JPH06291243A - Semiconductor device package, manufacture thereof, and semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device package, manufacture thereof, and semiconductor device

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JPH06291243A
JPH06291243A JP7383293A JP7383293A JPH06291243A JP H06291243 A JPH06291243 A JP H06291243A JP 7383293 A JP7383293 A JP 7383293A JP 7383293 A JP7383293 A JP 7383293A JP H06291243 A JPH06291243 A JP H06291243A
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JP
Japan
Prior art keywords
base substrate
semiconductor chip
semiconductor device
conductor pattern
metal plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP7383293A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsutoshi Azuma
光敏 東
Mitsuharu Shimizu
満晴 清水
Masato Tanaka
正人 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Electric Industries Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Industries Co Ltd
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Publication date
Application filed by Shinko Electric Industries Co Ltd filed Critical Shinko Electric Industries Co Ltd
Priority to JP7383293A priority Critical patent/JPH06291243A/en
Publication of JPH06291243A publication Critical patent/JPH06291243A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched

Abstract

PURPOSE:To easily manufacture a package which is easily enhanced in number of pins, surface-mounted, and lessened in size. CONSTITUTION:Inner leads 2a connected to a semiconductor chip 22 and conductor patterns 20 such as external connecting outer leads are formed on a base board 10 where the semiconductor chip 22 is mounted, the conductor pattern 20 is so gathered together with the base board 10 as to enable the part of the base board 10 where the semiconductor chip 22 is bonded to recede from the peripheral part of the base board 10 where the outer lead is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置用パッケージ
及びその製造方法並びに半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device package, a method of manufacturing the same, and a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は樹脂封止タイプでもっとも基本的
な構成の半導体装置であり、リードフレーム2のステー
ジ3に半導体チップ4を搭載し、モールド樹脂5によっ
て樹脂封止したものである。この樹脂封止タイプの半導
体装置は放熱性が低く発熱量の大きな半導体チップの搭
載には適さない。このため、熱放散性に優れたパッケー
ジとして図7のようなメタルコアタイプの半導体装置が
検討されている。このメタルコアタイプの半導体装置は
パッケージの本体にメタル基板6を使用し、メタル基板
6の片面あるいは両面にメタル基板6と電気的に絶縁し
て導体パターン7を形成したものである。
2. Description of the Related Art FIG. 6 shows a resin-sealed type semiconductor device having the most basic structure, in which a semiconductor chip 4 is mounted on a stage 3 of a lead frame 2 and resin-sealed with a molding resin 5. This resin-encapsulated semiconductor device is not suitable for mounting a semiconductor chip that has a low heat dissipation and a large amount of heat generation. Therefore, a metal core type semiconductor device as shown in FIG. 7 has been studied as a package excellent in heat dissipation. In this metal core type semiconductor device, a metal substrate 6 is used for the package body, and a conductor pattern 7 is formed on one or both sides of the metal substrate 6 so as to be electrically insulated from the metal substrate 6.

【0003】メタルコアタイプの半導体装置ではパッケ
ージの厚さを薄くするため半導体チップ4を搭載するメ
タル基板6に座ぐり加工を施し、またモールド樹脂を流
れ止めするため枠状に形成したダム部8を貼り付けると
いったことを行っている。ダム部8は基板表面から突出
するから、この形態のパッケージではバンプを利用した
表面実装はできず図のようにリードピン9によって実装
するようにしている。また、導体パターン7を多層で形
成する場合にはメタル基板6の両面に絶縁層を介して導
体パターンを設け、導体パターンとリードピン9とをビ
ア等を利用して接続している。
In the metal core type semiconductor device, the metal substrate 6 on which the semiconductor chip 4 is mounted is counterbored to reduce the thickness of the package, and the dam portion 8 is formed in a frame shape to prevent the mold resin from flowing. I am pasting it. Since the dam portion 8 protrudes from the surface of the substrate, surface mounting using bumps cannot be performed in this type of package, and lead pins 9 are mounted as shown in the figure. When the conductor pattern 7 is formed in multiple layers, conductor patterns are provided on both surfaces of the metal substrate 6 via insulating layers, and the conductor pattern and the lead pin 9 are connected using vias or the like.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記のように従来のメ
タルコアタイプの半導体装置ではメタル基板6に座ぐり
加工を施す必要があったり、導体パターン7とリードピ
ン9とを接続する操作が煩雑であったりするという問題
があり、リードピン9を使用することによって表面実装
ができないという問題点があった。また、図6のような
一般的な樹脂封止タイプの半導体装置では半導体チップ
4の厚みによって半導体チップを搭載した側とその反対
側とではモールド樹脂の厚みが異なり、樹脂の肉厚の差
によってパッケージが反るといった問題があった。
As described above, in the conventional metal core type semiconductor device, it is necessary to perform the spot facing process on the metal substrate 6, and the operation for connecting the conductor pattern 7 and the lead pin 9 is complicated. However, there is a problem in that surface mounting cannot be performed by using the lead pin 9. Further, in a general resin-sealed type semiconductor device as shown in FIG. 6, the thickness of the mold resin differs depending on the thickness of the semiconductor chip 4 on the side on which the semiconductor chip is mounted and on the opposite side, and the difference in the thickness of the resin causes There was a problem that the package warped.

【0005】本発明はこのようなメタルコアタイプの半
導体装置あるいは樹脂封止タイプの半導体装置での問題
点を解消すべくなされたものであり、その目的とすると
ころは、パッケージを薄形にしてコンパクトに形成する
ことができ、表面実装を可能にして実装基板での省スペ
ースを図ることができ、製造も容易に行うことができる
リードフレーム及びその製造方法並びに半導体装置を提
供しようとするものである。
The present invention has been made to solve the problems in such a metal core type semiconductor device or a resin-sealed type semiconductor device, and its object is to make the package thin and compact. It is intended to provide a lead frame, a method of manufacturing the same, and a semiconductor device, which can be formed on a substrate, can be surface-mounted, can save space on a mounting substrate, and can be easily manufactured. .

