JPH0629351A - Manufacture of tab tape - Google Patents

Manufacture of tab tape

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JPH0629351A
JPH0629351A JP20748292A JP20748292A JPH0629351A JP H0629351 A JPH0629351 A JP H0629351A JP 20748292 A JP20748292 A JP 20748292A JP 20748292 A JP20748292 A JP 20748292A JP H0629351 A JPH0629351 A JP H0629351A
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device hole
base film
conductor pattern
tab tape
forming
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Norio Wada
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Abstract

PURPOSE:To provide a manufacture of a TAB(tape automated bonding) tape in which a conductor pattern having a good precision of dimension is formed even if increasing an area of device hole. CONSTITUTION:Openings 14 for forming a top of a conductor pattern protruding in a device hole are opened with a part of a device hole forming part kept remaining as an auxiliary part 11 in the device hole forming part of a base film 10 in which the device hole is formed. Further, after forming a joint for joining the auxiliary part 11 to the base film body 10, a resist is applied on a metal foil 16 stuck on one side of the base film 10 in which the openings 14 are opened, and patterning and etching are performed, and the conductor pattern is formed. Then, the joint is cut and the auxiliary part 11 is removed and the device hole is formed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はTABテープの製造方法
に関し、更に詳細には絶縁性を有するベースフィルム上
に形成された導体パターンの先端部が、前記ベースフィ
ルムに開口されたデバイスホール内に搭載される半導体
チップとボンディングされるように、前記デバイスホー
ルの内縁から突出するTABテープの製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a TAB tape, and more specifically, the tip of a conductive pattern formed on an insulating base film is placed in a device hole formed in the base film. The present invention relates to a method of manufacturing a TAB tape which projects from an inner edge of the device hole so as to be bonded to a mounted semiconductor chip.

【0002】[0002]

【従来の技術】TABテープ(Tape Automated Bonding)
は、半導体チップの電極と外部接続用リード等の外部導
体回路とをワイヤボンディングすることなく電気的に直
接接続することができ、微細な導体パターンを形成し得
ることから、ワイヤボンディングを必要とする場合より
も多ピンの接続が可能となる。かかるTABテープの平
面図を図3に示す。図3に示すTABテープ100は、
ポリイミド樹脂フィルム(以下、ベースフィルムと称す
ることがある)106に開口されたデバイスホール10
2を囲むように、導体パターン108、108・・・が
形成されている。この導体パターン108の各々の一端
部(以下、先端部と称する)は、デバイスホール102
の内縁から突出し、半導体チップの電極とボンディング
される部分である。また、導体パターン108の各々の
他端部は四方に開口されたウインドホール104を跨ぐ
ように形成されている。このウインドホール104を跨
ぐ部分が外部接続用リード等の外部導体回路と接続され
る部分である。
2. Description of the Related Art TAB tape (Tape Automated Bonding)
Requires wire bonding because the electrodes of the semiconductor chip can be directly electrically connected to an external conductor circuit such as an external connection lead without wire bonding, and a fine conductor pattern can be formed. It is possible to connect more pins than the case. A plan view of such a TAB tape is shown in FIG. The TAB tape 100 shown in FIG.
Device hole 10 opened in a polyimide resin film (hereinafter sometimes referred to as a base film) 106
Conductor patterns 108, 108, ... Are formed so as to surround 2. One end portion (hereinafter, referred to as a tip end portion) of each of the conductor patterns 108 has a device hole 102.
Is a portion that protrudes from the inner edge of and is bonded to the electrode of the semiconductor chip. The other end of each of the conductor patterns 108 is formed so as to straddle the window holes 104 that are opened in all directions. A portion that straddles the window hole 104 is a portion that is connected to an external conductor circuit such as an external connection lead.

