図20(B),
(C)に示すランド92は,スルーホール91の中心か
ら外れて形成されている。
【0005】そして,図20(B),(C)の場合に
は,通常は,欠陥形状ありと判断される。しかし,図2
0(B)の場合には,ランド92における座残り921
が多いため,ランドとしての機能は充分果たす。それ
故,欠陥形状としては判定する必要がない。一方,図2
0(C)の場合には,スルーホール91の周囲にランド
92が半分位しかない。そのため,欠陥形状と判定しな
ければならない。
【0006】一方,上記のごとく,ランド92がスルー
ホール91の周囲に正常〔図20(A)〕に形成されな
い理由としては,メッキにより配線パターンを形成する
場合に,両者の位置合せが困難なことによる。即ち,固
片化する前のプリント配線基板は通常40cm×50c
m程度の大きさを有している。
【0007】一方,配線パターンは0.05〜0.5m
mの間隔で形成され,またスルーホールの間隔も0.4
〜10.0mmである。更にスルーホールの直径も0.
1〜5.0mmである。そのため,上記メッキ時におけ
る位置決めが,正規の位置より若干でも外れると上記の
ごときランドの欠陥形状を生ずる。
【0008】そこで,従来は,上記検査装置における検
査時に,欠陥形状として判定する必要のないランド〔図
20(B)〕には穴マスク画像をマスクして,これを欠
陥形状として検出しない方法が考えられている。その方
法としては,例えば「穴位置方法」,「穴認識方法」,
「透過光方法」がある。以下これら従来技術につき,そ
の内容と問題点を説明する。
【0009】上記の穴位置方法は,穿孔用のNCデー
タ,或いは穴基板を基準として予め各スルーホールの中
心座標を測定しておき,検査対象となる製品基板におけ
る各スルーホールが上記中心座標位置にあるものとして
穴マスク画像を適用するものである。この方法におい
て,NCデータや穴基板の穴中心座標と,製品基板の穴
中心座標が正確に一致しているという状態が実現できれ
ば,該穴マスク画像をスルーホールと同じ大きさにで
き,この穴マスク画像によってスルーホールをマスクす
るため,製品基板における検査に問題は生じない。
【0010】なお,上記穴基板は,銅箔基板に穴のみを
あけたものである。また,該穴基板はエッチング前の基
板を用いることもできる。そして,上記スルーホールの
中心座標は,穴基板画像の撮像認識処理や,スルーホー
ル穿孔用のNCデータから得られる。
【0011】しかしながら,上記穴位置方法には次の問
題がある。即ち,上記中心座標は,標準とした穴基板
と,実際の検査対象の製品基板との間において,100
μm位のズレを生じていることが多い。また,製品の伸
縮を加味すると,さらに大きな量のズレを生じることも
珍しくない。つまり,図21(A)に示すごとく,製品
基板の配線パターン9において,そのスルーホール91
の位置は,穴基板のスルーホール95の位置に比べて,
ランダムな方向に位置ズレを生じている。
【0012】そのため,図21(B)に示すごとく,製
品基板のパターン画像のスルーホール91に対して,穴
基板を基準に作製した穴マスク画像96を適用した場
合,両者間にはズレを生ずる。それ故,検査部における
検査時には、図21(B)に示すごとく,ランド92の
座残り911が検出される。そしてこの座残り921は
通常の配線パターンの幅よりも小さくなっているため,
欠陥形状であると判定される。しかし,前記のごとく,
実際はこの程度の座残り921があれば,充分にランド
としての機能を果たす。
【0013】そこで,上記座残り921を欠陥形状とし
て判定しないために,図21(C)に示すごとく,穴マ
スク画像を拡大した拡大穴マスク画像960を適用する
ことが考えられる。しかし,この場合には,上記問題は
解決するものの,真の欠陥形状であるショート933も
マスクされてしまうことになる。その結果,真の欠陥形
状が検出されなくなってしまう。
【0014】次に、上記穴認識方法は、現に検査対象と
なっている製品基板そのものについて,直接に穴認識を
行い,そのスルーホールについて穴マスク画像を適用す
る方法である。この場合には,当該のスルーホールの穴
径並みの穴マスク画像を施せば良いので,誤報がない。
また,スルーホール周りの欠陥形状見逃しのない良好な
マスク処理が可能である。
【0015】しかしながら,この方法では,スルーホー
ル以外の部分においても,スルーホールであると穴認識
してしまうことがある。即ち,この穴認識方法は,パタ
ーン画像の状態連続性を計測する方法を用いて,製品基
板中のスルーホールの中心位置からその周囲に形成され
