JPH06288901A - 減衰全反射型薄膜評価装置 - Google Patents
減衰全反射型薄膜評価装置Info
- Publication number
- JPH06288901A JPH06288901A JP7470193A JP7470193A JPH06288901A JP H06288901 A JPH06288901 A JP H06288901A JP 7470193 A JP7470193 A JP 7470193A JP 7470193 A JP7470193 A JP 7470193A JP H06288901 A JPH06288901 A JP H06288901A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- prism
- attenuated total
- atr
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光結合用プリズム内の光共振器の形成を回避
してこれによるＡＴＲスペクトルに不安定領域が生じる
ことを回避する。 【構成】 光結合用プリズム１を介して被評価薄膜１１
に測定用光ビーム２を照射して、減衰全反射による分析
評価を行う減衰全反射型薄膜評価装置において、プリズ
ム１を、被評価薄膜１１が配置される面を底面とするそ
の両側の底角α及びβを互いに異なる角度に選定する。
してこれによるＡＴＲスペクトルに不安定領域が生じる
ことを回避する。 【構成】 光結合用プリズム１を介して被評価薄膜１１
に測定用光ビーム２を照射して、減衰全反射による分析
評価を行う減衰全反射型薄膜評価装置において、プリズ
ム１を、被評価薄膜１１が配置される面を底面とするそ
の両側の底角α及びβを互いに異なる角度に選定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜の屈折率、減衰係
数（光吸収）、膜厚等を評価測定する減衰全反射型薄膜
評価装置に係わる。
数（光吸収）、膜厚等を評価測定する減衰全反射型薄膜
評価装置に係わる。
【０００２】
【従来の技術】減衰全反射型薄膜評価方法は、例えば日
本物理学会誌 Vol.43,No.11,1988，第863 〜868 頁に開
示されているように、減衰全反射（以下ＡＴＲという）
の現象を利用して薄膜の光学定数評価を行うものであ
る。
本物理学会誌 Vol.43,No.11,1988，第863 〜868 頁に開
示されているように、減衰全反射（以下ＡＴＲという）
の現象を利用して薄膜の光学定数評価を行うものであ
る。
【０００３】このＡＴＲによる評価は、同じ目的で広く
用いられている偏光解析と比較すると、偏光解析が透明
薄膜や吸収バルク材に適性があるのに対し、ＡＴＲは被
評価薄膜が金属のように光吸収をもつ薄膜である場合に
好適である。
用いられている偏光解析と比較すると、偏光解析が透明
薄膜や吸収バルク材に適性があるのに対し、ＡＴＲは被
評価薄膜が金属のように光吸収をもつ薄膜である場合に
好適である。
【０００４】このＡＴＲ評価は、屈折率の高い媒質Ａか
ら屈折率の小さい媒質Ｂに入射する光が、或る入射角、
すなわち両媒質の屈折率によって決まる全反射臨界角を
越えるときに生じる全反射の現象を利用するものであ
る。このとき、両媒質Ａ及びＢの界面に光を吸収する物
質の薄膜、例えば金属薄膜が存在すると、媒質Ｂから滲
み出した光がこの薄膜で吸収されて反射される光パワー
が減少する。
ら屈折率の小さい媒質Ｂに入射する光が、或る入射角、
すなわち両媒質の屈折率によって決まる全反射臨界角を
越えるときに生じる全反射の現象を利用するものであ
る。このとき、両媒質Ａ及びＢの界面に光を吸収する物
質の薄膜、例えば金属薄膜が存在すると、媒質Ｂから滲
み出した光がこの薄膜で吸収されて反射される光パワー
が減少する。
【０００５】このＡＴＲの現象は、共鳴的な性格を持っ
ている。これは、最も効果的に光パワーを吸収できるモ
ードが金属薄膜表面のプラズマ振動（電気分極の波動）
であり、これが媒質の光学定数で決まる固有の分散関係
角周波数ωと波数ｋの金属薄膜の面方向成分ｋH とが満
たす一定の関係）を持っていることにより、滲み出し光
が、これと同じω，ｋH を持つときに限って高い効率で
プラズモンへとエネルギーが移動し、反射率が激減す
る。
ている。これは、最も効果的に光パワーを吸収できるモ
ードが金属薄膜表面のプラズマ振動（電気分極の波動）
であり、これが媒質の光学定数で決まる固有の分散関係
角周波数ωと波数ｋの金属薄膜の面方向成分ｋH とが満
