JPH06293791A - １６α−メチル化ステロイドの新製造法 - Google Patents
１６α−メチル化ステロイドの新製造法Info
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- JPH06293791A JPH06293791A JP6017762A JP1776294A JPH06293791A JP H06293791 A JPH06293791 A JP H06293791A JP 6017762 A JP6017762 A JP 6017762A JP 1776294 A JP1776294 A JP 1776294A JP H06293791 A JPH06293791 A JP H06293791A
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- C07J5/0061—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, substituted in position 17 beta by a chain of two carbon atoms, e.g. pregnane and substituted in position 21 by only one singly bound oxygen atom, i.e. only one oxygen bound to position 21 by a single bond substituted in position 17 alfa substituted in position 16
- C07J5/0069—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, substituted in position 17 beta by a chain of two carbon atoms, e.g. pregnane and substituted in position 21 by only one singly bound oxygen atom, i.e. only one oxygen bound to position 21 by a single bond substituted in position 17 alfa substituted in position 16 by a saturated or unsaturated hydrocarbon group
- C07J5/0076—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, substituted in position 17 beta by a chain of two carbon atoms, e.g. pregnane and substituted in position 21 by only one singly bound oxygen atom, i.e. only one oxygen bound to position 21 by a single bond substituted in position 17 alfa substituted in position 16 by a saturated or unsaturated hydrocarbon group by an alkyl group
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 １６α−メチル化ステロイドの新製造法を提
供する。 【構成】 式（II）のΔ16(17)−誘導体をメチル化剤で
処理し、次いで１６α−メチル化エノラートを加水分解
し、得られたエノールに酸化剤を反応させることからな
る、式（Ｉ）の１６α−メチル化ステロイドを製造する
方法。 ［式中、環Ａ及びＢは３−ケト−Δ4−６−Ｒ3残基又は
３−ケト−Δ1,4−６−Ｒ3残基を表わし、Ｒはメチル又
は−ＣＨ2−ＯＲ′（但し、Ｒ′は水素又はエーテル若
しくはエステルの残基）を表わし、Ｒ1及びＲ2は一緒に
なって第二の結合、或いはβ位のエポキシドを形成する
か、Ｒ1が水素でＲ2がα位のＯＨである等の組合せを表
わし、Ｒ3はＨ，Ｆ，ＣＨ3を表わす］ 【効果】 式（Ｉ）の化合物は既知の抗炎症剤又は可能
性ある先駆物質である。
供する。 【構成】 式（II）のΔ16(17)−誘導体をメチル化剤で
処理し、次いで１６α−メチル化エノラートを加水分解
し、得られたエノールに酸化剤を反応させることからな
る、式（Ｉ）の１６α−メチル化ステロイドを製造する
方法。 ［式中、環Ａ及びＢは３−ケト−Δ4−６−Ｒ3残基又は
３−ケト−Δ1,4−６−Ｒ3残基を表わし、Ｒはメチル又
は−ＣＨ2−ＯＲ′（但し、Ｒ′は水素又はエーテル若
しくはエステルの残基）を表わし、Ｒ1及びＲ2は一緒に
なって第二の結合、或いはβ位のエポキシドを形成する
か、Ｒ1が水素でＲ2がα位のＯＨである等の組合せを表
わし、Ｒ3はＨ，Ｆ，ＣＨ3を表わす］ 【効果】 式（Ｉ）の化合物は既知の抗炎症剤又は可能
性ある先駆物質である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、１６α−メチル化ス
テロイドの新製造法に関する。
テロイドの新製造法に関する。
【０００２】
【発明の概要】しかして、本発明の主題は、次式（Ｉ）
【化７】 ［ここで、環Ａ及びＢは次式
【化８】 （ここで、３位のケトン官能基はケタール、チオケター
ル、ヘミチオケタール又はエノールエーテルの形で保護
されていてもよい）の残基又は次式
ル、ヘミチオケタール又はエノールエーテルの形で保護
されていてもよい）の残基又は次式
【化９】 の残基を表わし、Ｒはメチル又は基−ＣＨ2 −ＯＲ' 基
（ここで、Ｒ' は水素原子又はエーテルの残基若しくは
エステルの残基を表わす）を表わし、Ｒ1 及びＲ2 は一
緒になって第二の結合を形成するか、或いはＲ1 及びＲ
2 は一緒になってβ位のエポキシドを形成するか、或い
はＲ1 は水素原子、ケトン官能基又は遊離の若しくはエ
ーテル若しくはエステルの形で保護されたα若しくはβ
位のヒドロキシ官能基を表わし且つＲ2 は水素原子を表
わすか、或いはＲ1 は水素原子を表わし且つＲ2 はα位
のヒドロキシ官能基を表わすか、或いはＲ1 は遊離の又
はエーテル若しくはエステルの形で保護されたβ位のヒ
ドロキシ官能基を表わし且つＲ2 はα位の弗素又は臭素
原子を表わし、Ｒ3 は水素原子又はα若しくはβ位の弗