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため次の構成を備える。すなわち、半導体装置用パ
ッケージとして、半導体チップを搭載するベース基板上
に半導体チップに接続されるインナーリードと外部接続
用のアウターリード等の導体パターンが形成され、前記
ベース基板とともに前記導体パターンが一体に絞り加工
されて、前記アウターリードが設けられる前記ベース基
板の周縁部に対して半導体チップの接合部位がくぼみ形
成されたことを特徴とし、また半導体チップを搭載する
ベース基板上に半導体チップに接続されるインナーリー
ドと外部接続用のアウターリード等の導体パターンが形
成され、前記ベース基板とともに前記導体パターンが一
体に絞り加工されて、前記アウターリードが設けられる
前記ベース基板の周縁部に対して半導体チップの接合部
位がくぼみ形成され、前記アウターリードに別体で形成
された支持用リードフレームが接合されたことを特徴と
し、またベース基板の周縁部が所定幅で平坦面に形成さ
れ、該平坦面上に延出するアウターリードに表面実装用
のバンプが形成されたことを特徴とする。また、ベース
基板が金属板であり、該金属板に設けた電気的絶縁層上
に導体パターンを設けたことを特徴とし、また、前記ベ
ース基板が電気的絶縁性を有する絶縁基板であり、該絶
縁基板上に導体パターンが形成されたことを特徴とす
る。
The present invention has the following constitution in order to achieve the above object. That is, as a semiconductor device package, conductor patterns such as inner leads connected to the semiconductor chip and outer leads for external connection are formed on a base substrate on which a semiconductor chip is mounted, and the conductor pattern is integrated with the base substrate. It is drawn, and a joint portion of the semiconductor chip is formed indented with respect to the peripheral portion of the base substrate on which the outer lead is provided, and the semiconductor chip is connected to the semiconductor chip on the base substrate. A conductor pattern such as an inner lead and an outer lead for external connection is formed, the conductor pattern is integrally drawn together with the base substrate, and a semiconductor chip is formed on a peripheral portion of the base substrate on which the outer lead is provided. The joint part of the The supporting lead frame formed by the above is joined, and the peripheral portion of the base substrate is formed on a flat surface with a predetermined width, and the outer leads extending on the flat surface have bumps for surface mounting. It is characterized by being formed. In addition, the base substrate is a metal plate, and a conductor pattern is provided on an electrically insulating layer provided on the metal plate, and the base substrate is an electrically insulating substrate, A conductive pattern is formed on the insulating substrate.

【0007】また、半導体装置用パッケージの製造方法
として、ベース基板たる金属板上に電気的絶縁性を有す
る絶縁被膜を設け、該絶縁被膜上に導体層を形成した
後、該導体層をエッチングして半導体チップに接続する
インナーリードおよび外部接続用のアウターリード等の
導体パターンを形成し、前記金属板および前記絶縁被膜
および前記導体パターンを一体的に絞り加工して、前記
アウターリードが設けられる前記ベース基板の周縁部に
対して半導体チップの接合部位をくぼみ形成することを
特徴とする。また、長尺状に形成された金属板を使用
し、該金属板に加工を施して所定間隔でベース基板とな
る金属板を形成し、該金属板に絶縁被膜および導体層を
設けて製造することを特徴とする。
Further, as a method of manufacturing a semiconductor device package, an insulating coating having an electrical insulating property is provided on a metal plate as a base substrate, a conductor layer is formed on the insulating coating, and then the conductor layer is etched. A conductor pattern such as an inner lead for connecting to a semiconductor chip and an outer lead for external connection is formed, and the outer lead is provided by integrally drawing the metal plate, the insulating coating and the conductor pattern. It is characterized in that the bonding portion of the semiconductor chip is formed in a recess with respect to the peripheral portion of the base substrate. In addition, a long metal plate is used, the metal plate is processed to form metal plates to be a base substrate at predetermined intervals, and an insulating coating and a conductor layer are provided on the metal plate for production. It is characterized by

【0008】また、半導体装置として、前記半導体装置
用パッケージに半導体チップが搭載され、半導体チップ
とインナーリードとが電気的に接続され、半導体チップ
が封止されて成ることを特徴とし、また、前記半導体装
置用パッケージに半導体チップが搭載され、半導体チッ
プとインナーリードとが電気的に接続され、ベース基板
の凹部内に封止樹脂が充填されて半導体チップが封止さ
れて成ることを特徴とする。
Further, as a semiconductor device, a semiconductor chip is mounted on the semiconductor device package, the semiconductor chip and an inner lead are electrically connected, and the semiconductor chip is sealed. A semiconductor chip is mounted on a semiconductor device package, the semiconductor chip and an inner lead are electrically connected, and a recessed portion of a base substrate is filled with a sealing resin to seal the semiconductor chip. .