たす一定の関係）を持っていることにより、滲み出し光
が、これと同じω，ｋH を持つときに限って高い効率で
プラズモンへとエネルギーが移動し、反射率が激減す
る。
【０００６】このＡＴＲ薄膜評価方法は、例えば図５に
その一例の基本的構成を示すように、断面直角３角形の
柱状の屈折率ｎp を有するプリズム１の底面に形成した
被評価薄膜１１例えばＡｇ蒸着膜に対して測定用の入射
光２例えば角周波数ωL のレーザ光を所要の見掛けの入
射角（プリズムに入射する光の、プリズム底面に対する
法線とのなす角を見掛け入射角と称することにする）θ
i をもって照射することによって行われる。
その一例の基本的構成を示すように、断面直角３角形の
柱状の屈折率ｎp を有するプリズム１の底面に形成した
被評価薄膜１１例えばＡｇ蒸着膜に対して測定用の入射
光２例えば角周波数ωL のレーザ光を所要の見掛けの入
射角（プリズムに入射する光の、プリズム底面に対する
法線とのなす角を見掛け入射角と称することにする）θ
i をもって照射することによって行われる。
【０００７】図６は、この場合の表面プラズモンの分散
関係を示す図である。
関係を示す図である。
【０００８】本発明で対象とするＡＴＲ薄膜評価装置
は、例えば入射光の周波数ωL は固定とするものである
が、光の入射角θi を変えることによって下記数１によ
って波数ｋH を選定して、図６の分散曲線上の点Ｐを得
ることができる。
は、例えば入射光の周波数ωL は固定とするものである
が、光の入射角θi を変えることによって下記数１によ
って波数ｋH を選定して、図６の分散曲線上の点Ｐを得
ることができる。
【０００９】
【数１】ｋH ＝ωL ｎp ｓｉｎθi ／ｃ ｃは光速を示す。
【００１０】図７は、光の入射角θi に対する反射率の
変化を示し、破線曲線は、プリズムのみの場合、実線曲
線はＡｇ薄膜がある場合で、プリズムのみの場合は、θ
i ＞θc で全反射、Ａｇ薄膜すなわち金属薄膜が存在す
る場合は、図５の点Ｐの分散関係によるＡＴＲによる沈
み込みＡが生じる。θc は全反射臨界角。
変化を示し、破線曲線は、プリズムのみの場合、実線曲
線はＡｇ薄膜がある場合で、プリズムのみの場合は、θ
i ＞θc で全反射、Ａｇ薄膜すなわち金属薄膜が存在す
る場合は、図５の点Ｐの分散関係によるＡＴＲによる沈
み込みＡが生じる。θc は全反射臨界角。
【００１１】このような反射率の角度依存性は、媒質の
光学定数（屈折率ｎ，消衰係数ｋ），金属薄膜の厚さｄ
を仮定して計算することによって求めることができるの
で、計算結果が実測を再現するようにしてｎ，ｋ，ｄの
３者全てを同時に推定できるのである。
光学定数（屈折率ｎ，消衰係数ｋ），金属薄膜の厚さｄ
を仮定して計算することによって求めることができるの
で、計算結果が実測を再現するようにしてｎ，ｋ，ｄの
３者全てを同時に推定できるのである。
【００１２】因みに、良く用いられる、入射角固定，単
一波長の偏光解析装置では、ｋに文献値を仮定してｎと
ｄを求めるとか、膜厚を別法で定めた上でｎ，ｋを求め
るというように、２者の推定しかできないものであり、
ここにＡＴＲ薄膜評価方法の大きな利点が存在する。
一波長の偏光解析装置では、ｋに文献値を仮定してｎと
ｄを求めるとか、膜厚を別法で定めた上でｎ，ｋを求め
るというように、２者の推定しかできないものであり、
ここにＡＴＲ薄膜評価方法の大きな利点が存在する。
【００１３】ところで、上述したＡＴＲ薄膜評価方法で
は、上述したところから明らかなように、全反射臨界角
θc を超える範囲を含んで測定用光ビーム２を角度掃引
するものであるが、いま図５で示すように、光結合用プ
リズム１として２等辺３角形、例えば直角３角形のプリ
ズムを用いる場合、光ビームのプリズム１に対する入射
角が９０°（直角３角形の場合は見掛け入射角θi が４
５°に相当）の場合、その見掛け入射角に対する反射率
すなわちＡＴＲスペクトルは、図７に示すように４５°
近傍で乱れを生じる。
は、上述したところから明らかなように、全反射臨界角
θc を超える範囲を含んで測定用光ビーム２を角度掃引
するものであるが、いま図５で示すように、光結合用プ
リズム１として２等辺３角形、例えば直角３角形のプリ
ズムを用いる場合、光ビームのプリズム１に対する入射
角が９０°（直角３角形の場合は見掛け入射角θi が４
５°に相当）の場合、その見掛け入射角に対する反射率
すなわちＡＴＲスペクトルは、図７に示すように４５°
近傍で乱れを生じる。
【００１４】この現象は図５に示すように、測定用光ビ
ームがプリズム１の一方の斜面に対して直角に入射する