素原子若しくはメチル基を表わす］の化合物を製造する
にあたり、次式（II）
（ここで、Ｒ' は水素原子又はエーテルの残基若しくは
エステルの残基を表わす）を表わし、Ｒ1 及びＲ2 は一
緒になって第二の結合を形成するか、或いはＲ1 及びＲ
2 は一緒になってβ位のエポキシドを形成するか、或い
はＲ1 は水素原子、ケトン官能基又は遊離の若しくはエ
ーテル若しくはエステルの形で保護されたα若しくはβ
位のヒドロキシ官能基を表わし且つＲ2 は水素原子を表
わすか、或いはＲ1 は水素原子を表わし且つＲ2 はα位
のヒドロキシ官能基を表わすか、或いはＲ1 は遊離の又
はエーテル若しくはエステルの形で保護されたβ位のヒ
ドロキシ官能基を表わし且つＲ2 はα位の弗素又は臭素
原子を表わし、Ｒ3 は水素原子又はα若しくはβ位の弗
素原子若しくはメチル基を表わす］の化合物を製造する
にあたり、次式（II）
【化１０】 （ここで、Ａ、Ｂ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は既に示し
た意味を有する）の化合物を銅系触媒の存在下にメチル
化剤で処理し、次いでこれにより形成された１６α−メ
チル化エノラートを加水分解して相当するエノールを
得、得られたエノールに酸化剤を反応させて所期の化合
物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製造方法
にある。
た意味を有する）の化合物を銅系触媒の存在下にメチル
化剤で処理し、次いでこれにより形成された１６α−メ
チル化エノラートを加水分解して相当するエノールを
得、得られたエノールに酸化剤を反応させて所期の化合
物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製造方法
にある。
【０００３】
【発明の具体的な説明】前記の化合物において、３位の
ケトン官能基がケタール、チオケタール又はヘミチオケ
タールの形で保護されているときは、それは好ましくは
次式
ケトン官能基がケタール、チオケタール又はヘミチオケ
タールの形で保護されているときは、それは好ましくは
次式
【化１１】 （ここで、ｎは２又は３に等しい）の基、好ましくはエ
チレンジオキシ又はエチレンジチオ基である。３位のケ
トン官能基がエノールエーテルの形で保護されたいると
きは、それは、好ましくは１〜８個の炭素原子を含有す
るアルコキシ又はアルコキシアルコキシ基、特にメトキ
シ、エトキシ、エトキシエトキシ又は１−エトキシエト
キシ基式であり、その場合には環Ａ及びＢはΔ3,5 −二
重結合系を含む。
チレンジオキシ又はエチレンジチオ基である。３位のケ
トン官能基がエノールエーテルの形で保護されたいると
きは、それは、好ましくは１〜８個の炭素原子を含有す
るアルコキシ又はアルコキシアルコキシ基、特にメトキ
シ、エトキシ、エトキシエトキシ又は１−エトキシエト
キシ基式であり、その場合には環Ａ及びＢはΔ3,5 −二
重結合系を含む。
【０００４】Ｒ' がエーテルの残基を表わすときは、そ
れは、平均的な当業者に知られた任意の残基、特に、１
〜６個の炭素原子を含有するアルキル基、例えば、メチ
ル、エチル若しくはプロピル基、テトラヒドロピラニル
基、又はシリル化エーテルの残基、例えばトリメチルシ
リル若しくはジメチルｔ−ブチルシリルのようなトリア
ルキルシリル基、トリフェニルシリルのようなトリアリ
ールシリル基、ジフェニルｔ−ブチルシリルのようなジ
アリールアルキルシリル基であってよい。Ｒ' がエステ
ルの残基を表わすときは、それは、平均的な当業者に知
られた任意の残基、特に、１〜８個の炭素原子を含有す
るアシル基、特にホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、バレリル又はベンゾイル基であってよい。
れは、平均的な当業者に知られた任意の残基、特に、１
〜６個の炭素原子を含有するアルキル基、例えば、メチ
ル、エチル若しくはプロピル基、テトラヒドロピラニル
基、又はシリル化エーテルの残基、例えばトリメチルシ
リル若しくはジメチルｔ−ブチルシリルのようなトリア
ルキルシリル基、トリフェニルシリルのようなトリアリ
ールシリル基、ジフェニルｔ−ブチルシリルのようなジ
アリールアルキルシリル基であってよい。Ｒ' がエステ
ルの残基を表わすときは、それは、平均的な当業者に知
られた任意の残基、特に、１〜８個の炭素原子を含有す
るアシル基、特にホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、バレリル又はベンゾイル基であってよい。
【０００５】Ｒ1 がエーテル又はエステルの形で保護さ
れたヒドロキシ官能基を表わすときは、それは、Ｒ' に
ついて前記したエーテル又はエステルの残基のいずれか
であってよく、またこれらの残基は必ずしも同一である
必要はない。
れたヒドロキシ官能基を表わすときは、それは、Ｒ' に
ついて前記したエーテル又はエステルの残基のいずれか
であってよく、またこれらの残基は必ずしも同一である
必要はない。
【０００６】特に、本発明の主題は、環Ａ及びＢが次式
【化１２】 （ここで、Ｒ3 は上で定義した通りであり、３位のケト
ン官能基は遊離である）の残基（このうち後者のものが
特に好ましい）を表わす式（II）の化合物を開始時に使
用することを特徴とする前記の製造方法にある。
ン官能基は遊離である）の残基（このうち後者のものが
特に好ましい）を表わす式（II）の化合物を開始時に使
用することを特徴とする前記の製造方法にある。
【０００７】また、本発明の主題は、特に、Ｒ1 及びＲ
2 が一緒になって第二の結合を形成するか、或いはＲ1
及びＲ2 が一緒になってβ位のエポキシドを形成する
か、或いはＲ1 が遊離の又はエーテル若しくはエステル
の形で保護されたβ位のヒドロキシ官能基を表わし且つ
Ｒ2 がα位の弗素原子を表わし、Ｒ3 が水素原子、弗素
原子又はメチル基、特に水素原子を表わす式（II）の化
合物を開始時に使用することを特徴とする前記の製造方
法にある。
2 が一緒になって第二の結合を形成するか、或いはＲ1
及びＲ2 が一緒になってβ位のエポキシドを形成する
か、或いはＲ1 が遊離の又はエーテル若しくはエステル
の形で保護されたβ位のヒドロキシ官能基を表わし且つ
Ｒ2 がα位の弗素原子を表わし、Ｒ3 が水素原子、弗素
原子又はメチル基、特に水素原子を表わす式（II）の化
合物を開始時に使用することを特徴とする前記の製造方
法にある。
【０００８】使用されるメチル化剤は、銅のメチル化誘