【0009】[0009]

【作用】本発明に係る半導体装置用パッケージはベース
基板と導体パターンが一体に絞り加工され、半導体チッ
プの搭載部がくぼみ形成されたことによりコンパクトな
半導体装置として提供することができる。外部接続用と
してのバンプを形成したものでは表面実装が可能になり
省スペース化を図ることができる。支持用リードフレー
ムにベース基板を接合したものでは半導体チップを搭載
した側と反対側での樹脂の肉厚を均等にして樹脂封止す
ることができ、半導体装置の反りを防止する。半導体装
置用パッケージの製造に際してはベース基板に導体パタ
ーンを形成した後、ベース基板と導体パターンとを一体
に絞り加工することによって容易に製造することができ
る。ベース基板の加工用として長尺な金属板を使用する
ことによって能率的な製造が可能になる。
The semiconductor device package according to the present invention can be provided as a compact semiconductor device because the base substrate and the conductor pattern are integrally drawn, and the mounting portion of the semiconductor chip is recessed. In the case where bumps for external connection are formed, surface mounting is possible and space can be saved. In the case where the base substrate is joined to the supporting lead frame, the resin thickness can be made uniform on the side opposite to the side on which the semiconductor chip is mounted and the resin can be sealed, and the warp of the semiconductor device can be prevented. The semiconductor device package can be easily manufactured by forming the conductor pattern on the base substrate and then integrally drawing the base substrate and the conductor pattern. Efficient manufacturing is possible by using a long metal plate for processing the base substrate.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の好適な実施例を添付図面に基
づいて詳細に説明する。本発明に係る半導体装置用パッ
ケージは従来の半導体装置用パッケージとは異なり、最
終的にパッケージの本体となるベース基板に半導体チッ
プの搭載部を設けるとともに、ベース基板上に同時に半
導体チップと接続するためのインナーリード等の導体パ
ターンを設けることを特徴とする。図1(a) 、(b) 、
(c) は金属板をベース基板とする半導体装置用パッケー
ジの製造方法を示す説明図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. Unlike the conventional semiconductor device package, the semiconductor device package according to the present invention is provided with a mounting portion for a semiconductor chip on a base substrate that finally becomes the main body of the package, and simultaneously connects with the semiconductor chip on the base substrate. It is characterized in that a conductor pattern such as an inner lead is provided. 1 (a), (b),
(c) is an explanatory view showing a method for manufacturing a semiconductor device package using a metal plate as a base substrate.

【0011】半導体装置用パッケージの製造に際して
は、まず、図1(a) に示すように、長尺な金属板材をプ
レス抜き加工あるいはエッチング加工してベース基板1
0を一定ピッチで連設する。実施例ではベース基板10
は図のように薄板材の側縁のレール部12、12にサポ
ートバー14、14によって連結支持したが、隣接する
ベース基板10間をサポートバーで連結してもよいし、
隣接するベース基板10の境界にセクションバーを設け
てセクションバーでベース基板10を支持してもよい。
When manufacturing a package for a semiconductor device, first, as shown in FIG. 1 (a), a long metal plate material is press-pressed or etched to form a base substrate 1.
0s are continuously arranged at a constant pitch. In the embodiment, the base substrate 10
Is connected and supported by the support bars 14 and 14 to the rail portions 12 and 12 on the side edges of the thin plate material as shown in the figure, but adjacent base substrates 10 may be connected by the support bars.
A section bar may be provided at the boundary between adjacent base substrates 10 to support the base substrate 10 with the section bar.

【0012】ベース基板10を有する半導体装置用パッ
ケージは、図1(a) に示すように長尺状の金属板材に連
続加工を施すことによって形成することができる。な
お、ベース基板10を形成する金属板材は後工程でしぼ
り加工するから、しぼり加工に適当な材質および材厚を
選択する。また、ベース基板10はパッケージのベース
として熱放散性にも影響を与えるから、金属板材として
はこれらの条件を検討して適宜材料を選択する。金属板
材としては、たとえば、銅、アルミニウム等が好適に用
いられる。
The semiconductor device package having the base substrate 10 can be formed by continuously processing a long metal plate as shown in FIG. 1 (a). Since the metal plate material forming the base substrate 10 is squeezed in a later step, a material and a thickness suitable for the squeezing are selected. Further, since the base substrate 10 also affects the heat dissipation property as a base of the package, the metal plate material is appropriately selected by considering these conditions. As the metal plate material, for example, copper, aluminum or the like is preferably used.

【0013】上記のようにベース基板10を形成した
後、ベース基板10の表面に絶縁被膜を形成するため電
気的絶縁性を有する絶縁フィルム16を貼着する。図1
(a) はベース基板10に絶縁フィルム16を貼着した状
態である。絶縁フィルム16は実施例のようにベース基
板10に個々に貼着してもよいし、金属板材を加工する
前に帯状の絶縁フィルム16を連続的に貼着しておいて
もよい。また、絶縁フィルムのかわりに電気的絶縁性を
有する絶縁材料をコーティングして絶縁被膜を形成する
ようにしてもよい。
After forming the base substrate 10 as described above, an insulating film 16 having an electrically insulating property is attached to the surface of the base substrate 10 to form an insulating coating. Figure 1
(a) is a state in which the insulating film 16 is attached to the base substrate 10. The insulating film 16 may be individually attached to the base substrate 10 as in the embodiment, or the strip-shaped insulating film 16 may be continuously attached before processing the metal plate material. Further, instead of the insulating film, an insulating material having an electrically insulating property may be coated to form the insulating film.