【0003】図3に示すTABテープ100は、通常、
図4に示す方法で製造される。先ず、片面に接着剤層1
01が形成されたベースフィルム106に、デバイスホ
ール102やウインドホール104等を開口する〔図4
(a)(b)〕。次いで、デバイスホール102等が開口され
たベースフィルム106の片面上に、加熱・キュアを施
しつつ銅箔107を貼着する〔図4(c) 〕。更に、銅箔
107の銅箔面及びベースフィルム106のフィルム面
にレジストをローラー等で塗布してレジスト層110、
112を形成した後〔図4(d) 〕、銅箔107側に形成
されたレジスト層110をパターニングし、銅箔107
をエッチングして導体パターン108・・・を形成す
る。尚、レジスト層112は、エッチング液によるベー
スフィルム106のフィルム面側からのエッチングを防
止するための裏止めレジスト層である。
The TAB tape 100 shown in FIG.
It is manufactured by the method shown in FIG. First, the adhesive layer 1 on one side
The device hole 102, the window hole 104, and the like are opened in the base film 106 on which 01 is formed [FIG.
(a) (b)]. Next, the copper foil 107 is attached to one surface of the base film 106 having the device holes 102 and the like opened while heating and curing [FIG. 4 (c)]. Further, a resist is applied to the copper foil surface of the copper foil 107 and the film surface of the base film 106 with a roller or the like to form a resist layer 110,
After forming 112 [FIG. 4 (d)], the resist layer 110 formed on the copper foil 107 side is patterned to form the copper foil 107.
Are etched to form the conductor patterns 108 ... The resist layer 112 is a backing resist layer for preventing etching from the film surface side of the base film 106 by the etching solution.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】図4に示すTABテー
プの製造法によれば、所定の導体パターンが形成された
TABテープを容易に製造できる。ところで、最近、半
導体装置の薄肉化等の要請に因る半導体チップの大型化
に伴い、TABテープのデバイスホールの面積の拡大が
必要となってきた。しかしながら、デバイスホールの面
積を拡大するに伴い、最終的に得られる導体パターンの
寸法精度が低下し易いことが判明した。そこで、本発明
の目的は、デバイスホールの面積を拡大しても、良好な
寸法精度の導体パターンが形成されたTABテープを製
造できるTABテープの製造方法を提案することにあ
る。
According to the method of manufacturing a TAB tape shown in FIG. 4, a TAB tape having a predetermined conductor pattern can be easily manufactured. By the way, recently, along with the increase in size of semiconductor chips due to the demand for thinner semiconductor devices and the like, it has become necessary to increase the area of the device hole of the TAB tape. However, it has been found that as the area of the device hole is increased, the dimensional accuracy of the finally obtained conductor pattern is likely to decrease. Then, the objective of this invention is proposing the manufacturing method of the TAB tape which can manufacture the TAB tape in which the conductor pattern of favorable dimensional accuracy was formed even if the area of a device hole was expanded.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記目的を
達成すべく、TABテープの製造工程を詳細に観察した
ところ、面積を拡大したデバイスホールが開口されたベ
ースフィルム上に、加熱・キュアを施して銅箔107を
貼着すると、図5(イ)に示す如く、デバイスホール1
02の開口部を覆う銅箔部分に反りが発生することを知
った。反りが発生している銅箔107にレジストをロー
ラーにより塗布すると、図5(ロ)に示す如く、レジス
ト層110に厚み斑が発生し易いため、エッチングして
得られる導体パターンの寸法精度が低下する。また、デ
バイスホールの面積が拡大するに伴い、ベースフィルム
のフィルム面に形成された裏止めレジスト層112がエ
ッチング中に欠落し、導体パターン先端部のエッチング
が促進されて導体パターン先端部の先細り現象が発生し
易いことも知った。本発明者は、これらの知見から最終
的に得られるTABテープを構成する導体パターンの寸
法精度向上のためには、ベースフィルム上に銅箔を貼着
した際に、銅箔の反りを防止すること、及び裏止めレジ
スト層の欠落防止が大切であると考え検討した結果、本
発明に到達した。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above-mentioned object, the present inventor has observed in detail the manufacturing process of the TAB tape. As a result, it has been confirmed that heating and heating on a base film having a device hole with an enlarged area. When the copper foil 107 is cured and the copper foil 107 is attached, as shown in FIG.
It was found that the copper foil portion covering the opening of 02 was warped. When a resist is applied to the copper foil 107 in which warpage has occurred by a roller, thickness unevenness is likely to occur in the resist layer 110 as shown in FIG. 5B, so that the dimensional accuracy of the conductor pattern obtained by etching deteriorates. To do. Further, as the area of the device hole increases, the backing resist layer 112 formed on the film surface of the base film is lost during etching, and the etching of the tip of the conductor pattern is promoted, so that the tip of the conductor pattern is tapered. I also learned that is likely to occur. The present inventor, in order to improve the dimensional accuracy of the conductor pattern constituting the TAB tape finally obtained from these findings, prevents the copper foil from warping when the copper foil is attached onto the base film. The present invention has been achieved as a result of the study that it is important to prevent the backing resist layer from being lost.