導体、例えば、ＣＨ3 Ｃｕ、（ＣＨ3 ）2 ＣｕＭｇ、
（ＣＨ3 ）2 ＣｕＬｉ又は好ましくは、銅系触媒の存在
下に使用される塩化、臭化若しくは沃化メチルマグネシ
ウムである。触媒は、酢酸第二銅、プロピオン酸第二
銅、塩化第二銅、塩化第一銅、臭化第一銅、沃化第一銅
若しくはシアン化第一銅のような塩類、又は錯体、例え
ば銅アセチルアセトナト、臭化第一銅ジメチルスルフィ
ド若しくは第一銅トリ−ｎ−ブチルホスフィンクロリ
ド、或いは平均的な当業者に知られた同種のその他の錯
体であってよい。酢酸第二銅、プロピオン酸第二銅が特
に好ましい。
導体、例えば、ＣＨ3 Ｃｕ、（ＣＨ3 ）2 ＣｕＭｇ、
（ＣＨ3 ）2 ＣｕＬｉ又は好ましくは、銅系触媒の存在
下に使用される塩化、臭化若しくは沃化メチルマグネシ
ウムである。触媒は、酢酸第二銅、プロピオン酸第二
銅、塩化第二銅、塩化第一銅、臭化第一銅、沃化第一銅
若しくはシアン化第一銅のような塩類、又は錯体、例え
ば銅アセチルアセトナト、臭化第一銅ジメチルスルフィ
ド若しくは第一銅トリ−ｎ−ブチルホスフィンクロリ
ド、或いは平均的な当業者に知られた同種のその他の錯
体であってよい。酢酸第二銅、プロピオン酸第二銅が特
に好ましい。
【０００９】操作は溶媒中で行われるが、溶媒は好まし
くはテトラヒドロフラン、ジオキサン、ｔ−ブチルメチ
ルエーテル、ジメトキシエタン、エチルエーテル、ｔ−
ブチルエチルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテルであ
る。テトラヒドロフランが最も好ましい。操作は、０〜
−３０℃で、好ましくは−２０℃で有利に行われる。
くはテトラヒドロフラン、ジオキサン、ｔ−ブチルメチ
ルエーテル、ジメトキシエタン、エチルエーテル、ｔ−
ブチルエチルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテルであ
る。テトラヒドロフランが最も好ましい。操作は、０〜
−３０℃で、好ましくは−２０℃で有利に行われる。
【００１０】１６α−メチル化エノラートの加水分解
は、好ましくは、不活性ガス雰囲気下に反応溶液を、燐
酸モノアルカリ、例えば燐酸モノナトリウム又はカリウ
ムの水溶液中に、又は弱酸性ｐＨの緩衝液、特に燐酸塩
緩衝液中に、又はさらに一般的には酢酸、プロピオン酸
若しくは酪酸のような弱酸中に、或いは塩化アンモニウ
ム若しくは酢酸アンモニウムの水溶液中に注ぐことによ
って行われる。
は、好ましくは、不活性ガス雰囲気下に反応溶液を、燐
酸モノアルカリ、例えば燐酸モノナトリウム又はカリウ
ムの水溶液中に、又は弱酸性ｐＨの緩衝液、特に燐酸塩
緩衝液中に、又はさらに一般的には酢酸、プロピオン酸
若しくは酪酸のような弱酸中に、或いは塩化アンモニウ
ム若しくは酢酸アンモニウムの水溶液中に注ぐことによ
って行われる。
【００１１】好ましくは、加水分解に続いて、混合物中
に存在する第一銅イオンを第二銅イオンに変換するよう
に酸化処理が行われる。この変換を行わしめるためには
平均的な当業者に知られた標準的な酸化剤を使用するこ
とができる。例えば、過酸化水素が特に好適であるとい
える。沈殿は、アルカリ塩、特に蓚酸ナトリウム又は塩
化ナトリウムを添加して媒体を飽和させるようにして一
層容易にされる。
に存在する第一銅イオンを第二銅イオンに変換するよう
に酸化処理が行われる。この変換を行わしめるためには
平均的な当業者に知られた標準的な酸化剤を使用するこ
とができる。例えば、過酸化水素が特に好適であるとい
える。沈殿は、アルカリ塩、特に蓚酸ナトリウム又は塩
化ナトリウムを添加して媒体を飽和させるようにして一
層容易にされる。
【００１２】得られたエノールの酸化は、標準的な酸化
剤、例えば、標準的な酸化剤、例えば、単独で使用され
又は遷移金属（特にチタン、マンガン又はタングステ
ン）若しくはアセトン若しくはその誘導体（例えばヘキ
サクロル又はヘキサフルオルアセトン）と共に使用され
る過酸水素により、或いは銅のような金属で活性化され
た若しくはされていない過マンガン酸カリウムにより、
或いは特にエポキシ化用の酸化剤、例えばジメチルジオ
キシランのようなジオキシラン類、例えばｔ−ブチルヒ
ドロペルオキシドのようなヒドロペルオキシド、又は例
えば過フタル酸、過安息香酸、ｍ−クロル過安息香酸、
過酢酸、トリフルオル過酢酸若しくは過マレイン酸によ
り行うことができる。過酸による酸化が特に好ましい。
操作は、好ましくは、不活性ガス雰囲気下に、例えば塩
化メチレン、クロロホルム若しくはジクロルメタンのよ
うなハロゲン化溶媒、又は例えばエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン若しくはジオキサンのようなエーテル、
又は例えばトルエンのような芳香族溶媒、例えば酢酸エ
チルのようなエステル、さらにはアセトニトリル中で、
要すれば補助溶媒、例えばメタノール、エタノール、イ
ソプロパノール若しくは好ましくはｔ−ブタノールにの
ようなアルカノールの存在下に、好ましくは−１０〜＋
１０℃の温度で行われる。
剤、例えば、標準的な酸化剤、例えば、単独で使用され
又は遷移金属（特にチタン、マンガン又はタングステ
ン）若しくはアセトン若しくはその誘導体（例えばヘキ
サクロル又はヘキサフルオルアセトン）と共に使用され
る過酸水素により、或いは銅のような金属で活性化され
た若しくはされていない過マンガン酸カリウムにより、
或いは特にエポキシ化用の酸化剤、例えばジメチルジオ
キシランのようなジオキシラン類、例えばｔ−ブチルヒ
ドロペルオキシドのようなヒドロペルオキシド、又は例
えば過フタル酸、過安息香酸、ｍ−クロル過安息香酸、
過酢酸、トリフルオル過酢酸若しくは過マレイン酸によ
り行うことができる。過酸による酸化が特に好ましい。
操作は、好ましくは、不活性ガス雰囲気下に、例えば塩
化メチレン、クロロホルム若しくはジクロルメタンのよ
うなハロゲン化溶媒、又は例えばエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン若しくはジオキサンのようなエーテル、
又は例えばトルエンのような芳香族溶媒、例えば酢酸エ
チルのようなエステル、さらにはアセトニトリル中で、
要すれば補助溶媒、例えばメタノール、エタノール、イ
ソプロパノール若しくは好ましくはｔ−ブタノールにの
ようなアルカノールの存在下に、好ましくは−１０〜＋
１０℃の温度で行われる。
【００１３】特に好ましい態様では、本発明の主題は、
酸化をテトラヒドロフラン中で過フタル酸を使用して行
うことを特徴とする前記の製造方法にある。