【0014】絶縁フィルム16を貼着した後、その上面
に導体層として銅箔18を貼着する。図2に銅箔18を
貼着した状態を断面図で示す。銅箔18を貼着した後、
銅箔18上にレジスト19を塗布し、レジストをパター
ン形成し、銅箔18をエッチングして導体パターン20
を形成する。図1(b)はこうしてベース基板10上に導
体パターン20を形成した状態である。中央部に半導体
チップを搭載するためのスペースを設け、その周囲に導
体パターン20として半導体チップに接続されるインナ
ーリードと、さらにその外側に外部接続用のアウターリ
ードを設ける。なお、導体パターン20を形成するため
銅箔を貼着するかわりにスパッタリング法で導体層を形
成してもよい。また、銅箔を貼着する操作を簡略にする
ため表層にあらかじめ銅箔を設けた絶縁フィルムを使用
してこれを貼着し、上記と同様な方法で導体パターンを
形成するようにしてもよい。
After the insulating film 16 is attached, a copper foil 18 is attached as a conductor layer on the upper surface of the insulating film 16. FIG. 2 is a sectional view showing a state in which the copper foil 18 is attached. After sticking the copper foil 18,
A resist 19 is applied on the copper foil 18, a resist is patterned, and the copper foil 18 is etched to form a conductor pattern 20.
To form. FIG. 1B shows a state in which the conductor pattern 20 is thus formed on the base substrate 10. A space for mounting a semiconductor chip is provided in the central portion, an inner lead connected to the semiconductor chip as a conductor pattern 20 is provided around the space, and an outer lead for external connection is provided outside the inner lead. Instead of attaching the copper foil to form the conductor pattern 20, the conductor layer may be formed by a sputtering method. In addition, in order to simplify the operation of attaching the copper foil, an insulating film having a copper foil provided in advance on the surface layer may be used and attached, and the conductor pattern may be formed by the same method as described above. .

【0015】次いで、ベース基板10に対し半導体チッ
プを搭載する中央部を周縁部よりもくぼんだ形状にする
ための絞り加工を施す。図1(c) はベース基板10に絞
り加工を施した状態を示す。実施例ではインナーリード
の先端とインナーリードから外部配線接続用のバンプ形
成部への中途位置の2か所を絞り加工した。10a、1
0bが絞り加工によって形成した曲げ段差部である。な
お、この絞り加工ではベース基板10とともに絶縁フィ
ルム16および導体パターン20を一体に絞り加工して
段差状に形成する。したがって、絞り加工の際に絶縁フ
ィルム16にクラックが入ったり、導体パターン20が
断線したりしないようにしなければならない。
Next, the base substrate 10 is subjected to a drawing process so that the central portion on which the semiconductor chip is mounted is made more concave than the peripheral portion. FIG. 1 (c) shows a state in which the base substrate 10 is drawn. In the embodiment, the leading end of the inner lead and two intermediate positions from the inner lead to the bump forming portion for connecting the external wiring are drawn. 10a, 1
0b is a bending step formed by drawing. In this drawing process, the insulating film 16 and the conductor pattern 20 are integrally drawn together with the base substrate 10 to form a step shape. Therefore, it is necessary to prevent the insulating film 16 from cracking and the conductor pattern 20 from breaking during the drawing process.

【0016】絶縁フィルム16の加工性を良くする方法
としては、絞り加工の際に加温して絶縁フィルム16を
加工しやすくして行う方法や、絶縁フィルム16が完全
に硬化する前段階で加工を行う方法、柔軟性を有する加
工性の良い材料を使うといったことが考えられる。導体
パターン20の加工性については材料の伸展性を考慮し
て材質や材厚を選択すればよい。なお、実際に絞り加工
で形成するくぼみ量は1mm程度である。したがって、2
段の絞り加工を施す場合には0.5 mmずつ絞り加工する。
As a method for improving the workability of the insulating film 16, a method of heating the insulating film 16 during drawing to make it easier to process, or a method before the insulating film 16 is completely cured is used. It is conceivable to use a material having flexibility and good workability. Regarding the workability of the conductor pattern 20, the material and material thickness may be selected in consideration of the extensibility of the material. In addition, the amount of dents actually formed by drawing is about 1 mm. Therefore, 2
When performing step drawing, draw 0.5 mm each.

【0017】図3に上記方法によって形成した半導体装
置用パッケージに半導体チップ22を搭載した半導体装
置の断面図を示す。ベース基板10上に絶縁フィルム1
6および導体パターン20が層形成され、絞り加工によ
って10a、10bに曲げ段差部が形成されている。導
体パターン20のインナーリード20aは絞り加工によ
って形成された段差上の平坦部及び段差部に連続して形
成され、バンプ24はベース基板10の外周縁部で平坦
面に引き出された導体パターン20の端縁に形成されて
いる。バンプ24は導体パターン20のバンプ形成部に
はんだあるいは金等によって凸状に形成する。
FIG. 3 is a sectional view of a semiconductor device in which the semiconductor chip 22 is mounted on the semiconductor device package formed by the above method. Insulating film 1 on base substrate 10
6 and the conductor pattern 20 are layered, and bending step portions are formed in 10a and 10b by drawing. The inner lead 20a of the conductor pattern 20 is formed continuously on the flat portion and the step portion on the step formed by the drawing process, and the bump 24 of the conductor pattern 20 is pulled out to the flat surface at the outer peripheral edge portion of the base substrate 10. It is formed on the edge. The bumps 24 are formed on the bump forming portions of the conductor pattern 20 in a convex shape with solder or gold.

【0018】半導体チップ22はベース基板10の内底
面に接合し、インナーリード20aとの間をワイヤボン
ディングによって接続する。26は半導体チップ22を
封止する封止樹脂26である。封止樹脂26はベース基
板10の凹部内に充填され、半導体チップ22を封止す
る。なお、封止樹脂26を充填するかわりに、ベース基
板10の凹部を覆って開口側にキャップを接合してキャ
ップ封止するようにしてもよい。
The semiconductor chip 22 is bonded to the inner bottom surface of the base substrate 10 and is connected to the inner leads 20a by wire bonding. 26 is a sealing resin 26 for sealing the semiconductor chip 22. The sealing resin 26 is filled in the recess of the base substrate 10 and seals the semiconductor chip 22. Instead of filling the sealing resin 26, the recess may be covered in the base substrate 10 and a cap may be joined to the opening side for cap sealing.