【0006】即ち、本発明は、絶縁性を有するベースフ
ィルム上に形成された導体パターンの先端部が、前記ベ
ースフィルムに開口されたデバイスホール内に搭載され
る半導体チップとボンディングされるように、前記デバ
イスホールの内縁から突出するTABテープを製造する
に際し、該デバイスホールが形成されるベースフィルム
のデバイスホール形成部に、前記デバイスホール形成部
の一部を補助部として残留させつつ、前記デバイスホー
ル内に突出する導体パターンの先端部を形成するための
開口部を開口すると共に、前記補助部とベースフィルム
本体とを連結する連結部を形成した後、前記開口部が開
口されたベースフィルムの片面に貼着した金属箔上に、
レジストを塗布しパターニングしてからエッチングを施
して導体パターンを形成し、次いで、前記連結部を切断
して補助部を削除しデバイスホールを形成することを特
徴とするTABテープの製造方法にある。
That is, according to the present invention, the tip of the conductor pattern formed on the insulating base film is bonded to the semiconductor chip mounted in the device hole opened in the base film. When manufacturing a TAB tape protruding from the inner edge of the device hole, the device hole forming part of the base film in which the device hole is formed is left as a part of the device hole forming part as an auxiliary part. One side of the base film in which the opening is opened after forming an opening for forming the tip of the conductive pattern protruding inward and forming a connecting portion connecting the auxiliary portion and the base film main body. On the metal foil attached to
A method of manufacturing a TAB tape is characterized in that a resist is applied, patterning is performed, etching is performed to form a conductor pattern, and then the connecting portion is cut to remove the auxiliary portion to form a device hole.

【0007】[0007]

【作用】銅箔等の金属箔の熱膨張率が、ポリイミド樹脂
フィルム等のベースフィルムの熱膨張率よりも大の場合
がある。この場合、デバイスホールが開口されたベース
フィルムと前記ベースフィルム上に貼着された金属箔と
が同時に加熱されると、金属箔がベースフィルムよりも
伸長されて貼着される。この際、デバイスホールを覆う
デバイスホール金属箔はベースフィルムに規制されるこ
となく自由に伸長できる。かかるデバイスホール金属箔
の伸長は、デバイスホールの面積の拡大に伴い大とな
り、デバイスホール金属箔の反りとして顕在化する。
尚、ベースフィルムの種類によっては、加熱によって収
縮するものがあり、このような種類のベースフィルムを
使用した場合も、前述した金属箔の熱膨張率がベースフ
ィルムの熱膨張率よりも大の場合と同様に、デバイスホ
ール金属箔の反りが発現する。また、デバイスホールの
面積を拡大したとき、エッチング中に発生する裏止めレ
ジストの欠落は、ベースフィルムの裏止めレジストに対
する保持力が低下するためである。この点、本発明で
は、ベースフィルムのデバイスホール形成部において、
デバイスホール内に突出する導体パターンの先端部を形
成する部分に、一部に補助部を残留しつつ小面積の開口
部を開口した後、金属箔を貼着する。このため、金属箔
を貼着する際に、ベースフィルムに開口された開口部の
開口部面積を可及的に小面積にでき、前記開口部を覆う
開口部の金属箔の加熱に因る自由伸長を少なくし且つベ
ースフィルムの裏止めレジストに対する保持力を向上で
きるため、開口部の金属箔の反り発生及びエッチング中
に発生する裏止めレジストの欠落を防止できる。
In some cases, the coefficient of thermal expansion of metal foil such as copper foil is higher than that of base film such as polyimide resin film. In this case, when the base film having the device hole opened and the metal foil attached on the base film are heated at the same time, the metal foil is attached more stretched than the base film. At this time, the device hole metal foil covering the device hole can be freely stretched without being restricted by the base film. The expansion of the device hole metal foil becomes large as the area of the device hole increases, and becomes apparent as a warp of the device hole metal foil.
Incidentally, depending on the type of the base film, there is one that shrinks due to heating, and even when such a type of base film is used, the coefficient of thermal expansion of the metal foil described above is larger than the coefficient of thermal expansion of the base film. Similarly, the warp of the device-hole metal foil appears. Further, when the area of the device hole is enlarged, the backing resist is missing during the etching because the holding force of the base film against the backing resist is reduced. In this respect, in the present invention, in the device hole forming portion of the base film,
An opening having a small area is opened while leaving an auxiliary portion in a portion where a tip portion of the conductor pattern protruding into the device hole is formed, and then a metal foil is attached. Therefore, when the metal foil is attached, the opening area of the opening formed in the base film can be made as small as possible, and the opening of the opening covering the opening can be freely heated by heating the metal foil. Since the elongation can be reduced and the holding power of the base film with respect to the backing resist can be improved, it is possible to prevent warping of the metal foil in the opening and lack of the backing resist that occurs during etching.

【0008】[0008]

【実施例】本発明を図面を用いて更に説明する。図1
は、本発明の一実施例を示す工程図であり、片面に接着
剤層12が形成されたポリイミド樹脂フィルム(ベース
フィルム)10のデバイスホール形成部分に、開口部1
4を複数開口する〔図1(a)(b)〕。この複数の開
口部14は、その合計面積が形成されるデバイスホール
の面積よりも小面積であり、デバイスホール内に突出す
る導体パターンの先端部が形成される開口部である。
尚、複数の開口部14で囲まれる残留部分は、後述する
補助部11であり、連結部によってベースフィルム本体
10と連結されている。次いで、ベースフィルム10の
接着剤層12上に銅箔16を積層し加熱貼着する〔図1
(c)〕。この加熱貼着の際に、銅箔16の自由伸長が
可能となる開口部14の面積が小面積であるため、開口
部14を覆う銅箔の自由伸長を抑制することができ、開
口部の銅箔に反りが顕在化することを防止できる。
The present invention will be further described with reference to the drawings. Figure 1
FIG. 1A is a process diagram showing an embodiment of the present invention, in which a device hole forming portion of a polyimide resin film (base film) 10 having an adhesive layer 12 formed on one surface thereof has an opening 1
A plurality of openings 4 are formed [Fig. 1 (a) (b)]. The plurality of openings 14 are smaller in area than the area of the device hole in which the total area is formed, and are the openings in which the tips of the conductor patterns protruding into the device hole are formed.
The remaining portion surrounded by the plurality of openings 14 is an auxiliary portion 11 which will be described later, and is connected to the base film body 10 by the connecting portion. Next, a copper foil 16 is laminated on the adhesive layer 12 of the base film 10 and heat-bonded [Fig.
(C)]. At the time of this heating and pasting, since the area of the opening 14 that allows the free extension of the copper foil 16 is small, the free extension of the copper foil covering the opening 14 can be suppressed, and It is possible to prevent the warp of the copper foil from becoming apparent.

【0009】更に、貼着した銅箔16の上面に導体パタ
ーン形成用レジスト層18を形成すると共に、ベースフ
ィルム本体10及び補助部分11の下面に裏止めレジス
ト層20を形成する〔図1(d)〕。かかる導体パター
ン形成用レジスト層18及び裏止めレジスト層20は、
レジストのローラー塗布等によって形成でき、開口部の
銅箔等に反りが顕在化しておらず均一厚さのレジスト層
を形成できる。その後、導体パターン形成用レジスト層
18をパターンニングし、銅箔16にエッチングを施し
て所定の導体パターンを形成する。本実施例において
は、ベースフィルムの裏止めレジスト層20に対する保
持力が、予め所定のデバイスホールが開口されたベース
フィルムの裏止めレジスト層20に対する保持力よりも
向上されている。このため、エッチングの際に、裏止め
レジスト層20が欠落して発生するエッチング液の循環
性向上に因る導体パターンの先端部の先細り現象を防止
できる。しかも、導体パターン形成用レジスト層18を
均一厚さに形成でき、導体パターンの寸法精度を前記先
細り現象の防止と相俟って著しく向上できる。
Further, a resist layer 18 for forming a conductor pattern is formed on the upper surface of the adhered copper foil 16, and a backing resist layer 20 is formed on the lower surfaces of the base film body 10 and the auxiliary portion 11 [FIG. )]. The conductor pattern forming resist layer 18 and the backing resist layer 20 are
The resist layer can be formed by roller coating, and the copper foil or the like in the opening is not warped and a resist layer having a uniform thickness can be formed. After that, the conductor pattern forming resist layer 18 is patterned, and the copper foil 16 is etched to form a predetermined conductor pattern. In this embodiment, the holding power of the base film with respect to the backing resist layer 20 is higher than the holding power of the base film with the predetermined device holes opened in advance with respect to the backing resist layer 20. Therefore, at the time of etching, it is possible to prevent the tapering phenomenon of the tip portion of the conductor pattern due to the improvement of the circulation property of the etching solution caused by the lack of the backing resist layer 20. Moreover, the conductor pattern forming resist layer 18 can be formed to have a uniform thickness, and the dimensional accuracy of the conductor pattern can be significantly improved in combination with the prevention of the tapering phenomenon.

【0010】エッチングが完了した後、導体パターン形
成用レジスト層18及び裏止めレジスト層20を除去す
る。かかるレジスト層を除去して得られた中間製品を図
2に示す。図2において、デバイスホールを形成するデ
バイスホール形成部分の中央部に矩形の補助部分11が
残留する。この補助部分11は、その各角部に形成され
た連結部24によってベースフィルム本体10に連結さ
れている。かかる補助部分11の各片に沿って開口部1
4が形成され、開口部14中に銅箔16をエッチングし
て形成された導体パターン22・・・の先端部が突出し
ている。また、図2に示す中間製品には、開口部14・
・・の外方にウインドホール21・・・が開口され、導
体パターン22・・・が跨がっている。このウインドホ
ール20を跨ぐ部分が外部接続用リード等の外部導体回
路と接続される部分である。尚、ウインドホール21
は、デバイスホールのように半導体チップ等の大型化等
によって開口面積が拡大することがなく、金属箔16を
貼着する際にウインドホール20が開口されていても、
得られる導体パターン22の寸法精度を低下させること
はない。この様な図2に示す中間製品において、補助部
11を連結する連結部24・・・を切断することによっ
て、補助部11を除去し所定面積のデバイスホールを開
口でき、図3に示すTABテープを得ることができる。
尚、本実施例において、補助部11を支承する連結部2
4を補助部11の四隅に設けているが、補助部11を二
箇所に設けた連結部24によって支承してもよい。
After the etching is completed, the conductor pattern forming resist layer 18 and the backing resist layer 20 are removed. An intermediate product obtained by removing the resist layer is shown in FIG. In FIG. 2, the rectangular auxiliary portion 11 remains in the central portion of the device hole forming portion forming the device hole. The auxiliary portion 11 is connected to the base film body 10 by the connecting portions 24 formed at the respective corners. Opening 1 along each piece of such auxiliary portion 11
4 are formed, and the tips of the conductor patterns 22 ... Formed by etching the copper foil 16 project into the openings 14. In addition, the intermediate product shown in FIG.
A window hole 21 ... Is opened to the outside of .. and the conductor patterns 22 ... A portion that straddles the window hole 20 is a portion that is connected to an external conductor circuit such as an external connection lead. In addition, wind hall 21
Does not increase the opening area due to an increase in size of a semiconductor chip or the like like a device hole, and even if the window hole 20 is opened when the metal foil 16 is attached,
The dimensional accuracy of the obtained conductor pattern 22 is not reduced. In such an intermediate product shown in FIG. 2, the auxiliary portion 11 can be removed and a device hole having a predetermined area can be opened by cutting the connecting portion 24 for connecting the auxiliary portion 11, and the TAB tape shown in FIG. Can be obtained.
In this embodiment, the connecting portion 2 that supports the auxiliary portion 11
4 are provided at the four corners of the auxiliary portion 11, but the auxiliary portion 11 may be supported by the connecting portions 24 provided at two locations.

【0011】ここで、一辺が15mmの矩形のデバイス
ホールが開口されたTABテープを図1に示す本実施例
の方法で製造し、デバイスホール内に突出する導体パタ
ーン22・・・の先端部幅のバラツキ(3σ)につい
て、ベースフィルム本体10上の導体パターン幅のバラ
ツキ(3σ)と比較した。その結果、ベースフィルム本
体10上の導体パターン幅のバラツキ(3σ)を100
(指数)とすると、デバイスホール内に突出する導体パ
ターン22・・・の先端部幅のバラツキ(3σ)は10
8(指数)であった。このように、本実施例の製造方法
によれば、デバイスホール内に突出する導体パターン2
2・・・の先端部をベースフィルム本体10上の導体パ
ターンの寸法精度と同一精度で形成できる。一方、図4
に示す従来の方法で一片が15mmの矩形のデバイスホ
ールが開口されたTABテープを製造し、同様に導体パ
ターン幅のバラツキ(3σ)を調査したところ、ベース
フィルム本体上の導体パターン幅のバラツキ(3σ)を
100(指数)とすると、デバイスホール内に突出する
導体パターンの先端部幅のバラツキ(3σ)は133
(指数)であった。
Here, a TAB tape having a rectangular device hole with one side of 15 mm opened is manufactured by the method of this embodiment shown in FIG. 1, and the width of the tip of the conductor pattern 22 ... (3σ) was compared with the variation (3σ) in the conductor pattern width on the base film body 10. As a result, the variation (3σ) in the conductor pattern width on the base film body 10 is 100%.
(Index), the variation (3σ) in the tip end width of the conductor patterns 22 ...
It was 8 (index). As described above, according to the manufacturing method of this embodiment, the conductor pattern 2 protruding into the device hole is formed.
.. can be formed with the same precision as the dimensional precision of the conductor pattern on the base film body 10. On the other hand, FIG.
When a TAB tape in which a rectangular device hole of which one piece is 15 mm is opened is manufactured by the conventional method shown in, and the variation (3σ) of the conductor pattern width is similarly investigated, the variation of the conductor pattern width on the base film body ( When 3σ is 100 (index), the variation (3σ) in the width of the tip of the conductor pattern protruding into the device hole is 133.
(Index).

【0012】[0012]

【発明の効果】本発明によれば、デバイスホールの面積
が拡大されても、デバイスホール内に突出する導体パタ
ーンの先端部を精度良く製造することができ、半導体チ
ップの大型化等に対応できるTABテープを製造でき
る。
According to the present invention, even if the area of the device hole is enlarged, the tip portion of the conductor pattern projecting into the device hole can be accurately manufactured, and the semiconductor chip can be made larger. TAB tape can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を説明する工程図である。FIG. 1 is a process diagram illustrating an example of the present invention.

【図2】図1に示す工程で得られる中間製品の正面図で
ある。
FIG. 2 is a front view of an intermediate product obtained in the process shown in FIG.

【図3】最終的に得られるTABテープの正面図であ
る。
FIG. 3 is a front view of a TAB tape finally obtained.

【図4】従来のTABテープの製造法を説明する工程図
である。
FIG. 4 is a process diagram illustrating a method of manufacturing a conventional TAB tape.

【図5】図4に示す従来のTABテープの製造法におけ
る中間製品の状態を説明する説明図である。
5 is an explanatory diagram illustrating a state of an intermediate product in the conventional method of manufacturing the TAB tape shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ベースフィルム 12 接着剤層 14 開口部 16 銅箔(金属箔) 18、20 レジスト層 10 Base Film 12 Adhesive Layer 14 Opening 16 Copper Foil (Metal Foil) 18, 20 Resist Layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁性を有するベースフィルム上に形成
された導体パターンの先端部が、前記ベースフィルムに
開口されたデバイスホール内に搭載される半導体チップ
とボンディングされるように、前記デバイスホールの内
縁から突出するTABテープを製造するに際し、 該デバイスホールが形成されるベースフィルムのデバイ
スホール形成部に、前記デバイスホール形成部の一部を
補助部として残留させつつ、前記デバイスホール内に突
出する導体パターンの先端部を形成するための開口部を
開口すると共に、前記補助部とベースフィルム本体とを
連結する連結部を形成した後、 前記開口部が開口されたベースフィルムの片面に貼着し
た金属箔上に、レジストを塗布しパターニングしてから
エッチングを施して導体パターンを形成し、 次いで、前記連結部を切断して補助部を削除しデバイス
ホールを形成することを特徴とするTABテープの製造
方法。
1. The device hole of a conductive pattern formed on an insulating base film is bonded to a semiconductor chip mounted in the device hole opened in the base film. When manufacturing a TAB tape projecting from the inner edge, projecting into the device hole while leaving a part of the device hole forming part as an auxiliary part in the device hole forming part of the base film in which the device hole is formed. After opening an opening for forming the tip of the conductor pattern and forming a connecting portion for connecting the auxiliary portion and the base film body, the opening was attached to one surface of the base film. Apply a resist on the metal foil, pattern it, and then etch it to form a conductor pattern. 2. A method of manufacturing a TAB tape, wherein the connecting portion is cut to remove the auxiliary portion to form a device hole.
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