場合、このプリズム１に対する入射点Ａと被評価薄膜１
１が配置される底面の全反射がなされる点Ｂとプリズム
１からの出射点Ｃとを結ぶ光路が底面に対する点Ｂを通
る法線に対して対称であるため、点Ｂから点Ｃに向かっ
てこの点Ｃで反射した一部の光が再び同一光路を採って
点Ｃから点Ｂに向かいその一部の光が反射するという繰
り返し往復による共振が生じることに因ると考えられ
る。
ームがプリズム１の一方の斜面に対して直角に入射する
場合、このプリズム１に対する入射点Ａと被評価薄膜１
１が配置される底面の全反射がなされる点Ｂとプリズム
１からの出射点Ｃとを結ぶ光路が底面に対する点Ｂを通
る法線に対して対称であるため、点Ｂから点Ｃに向かっ
てこの点Ｃで反射した一部の光が再び同一光路を採って
点Ｃから点Ｂに向かいその一部の光が反射するという繰
り返し往復による共振が生じることに因ると考えられ
る。
【００１５】すなわち、上述の点Ａ−Ｃを一回だけ通っ
て点Ｃから外部に検出される本来の測定用光の振幅に、
上述の共振による光振幅が重ね合わせられ、これらの波
の位相が同相か否かによって検出光が強められたり、弱
められたりする干渉が生じ図８で示す干渉領域Ｉが発生
するものであると考えられる。
て点Ｃから外部に検出される本来の測定用光の振幅に、
上述の共振による光振幅が重ね合わせられ、これらの波
の位相が同相か否かによって検出光が強められたり、弱
められたりする干渉が生じ図８で示す干渉領域Ｉが発生
するものであると考えられる。
【００１６】このようなプリズム内の光干渉による雑音
を回避する方法としては、例えばプリズムの屈折率また
はプリズムの角度を大きく変えて目的のＡＴＲスペクト
ルが雑音の出ない角度領域に現れるように動かす方法が
考えられる。
を回避する方法としては、例えばプリズムの屈折率また
はプリズムの角度を大きく変えて目的のＡＴＲスペクト
ルが雑音の出ない角度領域に現れるように動かす方法が
考えられる。
【００１７】この場合、プリズムに対して全反射を生じ
させる媒質が常に例えば空気であるというように同じ媒
質である場合には、この方法はかなり有効である。
させる媒質が常に例えば空気であるというように同じ媒
質である場合には、この方法はかなり有効である。
【００１８】しかしながら、例えば化学センサなどに用
いる場合においては、全反射臨界角が必ずしも一定では
なく、この方法の適用が困難となる場合が生じる。
いる場合においては、全反射臨界角が必ずしも一定では
なく、この方法の適用が困難となる場合が生じる。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したＡ
ＴＲスペクトルに干渉領域Ｉすなわち不安定領域が発生
することを効果的に回避し、しかも上述したような全反
射臨界角が確定されていない場合においても確実にＡＴ
Ｒスペクトルに干渉領域の発生したがって雑音の発生を
効果的に回避できるようにする。
ＴＲスペクトルに干渉領域Ｉすなわち不安定領域が発生
することを効果的に回避し、しかも上述したような全反
射臨界角が確定されていない場合においても確実にＡＴ
Ｒスペクトルに干渉領域の発生したがって雑音の発生を
効果的に回避できるようにする。
【００２０】すなわち本発明においては、被評価薄膜に
対する光結合用プリズム内に根本的に光共振器が構成す
ることがない構成とする。
対する光結合用プリズム内に根本的に光共振器が構成す
ることがない構成とする。
【００２１】
【課題を解決するための手段】本発明においては、図１
にその一例の平面図を示すように、光結合用プリズム１
を介して被評価薄膜１１に測定用光ビーム２を照射し
て、減衰全反射による分析評価を行う減衰全反射型薄膜
評価装置において、プリズム１を、被評価薄膜１１が配
置される面を底面とするその両側の底角α及びβを互い
に異なる角度に選定する。すなわちβ＝α＋δとする。
ここにδ＞０またはδ＜０とする。
にその一例の平面図を示すように、光結合用プリズム１
を介して被評価薄膜１１に測定用光ビーム２を照射し
て、減衰全反射による分析評価を行う減衰全反射型薄膜
評価装置において、プリズム１を、被評価薄膜１１が配
置される面を底面とするその両側の底角α及びβを互い
に異なる角度に選定する。すなわちβ＝α＋δとする。
ここにδ＞０またはδ＜０とする。
【００２２】
【作用】上述の本発明構成によれば、図１で示すよう
に、測定用光ビーム２が、プリズムの底面（本明細書で
は、上述したところから明らかなように、被評価薄膜１
１が配置される面を底面としている）の所定の点、すな
わち一般には底面の中央の点Ｂに向かってプリズムの斜