酸化をテトラヒドロフラン中で過フタル酸を使用して行
うことを特徴とする前記の製造方法にある。
【００１４】式（Ｉ）の化合物の製造法は、例えば、国
際出願ＷＯ８７／０７６１２号において既に報告されて
いる。この特許出願の方法は、１６−不飽和誘導体を銅
系触媒及びシリル化剤の存在下にメチル化剤によりメチ
ル化して中間で次式
際出願ＷＯ８７／０７６１２号において既に報告されて
いる。この特許出願の方法は、１６−不飽和誘導体を銅
系触媒及びシリル化剤の存在下にメチル化剤によりメチ
ル化して中間で次式
【化１３】 のエノールエーテルを単離し、次いでこのエノールエー
テルを過酸で処理して次式
テルを過酸で処理して次式
【化１４】 の１７α，２０−エポキシドを形成し、最後にこのエポ
キシドを酸又は塩基により加水分解することからなって
いる。従って、この方法は、シリル化されたエーテルの
形で安定化されたエノールから生じるエポキシドを経由
し、次いでこれを加水分解しなければならないことを要
求する。
キシドを酸又は塩基により加水分解することからなって
いる。従って、この方法は、シリル化されたエーテルの
形で安定化されたエノールから生じるエポキシドを経由
し、次いでこれを加水分解しなければならないことを要
求する。
【００１５】本発明の方法はどんな中間体の単離も要求
せず、メチル化反応から生じる生成物は直接加水分解さ
れ、次いでこれまで予期されずまた工業的観点から特に
有用な条件下で酸化されるのである。従って、本発明の
方法は、安定化された形の中間体エノールを経由するこ
とも生成物を得るための最終加水分解も要求しない。さ
らに、本発明者の知るところでは、このようなエノール
の酸化が直接生じたことは初めてのことである。
せず、メチル化反応から生じる生成物は直接加水分解さ
れ、次いでこれまで予期されずまた工業的観点から特に
有用な条件下で酸化されるのである。従って、本発明の
方法は、安定化された形の中間体エノールを経由するこ
とも生成物を得るための最終加水分解も要求しない。さ
らに、本発明者の知るところでは、このようなエノール
の酸化が直接生じたことは初めてのことである。
【００１６】また、式（Ｉ）の化合物の製造法を記載す
る英国特許第２００１９９０号を挙げることができる。
この方法は、前記のように１６−不飽和誘導体をメチル
化し、次いで次式
る英国特許第２００１９９０号を挙げることができる。
この方法は、前記のように１６−不飽和誘導体をメチル
化し、次いで次式
【化１５】 のヒドロペルオキシドを製造し単離し、次いで酢酸中で
亜鉛により又は脂肪族ケトン中で沃化アルカリにより還
元することからなる。従って、この方法は、その原理に
おいてもまた使用する中間体においても本発明の方法と
は異なる方法である。
亜鉛により又は脂肪族ケトン中で沃化アルカリにより還
元することからなる。従って、この方法は、その原理に
おいてもまた使用する中間体においても本発明の方法と
は異なる方法である。
【００１７】式（II）の化合物は、既知であり、例え
ば、米国特許第２３４５７１１号、同２８８３４００
号、同２９６３４９６号、同２９６６５０４号、同２９
７５１９７号、同３０２９２３３号、同３２１０３４１
号、同３３７７３４３号、同３８３９３６９号、同３９
７６６３８号、同４０３１０８０号、同４２７７４０９
号、同４９２９３９５号、独国特許第２２０７４２０
号、オランダ国特許第６９０２５０７号、又はベルギー
国特許第５３９４９８号、同５０４４７８号及び同７１
１０１６号に記載されている。或いは、これらの特許に
記載された化合物から平均的な当業者に知られた方法に
より容易に製造することができる。
ば、米国特許第２３４５７１１号、同２８８３４００
号、同２９６３４９６号、同２９６６５０４号、同２９
７５１９７号、同３０２９２３３号、同３２１０３４１
号、同３３７７３４３号、同３８３９３６９号、同３９
７６６３８号、同４０３１０８０号、同４２７７４０９
号、同４９２９３９５号、独国特許第２２０７４２０
号、オランダ国特許第６９０２５０７号、又はベルギー
国特許第５３９４９８号、同５０４４７８号及び同７１
１０１６号に記載されている。或いは、これらの特許に
記載された化合物から平均的な当業者に知られた方法に
より容易に製造することができる。
【００１８】式（Ｉ）の１６α−メチル化合物は抗炎症
活性を有することが知られており、この式は特にデキサ
メタゾン、そのフルメタゾン誘導体（６α−フルオ
ル）、パラメタゾン誘導体（６α−フルオル−９Ｈ）及
びその可能性ある先駆物質（Δ9, 11−９α−ＯＨ又は
９，１１−エポキシ）を包含する。
活性を有することが知られており、この式は特にデキサ
メタゾン、そのフルメタゾン誘導体（６α−フルオ
ル）、パラメタゾン誘導体（６α−フルオル−９Ｈ）及
びその可能性ある先駆物質（Δ9, 11−９α−ＯＨ又は
９，１１−エポキシ）を包含する。
【００１９】
【実施例】以下の実施例は本発明を例示するものであっ
て、これを何ら制限するものはない。
て、これを何ら制限するものはない。
【００２０】例１：９β，１１β−エポキシ−１６α−
メチル−１７α−ヒドロキシ−２１−アセチルオキシプ
レグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオン ０．２ｇの酢酸第二銅一水塩、７．６６ｇの９β，１１
β−エポキシ−２１−アセチルオキシプレグナ−１，
４，１６（１７）−トリエン−３，２０−ジオン及び１
００ｃｃの無水テトラヒドロフランを不活性ガス雰囲気
下に混合する。２０℃で１０分後に混合物を−２０℃に
冷却し、８．８ｃｃの３Ｍ塩化メチルマグネシウムテト
ラヒドロフラン溶液を２時間で添加する。１５分間撹拌
し続け、次いで反応混合物を−３０℃に冷却する。混合
物を不活性ガス雰囲気下に燐酸（１Ｍ）と苛性ソーダ液
（１．３５Ｍ）との混合物中に０℃でゆっくりと注ぐ。
混合物を撹拌しながら再加熱し、４０分後に１ｃｃの過
酸化水素（１Ｍ）を＋１５℃で添加する。＋１５℃〜２
０℃で１時間撹拌した後、８ｇの塩化ナトリウムを添加
し、１０分間撹拌する。不活性ガス雰囲気下にデカンテ
ーションした後、水性相をテトラヒドロフランで抽出
し、次いで有機相を１０ｃｃの上記燐酸−苛性ソーダ液
混合物で洗浄する。２ｇの塩化ナトリウムを添加し、混
合物を数分間撹拌し、次いでデカンテーションする。有
機相に２ｇの塩化ナトリウムを添加し、次いで撹拌及び
デカンテーションを反復する。さらに、８ｇの無水フタ
ル酸と５ｃｃの１Ｍ過酸化水素を混合する。混合物を周
囲温度で１時間撹拌し、次いで５ｃｃのテトラヒドロフ