たランドまでの距離を測定することにより穴中心位置を
定めている。さらに詳述すると,あらかじめ製品基板上
に存在するスルーホールの穴径と,それに対する許容値
を設定しておき,設定条件に適合する穴形状がないかを
本手法で計測するのである。
【0016】ただし,この手法で単なる丸形状の検索を
行うと,図22(A)に示すごとく,ランド92が若干
座切れを生じていた場合,完全な丸形でない為,スルー
ホール91を,穴と認識できない。しかし,特に直径
0.3〜0.4mmという小径のミニバイヤホールにお
いては,この程度の座切れが良品として許容されるた
め,穴として認識してマスク処理を施し,誤報出力させ
ない必要がある。
【0017】そこでさらに計測条件を付加し,“穴中心
からみて「穴半径±許容値」を満たしていない範囲角度
が規定以内であれば穴である”と判定させる様にすれ
ば,上記スルーホール91は穴認識できる。この方法に
よるときは,図22(B)に示すごとく,2つのスルー
ホール91に対して穴マスク画像96を正しく施すこと
ができる。
【0018】しかし,この方法は,上記のごとくランド
92,つまり配線パターンの一部分を利用して穴径計測
を行ないスルーホールと認識する方法である。そのた
め,図22(B)に示すごとく,屈曲したリード線93
1,932とランド92との間など,ある程度囲まれた
囲み部分94においては,これらが全てランドとして検
出され,この囲み部分94がスルーホールと認識されて
しまう。そして,この囲み部分94に穴マスク画像が施
されてしまう。そのため,検査の信頼性が低下する。
【0019】次に透過光方法は,透過光を利用して穴撮
像をパターン画像の撮像と共に同期して行ない,得られ
た穴像を基に穴マスク処理を行なう方法である。この方
法は,穴像が正確に撮像でき,最小マスク処理が可能と
なる。また,穴像そのものが直接に穴マスク画像として
利用できる。しかし,この方法においては,穴像の専用
撮像系,光学系の規模が大きくなる。
【0020】また,穴像とパターン像とを一致させる必
要があり,穴像撮像系とパターン撮像系の間の座標精度
に高度のものが要求される。また,透過光を用いるた
め,プリント配線基板を載置する光透過テーブルにゴ
ミ、汚れがないように清浄管理する必要がある。それ
故,この方法はコスト高となる。
【0021】
【解決しようとする問題】上記のごとく,穴位置方法
は,スルーホールの位置は大体検知できるが,検査すべ
き製品基板における真のスルーホール位置が性格に検出
できない。また,穴認識方法は,製品基板におけるスル
ーホールの位置は正確であるが,座切れスルーホールま
で認識しようとすると,パターン領域の前記囲み部分が
スルーホールと認識されて余計な穴マスクが生成される
為,検査信頼性が低下する。
【0022】また.光透過方法は,穴像を直接穴マスク
画像として利用できるが,コスト高であり,また高精
度,清浄管理が要求される。本発明はかかる従来の問題
点に鑑み,スルーホールを正確に検出して真の穴マスク
画像を作製することができると共に,コストも安い,プ
リント配線基板の検査装置を提供しようとするものであ
る。
【0023】
【課題の解決手段】本発明は,検査すべき製品基板であ
るプリント配線基板上の配線パターンを読み取る撮像装
置と,該撮像装置からのパターン画像と後記の穴マスク
画像とに基づいて真の欠陥データであるか否かを選別す
る検査部と,上記撮像装置と検査部との間に設けられた
穴認識マスク処理部と,上記欠陥データを集計するデー
タ集計手段とよりなり,上記穴認識マスク処理部は,上
記パターン画像に基づいて基材レベルの画像の連続性を
計測すると共に穴であることを認識するための穴計測認
識部と,該穴計測認識部からの穴計測信号と後記の穴認
識領域生成部からの穴認識有効信号とを入力すると共に
両信号を比較照合して最終的な穴判定を行なって穴検知
信号を出力する穴判定部と,該穴判定部からの穴検知信
号を入力して,上記パターン画像における穴部分にマス
クを施すための穴マスク画像を作製すると共に該穴マス
ク画像を上記検査部へ送信する穴マスク生成部と,プリ
ント配線基板における穴の位置を示す穴位置情報を記録
する穴情報メモリ部と,該穴情報メモリ部の穴位置情報
を入力してこれを必要補正量分拡大すると共に,上記穴
計測信号から真の穴検知情報を選択するための穴認識有
効信号を上記穴判定部へ送信する穴認識領域生成部とを
有することを特徴とするプリント配線基板の検査装置に
ある。
【0024】本発明において最も注目すべき点は,上記