面に直角に入射した光が、点Ｂで全反射した場合におい
ても、他方の斜面の点Ｃで反射した一部の光は、図１に
破線図示のように、点Ｂに向かうことなく他へと反射す
るので光共振器が生じることが回避される。
に、測定用光ビーム２が、プリズムの底面（本明細書で
は、上述したところから明らかなように、被評価薄膜１
１が配置される面を底面としている）の所定の点、すな
わち一般には底面の中央の点Ｂに向かってプリズムの斜
面に直角に入射した光が、点Ｂで全反射した場合におい
ても、他方の斜面の点Ｃで反射した一部の光は、図１に
破線図示のように、点Ｂに向かうことなく他へと反射す
るので光共振器が生じることが回避される。
【００２３】したがって、この構成によって得たＡＴＲ
スペクトルは図２に示すように、干渉領域すなわち不安
定領域がない滑らかな特性となり、ＡＴＲ評価に対して
雑音の小さい確実な評価（測定）を行うことができる。
スペクトルは図２に示すように、干渉領域すなわち不安
定領域がない滑らかな特性となり、ＡＴＲ評価に対して
雑音の小さい確実な評価（測定）を行うことができる。
【００２４】
【実施例】図３を参照して本発明によるＡＴＲ型薄膜評
価装置の一例を説明する。このＡＴＲ型薄膜評価装置は
標準的なＡＴＲ測定系とすることができる。
価装置の一例を説明する。このＡＴＲ型薄膜評価装置は
標準的なＡＴＲ測定系とすることができる。
【００２５】この場合、角走査を行うための回転台６１
上に被評価薄膜を有する試料６２を載置する。
上に被評価薄膜を有する試料６２を載置する。
【００２６】この試料６２は、図１に示すように、光結
合用プリズム１の底面に直接的に被評価薄膜１１が形成
された構成とすることができるが、本出願人による特願
平５−７２２４５号で提案した構成を採ることができ
る。すなわち、例えばＣＤ（コンパクトディスク）等の
光ディスクにおいてガラスやプラスチックス等の光透過
性基板に被着されたＡｌ薄膜等を被評価薄膜１１とする
ときは、図４に示すように、この光ディスク等の光透過
性基板１２を、その薄膜１１を有する側とは反対側にお
いて光結合用プリズム１の底面に、カップリング層１５
を介して光学的に結合配置した構成とする。
合用プリズム１の底面に直接的に被評価薄膜１１が形成
された構成とすることができるが、本出願人による特願
平５−７２２４５号で提案した構成を採ることができ
る。すなわち、例えばＣＤ（コンパクトディスク）等の
光ディスクにおいてガラスやプラスチックス等の光透過
性基板に被着されたＡｌ薄膜等を被評価薄膜１１とする
ときは、図４に示すように、この光ディスク等の光透過
性基板１２を、その薄膜１１を有する側とは反対側にお
いて光結合用プリズム１の底面に、カップリング層１５
を介して光学的に結合配置した構成とする。
【００２７】このカップリング層１５は、プリズム１と
このカップリング層１５との界面での全反射臨界角が光
透過性基板１２と空気との界面での全反射臨界角よりも
大となる液体層と例えば、水、アーモンド油、ヨウ化メ
チレン等層する。
このカップリング層１５との界面での全反射臨界角が光
透過性基板１２と空気との界面での全反射臨界角よりも
大となる液体層と例えば、水、アーモンド油、ヨウ化メ
チレン等層する。
【００２８】このように、プリズム１とこのカップリン
グ層１５との界面ディスクの全反射臨界角が光透過性基
板１１と空気との界面での全反射臨界角よりも大となる
液体層によるカップリング層１５とするときは、特願平
５−７２２４５号で説明されているように、プリズムと
基板１２との間の各界面のＡＴＲ評価への実質的影響を
回避できる。
グ層１５との界面ディスクの全反射臨界角が光透過性基
板１１と空気との界面での全反射臨界角よりも大となる
液体層によるカップリング層１５とするときは、特願平
５−７２２４５号で説明されているように、プリズムと
基板１２との間の各界面のＡＴＲ評価への実質的影響を
回避できる。
【００２９】そして、特に本発明においては、このプリ
ズム１の構成を、被評価薄膜１１が配置される面を底面
とするその両側の底角α及びβを互いに異なる角度に選
定する。すなわちβ＝α＋δとする。ここにδ＞０また
はδ＜０とする。
ズム１の構成を、被評価薄膜１１が配置される面を底面
とするその両側の底角α及びβを互いに異なる角度に選
定する。すなわちβ＝α＋δとする。ここにδ＞０また
はδ＜０とする。
【００３０】載置台６１は、いわゆるゴニオメータステ
ージによって構成することができる。すなわち、例えば
それぞれ２θとθとの関係で回動する第１及び第２のス
テージ６３及び６４を有して成り、第２のステージ６４