【0019】図3に示す実施例の半導体装置は、上記の
ようにベース基板10の周縁部の下面にバンプ24を設
けたことによって表面実装が可能である。なお、インナ
ーリード20aからバンプ24までは絶縁フィルム16
の表面に導体パターン20が形成されて引き出されるか
ら、バンプ24の形成面で導体パターン20が露出す
る。実施例ではバンプ24形成面上の導体パターン20
が実装基板と接触しないようにバンプ24を除いて導体
パターン20を被覆する保護膜を形成するようにした。
また、実施例ではベース基板10の外面側はそのまま露
出させているが、ベース基板10の酸化防止あるいは実
装時の取扱い性からベース基板10の外面に保護用とし
て絶縁樹脂層を設けてもよい。
The semiconductor device of the embodiment shown in FIG. 3 can be surface-mounted by providing the bumps 24 on the lower surface of the peripheral portion of the base substrate 10 as described above. The insulating film 16 is provided from the inner lead 20a to the bump 24.
Since the conductor pattern 20 is formed on the surface of and is extracted, the conductor pattern 20 is exposed on the surface where the bumps 24 are formed. In the embodiment, the conductor pattern 20 on the surface on which the bumps 24 are formed
The protective film covering the conductor pattern 20 is formed by removing the bumps 24 so as not to come into contact with the mounting substrate.
In addition, although the outer surface side of the base substrate 10 is exposed as it is in the embodiment, an insulating resin layer may be provided on the outer surface of the base substrate 10 for protection in order to prevent oxidation of the base substrate 10 or handleability during mounting.

【0020】図3に示すような半導体装置の製造にあた
っては、図1(c) に示すようにベース基板20を複数個
連設した状態で取り扱うことができる。すなわち、各々
のベース基板20上に順に半導体チップ22を搭載し、
半導体チップ22とインナーリード20aとをワイヤボ
ンディングする操作と封止樹脂26を充填する操作を順
に行うことによって連続的に半導体装置を製造すること
ができる。もちろん、ベース基板10を金属板材から分
離して単体にしたものに対して半導体チップ22を搭載
する等の操作を行ってもよい。
In manufacturing a semiconductor device as shown in FIG. 3, a plurality of base substrates 20 can be handled in a row as shown in FIG. 1 (c). That is, the semiconductor chips 22 are sequentially mounted on each base substrate 20,
A semiconductor device can be continuously manufactured by sequentially performing an operation of wire bonding the semiconductor chip 22 and the inner lead 20a and an operation of filling the sealing resin 26. Of course, an operation such as mounting the semiconductor chip 22 on the base substrate 10 separated from the metal plate material into a single body may be performed.

【0021】本発明に係る半導体装置用パッケージは、
上述したようにベース基板10に電気的絶縁層を介して
導体パターン20を形成した構成を基本とするものであ
るが、その製造方法は前述した方法に限定されるもので
はなく、また、その形態も上記実施例に限定されるもの
ではない。たとえば、前述した半導体装置用パッケージ
の製造方法においては、ベース基板10を形成する金属
板材に対してはじめにプレス抜き等でベース基板10を
形成したが、金属板材に絶縁フィルム16を貼着して導
体パターン20を形成した後にプレス抜き等でベース基
板10を形成するようにしてもよい。また、前記実施例
ではベース基板10の片面のみに絶縁フィルム16を設
けたが、ベース基板10の両面に絶縁体を設けてもよ
い。また、加工に際しては前述したように長尺体で加工
せず、単体ごと加工を施すことも可能である。
The semiconductor device package according to the present invention comprises:
As described above, it is basically based on the structure in which the conductor pattern 20 is formed on the base substrate 10 via the electrically insulating layer, but the manufacturing method thereof is not limited to the above-mentioned method, and its form is not limited thereto. Is not limited to the above embodiment. For example, in the above-described method for manufacturing a semiconductor device package, the base substrate 10 is first formed by press punching or the like on the metal plate material forming the base substrate 10. However, the insulating film 16 is adhered to the metal plate material to form a conductor. After forming the pattern 20, the base substrate 10 may be formed by press punching or the like. Further, although the insulating film 16 is provided on only one surface of the base substrate 10 in the above-described embodiment, an insulator may be provided on both surfaces of the base substrate 10. Further, in processing, as described above, it is possible not to process the long body but to process the individual body.

【0022】また、上記実施例ではベース基板として金
属を使用したが、合成樹脂等の電気的絶縁性を有する絶
縁基板を使用することも可能である。この場合には、絶
縁基板の表面に導体層を被着させた後、導体層をエッチ
ングして導体パターンを形成し、絶縁基板を絞り加工す
ることによって形成する。絶縁基板を使用する場合は絞
り加工が可能な合成樹脂材を使用したり、熱可塑性の材
料を使用して比較的高温で加工することによって合成樹
脂のベース基板を用いた場合でも図3に示すような製品
を得ることができる。合成樹脂材を使用した場合にはベ
ース基板上にじかに導体パターンを形成できるという利
点がある。
Further, in the above-mentioned embodiment, the metal is used as the base substrate, but it is also possible to use an insulating substrate having electric insulation such as synthetic resin. In this case, after forming a conductor layer on the surface of the insulating substrate, the conductor layer is etched to form a conductor pattern, and the insulating substrate is formed by drawing. When an insulating substrate is used, a synthetic resin material that can be drawn is used, or even when a synthetic resin base substrate is used by processing at a relatively high temperature using a thermoplastic material, it is shown in FIG. You can get such products. When a synthetic resin material is used, there is an advantage that the conductor pattern can be directly formed on the base substrate.

【0023】また、上記実施例の半導体装置ではベース
基板10の周縁部に平坦部を設けてバンプ24を形成し
たが、図4に示すようにインナーリード20aから延出
させたアウターリード20bをベース基板10の周縁か
ら外側に延出させ、アウターリード20bを実装基板に
接続するようにしてもよい。この場合、アウターリード
20bの接続部分に厚めっきを施してアウターリード2
0bの強度を高め、曲げ成形できるようにしてもよい。
ベース基板10の周縁部からアウターリード20bを延
出させる場合は、たとえば、図1に示す実施例では隣接
するベース基板10間を含めて長尺状の金属板材の全体
に絶縁フィルム16を貼着して導体パターンを形成すれ
ばよい。
In the semiconductor device of the above-described embodiment, the bumps 24 are formed by providing the flat portion on the peripheral portion of the base substrate 10. However, as shown in FIG. 4, the outer leads 20b extended from the inner leads 20a are used as the base. The outer lead 20b may be extended outward from the peripheral edge of the substrate 10 and connected to the mounting substrate. In this case, the connecting portion of the outer lead 20b is thickly plated to form the outer lead 2
The strength of 0b may be increased to allow bending.
When the outer leads 20b are extended from the peripheral portion of the base substrate 10, for example, in the embodiment shown in FIG. 1, the insulating film 16 is attached to the entire long metal plate material including the space between the adjacent base substrates 10. Then, the conductor pattern may be formed.

【0024】また、ベース基板10の形態としては、図
4に示すようにベース基板10の半導体チップ22を搭
載する部位に透孔を形成し、別体で形成した放熱体28
をベース基板10に接合して放熱体28上に半導体チッ
プ22を搭載するようにしてもよい。この場合は、絞り
加工の段数を減らすことが可能であり、ベース基板10
のかわりに合成樹脂のベース板を使用した場合でも熱放
散性のよい半導体装置用パッケージを得ることができる
という利点がある。
As for the form of the base substrate 10, as shown in FIG. 4, a heat radiating body 28 is formed as a separate body by forming a through hole in a portion of the base substrate 10 where the semiconductor chip 22 is mounted.
The semiconductor chip 22 may be mounted on the heat radiator 28 by bonding to the base substrate 10. In this case, it is possible to reduce the number of drawing steps, and the base substrate 10
Even if a synthetic resin base plate is used instead, a semiconductor device package with good heat dissipation can be obtained.

【0025】本発明に係る半導体装置は上述したように
ベース基板を導体パターンとともに絞り加工して形成す
ることを特徴とするが、この絞り加工はパッケージ内に
半導体チップ22が収容されるようにすることと、半導
体チップ22と導体パターンのインナーリード20aと
が確実に接続できるように、インナーリード20aの高
さ位置等を調節して行うようにする。したがって、絞り
加工の段数や、加工を施す部位については製品に合わせ
て適宜条件に設定する。なお、上記実施例では半導体チ
ップ22とインナーリード20aとはワイヤボンディン
グによって接続しているが、インナーリード20aと半
導体チップ22との高さ位置を調節することによってT
ABテープを用いた一括ボンディングによる接続方法も
可能である。
The semiconductor device according to the present invention is characterized by being formed by drawing the base substrate together with the conductor pattern as described above. This drawing process allows the semiconductor chip 22 to be housed in the package. In addition, the height position of the inner lead 20a is adjusted so that the semiconductor chip 22 and the inner lead 20a of the conductor pattern can be reliably connected. Therefore, the number of stages of drawing and the portion to be processed are set as appropriate according to the product. Although the semiconductor chip 22 and the inner lead 20a are connected to each other by wire bonding in the above-mentioned embodiment, the height T of the inner lead 20a and the semiconductor chip 22 is adjusted so that the T
A connection method by collective bonding using an AB tape is also possible.

【0026】本実施例のように絞り加工によって半導体
装置用パッケージを形成する方法によれば、パッケージ
の全体の厚みを薄くしてコンパクトに形成することがで
きること、ベース基板を座ぐり加工するといった方法に
くらべて加工が簡単であること、ベース基板に薄板材を
使用した場合でも絞り加工によってパッケージの強度を
高められること、ベース基板からの熱放散によって熱放
散特性に優れたパッケージとして提供できること、導体
パターンはベース基板上で任意のパターンで形成できる
といった利点がある。
According to the method of forming a package for a semiconductor device by drawing as in this embodiment, it is possible to reduce the overall thickness of the package to make it compact and to form a base substrate by spot-working. Compared with other products, it is easier to process, the strength of the package can be increased by drawing even when a thin plate material is used for the base substrate, and it can be provided as a package with excellent heat dissipation characteristics by heat dissipation from the base substrate. The pattern has an advantage that it can be formed in an arbitrary pattern on the base substrate.

【0027】また、導体パターンを形成する場合、半導
体チップ22を搭載する部位に導体層を設けることで半
導体チップ22の背面電位をとることができるし、導体
層を設けずに絶縁フィルム16のみとした場合は半導体
チップ22の基板への接合性を良好にすることができ
る。また、半導体チップ22の接合部位に導体層と絶縁
フィルム16を設けずに半導体チップ22をじかにベー
ス基板20に接合するようにした場合は熱放散性を向上
させることができる。
Further, when forming the conductor pattern, the back surface potential of the semiconductor chip 22 can be obtained by providing the conductor layer on the portion where the semiconductor chip 22 is mounted, and only the insulating film 16 can be provided without providing the conductor layer. In this case, the bondability of the semiconductor chip 22 to the substrate can be improved. Further, when the semiconductor chip 22 is directly bonded to the base substrate 20 without providing the conductor layer and the insulating film 16 at the bonding portion of the semiconductor chip 22, heat dissipation can be improved.

【0028】図3、4に示した実施例はベース基板10
を半導体装置のケーシングとして構成した例であるが、
図5に示すようにベース基板10に導体パターン20を
設けて絞り加工したベース基板を従来の樹脂封止タイプ
の半導体装置に利用することもできる。すなわち、この
実施例ではベース基板10に導体パターン20を設けて
絞り加工したベース基板10を、別体で形成した支持用
リードフレーム30に接続して半導体装置用パッケージ
とし、半導体チップ22を搭載した後、全体を樹脂モー
ルドして封止している。
The embodiment shown in FIGS. 3 and 4 is a base substrate 10.
It is an example in which is configured as a casing of a semiconductor device,
As shown in FIG. 5, the base substrate obtained by providing the conductor pattern 20 on the base substrate 10 and drawing the same can be used for a conventional resin-sealed semiconductor device. That is, in this embodiment, the base substrate 10 provided with the conductor pattern 20 on the base substrate 10 and drawn is connected to a supporting lead frame 30 formed separately to form a semiconductor device package, and the semiconductor chip 22 is mounted. After that, the whole is resin-molded and sealed.

【0029】この例ではベース基板10に導体パターン
20を形成した後、絞り加工して半導体チップ22の搭
載部位を若干凹形状に形成している。また、支持用リー
ドフレーム30に導体パターン20を接続するためベー
ス基板10の周縁部を平坦状に外方に延出し、支持用リ
ードフレーム30に接続するアウターリード20bをパ
ターン形成してアウターリード20bと支持用リードフ
レーム30とを接続する。アウターリード20bと支持
用リードフレーム30とは金−金、金−すず、金−銀等
の熱圧着による接合によって接続できる。
In this example, the conductor pattern 20 is formed on the base substrate 10 and then drawn to form the mounting portion of the semiconductor chip 22 in a slightly concave shape. Further, in order to connect the conductor pattern 20 to the supporting lead frame 30, the peripheral portion of the base substrate 10 is extended outward in a flat shape, and the outer lead 20b connected to the supporting lead frame 30 is patterned to form the outer lead 20b. And the supporting lead frame 30 are connected. The outer leads 20b and the supporting lead frame 30 can be connected by joining by thermocompression bonding of gold-gold, gold-tin, gold-silver or the like.

【0030】本実施例のようにベース基板を支持用リー
ドフレーム30に接続して構成するのは、樹脂モールド
した際に半導体チップ22を搭載した側の樹脂部の肉厚
と反対側の樹脂部の肉厚を均等にして、樹脂モールド後
に半導体装置が反ることを防止でき、半導体装置の信頼
性を高めることができる。
As in the present embodiment, the base substrate is connected to the supporting lead frame 30 so that the resin portion on the side opposite to the thickness of the resin portion on which the semiconductor chip 22 is mounted when resin-molded is formed. The thickness of the semiconductor device can be made uniform to prevent the semiconductor device from warping after the resin molding, and the reliability of the semiconductor device can be improved.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明に係る半導体装置用パッケージ及
び半導体装置によれば、上述したようにパッケージを薄
形化してコンパクトに形成することができる。また、外
部接続用としてバンプを設けることによって表面実装が
可能になり、省スペース化を図ることが可能になる。ま
た、ベース基板上に導体パターンを形成することから高
密度に導体パターンを形成することができ容易に多ピン
化に対応することが可能になる。また、金属板のベース
基板を用いることによってパッケージの熱放散性を向上
させることができる。また、本発明に係る半導体装置用
パッケージの製造方法によれば、ベース基板を絞り加工
することから半導体装置用パッケージの製造を容易に
し、長尺な金属板を使用して効率的に製造することが可
能になる等の著効を奏する。
According to the semiconductor device package and the semiconductor device of the present invention, the package can be made thin and compact as described above. Further, by providing bumps for external connection, surface mounting becomes possible and space saving can be achieved. Further, since the conductor pattern is formed on the base substrate, it is possible to form the conductor pattern with high density and easily cope with the increase in the number of pins. In addition, the heat dissipation of the package can be improved by using the metal base substrate. Further, according to the method for manufacturing a semiconductor device package of the present invention, since the base substrate is drawn, the manufacturing of the semiconductor device package is facilitated, and the long metal plate is used for efficient manufacturing. It has a remarkable effect such as being possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】半導体装置用パッケージの製造方法を示す説明
図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a method for manufacturing a semiconductor device package.

【図2】ベース基板上で導体パターンを形成する方法を
示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a method of forming a conductor pattern on a base substrate.

【図3】半導体装置の一実施例の構成を示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the configuration of an example of a semiconductor device.

【図4】半導体装置の他の実施例の構成を示す断面図で
ある。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the configuration of another embodiment of the semiconductor device.

【図5】半導体装置のさらに他の実施例の構成を示す断
面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the configuration of still another embodiment of the semiconductor device.

【図6】半導体装置の従来例の構成を示す断面図であ
る。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a configuration of a conventional example of a semiconductor device.

【図7】メタルコアタイプの半導体装置の従来例の構成
を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a configuration of a conventional example of a metal core type semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5 モールド樹脂 10 ベース基板 10a、10b 曲げ段差部 12 レール部 14 サポートバー 16 絶縁フィルム 18 銅箔 20 導体パターン 20a インナーリード 20b アウターリード 22 半導体チップ 24 バンプ 26 封止樹脂 28 放熱体 30 支持用リードフレーム 5 Mold Resin 10 Base Substrate 10a, 10b Bending Step Part 12 Rail Part 14 Support Bar 16 Insulating Film 18 Copper Foil 20 Conductor Pattern 20a Inner Lead 20b Outer Lead 22 Semiconductor Chip 24 Bump 26 Sealing Resin 28 Radiator 30 Supporting Lead Frame

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップを搭載するベース基板上に
半導体チップに接続されるインナーリードと外部接続用
のアウターリード等の導体パターンが形成され、 前記ベース基板とともに前記導体パターンが一体に絞り
加工されて、前記アウターリードが設けられる前記ベー
ス基板の周縁部に対して半導体チップの接合部位がくぼ
み形成されたことを特徴とする半導体装置用パッケー
ジ。
1. A conductor pattern such as an inner lead connected to the semiconductor chip and an outer lead for external connection is formed on a base substrate on which the semiconductor chip is mounted, and the conductor pattern is integrally drawn together with the base substrate. The semiconductor device package is characterized in that a joint portion of the semiconductor chip is formed in a recess with respect to a peripheral portion of the base substrate on which the outer lead is provided.
【請求項2】 半導体チップを搭載するベース基板上に
半導体チップに接続されるインナーリードと外部接続用
のアウターリード等の導体パターンが形成され、 前記ベース基板とともに前記導体パターンが一体に絞り
加工されて、前記アウターリードが設けられる前記ベー
ス基板の周縁部に対して半導体チップの接合部位がくぼ
み形成され、 前記アウターリードに別体で形成された支持用リードフ
レームが接合されたことを特徴とする半導体装置用パッ
ケージ。
2. A conductor pattern such as an inner lead connected to the semiconductor chip and an outer lead for external connection is formed on a base substrate on which a semiconductor chip is mounted, and the conductor pattern is integrally drawn together with the base substrate. A joint portion of the semiconductor chip is recessed in the peripheral portion of the base substrate on which the outer lead is provided, and a supporting lead frame formed separately is joined to the outer lead. Package for semiconductor device.
【請求項3】 ベース基板の周縁部が所定幅で平坦面に
形成され、該平坦面上に延出するアウターリードに表面
実装用のバンプが形成されたことを特徴とする請求項1
記載の半導体装置用パッケージ。
3. The surface of the base substrate is formed on a flat surface with a predetermined width, and bumps for surface mounting are formed on the outer leads extending on the flat surface.
The semiconductor device package described.
【請求項4】 ベース基板が金属板であり、該金属板に
設けた電気的絶縁層上に導体パターンを設けたことを特
徴とする請求項1、2または3記載の半導体装置用パッ
ケージ。
4. The semiconductor device package according to claim 1, wherein the base substrate is a metal plate, and a conductor pattern is provided on an electrically insulating layer provided on the metal plate.
【請求項5】 ベース基板が電気的絶縁性を有する絶縁
基板であり、該絶縁基板上に導体パターンが形成された
ことを特徴とする請求項1、2または3記載の半導体装
置用パッケージ。
5. The package for a semiconductor device according to claim 1, wherein the base substrate is an insulating substrate having electrical insulation, and a conductor pattern is formed on the insulating substrate.
【請求項6】 ベース基板たる金属板上に電気的絶縁性
を有する絶縁被膜を設け、該絶縁被膜上に導体層を形成
した後、 該導体層をエッチングして半導体チップに接続するイン
ナーリードおよび外部接続用のアウターリード等の導体
パターンを形成し、 前記金属板および前記絶縁被膜および前記導体パターン
を一体的に絞り加工して、前記アウターリードが設けら
れる前記ベース基板の周縁部に対して半導体チップの接
合部位をくぼみ形成することを特徴とする半導体装置用
パッケージの製造方法。
6. An inner lead for connecting a semiconductor chip by providing an insulating coating having electrical insulation property on a metal plate as a base substrate, forming a conductor layer on the insulating coating, and connecting the conductor layer to a semiconductor chip. A conductor pattern such as an outer lead for external connection is formed, and the metal plate, the insulating coating, and the conductor pattern are integrally drawn, and a semiconductor is formed on the peripheral portion of the base substrate on which the outer lead is provided. A method of manufacturing a package for a semiconductor device, characterized in that a bonding portion of a chip is formed in a recess.
【請求項7】 長尺状に形成された金属板を使用し、該
金属板に加工を施して所定間隔でベース基板となる金属
板を形成し、該金属板に絶縁被膜および導体層を設けて
製造することを特徴とする請求項6記載の半導体装置用
パッケージの製造方法。
7. An elongated metal plate is used, the metal plate is processed to form metal plates to be base substrates at predetermined intervals, and an insulating coating and a conductor layer are provided on the metal plate. 7. The method for manufacturing a semiconductor device package according to claim 6, wherein the manufacturing method is a semiconductor device package.
【請求項8】 請求項1、2、3、4または5記載の半
導体装置用パッケージに半導体チップが搭載され、半導
体チップとインナーリードとが電気的に接続され、半導
体チップが封止されて成ることを特徴とする半導体装
置。
8. A semiconductor chip is mounted on the semiconductor device package according to claim 1, the semiconductor chip and an inner lead are electrically connected, and the semiconductor chip is sealed. A semiconductor device characterized by the above.
【請求項9】 請求項1、3、4または5記載の半導体
装置用パッケージに半導体チップが搭載され、半導体チ
ップとインナーリードとが電気的に接続され、ベース基
板の凹部内に封止樹脂が充填されて半導体チップが封止
されて成ることを特徴とする半導体装置。
9. A semiconductor chip is mounted on the semiconductor device package according to claim 1, the semiconductor chip and an inner lead are electrically connected, and a sealing resin is provided in a recess of the base substrate. A semiconductor device comprising a semiconductor chip filled and sealed with a semiconductor chip.
JP7383293A 1993-03-31 1993-03-31 Semiconductor device package, manufacture thereof, and semiconductor device Pending JPH06291243A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1035164A (en) * 1996-04-25 1998-02-10 Samsung Aerospace Ind Ltd Ic card and manufacture thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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