穴認識マスク処理部に穴計測認識部と穴情報メモリ部及
び穴認識領域生成部を設け,穴計測認識部からの穴計測
記号と穴認識領域生成部からの穴認識有効信号とを穴判
定部に入力して穴検知信号を作り,該穴検知信号に基づ
き穴マスク生成部において穴マスク画像を作製するよう
構成したことである。
【0025】上記穴計測認識部には,撮像装置によって
撮像された,製品基板の配線パターンが,2値化された
パターン画像として入力される。穴計測認識部において
は,このパターン画像に基づいて,基材レベルの画像の
連続性を計測し,スルーホールの穴認識を行なう。上記
「基材レベルの画像の連続性」とは,プリント配線基板
における絶縁基材を反射光方式で撮像した時の,この部
分の2値画像の信号レベルを「基材レベル」(例えば0
とする)と定義した場合,この基材レベルの画素が任意
方向に連続している様をいう。スルーホールの穴部分の
2値画像信号レベルは「基材レベル」であるため,この
「基材レベルの画像の連続性」を計測してその連続画素
数を知ることは,スルーホール穴径を計測することと同
意となる。
【0026】穴認識の計測方法としては,例えば実施例
に示す,放射状測定法がある。また,主走査軸から垂直
に上下2方向に画像計測し,この計測を走査方向に連続
して行った結果を積分処理して穴判定をする方式などの
方法がある。また,穴計測においては,ランドに座切れ
があっても,実用上ランドとして使用可能な程度のもの
であれば,スルーホールと認識する様に条件設定が成さ
れている。そして,上記穴認識情報を穴計測信号として
穴判定部に出力する。
【0027】一方,穴情報メモリ部においては,プリン
ト配線基板における穴位置を示す穴位置情報を入力し
て,各スルーホールの中心位置の情報を記録しておく。
上記穴位置情報は,予め前記穴基板やスルーホール穿孔
用のNCデータなどにより,スルーホールの中心座標を
割り出したデータを用いる。
【0028】この穴位置情報は,どの径のスルーホール
が製品基板のどの辺りにあるかという情報であり,後述
する穴認識領域生成部で処理され,穴判定部へ送られ
て,穴計測認識部からの上記穴計測信号と照合されて,
正確なスルーホール判定に供される。穴認識領域生成部
においては,上記穴情報メモリ部の穴位置情報を入力し
てこれを必要補正量に従って拡大処理をする。そして,
穴判定部において穴計測信号の情報から真の穴検知情報
のみを選択するための穴認識有効信号を作成する。
【0029】また,上記検査部においては,上記穴認識
マスク処理部から送られる穴マスク画像と,製品基板の
パターン画像を入力して,パターン画像に穴マスク画像
をマスクし,前記従来例に示したごとく,配線パターン
における断線,ショート,欠け等の欠陥形状を検出す
る。上記パターン画像は2値画像である。このパターン
画像は,穴認識マスク処理部における信号処理の遅延に
基づく穴マスク画像の遅延入力と同期させるため,上記
穴計測認識部において遅延処理しておくことが好まし
い。
【0030】
【作用及び効果】本発明の検査装置においては,製品基
板の配線パターンが撮像装置により穴計測認識部に送信
される。穴計測認識部においては上記のごとく穴計測を
行なってスルーホールを認識し,その穴計測信号は穴判
定部へ入力される。
【0031】一方,穴情報メモリ部においては,予めス
ルーホールの大略の位置を示す穴位置情報が記録されて
いる。そこで,この穴位置情報を穴認識領域生成部へ送
る。穴認識領域生成部においては,これを上記のように
処理し,穴認識有効信号として穴判定部へ送信する。
【0032】穴判定部においては,上記穴認識有効信号
と,上記穴計測認識部からの穴計測信号とを照合し,該
穴計測信号で示された穴が真のスルーホールであるか否
か判定する。つまり,前記従来例に示したごとく,配線
パターンの囲み部分〔図22(B)〕などの誤報でない
か判定する。これにより,真のスルーホールのみが検知
される。
【0033】そこで,この真のスルーホールのみが穴検
知記号として穴マスク生成部へ送られる。そして,この
穴マスク生成部において,スルーホールにマスクするた
めの穴マスク画像が作られ,該穴マスク画像は検査部ヘ
送信される。次に、上記検査部において,上記穴マスク
画像が配線パターンのスルーホールに対してマスクさ
れ,配線パターンの欠陥形状が検査され,その結果は表
示端末等のデータ集計手段に送られる。
【0034】本発明においては,上記穴計測認識部にお
いて製品基板の穴を計測認識すると共に,予め記録して
おいた穴位置情報に基づく穴認識有効信号とを穴判定部
で照合して真のスルーホールを検知している。そのた
め,真のスルーホールのみをピックアップでき,従来の
ごとくスルーホールの誤報を生ずることがない。
【0035】それ故,真の穴マスク画像を作成すること
ができる。また,そのため,必要部分のみに最小の穴マ
スク画像を施すことができる。また,従来の光透過方法
に比してコストも安い。したがって,本発明によれば,
スルーホールを正確に検出して真の穴マスク画像を作成
でき,コストも安いプリント配線基板の検査装置を提供
することができる。
【0036】
【実施例】
実施例1 本発明の実施例にかかる,プリント配線基板の検査装置
につき,図1〜図3により説明する。該検査装置は,検
査すべき製品基板であるプリント配線基板10における
配線パターン11を読み取る撮像装置21と,該撮像装
置21からのパターン画像と後述する穴マスク画像とに
基づいて真の欠陥データであるか否かを選別する検査部
31と、上記撮像装置21と検査部31との間に設けら
れた穴認識マスク処理部4と,上記欠陥データを集計す
るデータ集計手段としての表示端末33とよりなる。
【0037】上記穴認識マスク処理部4は,穴計測認識
部41と穴判定部44と穴マスク生成部45とを有する
と共に,穴情報メモリ部42と穴認識領域生成部43と
を有する。上記撮像装置21と穴計測認識部41との間
には,撮像されたアナログ像をディジタル信号に変える
A/D変換部22と,この信号を2値画像信号のパター
ン画像に変える2値化部221とを有する。
【0038】また,穴認識マスク処理部4には,穴計測
認識部41等の各ブロックへ駆動クロックを送るタイミ
ング発生部46とを有する。また,図1に示すごとく,
検査部31と表示端末33との間にはマスタCPU3
2,該マスタCPU32と上記穴計測認識部41等の各
ブロックの間には,穴処理CPU部49が設けてある。
【0039】穴計測認識部41等の各ブロックの機能に
ついては,後に具体例と共に説明するが,ここで本例の
検査装置の作用効果の概要を示す。まず,撮像装置21
で撮像された配線パターン11は,A/D変換器22,
2値化部221を経て,2値画像信号として穴計測認識
部41に入る。穴計測認識部41においては,配線パタ
ーン11におけるスルーホールが計測認識され,その穴
計測信号が穴判定部44に送られる。一方,穴情報メモ
リ部42には,穴基板(図示略)から得た穴位置情報が
予め記録されている。
【0040】この穴位置情報は,上記穴認識領域生成部
において拡大されて穴認識有効信号となり,穴判定部4
4に対して上記穴計測信号と同期して入力される。そし
て,両者が照合されて,真のスルーホールのみについて
の穴検知信号が穴マスク生成部45に送られる。ここ
で,穴マスク画像が作成され該穴マスク画像は検査部に
送られる。
【0041】また,上記穴計測認識部41において遅延
処理されたパターン画像が上記穴マスク画像と同期して
検査部31に入力される。そして,検査部31におい
て,従来と同様に,パターン画像のスルーホールに対し
て穴マスク画像がマスクされ,パターン画像における欠
陥形状が選別される。欠陥形状に関する欠陥データは,
マスタCPU32を経て表示端末33に表示される。
【0042】次に,各ブロックについて,具体的に説明
する。まず,穴計測認識部41においては,上記パター
ン画像の入力画像をもとに,スルーホールの計測を行な
う。この計測法として図2に示すごとく,放射状測定法
を用いる。この方法は,一応スルーホール91であると
検出された部分について,スルーホール91の内部にお
いて測定中心点Yを中心に8方向に放射状に計測する。
【0043】そして,指定半径(例えば,0.2mm)
±許容値(例えば50μm)の中に,ランド92がある
か否かを各計測方向について判定し,出力する。この出
力線は8本となり,各出力線上には,図3に示すごと
く,OK(ランドあり)又はNG(ランドなし)が出力
される。上記NGは,図2に示すごとくランドに座切れ
があり,ランドなしと判定されている。
【0044】即ち,測定中心点からの出力線a〜hの8
本の中,a〜eはランドがあり,かつ中心点からランド
までの距離が指定条件を満たすためOKとされ,残りは
ランドがないためNGとされる。また,図3に示すごと
く,上記出力は穴計測信号として穴判定部へ送られる。
また,穴計測認識部41に入力されたパターン画像は,
遅延処理されて,遅延パターン画像として検査部31へ
送信される。
【0045】上記の計測は,図4,図5に示すごとく,
入力画像信号より任意の画素抽出を行ない,次に図7,
図8に示すごとくエンコーダによって抽出画素のパター
ンのコード化を行ない,加えて図6,図7に示すごと
く,ルックアップテーブルを用いて,パターン・コード
をもとに各方向のオペレーション単位にOK,NG判定
をくだすという一連の流れの中で行われる。
【0046】さて,図4は,画素抽出を行うための回路
部分を示しており,ラインメモリとシフトレジスタを組
み合わせて構成されている。また,図5は,上記8方向
の計測における抽出画素の位置関係を,図4の表示と対
応させて示している。
【0047】基本的に主走査方向の遅延をシフトレジス
タで,一方副走査方向の遅延をラインメモリで構成して
いるが、多段の主走査方向の遅延は,回路規模を小さく
する為にラインメモリを使用している。例えば,図4に
おいて,ラインメモリの中,a5〜a0及びe0〜e6
は,主走査1ライン単位の遅延であり,また先頭のa6
のみ1ライン内遅延になっている。この画素抽出過程に
より,大きな処理遅延が生じるが,これを補正する意味
で,副走査方向のラインメモリ部末端より,遅延が生じ
た2値画像信号をとり出し,検査系へ出力している。
【0048】この2値画像信号は,最終的に穴マスク画
像と位置を適合させなければならない為,この画像抽出
部分以降生じる穴処理の遅延も計算し,副走査単位で最
終の穴マスク画像と適合する様な遅延量にしている。計
測に必要な段数以上にラインメモリを使用している理由
がこれである。この様にして,計測に必要な縦横斜めの
抽出画素を得る。以降この画素の状態を計数してスルホ
ールの認識を行なっていく。
【0049】また,図6は,抽出画素の計測,認識部分
の回路概要を示している。この回路は,ルックアップテ
ーブルをSRAMで構成した例である。図7は,上記の
穴計測の信号処理を示している。入力された抽出画素
(a0〜a6)はエンコーダでコード化されて,穴の半
径長さ判定用のルックアップテーブルに入り,穴計測信
号として,前記のごとく,OK又はNGとして出力され
る。
【0050】上記エンコーダにおいては,図8に示すご
とく,入力画素パターンから,a0から始まるLレベル
部分の連続長さをコード化する。図8において,「1」
は,抽出画素a0〜a6の中における,パターン部分の
存在を示している。出力コードは,a0からa6方向へ
Lレベル部分の連続長さを計数していった時に,最初に
Hレベル(即ち「1」)に突き当たった時点での計数値
を意味している。
【0051】即ち,上記においては,一方向に並んだ抽
出画素を1つのエンコーダに入力する。ここでは,計測
オペレータの中心に最も近い画素をLSB(最下位ビッ
ト)に見たて,LSBからの連続したゼロ値(即ち,
“L”レベル画素)の数をバイナリ・コードに変換して
出力している。
【0052】次に,このコード値を,半径長判定用ルッ
クアップテーブルが取り込む。ここにおいて指定半径長
さ許容値に適合するコードが入力された時のみ,1bi
tの出力線がOKを意味する信号レベルになる。これを
穴計測信号と呼ぶことにする。このルックアップテーブ
ルの判定内容は製品基板によって変わる為,SRAMで
構成し,「穴処理CPU」によって自在に設定する方法
が良い。
【0053】また,エンコードする画素数が少なくてよ
いのであれば,エンコーダも含めてルックアップテーブ
ルと一体化したSRAMロジックで組んでもよい。上記
の様な計測認識ブロックが8方向分あれば,前記図3に
示した穴計測認識部ができ上がる。次に,穴情報メモリ
部42につき示す。穴情報メモリ部においては,穴基板
を撮像した際の穴検知結果,又はスルーホール穿孔時の
NC(数値制御)データから割り出した穴位置情報を保
存する。
【0054】検査時においては,穴中心情報の名目でデ
ータを出力する。この穴情報メモリ部は,図9に示すご
とく,完全ビットマップ式の情報メモリとして構成する
ことができる。しかし,これでは穴情報メモリ部の容量
が不足する場合には,穴中心座標を主体に保存し,CP
Uか専用DMACによりビットマップ式小容量バッファ
に変換転送する構成とすることもできる。
【0055】次に穴認識領域生成部43について示す。
穴認識領域生成部43においては,図10に示すごと
く,穴情報メモリ部42からの穴中心情報を元に,この
情報信号を2次元的に任意に拡大して,穴認識有効信号
として出力するための空間フィルターを用いる。
【0056】即ち,図10に示すごとく,例えば情報分
解能を100μmとして,穴位置情報431を画素に見
たて,これを穴中心信号を中心として更に200μm拡
大させる。そして,これを穴認識有効信号432とな
し,これをシリアルに穴判定部へ出力する。穴位置情報
の拡大率は,NCデータや穴基板の穴位置と,製品基板
の穴位置とのズレ量に応じた値に設定することになる。
【0057】次に,穴判定部44について示す。ここで
は,図11に示すごとく,穴計測認識部41の出力(本
例では8ビット分)である穴計測信号と,穴認識領域生
成部の出力(1ビット分)である穴認識有効信号を入力
とし,両信号が合致したとき,穴計測信号が真のスルー
ホールを示していると判定して,穴検知信号を出力す
る。
【0058】即ち,穴処理CPU部49(図1)のI/
Oポート3bitを本ブロックに接続し,8方向の穴計
測信号がどの条件の時に穴判定を下すかの選択信号とし
てみる(1本〜8本を,3bitコード:0〜7にみた
てる)。この時,連続OK本数を5本(3bitコード
の場合,4と表すことにする)と設定すると前記図2に
示した座切れスルホールの場合,a〜eの5本が連続し
てOKとなっているからこの条件に適合していることに
なる。
【0059】加えて,穴認識有効信号が有効,即ち論理
レベルが1になっていれば穴であることの判定が成さ
れ,穴検知信号が“検知”側の論理レベルで出力される
(穴検知信号)。この様にしてスルホールが認識され
る。注目すべきこととしては,連続OK本数を増やすに
従って座切れスルホールの認識能力が低下し,逆にすれ
ば認識能力が向上することがある。
【0060】本例では,穴認識有効信号により穴近傍で
のみ穴認識が働く為,この条件をゆるめて座切れスルホ
ール検知力を向上させても,余分な誤認識を発生させる
危険が非常に少ない。従って例えば,図12(A)に示
すごとく,ミニバイヤホール910において,その座切
れ923の開口角が180度未満の場合は良品とするな
らば,連続OK本数を5本にすればよく,しかもこの場
合,誤認識も発生しない。
【0061】一方図12(B)は,単なる開口状パター
ン934を示しており,このような場合はスルーホール
と判定されない例を示している。即ちこの場合には,連
続OK本数は5本で,図12Aのミニバイヤホール91
0と同じである。しかし,この時穴判定部に入力される
穴認識有効信号は無効になっているはずである。即ち,
NCデータ及び穴基板からの情報には,開口状パターン
934近傍にミニバイヤホールの存在を示す情報が無い
のである。そのため,スルーホールとして計測認識され
ることはない。
【0062】次に,穴マスク生成部45につき説明す
る。ここでは,上記穴検知信号を基に穴マスク画像を生
成する。本例においては,回路規模は大きいが,原理が
単純な拡大空間フィルタを用いる方法につき,図13を
用いて説明する。
【0063】回路構成としては,前記穴認識領域生成部
43と同じで,ラインメモリにて副走査方向の拡大枠を
作り,シフトレジスタで主走査方向の拡大枠を形成す
る。シフトレジスタ出力を抽出画素として,拡大処理を
行なう。拡大処理自体はSRAMロジックにて行なう。
【0064】また,穴検知信号を穴径分だけ拡大させる
ことで,穴マスク画像を作成している。また,最終的な
穴マスク画像と,図1〜図3に示すごとく穴計測認識部
41を通して遅延させたパターン画像とは,検査部31
に同期入力させて適合する必要がある。そのため,本例
では,穴検知信号の段階で「1ライン+α」分だけ遅延
させ,パターン画像と主走査方向で位置合せしている。
副走査方向の位置合せは,既に上記したように,穴計測
認識部41において2値画像(パターン画像)側で行な
われている。
【0065】次に,穴処理CPU部49(図1)は,穴
認識マスク処理部4における各ブロックの内部条件の設
定と,マスタCPUとの通信,データ転送を行なう為の
CPUである。次に,タイミング発生部46は,穴認識
マスク処理部4における動作タイミングを生成するもの
である。即ち,画素クロック(撮像装置の駆動周波数と
同じ),撮像装置の走査イネーブル信号,穴処理CPU
部49からのモード設定の3要素をもとにタイミングを
生成している。
【0066】次に,検査部31は,2値画像信号(パタ
ーン画像)と穴マスク画像をとり込み,穴マスク領域以
外の部分の検査処理を行なう。検査結果は,欠陥検出信
号としてマスタCPU32へ転送する。次に,マスタC
PU32は装置全体を統括するCPUであり,表示端末
33は表示及び操作用の端末である。これらは,各ブロ
ックへの動作モードの指令,欠陥情報の集計等を行う。
【0067】以上は,説明上,1種類の穴処理しか行っ
ていないが,径が異なる複数穴を認識マスク処理する必
要性が現実にはある。その為には,次に示すごとく,各
ブロックを構成する。即ち,穴計測認識部41は,抽出
画素をエンコードするまでは一系統でよいが,その結果
から穴計測信号を導き出す,半径長判定用ルックアップ
テーブルを複数設ける。そして,異なる穴径に対応した
判定を並列に行う。
【0068】次に,穴情報メモリ部は,処理すべきスル
ホール径に応じてビット単位別にメモリーに保存する。
メモリの容量によって,同時処理できる穴径の数が決ま
る。次に,穴認識領域生成部は同時処理する穴種分の処
理回路が必要である。これにより穴径別の穴認識有効信
号が得られる。
【0069】次に,穴判定部は,穴認識領域生成部と同
様に,穴種類分が必要である。穴径によって連続OK本
数を使い分けられるメリットもある。次に,穴マスク生
成部は,拡大空間フィルター方式では穴種類分の処理回
路が必要となる。
【0070】次に,図14(A),(B)には,穴情報
メモリ部における穴位置情報,スルーホール,穴マスク
画像の関係を示した。図14(A)に示すごとく,穴計
測認識部において得られた穴計測信号のスルーホール9
1に対して,穴位置情報の穴中心座標Yの±100μm
の領域を穴認識有効信号のエリア425とする。そし
て,このエリアがスルーホール中心に重なっていれば,
図14(B)に示すごとく,そのスルーホールに対する
穴マスク画像を作成する。
【0071】次に,穴情報メモリ部における穴位置情報
の登録工程について,図15に示す。同図は,穴基板を
基に穴位置情報を登録する場合について示している。同
図において,ステップS101〜S103は,マスタC
PUからの指示で穴処理CPU部が実行する。
【0072】このうち,S103のステップ(「穴判定
部」の設定)は,本作業の中で重要なポイントである。
即ち,穴基板上にはスルーホールと同じドリル穴が存在
するのみであるから,連続OK本数は真円の8本が望ま
しく,また穴情報登録過程であるから穴認識有効信号と
は関係なく穴計測信号の情報だけから穴判定すべきであ
り,S103のステップでは以上の設定を行っている。
S104〜S107はハードウェア処理である。S10
8,109はマスタCPUに対する穴処理CPUの処理
である。
【0073】次に,図16,図17は,穴位置情報から
穴マスク画像の作成及び検査部における,穴認識マスタ
処理を示している。両図において,S201〜S205
は,マスタCPUからの指示に基づき穴処理CPUが実
行される。また,S206〜S216はハードウェア処
理である。上記のごとく,本例によればスルーホールを
正確に検出して真の穴マスク画像を作成することができ
ると共に従来の検査機に穴認識マスク処理部を付加する
のみで実現できる為,コストも安い。
【0074】実施例2 本例においては,スルーホールと共にノンスルーホール
を測定する場合の例を示す。即ち,プリント配線基板に
は,導電用のスルーホールの他に,ノンスルーホールが
ある。
【0075】ノンスルーホールとは,ドリル穴だけのも
のであり,その存在目的としては,部品のネジどめ穴,
シートを後工程でピース単位に分割する為のミシン目な
どである。この様なことからノンスルーホール周辺に
は,検査すべき配線パターンが存在しない。また,ドリ
ル穴だけであるから,反射光方式では撮像が基本的に不
可能であり,プリント配線基板の欠陥形状検査において
は特に問題はないといえる。
【0076】しかし,ノンスルーホール80のエッジが
図18(A)に符号84で示すごとく,周囲より白くな
っている場合には,図18(B)に符号85で示すごと
く,エッジ部分だけが2値画像上に現れてしまう事が時
々発生する。このエッジ情報は,残銅や線欠け等に誤判
定してしまうことがある。そのため,この部分のマスキ
ングが必要なことがある。
【0077】そこで本実施例においては,図19に示す
ごとく,本発明にかかる穴認識マスク処理部4(図1)
と並行して,ノンスルーホールの穴についてのみのマス
ク処理部48を設けたものである。ノンスルーホール用
マスク処理部48は,前記従来例に示した,穴位置方法
により,穴マスク(穴マスク画像)を作成する。
【0078】ノンスルーホールは,スルーホールのごと
くランドによる反射光がないため,上記穴位置方法が採
用できる。穴位置方法の問題点として,穴マスク画像を
ドリル穴径よりも大きくする必要があるが,ノンスルー
ホールの場合,近傍に検査すべきパターンが無い為,問
題にはならない。
【0079】そして,スルーホール用穴マスク画像とノ
ンスルーホール用穴マスク画像とは,穴マスク合成部4
80において合成し,その穴マスクを検査部31へ送
り,実施例1と同様に配線パターンの欠陥形状検査に供
する。本例によれば,スルーホールとノンスルーホール
の両者について,正確な穴マスク画像を適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1における,プリント配線基板の検査装
置のプロック回路図。
【図2】実施例1における,穴計測認識部の計測の説明
図。
【図3】実施例1における,穴計測認識部の信号処理説
明図。
【図4】実施例1における,穴計測認識部の画素抽出部
分の回路概要図。
【図5】実施例1における,穴計測認識部の抽出画素の
位置関係を示す説明図。
【図6】実施例1における,穴計測認識部の抽出画素の
計測認識部分の回路概要図。
【図7】実施例1における,穴計測認識部の抽出画素の
エンコーダ処理の説明図。
【図8】実施例1における,穴計測認識部のエンコーダ
処理のコード説明図。
【図9】実施例1における,穴情報メモリ部の説明図。
【図10】実施例1における,穴認識領域生成部の説明
図。
【図11】実施例1における,穴判定部の説明図。
【図12】実施例1における,穴判定部における,穴判
定の説明図。
【図13】実施例1における,穴マスク生成部の説明
図。
【図14】実施例1における,スルーホールと穴認識有
効信号と穴マスク画像の関係を示す説明図。
【図15】実施例1における,穴位置情報の登録を示す
フローチャート。
【図16】実施例1における,穴認識マスク処理のフロ
ーチャート。
【図17】図16に続くフローチャート。
【図18】実施例2におけるノンスルーホールの説明
図。
【図19】実施例2におけるブロック線図。
【図20】従来例における,スルーホールとランドの説
明図。
【図21】従来例における穴位置方法の説明図。
【図22】従来の穴認識方法の説明図。
【符号の説明】
10・・・プリント配線基板, 21・・・撮像装置, 4・・・穴認識マスク処理部, 41・・・穴計測認識部, 42・・・穴情報メモリ部, 91・・・スルーホール, 92・・・ランド, 921・・・座残り, 923・・・座切れ, 93・・・リード線,

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 検査すべき製品基板であるプリント配線
    基板上の配線パターンを読み取る撮像装置と,該撮像装
    置からのパターン画像と後記の穴マスク画像とに基づい
    て真の欠陥データであるか否かを選別する検査部と,上
    記撮像装置と検査部との間に設けられた穴認識マスク処
    理部と,上記欠陥データを集計するデータ集計手段とよ
    りなり,上記穴認識マスク処理部は,上記パターン画像
    に基づいて基材レベルの画像の連続性を計測すると共に
    穴であることを認識するための穴計測認識部と,該穴計
    測認識部からの穴計測信号と後記の穴認識領域生成部か
    らの穴認識有効信号とを入力すると共に両信号を比較照
    合して最終的な穴判定を行なって穴検知信号を出力する
    穴判定部と,該穴判定部からの穴検知信号を入力して,
    上記パターン画像における穴部分にマスクを施すための
    穴マスク画像を作製すると共に該穴マスク画像を上記検
    査部へ送信する穴マスク生成部と,プリント配線基板に
    おける穴の位置を示す穴位置情報を記録する穴情報メモ
    リ部と,該穴情報メモリ部の穴位置情報を入力してこれ
    を必要補正量分拡大すると共に,上記穴計測信号から真
    の穴検知情報を選択するための穴認識有効信号を上記穴
    判定部へ送信する穴認識領域生成部とを有することを特
    徴とするプリント配線基板の検査装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000006997A1 (fr) * 1998-07-31 2000-02-10 Ibiden Co., Ltd. Processeur d'image
JP2002163638A (ja) * 2000-11-29 2002-06-07 Ibiden Co Ltd 画像データ検査装置および画像データ検査方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2000006997A1 (fr) * 1998-07-31 2000-02-10 Ibiden Co., Ltd. Processeur d'image
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