上に更に互いに直交するｘ及びｙの２方向に移動可能と
し得、このステージ７５上に試料６２を載置する。
ージによって構成することができる。すなわち、例えば
それぞれ２θとθとの関係で回動する第１及び第２のス
テージ６３及び６４を有して成り、第２のステージ６４
上に更に互いに直交するｘ及びｙの２方向に移動可能と
し得、このステージ７５上に試料６２を載置する。
【００３１】そして、光源例えばＨｅ−Ｎｅレーザ６５
が設けられ、これよりの測定用光ビーム２すなわちレー
ザ光を、偏光子６６、ビームスプリッタ６７、ビームシ
フタ６８を通じてプリズム１に図４で示す所要の見掛け
入射角θi をもって導入する。
が設けられ、これよりの測定用光ビーム２すなわちレー
ザ光を、偏光子６６、ビームスプリッタ６７、ビームシ
フタ６８を通じてプリズム１に図４で示す所要の見掛け
入射角θi をもって導入する。
【００３２】この測定用光ビーム２は、その径を光透過
性基板１１の厚さＤより小に選定する。
性基板１１の厚さＤより小に選定する。
【００３３】そして、第１及び第２のステージを２θ及
びθの関係で回転させつつ入射角に対する試料６２から
の反射光２Ｒを測定する。このため、例えば第１のステ
ージ６３に配置されたフォトダイオード等の第１の光検
出器６９によって検出する。このとき、ビームシフタ６
８を回転させ、ステージ７５をｘ，ｙ方向に移動させる
ことによって、光透過性基板１１の薄膜１との界面の所
定の測定位置に入射光が照射されるように調整される。
びθの関係で回転させつつ入射角に対する試料６２から
の反射光２Ｒを測定する。このため、例えば第１のステ
ージ６３に配置されたフォトダイオード等の第１の光検
出器６９によって検出する。このとき、ビームシフタ６
８を回転させ、ステージ７５をｘ，ｙ方向に移動させる
ことによって、光透過性基板１１の薄膜１との界面の所
定の測定位置に入射光が照射されるように調整される。
【００３４】一方、ビームスプリッタ６７で分離された
レーザ光の一部を、フォトダイオード等の第２の光検出
器７０によってレーザ光すなわち測定用光ビームのパワ
ーを検出し、これら光検出器６９及び７０の各検出出力
をそれぞれ増幅器７１及び７２によって増幅してこれら
出力Ａ及びＢをアナログ割り算器（アナログデバイス
社：ＡＤ−５３３）７３に導入してＡ／Ｂを得、これに
所要の係数を掛けて反射率を算出する。
レーザ光の一部を、フォトダイオード等の第２の光検出
器７０によってレーザ光すなわち測定用光ビームのパワ
ーを検出し、これら光検出器６９及び７０の各検出出力
をそれぞれ増幅器７１及び７２によって増幅してこれら
出力Ａ及びＢをアナログ割り算器（アナログデバイス
社：ＡＤ−５３３）７３に導入してＡ／Ｂを得、これに
所要の係数を掛けて反射率を算出する。
【００３５】割り算器７３の出力はディジタルオシロス
コープを介してパソコン（ＰＣ−９８０１）に導入す
る。そしてここで理論反射率の計算、及び実測値との相
互比較もすべてこのパソコン上で行う。このようにして
ＡＴＲによる金属薄膜１の光学定数評価を行う。
コープを介してパソコン（ＰＣ−９８０１）に導入す
る。そしてここで理論反射率の計算、及び実測値との相
互比較もすべてこのパソコン上で行う。このようにして
ＡＴＲによる金属薄膜１の光学定数評価を行う。
【００３６】前述したように本発明によれば、その光学
的結合のためのプリズム１の底角を互いに異なる角度と
して不等辺３角形としたことにより、プリズム内部での
光共振器が構成されることを回避したことにより、図２
で説明したＡＴＲスペクトルでの干渉領域の発生を回避
でき、正確なＡＴＲによる被評価薄膜の光学定数等の評
価（測定）を行うことができる。
的結合のためのプリズム１の底角を互いに異なる角度と
して不等辺３角形としたことにより、プリズム内部での
光共振器が構成されることを回避したことにより、図２
で説明したＡＴＲスペクトルでの干渉領域の発生を回避
でき、正確なＡＴＲによる被評価薄膜の光学定数等の評
価（測定）を行うことができる。
【００３７】なお、図２及び図８の各ＡＴＲスペクトル
は、共にガラス基板上にＡｕ薄膜を被着して上述した液
体カップリング層をもって各プリズム１に光学的に結合
した場合である。
は、共にガラス基板上にＡｕ薄膜を被着して上述した液
体カップリング層をもって各プリズム１に光学的に結合
した場合である。
【００３８】
【発明の効果】上述の本発明のＡＴＲ型薄膜評価装置に
よれば、プリズム内での光共振器の発生を回避したの
で、この共振器が構成されることによって発生するＡＴ
Ｒスペクトルでの不安定領域の発生を回避でき、ＡＴＲ