ランを添加する。１時間１５分撹拌し、次いでさらに３
ｃｃのテトラヒドロフランを添加する。１時間撹拌した
後、さらに５ｃｃのテトラヒドロフランを添加する。反
応混合物をさらに１時間撹拌する。次に、上で製造した
エノール溶液に８ｇの無水硫酸ナトリウムを０〜＋３℃
で不活性ガス雰囲気下に添加する。次いで、これに上で
製造した過酸の懸濁液を添加する。約＋５℃で２時間撹
拌した後、混合物を９ｇの重炭酸ナトリウムを９０ｃｃ
の水に溶解してなる溶液を添加する。８ｇの塩化ナトリ
ウムを添加し、１５分間撹拌し、次いでデカンテーショ
ンし、水性相を酢酸エチルで再抽出する。一緒にした有
機相を塩水で洗浄し、次いで乾燥し、約３０℃で減圧下
に濃縮乾固する。６．６ｇの粗生成物を得た。粗生成物
の５分の１をシリカでクロマトグラフィーし、塩化メチ
レン−エチルエーテル混合物（７−３）で溶離する。
１．３２１ｇの所期化合物を得た。収率＝８０％。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３６１０ｃｍ-1（ＯＨ）；１７４７−１７２８ｃｍ
-1（Ｃ＝Ｏ）；１６６３−１６２５−１６０７ｃｍ
-1（Δ1,4 −３−オン）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．８８（ｄ）：１６位のＣＨ3 ；０．９３：１８位の
ＣＨ3 ；１．４４：１９位のＣＨ3 ；２．１６：−ＯＡ
ｃのＣＨ3 ；２．９４：−ＯＨ；３．２１：１１位の
Ｈ；４．６９（ｄ）及び５．０４（ｄ）：２１位の２
Ｈ；６．１４：４位のＨ；６．２０：２位のＨ；６．６
２：１位のＨ
メチル−１７α−ヒドロキシ−２１−アセチルオキシプ
レグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオン ０．２ｇの酢酸第二銅一水塩、７．６６ｇの９β，１１
β−エポキシ−２１−アセチルオキシプレグナ−１，
４，１６（１７）−トリエン−３，２０−ジオン及び１
００ｃｃの無水テトラヒドロフランを不活性ガス雰囲気
下に混合する。２０℃で１０分後に混合物を−２０℃に
冷却し、８．８ｃｃの３Ｍ塩化メチルマグネシウムテト
ラヒドロフラン溶液を２時間で添加する。１５分間撹拌
し続け、次いで反応混合物を−３０℃に冷却する。混合
物を不活性ガス雰囲気下に燐酸（１Ｍ）と苛性ソーダ液
（１．３５Ｍ）との混合物中に０℃でゆっくりと注ぐ。
混合物を撹拌しながら再加熱し、４０分後に１ｃｃの過
酸化水素（１Ｍ）を＋１５℃で添加する。＋１５℃〜２
０℃で１時間撹拌した後、８ｇの塩化ナトリウムを添加
し、１０分間撹拌する。不活性ガス雰囲気下にデカンテ
ーションした後、水性相をテトラヒドロフランで抽出
し、次いで有機相を１０ｃｃの上記燐酸−苛性ソーダ液
混合物で洗浄する。２ｇの塩化ナトリウムを添加し、混
合物を数分間撹拌し、次いでデカンテーションする。有
機相に２ｇの塩化ナトリウムを添加し、次いで撹拌及び
デカンテーションを反復する。さらに、８ｇの無水フタ
ル酸と５ｃｃの１Ｍ過酸化水素を混合する。混合物を周
囲温度で１時間撹拌し、次いで５ｃｃのテトラヒドロフ
ランを添加する。１時間１５分撹拌し、次いでさらに３
ｃｃのテトラヒドロフランを添加する。１時間撹拌した
後、さらに５ｃｃのテトラヒドロフランを添加する。反
応混合物をさらに１時間撹拌する。次に、上で製造した
エノール溶液に８ｇの無水硫酸ナトリウムを０〜＋３℃
で不活性ガス雰囲気下に添加する。次いで、これに上で
製造した過酸の懸濁液を添加する。約＋５℃で２時間撹
拌した後、混合物を９ｇの重炭酸ナトリウムを９０ｃｃ
の水に溶解してなる溶液を添加する。８ｇの塩化ナトリ
ウムを添加し、１５分間撹拌し、次いでデカンテーショ
ンし、水性相を酢酸エチルで再抽出する。一緒にした有
機相を塩水で洗浄し、次いで乾燥し、約３０℃で減圧下
に濃縮乾固する。６．６ｇの粗生成物を得た。粗生成物
の５分の１をシリカでクロマトグラフィーし、塩化メチ
レン−エチルエーテル混合物（７−３）で溶離する。
１．３２１ｇの所期化合物を得た。収率＝８０％。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３６１０ｃｍ-1（ＯＨ）；１７４７−１７２８ｃｍ
-1（Ｃ＝Ｏ）；１６６３−１６２５−１６０７ｃｍ
-1（Δ1,4 −３−オン）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．８８（ｄ）：１６位のＣＨ3 ；０．９３：１８位の
ＣＨ3 ；１．４４：１９位のＣＨ3 ；２．１６：−ＯＡ
ｃのＣＨ3 ；２．９４：−ＯＨ；３．２１：１１位の
Ｈ；４．６９（ｄ）及び５．０４（ｄ）：２１位の２
Ｈ；６．１４：４位のＨ；６．２０：２位のＨ；６．６
２：１位のＨ
【００２１】例２：１６α−メチル−１７α−ヒドロキ
シ−２１−アセチルオキシプレグナ−１，４，９（１
１）−トリエン−３，２０−ジオン ０．０２ｇの酢酸第二銅一水塩と０．７３３ｇの２１−
アセチルオキシプレグナ−１，４，９（１１），１６
（１７）−テトラエン−３，２０−ジオンを１０ｃｃの
テトラヒドロフラン中で使用し、次いで１ｃｃの３Ｍ塩
化メチルマグネシウムテトラヒドロフラン溶液、８ｃｃ
の燐酸−苛性ソーダ液混合物及び０．１ｃｃの過酸化水
素を使用して、例１に記載の方法と類似の態様で操作を
行う。過酸は、０．５９ｇの無水フタル酸から例１にお
けるように製造した。シリカでクロマトグラフィーし、
塩化メチレン−エチルエーテル混合物（７−３）で溶離
した後、０．４ｇの所期化合物を得た。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．７５：１８位のＣＨ3 ；０．９４（ｄ）：１６位の
ＣＨ3 ；１．４０：１９位のＣＨ3 ；２．１７：−ＯＡ
ｃのＣＨ3 ；４．８２（ｄ）及び４．９９（ｄ）：２１
位の２Ｈ；５．５７：１１位のＨ；６．０５：４位の
Ｈ；６．２８：２位のＨ；７．１９：１位のＨ
シ−２１−アセチルオキシプレグナ−１，４，９（１
１）−トリエン−３，２０−ジオン ０．０２ｇの酢酸第二銅一水塩と０．７３３ｇの２１−
アセチルオキシプレグナ−１，４，９（１１），１６
（１７）−テトラエン−３，２０−ジオンを１０ｃｃの
テトラヒドロフラン中で使用し、次いで１ｃｃの３Ｍ塩
化メチルマグネシウムテトラヒドロフラン溶液、８ｃｃ
の燐酸−苛性ソーダ液混合物及び０．１ｃｃの過酸化水
素を使用して、例１に記載の方法と類似の態様で操作を
行う。過酸は、０．５９ｇの無水フタル酸から例１にお
けるように製造した。シリカでクロマトグラフィーし、
塩化メチレン−エチルエーテル混合物（７−３）で溶離
した後、０．４ｇの所期化合物を得た。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．７５：１８位のＣＨ3 ；０．９４（ｄ）：１６位の
ＣＨ3 ；１．４０：１９位のＣＨ3 ；２．１７：−ＯＡ
ｃのＣＨ3 ；４．８２（ｄ）及び４．９９（ｄ）：２１
位の２Ｈ；５．５７：１１位のＨ；６．０５：４位の
Ｈ；６．２８：２位のＨ；７．１９：１位のＨ
【００２２】例３：９α−フルオル−１１β−ヒドロキ
シ−１６α−メチル−１７α−ヒドロキシ−２１−アセ
チルオキシプレグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオ
ン ０．０２ｇの酢酸第二銅一水塩と０．８０５ｇの９α−
フルオル−１１β−ヒドロキシ−２１−アセチルオキシ
プレグナ−１，４，１６（１７）−トリエン−３，２０
−ジオンを１５ｃｃのテトラヒドロフラン中で使用し、
次いで２ｃｃの３Ｍ塩化メチルマグネシウムテトラヒド
ロフラン溶液、１２ｃｃの燐酸−苛性ソーダ液混合物及
び０．１ｃｃの過酸化水素を使用して、例１に記載の方
法と類似の態様で操作を行う。過酸は、０．５９ｇの無
水フタル酸から例１におけるように製造した。シリカで
クロマトグラフィーし、塩化メチレン−酢酸エチル混合
物（７−３）で溶離した後、０．２５ｇの所期化合物を
得た。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．９３（ｄ）：１６位のＣＨ3 ；１．０７：１８位の
ＣＨ3 ；１．５７：１９位のＣＨ3 ；２．１７：−ＯＡ
ｃのＣＨ3 ；３．３９：１１β及び１７α位のＯＨ；
４．３８：１１位のＨ；４．９２：２１位の２Ｈ；６．
１１：４位のＨ；６．３３：２位のＨ；７．２５：１位
のＨ
シ−１６α−メチル−１７α−ヒドロキシ−２１−アセ
チルオキシプレグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオ
ン ０．０２ｇの酢酸第二銅一水塩と０．８０５ｇの９α−
フルオル−１１β−ヒドロキシ−２１−アセチルオキシ
プレグナ−１，４，１６（１７）−トリエン−３，２０
−ジオンを１５ｃｃのテトラヒドロフラン中で使用し、
次いで２ｃｃの３Ｍ塩化メチルマグネシウムテトラヒド
ロフラン溶液、１２ｃｃの燐酸−苛性ソーダ液混合物及
び０．１ｃｃの過酸化水素を使用して、例１に記載の方
法と類似の態様で操作を行う。過酸は、０．５９ｇの無
水フタル酸から例１におけるように製造した。シリカで
クロマトグラフィーし、塩化メチレン−酢酸エチル混合
物（７−３）で溶離した後、０．２５ｇの所期化合物を
得た。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．９３（ｄ）：１６位のＣＨ3 ；１．０７：１８位の
ＣＨ3 ；１．５７：１９位のＣＨ3 ；２．１７：−ＯＡ
ｃのＣＨ3 ；３．３９：１１β及び１７α位のＯＨ；
４．３８：１１位のＨ；４．９２：２１位の２Ｈ；６．
１１：４位のＨ；６．３３：２位のＨ；７．２５：１位
のＨ
【００２３】例４：９α−フルオル−１１β，２１−ジ
アセチルオキシ−１６α−メチル−１７α−ヒドロキシ
プレグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオン ０．０２ｇの酢酸第二銅一水塩と０．８０５ｇの９α−
フルオル−１１β，２１−ジアセチルオキシプレグナ−
１，４，１６（１７）−トリエン−３，２０−ジオンを
１０ｃｃのテトラヒドロフラン中で使用し、次いで１ｃ
ｃの３Ｍ塩化メチルマグネシウムテトラヒドロフラン溶
液、８ｃｃの燐酸−苛性ソーダ液混合物及び０．１ｃｃ
の過酸化水素を使用して、例１に記載の方法と類似の態
様で操作を行う。過酸は、０．５９ｇの無水フタル酸か
ら例１におけるように製造した。シリカでクロマトグラ
フィーし、塩化メチレン−エチルエーテル混合物（７−
３）で溶離した後、０．６４３ｇの所期化合物を得た。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．９３（ｄ）：１６位のＣＨ3 ；０．９３：１８位の
ＣＨ3 ；１．５８：１９位のＣＨ3 ；２．１３−２．１
５：２１及び１１β位の−ＯＡｃのＣＨ3 ；２．７４：
ＯＨ；４．７１（ｄ）−４．９９（ｄ）：２１位の２
Ｈ；５．４２（ｍ）：１１α位のＨ；６．１１：４位の
Ｈ；６．３３：２位のＨ；６．８２：１位のＨ
アセチルオキシ−１６α−メチル−１７α−ヒドロキシ
プレグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオン ０．０２ｇの酢酸第二銅一水塩と０．８０５ｇの９α−
フルオル−１１β，２１−ジアセチルオキシプレグナ−
１，４，１６（１７）−トリエン−３，２０−ジオンを
１０ｃｃのテトラヒドロフラン中で使用し、次いで１ｃ
ｃの３Ｍ塩化メチルマグネシウムテトラヒドロフラン溶
液、８ｃｃの燐酸−苛性ソーダ液混合物及び０．１ｃｃ
の過酸化水素を使用して、例１に記載の方法と類似の態
様で操作を行う。過酸は、０．５９ｇの無水フタル酸か
ら例１におけるように製造した。シリカでクロマトグラ
フィーし、塩化メチレン−エチルエーテル混合物（７−
３）で溶離した後、０．６４３ｇの所期化合物を得た。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．９３（ｄ）：１６位のＣＨ3 ；０．９３：１８位の
ＣＨ3 ；１．５８：１９位のＣＨ3 ；２．１３−２．１
５：２１及び１１β位の−ＯＡｃのＣＨ3 ；２．７４：
ＯＨ；４．７１（ｄ）−４．９９（ｄ）：２１位の２
Ｈ；５．４２（ｍ）：１１α位のＨ；６．１１：４位の
Ｈ；６．３３：２位のＨ；６．８２：１位のＨ
【００２４】例５：９β，１１β−エポキシ−１６α−
メチル−１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４−ジエン
−３，２０−ジオン ０．０２ｇの酢酸第二銅一水塩と０．６４９ｇの９β，
１１β−エポキシプレグナ−１，４，１６（１７）−ト
リエン−３，２０−ジオンを１０ｃｃのテトラヒドロフ
ラン中で使用し、次いで０．９ｃｃの３Ｍ塩化メチルマ
グネシウムテトラヒドロフラン溶液、８ｃｃの燐酸−苛
性ソーダ液混合物及び０．１ｃｃの過酸化水素を使用し
て、例１に記載の方法と類似の態様で操作を行う。過酸
は、０．５９ｇの無水フタル酸から例１におけるように
製造した。シリカでクロマトグラフィーし、塩化メチレ
ン−エチルエーテル混合物（７−３）で溶離した後、
０．２３４ｇの所期化合物を得た。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．８８（ｄ）：１６位のＣＨ3 ；１．０１：１８位の
ＣＨ3 ；１．４４：１９位のＣＨ3 ；２．２４：２１位
のＣＨ3 ；３．０５：１７位のＯＨ；３．２１：１１α
位のＨ；６．１５：４位のＨ；６．１８：２位のＨ；
６．６０：１位のＨ
メチル−１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４−ジエン
−３，２０−ジオン ０．０２ｇの酢酸第二銅一水塩と０．６４９ｇの９β，
１１β−エポキシプレグナ−１，４，１６（１７）−ト
リエン−３，２０−ジオンを１０ｃｃのテトラヒドロフ
ラン中で使用し、次いで０．９ｃｃの３Ｍ塩化メチルマ
グネシウムテトラヒドロフラン溶液、８ｃｃの燐酸−苛
性ソーダ液混合物及び０．１ｃｃの過酸化水素を使用し
て、例１に記載の方法と類似の態様で操作を行う。過酸
は、０．５９ｇの無水フタル酸から例１におけるように
製造した。シリカでクロマトグラフィーし、塩化メチレ
ン−エチルエーテル混合物（７−３）で溶離した後、
０．２３４ｇの所期化合物を得た。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．８８（ｄ）：１６位のＣＨ3 ；１．０１：１８位の
ＣＨ3 ；１．４４：１９位のＣＨ3 ；２．２４：２１位
のＣＨ3 ；３．０５：１７位のＯＨ；３．２１：１１α
位のＨ；６．１５：４位のＨ；６．１８：２位のＨ；
６．６０：１位のＨ
【００２５】例６：９β，１１β−エポキシ−１６α−
メチル−１７α−ヒドロキシ−２１−アセチルオキシプ
レグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオン ３．０６ｇの９β，１１β−エポキシ−２１−アセチル
オキシプレグナ−１，４，１６（１７）−トリエン−
３，２０−ジオンと０．０８ｇの酢酸第二銅一水塩を３
３ｃｃのテトラヒドロフラン中で不活性ガス雰囲気下に
混合する。混合物を冷却し、４ｃｃの３Ｍ塩化メチルマ
グネシウムテトラヒドロフラン溶液を−２０℃で１時間
にわたり導入する。１時間撹拌し、次いで反応混合物を
−３０℃に冷却する。混合物を、０℃に冷却した３０ｃ
ｃの燐酸−苛性ソーダ液混合物（１Ｍ／１．３５Ｍ）に
ゆっくりと注ぐ。混合物を撹拌しながら再加熱し、次い
で０．４ｃｃの１Ｍ過酸化水素を＋１５℃で添加する。
＋１５〜２０℃で１時間後に、４ｇの塩化ナトリウムを
添加する。１０分間撹拌し、次いで不活性ガス雰囲気下
にデカンテーションする。水性相をテトラヒドロフラン
で抽出し、次いで有機相を５ｃｃの上記燐酸−苛性ソー
ダ液混合物により洗浄し、１ｇの塩化ナトリウムを添加
し、次いで水をデカンテーションし、混合物を５０ｃｃ
にする。不活性ガス雰囲気下に１０ｃｃの溶液を除去
し、次いで濃縮乾固させ、塩化メチレンで溶解する。０
℃に冷却した後、０．１ｃｃのヘキサクロルアセトン、
次いで０．６ｃｃの１Ｍ過酸化水素を添加する。混合物
を０〜＋５℃で１５時間撹拌し、次いで少量の塩化ナト
リウム飽和水を添加し、有機相をデカンテーションし、
乾燥し、濃縮乾固する。残留物をシリカでクロマトグラ
フィーし、塩化メチレン−エチルエーテル混合物（７−
３）で溶離し、０．０４７ｇの所期化合物を得た。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．８８（ｄ）：１６位のＣＨ3 ；０．９３：１８位の
ＣＨ3 ；１．４４：１９位のＣＨ3 ；２．１６：ＯＡｃ
のＣＨ3 ；２．９４：ＯＨ；３．２１：１１α位のＨ；
４．６９（ｄ）−５．０４（ｄ）：２１位の２Ｈ；６．
１４：４位のＨ；６．２０：２位のＨ；６．６２：１位
のＨ
メチル−１７α−ヒドロキシ−２１−アセチルオキシプ
レグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオン ３．０６ｇの９β，１１β−エポキシ−２１−アセチル
オキシプレグナ−１，４，１６（１７）−トリエン−
３，２０−ジオンと０．０８ｇの酢酸第二銅一水塩を３
３ｃｃのテトラヒドロフラン中で不活性ガス雰囲気下に
混合する。混合物を冷却し、４ｃｃの３Ｍ塩化メチルマ
グネシウムテトラヒドロフラン溶液を−２０℃で１時間
にわたり導入する。１時間撹拌し、次いで反応混合物を
−３０℃に冷却する。混合物を、０℃に冷却した３０ｃ
ｃの燐酸−苛性ソーダ液混合物（１Ｍ／１．３５Ｍ）に
ゆっくりと注ぐ。混合物を撹拌しながら再加熱し、次い
で０．４ｃｃの１Ｍ過酸化水素を＋１５℃で添加する。
＋１５〜２０℃で１時間後に、４ｇの塩化ナトリウムを
添加する。１０分間撹拌し、次いで不活性ガス雰囲気下
にデカンテーションする。水性相をテトラヒドロフラン
で抽出し、次いで有機相を５ｃｃの上記燐酸−苛性ソー
ダ液混合物により洗浄し、１ｇの塩化ナトリウムを添加
し、次いで水をデカンテーションし、混合物を５０ｃｃ
にする。不活性ガス雰囲気下に１０ｃｃの溶液を除去
し、次いで濃縮乾固させ、塩化メチレンで溶解する。０
℃に冷却した後、０．１ｃｃのヘキサクロルアセトン、
次いで０．６ｃｃの１Ｍ過酸化水素を添加する。混合物
を０〜＋５℃で１５時間撹拌し、次いで少量の塩化ナト
リウム飽和水を添加し、有機相をデカンテーションし、
乾燥し、濃縮乾固する。残留物をシリカでクロマトグラ
フィーし、塩化メチレン−エチルエーテル混合物（７−
３）で溶離し、０．０４７ｇの所期化合物を得た。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．８８（ｄ）：１６位のＣＨ3 ；０．９３：１８位の
ＣＨ3 ；１．４４：１９位のＣＨ3 ；２．１６：ＯＡｃ
のＣＨ3 ；２．９４：ＯＨ；３．２１：１１α位のＨ；
４．６９（ｄ）−５．０４（ｄ）：２１位の２Ｈ；６．
１４：４位のＨ；６．２０：２位のＨ；６．６２：１位
のＨ
【００２６】例７：９β，１１β−エポキシ−１６α−
メチル−１７α−ヒドロキシ−２１−アセチルオキシプ
レグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオン 例６において加水分解から生じる１０ｃｃの溶液を不活
性ガス雰囲気下に除去する過程までは例６に記載の方法
と同じ態様で操作を行う。濃縮乾固し、次いで塩化メチ
レンに溶解する。４ｇの過マンガン酸カリウム、２ｇの
硫酸銅（５Ｈ2Ｏ）及び０．２ｃｃの水の混合物を添加
し、次いで１ｃｃのｔ−ブチルアルコールを添加する。
２０℃で３時間撹拌し、次いでろ過し、乾燥し、濃縮乾
固する。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、シク
ロヘキサン−酢酸エチル混合物（１−１）で、次いで塩
化メチレン−エチルエーテル混合物（７−３）で溶離す
る。０．０７２ｇの所期化合物を得た。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．８８（ｄ）：１６位のＣＨ3 ；０．９３：１８位の
ＣＨ3 ；１．４４：１９位のＣＨ3 ；２．１６：ＯＡｃ
のＣＨ3 ；２．９４：ＯＨ；３．２１：１１α位のＨ；
４．６９（ｄ）−５．０４（ｄ）：２１位の２Ｈ；６．
１４：４位のＨ；６．２０：２位のＨ；６．６２：１位
のＨ
メチル−１７α−ヒドロキシ−２１−アセチルオキシプ
レグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオン 例６において加水分解から生じる１０ｃｃの溶液を不活
性ガス雰囲気下に除去する過程までは例６に記載の方法
と同じ態様で操作を行う。濃縮乾固し、次いで塩化メチ
レンに溶解する。４ｇの過マンガン酸カリウム、２ｇの
硫酸銅（５Ｈ2Ｏ）及び０．２ｃｃの水の混合物を添加
し、次いで１ｃｃのｔ−ブチルアルコールを添加する。
２０℃で３時間撹拌し、次いでろ過し、乾燥し、濃縮乾
固する。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、シク
ロヘキサン−酢酸エチル混合物（１−１）で、次いで塩
化メチレン−エチルエーテル混合物（７−３）で溶離す
る。０．０７２ｇの所期化合物を得た。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．８８（ｄ）：１６位のＣＨ3 ；０．９３：１８位の
ＣＨ3 ；１．４４：１９位のＣＨ3 ；２．１６：ＯＡｃ
のＣＨ3 ；２．９４：ＯＨ；３．２１：１１α位のＨ；
４．６９（ｄ）−５．０４（ｄ）：２１位の２Ｈ；６．
１４：４位のＨ；６．２０：２位のＨ；６．６２：１位
のＨ
Claims (12)
- 【請求項１】 次式（Ｉ） 【化１】 ［ここで、環Ａ及びＢは次式 【化２】 （ここで、３位のケトン官能基はケタール、チオケター
ル、ヘミチオケタール又はエノールエーテルの形で保護
されていてもよい）の残基又は次式 【化３】 の残基を表わし、 Ｒはメチル基又は−ＣＨ2 −ＯＲ' 基（ここで、Ｒ' は
水素原子又はエーテルの残基若しくはエステルの残基を
表わす）を表わし、 Ｒ1 及びＲ2 は一緒になって第二の結合を形成するか、
或いはＲ1 及びＲ2 は一緒になってβ位のエポキシドを
形成するか、或いはＲ1 は水素原子、ケトン官能基又は
遊離の若しくはエーテル若しくはエステルの形で保護さ
れたα若しくはβ位のヒドロキシ官能基を表わし且つＲ
2 は水素原子を表わすか、或いはＲ1 は水素原子を表わ
し且つＲ2 はα位のヒドロキシ官能基を表わすか、或い
はＲ1 は遊離の又はエーテル若しくはエステルの形で保
護されたβ位のヒドロキシ官能基を表わし且つＲ2 はα
位の弗素又は臭素原子を表わし、 Ｒ3 は水素原子又はα若しくはβ位の弗素原子若しくは
メチル基を表わす］の化合物を製造するにあたり、次式
（II） 【化４】 （ここで、Ａ、Ｂ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は既に示し
た意味を有する）の化合物を銅系触媒の存在下にメチル
化剤で処理し、次いでこれにより形成された１６α−メ
チル化エノラートを加水分解して相当するエノールを
得、得られたエノールに酸化剤を反応させて所期の化合
物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製造方
法。 - 【請求項２】 環Ａ及びＢが次式 【化５】 （ここで、Ｒ3 は請求項１で定義した通りであり、３位
のケトン官能基は遊離である）の残基を表わす式（II）
の化合物を開始時に使用することを特徴とする請求項１
記載の方法。 - 【請求項３】 Ｒ1 及びＲ2 が一緒になって第二の結合
を形成するか、或いはＲ1 及びＲ2 が一緒になってβ位
のエポキシドを形成するか、或いはＲ1 が遊離の又はエ
ーテル若しくはエステルの形で保護されたβ位のヒドロ
キシ官能基を表わし且つＲ2 がα位の弗素原子を表わ
し、Ｒ3 が水素原子、弗素原子又はメチル基を表わす式
（II）の化合物を開始時に使用することを特徴とする請
求項１又は２記載の方法。 - 【請求項４】 環Ａ及びＢが次式 【化６】 の残基を表わす式（II）の化合物を開始時に使用するこ
とを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の方法。 - 【請求項５】 メチル化剤が銅のメチル化誘導体又は銅
系触媒の存在下に使用される塩化、臭化若しくは沃化メ
チルマグネシウムであることを特徴とする請求項１〜４
のいずれかに記載の方法。 - 【請求項６】 メチル化剤が酢酸第二銅又はプロピオン
酸第二銅の存在下に使用される塩化、臭化又は沃化メチ
ルマグネシウムであることを特徴とする請求項１〜５の
いずれかに記載の方法。 - 【請求項７】 加水分解剤が燐酸モノアルカリ、塩化ア
ンモニウム、酢酸アンモニウム、弱酸及び弱酸性ｐＨの
緩衝剤よりなる群から選択されることを特徴とする請求
項１〜６のいずれかに記載の方法。 - 【請求項８】 加水分解に続いて混合物中に存在する第
一銅イオンの酸化処理を行うことを特徴とする請求項１
〜７のいずれかに記載の方法。 - 【請求項９】 エノールの酸化剤が過酸、過酸化水素、
ジオキシラン類、ヒドロペルオキシド及び過マンガン酸
カリウムよりなる群から選択されることを特徴とする請
求項１〜８のいずれかに記載の方法。 - 【請求項１０】 酸化剤が過酸よりなる群から選択され
ることを特徴とする請求項９記載の方法。 - 【請求項１１】 酸化をハロゲン化溶媒、エーテル、芳
香族溶媒、エステル又はアセトニトリル中で、要すれば
補助溶媒の存在下に行うことを特徴とする請求項１〜１
０のいずれかに記載の方法。 - 【請求項１２】 酸化をテトラヒドロフラン中で過フタ
ル酸を使用して行うことを特徴とする請求項１〜１１の
いずれかに記載の方法。
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