評価に対して雑音の小さい確実な評価（測定）を行うこ
とができる。
よれば、プリズム内での光共振器の発生を回避したの
で、この共振器が構成されることによって発生するＡＴ
Ｒスペクトルでの不安定領域の発生を回避でき、ＡＴＲ
評価に対して雑音の小さい確実な評価（測定）を行うこ
とができる。
【図１】本発明装置のプリズムの一例の平面図である。
【図２】本発明装置のＡＴＲスペクトル図である。
【図３】本発明装置の一例の構成図である。
【図４】本発明装置の一例のプリズム及び試料の関係を
示す平面図である。
示す平面図である。
【図５】従来装置のプリズムの平面図である。
【図６】表面プラズモンの分散関係を示す図である。
【図７】ＡＴＲ薄膜評価方法の説明に供する反射率と見
掛け入射角との関係を示す図である。
掛け入射角との関係を示す図である。
【図８】従来装置のＡＴＲスペクトル図である。
１ 光結合用プリズム １１ 被評価薄膜 １２ 光透過性基板 １５ カップリング層
Claims (1)
- 【請求項１】 光結合用プリズムを介して被評価薄膜に
測定用光ビームを照射して、減衰全反射による分析評価
を行う減衰全反射型薄膜評価装置において、 上記プリズムを、上記被評価薄膜が配置される面を底面
とするその両側の底角が互いに異なる角度に選定された
ことを特徴とする減衰全反射型薄膜評価装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7470193A JP3321886B2 (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 減衰全反射型薄膜評価装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7470193A JP3321886B2 (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 減衰全反射型薄膜評価装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06288901A true JPH06288901A (ja) | 1994-10-18 |
| JP3321886B2 JP3321886B2 (ja) | 2002-09-09 |
Family
ID=13554800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7470193A Expired - Fee Related JP3321886B2 (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 減衰全反射型薄膜評価装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3321886B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006090902A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Toshiba Corp | 濃度測定装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1607064B1 (en) | 2004-06-17 | 2008-09-03 | Cadent Ltd. | Method and apparatus for colour imaging a three-dimensional structure |
-
1993
- 1993-03-31 JP JP7470193A patent/JP3321886B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006090902A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Toshiba Corp | 濃度測定装置 |
| JP4521241B2 (ja) * | 2004-09-24 | 2010-08-11 | 株式会社東芝 | 濃度測定装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3321886B2 (ja) | 2002-09-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Lin et al. | Phonon attenuation and velocity measurements in transparent materials by picosecond acoustic interferometry | |
| JP2938973B2 (ja) | 光ファイバ・センサおよび関連する方法と装置 | |
| US6421128B1 (en) | Coupled plasmon-waveguide resonance spectroscopic device and method for measuring film properties in the ultraviolet and infrared special ranges | |
| JP3021643B2 (ja) | 光学装置 | |
| US9285534B2 (en) | Fiber-optic surface plasmon resonance sensor and sensing method using the same | |
| US5255075A (en) | Optical sensor | |
| US6330387B1 (en) | Coupled plasmon-waveguide resonance spectroscopic device and method for measuring film properties in the ultraviolet and infrared spectral ranges | |
| US5864393A (en) | Optical method for the determination of stress in thin films | |
| Swalen et al. | Spectra of organic molecules in thin films | |
| US6992770B2 (en) | Sensor utilizing attenuated total reflection | |
| GB2227089A (en) | An optical biosensor | |
| US5392118A (en) | Method for measuring a trench depth parameter of a material | |
| US6057928A (en) | Free-space time-domain method for measuring thin film dielectric properties | |
| FR2873203A1 (fr) | Procede pour determiner des resonances de plasmons de surface sur des surfaces de mesure bidimensionnelles | |
| US5384639A (en) | Depth measurement of high aspect ratio structures | |
| Arwin et al. | A reflectance method for quantification of immunological reactions on surfaces | |
| JPH05172739A (ja) | 超短パルス光を用いた超高速表面振動の測定法 | |
| EP0620916A1 (en) | Analytical device with light scattering | |
| Kano et al. | Grating-coupled surface plasmon for measuring the refractive index of a liquid sample | |
| JPH06288902A (ja) | 減衰全反射型薄膜評価装置 | |
| JP3321886B2 (ja) | 減衰全反射型薄膜評価装置 | |
| JPH0783824A (ja) | 減衰全反射による解析方法及びその装置 | |
| CN1146718C (zh) | 确定记录头浮动高度的测量系统 | |
| RU2239157C2 (ru) | Интерферометр | |
| JPH06288900A (ja) | 減衰全反射型薄膜評価方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080628 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090628 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |