JPH06286782A - Integrated-circuit case - Google Patents

Integrated-circuit case

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JPH06286782A
JPH06286782A JP5085357A JP8535793A JPH06286782A JP H06286782 A JPH06286782 A JP H06286782A JP 5085357 A JP5085357 A JP 5085357A JP 8535793 A JP8535793 A JP 8535793A JP H06286782 A JPH06286782 A JP H06286782A
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JP
Japan
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case
fine particles
resin
case body
conductive fine
Prior art date
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Application number
JP5085357A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigenori Hamaoka
重則 浜岡
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Inoac Corp
Original Assignee
Inoue MTP KK
Inoac Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To satisfy all performance requirements of electrical conductivity, transparency and heat resistance by specifically regulating a case body for specifically regulating a light transmittance, haze and deflection temperature under load and the volume resistivity value. primary particle diameter and content of conductive fine particles dispersed as coating of the case body in a matrix layer. CONSTITUTION:This apparatus is provided with an almost tube- or plate-shaped integrated-circuit case body 1 for containing many integrated circuits composed of rigid material having 75% or more light transmittance per 1mm thickness, 8% and less haze and 150 degrees or higher deflection temperature under load. Also, the apparatus is equipped with conductive layers 2 covering the inner and outer surfaces of the case body 1. The conductive layers 2 are equipped with conductive fine particles 21 dispersed in a matrix layer 22 composed of resin binder and having 10<2>OMEGAcm and less volume resistivity value and 0.2mum and less primary particle diameter. The content of the conductive fine particles 21 is 60-75 pts.wt., when the total of the resin binder and conductive fine particles is 100 pts.wt., and the conductive fine particles 21 come out to the surfaces of the conductive layers 2. Therefore, it is possible to bake the fine particles without impairing their quality.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、集積回路用ケースに関
し、更に詳しく言えば、ICチップの樹脂封止後に封止
剤中の水分を加熱脱水(ベーキング)し、且つ、その状
態で出荷する為のICベーキング用兼出荷用の集積回路
用ケースに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an integrated circuit case, and more specifically, it heats and dehydrates (bakes) the water contained in the encapsulant after sealing the IC chip with a resin, and then ships in that state. The present invention relates to a case for IC baking and shipping for integrated circuits.

【0002】[0002]

【従来の技術】ICは、ICチップのリードフレームと
の加熱溶着(ボンデング)後に、ICチップの保護の
為、封止剤処理(パッケージシリーング)が行われてい
る。これに用いる封止剤としては、エポキシ系樹脂が主
流となっているが、この樹脂は吸水性が高いという欠点
を有している。この為、上記封止剤は、水分を吸収し易
く、この水分がICのプリント基板への実装後に行われ
るハンダ付工程(ハンダリフロー工程)にて加えられる
200℃前後の熱により気化し、封止剤に亀裂が入ると
いう問題(所謂、パッケージクラックトラブル)が多発
していた(参考文献;日経ニューマテリアル、No.5
3、41頁、1988年)。特に、QFP(Quad
Flat Package)と称される論理用ICは、
集積度が高く、リードフレームの数も多い為、必然的に
封止剤自体も薄肉化して、上記トラブルが生じ易い。こ
の為、このタイプのICは、プリント基板への実装前
に、個別の専用トレー上で、約120〜130℃の温度
の下、約24時間程度掛け、ベーキングを施し、封止剤
中の水分を取り除いて使用することが行われている。ま
た、近年、欧米を中心として、かかるベーキングの信頼
性の向上とベーキング時間の短縮を目的に、150℃以
上の温度の下、4〜6時間で、ベーキングを行う傾向に
あり、これに伴い、高耐熱性と高導電性を有する集積回
路用ケース(IC用トレー)が提案されつつある(特開
平2−166082号公報、参考文献;USP 510
4581)。
2. Description of the Related Art An IC is subjected to a sealing agent treatment (package sealing) for protecting the IC chip after heat welding (bonding) to the lead frame of the IC chip. Epoxy resins have been the mainstream as the sealing agent used for this purpose, but this resin has the drawback of high water absorption. Therefore, the encapsulant easily absorbs moisture, and this moisture is vaporized by heat of about 200 ° C. applied in the soldering process (solder reflow process) performed after the IC is mounted on the printed board, and the sealant is sealed. There were many problems (so-called package crack trouble) that cracks occurred in the stopper (reference document; Nikkei New Material, No. 5).
3, 41, 1988). In particular, QFP (Quad
A logic IC called a Flat Package)
Since the degree of integration is high and the number of lead frames is large, the encapsulant itself inevitably becomes thin and the above-mentioned troubles are likely to occur. For this reason, this type of IC is baked on an individual dedicated tray at a temperature of about 120 to 130 ° C. for about 24 hours before being mounted on a printed circuit board, and is baked to remove moisture in the sealant. Is removed and used. In recent years, mainly in Europe and the United States, there is a tendency to perform baking at a temperature of 150 ° C. or higher for 4 to 6 hours for the purpose of improving the reliability of the baking and shortening the baking time. An integrated circuit case (IC tray) having high heat resistance and high conductivity is being proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 2-166082, Reference: USP 510).
4581).

【0003】一方、DIP(Dual Inline
Package)等に代表されるメモリーを中心とした
IC群は、リードフレームの数も少なく、従来より上記
パッケージクラックとは無縁と考えられてきたが、近年
のメモリーの高集積化、これを使用する電子装置の小型
化の為、封止剤の薄肉化が進行し、130〜150℃の
温度の下、5〜24時間のベーキングを余儀無くされて
いるのが実情である。従って、この様な状況の下では、
搬送に用いられる集積回路用ケースにICを収納したま
まで、上記ベーキング工程を行えることがICの生産者
及び使用者の作業効率の向上の上で望ましい。この為に
は、上記集積回路用ケースが、収納されたICチップ
の放電破壊を防ぐ為の導電性(表面電気抵抗;109 Ω
以下の導電性)と、集積回路用ケース内のICの状況
を外部から確認できる為の透明性が必要となると共に、
ICを集積回路用ケースに収納したままで上記ベーキ
ングを行っても耐え得る耐熱性を有することが必要とな
る。
On the other hand, DIP (Dual Inline)
The IC group centered on memory, such as package), has a small number of lead frames and has been considered to be unrelated to the above-mentioned package cracks from the past. In order to reduce the size of electronic devices, the thickness of the encapsulant has been reduced, and it is inevitable that baking is performed at a temperature of 130 to 150 ° C. for 5 to 24 hours. Therefore, under these circumstances,
It is desirable to improve the work efficiency of IC producers and users by carrying out the baking process while the IC is stored in the integrated circuit case used for transportation. For this purpose, the integrated circuit case has conductivity (surface electric resistance; 10 9 Ω) for preventing discharge damage of the stored IC chip.
The following conductivity is required, and transparency is required to confirm the status of the IC inside the integrated circuit case from the outside.
It is necessary to have heat resistance that can withstand the above baking even when the IC is stored in the integrated circuit case.

【0004】しかしながら、上記〜の全ての要求性
能を同時に満足し、且つ簡易に製造でき、大量生産に適
する集積回路用ケースは、未だ提案されていないのが実
情である。例えば、ポリスチレン樹脂やポリ塩化ビニル
樹脂等の透明性のある軟質樹脂製の集積回路用ケース本
体(押し出しチューブ等)の内面及び外面を帯電防止用
界面活性剤でコーティングした集積回路用ケースでは、
上記ベーキング条件を満足する程の耐熱性を有していな
い。また、この場合に、集積回路用ケース本体を透明性
及び耐熱性を有する他の樹脂材料により構成した場合で
あっても、その表面にコーティングされた界面活性剤が
微量の水分の存在下でのみ帯電防止効果を発生するた
め、上記ベーキングに伴う水分の喪失により、その帯電
防止効果が消失することとなる。これに対して、上記界
面活性剤の代わりに、導電性を有する金属をメッキ、蒸
着又はスパッタリング等でコーティングする方法や集積
回路用ケース本体を無機ガラスで作り、その表面に金属
塗膜を形成する方法で製造した集積回路用ケースは、上
記〜の全ての要求性能を同時に満足するが、これら
の方法では生産性が悪く、またコストが高くなる。
However, the fact is that an integrated circuit case that satisfies all of the above-mentioned required performances at the same time, can be easily manufactured, and is suitable for mass production has not yet been proposed. For example, in the case of an integrated circuit in which the inner surface and the outer surface of an integrated circuit case body (extrusion tube etc.) made of a transparent soft resin such as polystyrene resin or polyvinyl chloride resin is coated with an antistatic surfactant,
It does not have enough heat resistance to satisfy the above baking conditions. Further, in this case, even when the integrated circuit case body is made of another resin material having transparency and heat resistance, the surface-active agent coated on the surface thereof is present only in the presence of a small amount of water. Since the antistatic effect is generated, the antistatic effect disappears due to the loss of water due to the baking. On the other hand, instead of the above-mentioned surfactant, a method of coating a conductive metal by plating, vapor deposition or sputtering, or a case body for integrated circuits is made of inorganic glass, and a metal coating film is formed on the surface thereof. The integrated circuit case manufactured by the method simultaneously satisfies all of the above-mentioned required performances, but these methods result in poor productivity and high cost.

【0005】この為、現状では、ICの生産者側等にお
いて、第1工程としてアルミニウム製の引抜チューブ等
の内にICを収納しベーキングした後、第2工程として
表面を界面活性剤で導電コートしたポリスチレン等から
なる集積回路用ケース内に、上記ベーキング済みのIC
を詰め替え、更に、必要に応じてゴム又はプラスチック
の止め栓を装着して出荷するという大変な労力を費やし
て生産活動を行っている状況にある。更に、エポキシ樹
脂封止剤の吸水作用には可逆性があり、IC出荷後に当
該ICが外気に接した後は、100時間前後で上記ベー
キング前の吸水状態を回復する(参考文献;実装技術
vol.8、No.1、74頁)。従って、ICの使用
者側においては、生産活動の都合等により使用されずに
余剰となったICを使用する場合には、再度ICメーカ
にて提示された条件下でベーキングすることが必要とな
る。この為、ICの使用者に於いても、上記アルミニウ
ムチューブに移しかえてベーキングし、再度樹脂チュー
ブに詰め替えて使用するといった無用な労力を現在でも
かけている状況である。
Therefore, under the present circumstances, the IC producer side or the like stores the IC in an aluminum extraction tube or the like for baking as a first step, and then conducts a conductive coating on the surface with a surfactant as a second step. The baked IC is placed in an integrated circuit case made of polystyrene
It is in a situation where it takes a lot of labor to refill the product, and if necessary, attach a rubber or plastic stopper plug before shipping. Further, the epoxy resin sealant has a reversible water absorbing action, and after the IC is exposed to the outside air after shipping, the water absorbing state before baking is recovered in about 100 hours (reference document; mounting technique).
vol. 8, No. 1, p. 74). Therefore, on the side of the IC user, when using an IC which is not used due to production activities or the like and is redundant, it is necessary to perform baking under the conditions presented by the IC manufacturer. . For this reason, even the user of the IC is still spending unnecessary labor such as transferring to the aluminum tube, baking, and refilling with the resin tube for use.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の生産活
動に於ける無用な労力を解消し、ICの生産者及び使用
者の双方に有益で、効率的なICの生産、搬送及び使用
のためのシステムを確立できる集積回路用ケースを提供
することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention eliminates the unnecessary labor in the above-mentioned production activities, is beneficial to both IC producers and users, and enables efficient production, transportation and use of ICs. It is an object of the present invention to provide an integrated circuit case capable of establishing a system for the purpose.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本第1発明の集積回路用
ケース(以下、「ケース」という。)は、JISK71
05試験法に基づく厚さ1mm当たりの光線透過率(以
下、「光線透過率」という。)が75%以上で、且つ厚
さ1mm当たりの曇価(以下、「曇価」という。)が8
%以下であって、更に、JISK7202A試験法に基
づく荷重たわみ温度(以下、「荷重たわみ温度」とい
う。)が150℃以上の硬質樹脂材料からなり多数の集
積回路を収納する略管状若しくは略皿状の集積回路用ケ
ース本体と、該ケース本体の内面及び外面を被覆する導
電層と、を備え、該導電層は樹脂バインダからなる母材
層と、該母材層内に分散され体積固有抵抗値が102 Ω
cm以下で且つ一次粒子径が0.2μm以下の導電微粒
子と、を備え、該導電微粒子の含有量は上記樹脂バイン
ダと該導電微粒子の合計を100重量部とした場合に6
0〜75重量部であり、上記導電層の表面には上記導電
微粒子が表出していることを特徴とする。
The integrated circuit case (hereinafter referred to as "case") of the first invention is a JISK71.
The light transmittance (hereinafter, referred to as "light transmittance") per 1 mm in thickness based on the 05 test method is 75% or more, and the haze value (hereinafter, referred to as "haze value") per 1 mm in thickness is 8.
% Or less, and further, a deflection temperature under load (hereinafter referred to as “deflection temperature under load”) based on JISK7202A test method is made of a hard resin material of 150 ° C. or higher, and is substantially tubular or substantially dish-shaped to accommodate a large number of integrated circuits. Of the integrated circuit case body, and a conductive layer covering the inner surface and the outer surface of the case body, the conductive layer being a base material layer made of a resin binder, and the volume resistivity value dispersed in the base material layer. Is 10 2 Ω
cm or less and a primary particle diameter of 0.2 μm or less, and the content of the conductive fine particles is 6 when the total amount of the resin binder and the conductive fine particles is 100 parts by weight.
It is 0 to 75 parts by weight, and the conductive fine particles are exposed on the surface of the conductive layer.

【0008】ケース本体に上記の様な「光線透過率」及
び「曇価」を求めるのは、この程度の透明性を有すれ
ば、所定の導電層を被覆、形成しても外部からケース内
のIC表面に印字されている文字の識別等が可能とな
り、搬送、実装、ベーキング工程等における品質管理等
をICをケース内に収納したまま適切に行うことができ
るからである。尚、かかる品質管理等を、より簡易且つ
適切に行うためには、上記光線透過率が80%以上で、
且つ上記曇価が5%以下であることが好ましい。
The above-mentioned "light transmittance" and "cloudiness value" are required for the case main body so that if the case has such a degree of transparency, even if a predetermined conductive layer is coated and formed, the inside of the case is The characters printed on the surface of the IC can be identified, and quality control in the transportation, mounting, baking process, etc. can be appropriately performed while the IC is housed in the case. In order to perform such quality control more simply and appropriately, the light transmittance is 80% or more,
In addition, the haze value is preferably 5% or less.

【0009】また、このケース本体に、上記の様な「荷
重たわみ温度」を要求するのは、以下の理由による。即
ち、ケース本体が、ベーキング工程に耐えうる十分な耐
熱性(形状安定性、寸法安定性等)を有していなけれ
ば、ケース本体が大きく変形し、ICをケース内から取
り出すことが困難になったり、ICに破損を生じさせる
ことがある。更に、この様な熱による変質、劣化はケー
ス本体の他の要求性能である透明性に悪影響を与えるこ
とも考えられる。また、特に、ベーキング中において
は、高温のためケース本体を構成する樹脂、導電層とも
軟化しており、ICの収納状態に偏りがある様な場合
に、ケース本体が熱変形し易く、塗膜の「のめり込み」
という破損状態を生じ、ケース本体内に連続的な絶縁部
を発生させることがあるからである。更に、耐熱性を
「荷重たわみ温度」により判定するのは、150℃以上
の高温下に於ける形状安定性、寸法安定性等の評価には
最適と考えたからである。また、150℃以上とするの
は、通常、ICのベーキンドは130〜150℃(若し
くはこれ以上の温度)で行われるからである。尚、この
「荷重たわみ温度」は、ベーキング工程が長時間に渡る
場合には、160℃以上とするのが好ましい。
The reason why the above "deflection temperature under load" is required for the case body is as follows. That is, if the case body does not have sufficient heat resistance (shape stability, dimensional stability, etc.) that can withstand the baking process, the case body is greatly deformed and it becomes difficult to take out the IC from the case. Or, the IC may be damaged. Further, it is considered that such deterioration and deterioration due to heat may adversely affect the transparency, which is another required performance of the case body. Further, particularly during baking, the resin and the conductive layer forming the case body are softened due to the high temperature, and the case body is likely to be thermally deformed when the stored state of the IC is uneven, and the coating film "Indulgence"
This may cause a damaged state, and a continuous insulating portion may be generated in the case body. Further, the reason why the heat resistance is judged by the "deflection temperature under load" is that it is considered to be optimum for the evaluation of shape stability, dimensional stability and the like at a high temperature of 150 ° C or higher. The reason why the temperature is set to 150 ° C. or higher is that IC baking is usually performed at 130 to 150 ° C. (or higher temperature). The "deflection temperature under load" is preferably 160 ° C or higher when the baking process is performed for a long time.

【0010】上記ケース本体を構成する樹脂材料として
は、本第3発明に示す様に、ポリスルホン樹脂、ポリエ
ーテルスルホン樹脂、ポリフェニルスルホン樹脂若しく
はポリアリレート樹脂等の耐熱性に優れ且つ成形可能な
樹脂を用いるのが好ましい。また、上記「ケース本体」
の形状を「略管状若しくは略皿状」とするのは、本発明
のケースは、DIP用のケース(主に、略管状のもの)
に限らず、QFP用のケース(主に、略皿状のトレイ)
としての利用も意図するからである。
As the resin material forming the case body, as shown in the third aspect of the present invention, a resin having excellent heat resistance such as polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylsulfone resin or polyarylate resin and capable of being molded. Is preferably used. Also, the above "case body"
The shape of “is substantially tubular or substantially dish-shaped” means that the case of the present invention is a case for DIP (mainly substantially tubular)
Not limited to, the case for QFP (mainly a tray in the shape of a plate)
It is also intended to be used as.

【0011】上記の如く、「導電微粒子の一次粒子径を
0.2μm以下」とするのは、導電層自体の透明性も良
好なものとして、ケース全体の透明性を損なわないため
である。即ち、一般に、塗膜が透明性を有するために
は、含まれる塗粒の粒子径が可視光線の波長域である
0.4〜0.8μmの半分以下であることが必要とさ
れ、更に、塗粒の二次凝集による見掛け上の粒子径の増
大をも考慮すると、可視光線の波長の4分の1以下の粒
径とすることが必要となる。そして、透明な樹脂バイン
ダからなる母材層内に、この様な導電微粒子を分散させ
て導電層を構成した場合に、十分な透明性を確保できる
からである。
As described above, the reason why the primary particle diameter of the conductive fine particles is 0.2 μm or less is that the transparency of the conductive layer itself is good and the transparency of the entire case is not impaired. That is, in general, in order for the coating film to have transparency, the particle diameter of the coating particles contained is required to be half or less of 0.4 to 0.8 μm, which is the wavelength range of visible light. Considering the apparent increase in the particle size due to the secondary agglomeration of the coating particles, it is necessary to set the particle size to a quarter or less of the wavelength of visible light. Then, when such conductive fine particles are dispersed in the base material layer made of a transparent resin binder to form a conductive layer, sufficient transparency can be secured.

【0012】上記「導電性微粒子」としては、第4発明
に示すように、硫酸バリウム粒子からなる基体と、該基
体の表面に被覆形成され、且つ表面を酸化インジウム若
しくは酸化アンチモンでドーピングしてなる酸化スズ被
膜とから構成したものとすることができる。上記導電層
の「透明性」を確保するためには、導電微粒子の色調や
屈折率等の特性を考慮に入れるのが好ましいからであ
る。即ち、導電微粒子として一般に用いられている酸化
チタン、酸化亜鉛粒子等からなる基体表面に、酸化アン
チモンをドーピングしてなる微粒子では、導電性は有す
るものの、光の隠蔽力が高く、塗膜が白化する傾向にあ
る。これに対して、本第4発明に掲げる導電性微粒子で
は、透明性を十二分に確保できるからである。尚、所定
の導電性を確保できれば、上記酸化スズ被膜には、必ず
しも上記酸化インジウム等によるドーピングがなされて
いなくてもよい。また、上記導電性微粒子として、酸化
スズからなる基体表面に酸化アンチモン等をドーピング
したものを用いることできるが、この場合には表面が緑
黒色に変色するおそれがある。
As the above-mentioned "conductive fine particles", as shown in the fourth aspect of the present invention, the substrate is composed of barium sulfate particles, and the surface of the substrate is formed by coating, and the surface is doped with indium oxide or antimony oxide. It may be composed of a tin oxide coating. This is because in order to ensure the “transparency” of the conductive layer, it is preferable to take into consideration the characteristics such as color tone and refractive index of the conductive fine particles. That is, fine particles obtained by doping antimony oxide on the surface of a substrate made of titanium oxide, zinc oxide particles, etc., which are commonly used as conductive fine particles, have conductivity but have high light hiding power, and the coating film is whitened. Tend to do. On the other hand, the conductive fine particles listed in the fourth aspect of the present invention can ensure sufficient transparency. It should be noted that the tin oxide coating does not necessarily have to be doped with the indium oxide or the like as long as a predetermined conductivity can be secured. As the conductive fine particles, a tin oxide substrate surface doped with antimony oxide or the like can be used, but in this case, the surface may be discolored greenish black.

【0013】また、この導電層の膜厚は、上記透明性の
確保の点からは、2μm以下するのが適当だが、透明性
に更に重点をおけば1μm以下の膜厚とするのが好まし
い。但し、上記導電微粒子の一次粒子径を小さくするこ
とにより(例えば、0.1μm以下)、膜厚が大きくて
も(例えば、3μm程度)十分な透明性を確保すること
ができる。上記導電層が形成されたケースの透明度は、
JISK7105試験法に基づく光線透過率が70%以
上(より好ましくは75%以上)で、且つ曇価が25%
以下であることが好ましい。これにより必要な透明性を
確保できるからである。
The thickness of the conductive layer is preferably 2 μm or less from the viewpoint of ensuring the transparency, but it is preferably 1 μm or less if the transparency is further emphasized. However, by making the primary particle diameter of the conductive fine particles small (for example, 0.1 μm or less), sufficient transparency can be secured even when the film thickness is large (for example, about 3 μm). The transparency of the case where the conductive layer is formed is
Light transmittance of 70% or more (more preferably 75% or more) based on JISK7105 test method, and haze value of 25%
The following is preferable. This is because the necessary transparency can be secured.

【0014】上記の如く、導電微粒子の「体積固有抵抗
値」及び「含有量」を定め、更に、該導電微粒子が「導
電層の表面に表出していること」を必要とするのは、以
下の理由による。即ち、導電層が帯電防止機能を十分に
発揮し、ICの放電破壊を防止するためには、その表面
電気抵抗を109 Ω以下とする必要がある。一方、ケー
ス本体表面の導電層の断面状況は、図3に示す様に、塗
膜(導電層)2の表層に導電性微粒子21の一部が露出
し、更に塗膜の内部では導電性微粒子21が樹脂バイン
ダ22により固定され、且つ導電性微粒子21同士も連
続的なつながりを持つ。これにより、ケース表面に帯電
防止性能が発現される。尚、同図に示すように、下層側
に比較的粒径の大きな粒子21を主に配置し、表面側に
比較的細かい粒子211を配置したもとすることができ
る。また、体積固有抵抗値がある一定値(102 Ωc
m)以下の導電性微粒子が、一定量(62〜73重量
部)含有されることにより、十分な導電性を確保でき
る。尚、上記導電層とは、導電性を有する層であって、
少なくとも帯電防止性能を有するものであれば足りる。
As described above, it is necessary to determine the "volume resistivity value" and the "content" of the conductive fine particles and to "display the surface of the conductive layer" by the conductive fine particles. For the reason. That is, in order for the conductive layer to fully exhibit the antistatic function and prevent the discharge breakdown of the IC, its surface electric resistance must be 10 9 Ω or less. On the other hand, in the cross-sectional situation of the conductive layer on the surface of the case body, as shown in FIG. 3, a part of the conductive fine particles 21 is exposed on the surface layer of the coating film (conductive layer) 2, and further, the conductive fine particles are inside the coating film. 21 is fixed by the resin binder 22, and the conductive fine particles 21 are also continuously connected. As a result, antistatic performance is exhibited on the surface of the case. Incidentally, as shown in the figure, it is possible to dispose mainly particles 21 having a relatively large particle size on the lower layer side and relatively fine particles 211 on the surface side. Also, the volume resistivity has a certain value (10 2 Ωc
By containing a certain amount (62 to 73 parts by weight) of the conductive fine particles of m or less, sufficient conductivity can be secured. The conductive layer is a layer having conductivity,
It is sufficient if it has at least an antistatic property.

【0015】また、導電微粒子の「含有量」をこの様に
定める他の理由は、導電層の母材層を構成成する樹脂バ
インダーを一定量以上確保し、導電性微粒子をこのバイ
ンダーによりしっかりと固めることにより、導電層がケ
ース本体表面から容易に脱落するのを防止するためであ
る。尚、この導電層は、例えば、ケース本体を粘度調整
等のされた耐電防止用塗料液(導電性塗料液)に浸漬し
た後、引き上げ、乾燥することにより形成することがで
きる。更に、膜厚の調整の為に、再度耐電防止用塗料液
に浸漬した後、乾燥しても良い。また、この導電層を、
ケース本体の内面のみならず、外面にも形成するのは、
ケース本体とIC間のみならず、搬送中等のケース本体
同士に生ずる静電気の発生をも防止する必要があるから
である。
Another reason for determining the "content" of the conductive fine particles in this way is to secure a certain amount or more of the resin binder constituting the base material layer of the conductive layer, and to secure the conductive fine particles with this binder. This is to prevent the conductive layer from easily falling off from the surface of the case body by hardening. The conductive layer can be formed, for example, by immersing the case main body in an antistatic coating liquid (conductive coating liquid) whose viscosity has been adjusted, then pulling it up and drying it. Furthermore, in order to adjust the film thickness, it may be dried again after being immersed in the antistatic coating liquid. In addition, this conductive layer,
Not only on the inner surface of the case body, but also on the outer surface,
This is because it is necessary to prevent generation of static electricity not only between the case body and the IC but also between the case bodies during transportation.

【0016】更に、上記母材層を構成する「樹脂バイン
ダ」としては、ガラス転移温度が60℃以上のアクリル
樹脂バインダーを用いることができる。このタイプの樹
脂は、光透過性が大変良好で、溶媒に希釈すると粘度が
適切なレベルまで低下し、数μm程度の薄い膜を形成す
ることが容易である。また、数μm程度の薄膜であって
もアクリル樹脂が固有に持つ硬剛性により十分に導電性
微粒子を保持し、これによりICチップがケース内で摺
動、振動しても、塗粒の脱落や塗膜の破損を防止でき
る。更に、本発明でケース本体に用いられる硬質樹脂材
料は、一般に界面活性が小さく、塗膜との濡れ特性が低
く、且つケトン類、トルエン類等に若干膨潤する程度と
いう耐溶剤性の悪さがあるため、アクリル樹脂系で且つ
その溶剤希釈物が、ケース本体への塗布後、容易に乾
燥、固化する常温乾燥型のものを用いることができる。
尚、アクリル樹脂系であって加熱硬化する焼き付け型の
ものを用いることもでき、耐熱性の点で好ましいが、こ
の塗膜厚が大き過ぎると、塗膜の硬化収縮力が塗膜自体
のもつケース本体への密着力を越えてしまい、ベーキン
グ工程後にケース本体を構成する樹脂との間の密着性が
低下し、塗膜が剥離する場合があるので、膜厚を小さく
するのが好ましい。
Further, as the "resin binder" constituting the base material layer, an acrylic resin binder having a glass transition temperature of 60 ° C. or higher can be used. This type of resin has very good light transmittance, and when diluted with a solvent, the viscosity decreases to an appropriate level, and it is easy to form a thin film of about several μm. Further, even if it is a thin film with a thickness of about several μm, the acrylic resin inherently holds the conductive fine particles sufficiently, so that even if the IC chip slides or vibrates in the case, the coated particles may fall off. The damage of the coating film can be prevented. Further, the hard resin material used for the case body in the present invention generally has low surface activity, low wettability with a coating film, and has poor solvent resistance such that it slightly swells in ketones, toluenes, etc. Therefore, it is possible to use an acrylic resin type and a room temperature dry type in which the solvent diluent thereof is easily dried and solidified after being applied to the case body.
An acrylic resin-based baking type that is heat-curable can also be used, which is preferable from the viewpoint of heat resistance. However, if this coating film thickness is too large, the curing shrinkage force of the coating film will have Since the adhesion to the case body is exceeded, the adhesion with the resin forming the case body is deteriorated after the baking step, and the coating film may peel off, it is preferable to reduce the film thickness.

【0017】また、上記母材層を、本第2発明に示す様
に、上記ケース本体に用いられる硬質樹脂材料と同一又
は同系列(同種)の硬質樹脂材料からなる樹脂バインダ
ーにより構成することが、ケース全体の透明度を更に向
上させるうえで特に好ましい。即ち、本発明において、
透明度の尺度として用いた「曇価」は、散乱光透過率を
全光透過率で割った価であり、2種の透明性材料が積層
された場合には、個々の材料の光透過率が高くても、光
の屈折率が異なれば、両材料の界面において、複屈折を
引き起こし、更にその界面の平滑性が悪ければ乱反射を
生じ、透過光線が散乱し、曇価を高くする傾向がある。
これ対して、本第2発明においては、同一又は同系列の
材料を用いることにより、上記ケース本体及び上記導電
層を構成する樹脂材料の屈折率の差を無くしたり、小さ
くすることにより、ケース全体の透明度を一層向上させ
たのである。
Further, as shown in the second aspect of the present invention, the base material layer may be composed of a resin binder made of a hard resin material which is the same as or similar to (similar to) the hard resin material used in the case body. It is particularly preferable for further improving the transparency of the case as a whole. That is, in the present invention,
“Haze value” used as a measure of transparency is a value obtained by dividing scattered light transmittance by total light transmittance, and when two kinds of transparent materials are laminated, the light transmittance of each material is Even if it is high, if the refractive index of light is different, birefringence is caused at the interface between both materials, and if the interface is not smooth, diffuse reflection occurs, the transmitted light rays are scattered, and the haze value tends to increase. .
On the other hand, in the second aspect of the invention, by using the same or the same series of materials, the difference in the refractive index between the resin material forming the case body and the conductive layer can be eliminated or reduced, thereby improving the entire case. Has further improved the transparency.

【0018】尚、本第2発明において、上記導電微粒子
の含有量の下限値(60部)更に低くして(例えば、導
電微粒子の含有量を55部として)、これに伴い樹脂バ
インダーの含有量を多くしても、ケース全体の透明度は
十分に確保される。但し、この場合には、特に導電性の
高い導電微粒子を用い、導電性を確保することが必要と
なる。また、本第2発明の条件に従い作製した塗料液に
より形成した導電層の膜厚は、上記第1発明の場合に比
べ、やや大きくしても(例えば、1μm程度)良好な透
明性を確保することができる。
In the second invention, the lower limit of the content of the conductive fine particles (60 parts) is further lowered (for example, the content of the conductive fine particles is 55 parts), and the content of the resin binder is accordingly increased. Even if the number is increased, the transparency of the entire case is sufficiently secured. However, in this case, it is necessary to use particularly conductive fine particles to ensure conductivity. Further, even if the thickness of the conductive layer formed by the coating liquid prepared according to the conditions of the second invention is slightly larger than that of the first invention (for example, about 1 μm), good transparency is secured. be able to.

【0019】また、本第5発明に示す様に、ケース本体
の端部開口部若しくは側壁部開口部には、少なくとも1
以上の脱落防止手段を装着してもよい。この脱落防止手
段は、主に搬送時に、ケースよりICが脱落するのを防
止するためのものであり、ケース本体の端部開口部に装
着される蓋体(若しくは栓体)であっても、ケース本体
の長手方向に設けられた溝状の開口部に装着されるスト
ッパー等であってもよい。尚、この脱落防止手段は、上
記導電層と同様に、導電性を有する材料により構成する
ことが望ましい。
Further, as shown in the fifth aspect of the invention, at least 1 is provided in the end opening or the side wall opening of the case body.
You may equip the above-mentioned fall prevention means. This drop-off prevention means is mainly for preventing the IC from dropping off from the case during transportation, and even if it is a lid (or a plug) attached to the end opening of the case body, It may be a stopper or the like attached to a groove-shaped opening provided in the longitudinal direction of the case body. It should be noted that it is desirable that the detachment preventing means be made of a conductive material, as with the conductive layer.

【0020】[0020]

【作用】本第1発明のケースは、光線透過率、曇価及び
荷重たわみ温度を規制することにより、所望の透明性と
耐熱性を有するケース本体と、母材層内に分散される導
電微粒子の体積固有抵抗値、一次粒子径及びその含有量
を規制することにより、所望の導電性と密着性を有し、
且つ上記ケース本体の透明性を損なわない導電層と、を
備える。この為、本発明のケースでは、十分にケース外
部からのICの品質管理ができると共に、高温、長時間
に渡るベーキング工程に耐えうるだけの耐熱性を有し、
更に導電層がケース本体へ十分に密着し、導電性を維持
する。従って、本発明のケースによれば、ICの生産者
及び使用者の双方において、ベーキング工程に付随した
ICを詰め替え等の余分な労力を省略することができる
と共に、本ケースは何らの複雑な工程を経なくても製造
できるため量産に適する。
In the case of the first invention, the case body having desired transparency and heat resistance by controlling the light transmittance, haze value and deflection temperature under load, and conductive fine particles dispersed in the base material layer. By controlling the volume specific resistance value, the primary particle size and the content thereof, it has desired conductivity and adhesion,
And a conductive layer that does not impair the transparency of the case body. Therefore, in the case of the present invention, the quality of the IC can be sufficiently controlled from the outside of the case, and the case has heat resistance sufficient to withstand a baking process at high temperature for a long time.
Further, the conductive layer adheres sufficiently to the case body to maintain conductivity. Therefore, according to the case of the present invention, both the producer and the user of the IC can save extra labor such as refilling of the IC accompanying the baking process, and the case is complicated process. Suitable for mass production because it can be manufactured without going through

【0021】本第2発明のケースでは、母材層を構成す
る「樹脂バインダ」として、ケース本体に用いられる硬
質樹脂材料と同一又は同種(同系列)の硬質樹脂材料を
用いる。この結果、ケース本体と導電層の屈折率が略同
一若しくは近似したものとなり、両者の界面に於いて生
じ易い複屈折、透過光線の散乱等を有効に抑制するた
め、ケース全体の透明性が第1発明の場合に比べ更に向
上する。また、本第2発明においては、特に透明性が優
れるため導電層の膜厚を少々大きくしてもその透明性は
損なわれないため製造が容易であると共に、形成された
導電層の膜厚にバラツキを生じてもそれがケース全体の
透明性に与える影響は小さい。
In the case of the second aspect of the present invention, as the "resin binder" forming the base material layer, a hard resin material which is the same as or the same type (same series) as the hard resin material used for the case body is used. As a result, the case body and the conductive layer have approximately the same or similar refractive indices, and effectively suppress birefringence that tends to occur at the interface between the two and the scattering of transmitted light, so that the overall transparency of the case is It is further improved compared to the case of the first invention. Further, in the second aspect of the invention, since the transparency is particularly excellent, the transparency is not impaired even if the thickness of the conductive layer is slightly increased, and therefore the production is easy and the thickness of the formed conductive layer is reduced. Even if there is variation, the effect on the transparency of the entire case is small.

【0022】[0022]

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 A.実施例1〜4及び比較例1 (1)ケースの概要と作製 実施例1 本実施例のケースAは、図1〜3に示す様に、略筒状
(外形寸法;25mm×350mm×10mm、厚さ;
1mm)のケース本体1と、該ケース本体1の内面及び
外面を被覆する導電層2とからなる。上記ケース本体1
は、図1に示す様に、表面側に長手方向に沿ったスリッ
ト(幅;5mm)11と裏面側に長手方向に沿った逆溝
部(幅;15mm、長さ;350mm、深さ;5mm)
12を有する。また、このケース本体1は、ポリスルホ
ン樹脂(商品名;「ユーデル P−1700」、アモコ
社製)を、単軸押し出し機(商品名;「FS−50」、
池貝鉄工社製)を用い、バレル温度330℃、スクリュ
ー回転数19rpmの条件の下で作製したものである。
尚、このケース本体1の反りを、その長手方向に沿った
定盤上で隙間ゲージを用い測定したところ(以下の実施
例、比較例及び試験例における「そり」も同様の方法で
測定した。)、0.5mm以下であった。また、このケ
ース本体1の荷重たわみ温度は173℃(18.6kg
f/cm2 )であった。更に、厚さ1mmで上記と同長
さの長尺状板からなる試験片を作製し、これについて光
透過率及び曇価を測定した所、光線透過率が86%、曇
価が5%であった。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples. A. Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 (1) Outline and Fabrication of Case Example 1 A case A of this example has a substantially tubular shape (outer dimensions; 25 mm × 350 mm × 10 mm, thickness;
1 mm) of a case body 1 and a conductive layer 2 that covers the inner surface and the outer surface of the case body 1. The case body 1
1, as shown in FIG. 1, a slit (width: 5 mm) 11 along the longitudinal direction on the front side and a reverse groove portion (width: 15 mm, length: 350 mm, depth: 5 mm) along the longitudinal direction on the back side.
Have twelve. The case body 1 is made of a polysulfone resin (trade name; "Udel P-1700", manufactured by Amoco Co., Ltd.) using a single-screw extruder (trade name: "FS-50",
It is manufactured under the conditions of a barrel temperature of 330 ° C. and a screw rotation speed of 19 rpm.
The warpage of the case body 1 was measured on a surface plate along the longitudinal direction of the case body 1 using a gap gauge (the “warpage” in the following Examples, Comparative Examples and Test Examples was also measured by the same method. ) And 0.5 mm or less. The deflection temperature under load of the case body 1 is 173 ° C (18.6 kg).
f / cm 2 ). Further, a test piece made of a long plate having a thickness of 1 mm and the same length as the above was prepared, and the light transmittance and the haze value were measured. The light transmittance was 86% and the haze value was 5%. there were.

【0023】一方、上記導電層2は、以下の帯電防止用
塗料を用い形成したものである。即ち、導電微粒子とし
ての「パストラン4110」(商品名、三井金属鉱業
製)65部に、樹脂バインダーとしての熱可塑性アクリ
ル系樹脂(商品名;「ダイヤナール BR−113」、
三菱レーヨン社製)35部を加え、次いで、メチルエチ
ルケトンとトルエンを1:1の割合(重量比)で混合し
た溶媒を300部加えた後、「ピングメントツッカー」
(商品名、レッドデビル社製)にて、2時間強制分散を
行い、凝集した二次粒子を元の一次粒子に解離させて、
使用すべき帯電防止用塗料を調整した。尚、この場合、
分散性の向上のために所定量のシリコン系等の界面活性
剤を添加してもよい。また、ここで用いた導電微粒子
は、固形化品での体積固有抵抗値が15Ωcm、マイク
ロトラック法に基づく一次粒子径(以下の実施例、比較
例及び試験例でも同様に測定した。)が0.12μm以
下であり、硫酸バリウム芯材の表面に膜厚8μmの酸化
スズ被膜をコーティングした後、酸化アンチモンをドー
ピングしたものである。更に、上記アクリル系樹脂はメ
チルメタアクリレート系の変成樹脂で、ガラス転移温度
は77℃であった。尚、この塗料は、一日以上放置して
も層分離や沈澱はみられなかった。
On the other hand, the conductive layer 2 is formed by using the following antistatic coating material. That is, 65 parts of "Pastran 4110" (trade name, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) as conductive fine particles, and a thermoplastic acrylic resin (trade name; "Dynar BR-113") as a resin binder,
(Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) 35 parts, and then 300 parts of a solvent in which methyl ethyl ketone and toluene are mixed at a ratio of 1: 1 (weight ratio), and then "Pingment Zucker".
(Commercial name, manufactured by Red Devil Co., Ltd.), forcibly dispersed for 2 hours to dissociate the aggregated secondary particles into the original primary particles,
The antistatic paint to be used was prepared. In this case,
In order to improve dispersibility, a predetermined amount of silicon-based surfactant or the like may be added. Further, the conductive fine particles used here have a volume resistivity of 15 Ωcm in a solidified product and a primary particle diameter based on the Microtrac method (measured similarly in the following examples, comparative examples and test examples). The barium sulfate core material has a tin oxide film thickness of 8 μm and is doped with antimony oxide. Further, the acrylic resin was a methylmethacrylate-based modified resin and had a glass transition temperature of 77 ° C. The paint did not show layer separation or precipitation even after standing for more than one day.

【0024】そして、上記ケース本体1を、30秒間、
酢酸エチル中に浸漬して脱脂を行った後、乾燥させた。
次いで、このケース本体1を長手方向を縦にしながら、
上記帯電防止用塗料中に、30秒間浸漬した後、30c
m/分の速度で塗料中より引き上げ、ケース本体1の内
面及び外面に塗膜を形成した後、25℃の室温の下、2
時間乾燥し導電層2を形成して、本実施例に係わるケー
スAを作製した。尚、このケースAの表面電気抵抗は、
150MΩ(1.5×108 Ω)であり、超音波膜厚計
により測定した膜厚は1.8μmであった。また、上記
試験片の表面に上記と同条件で導電層を形成したものの
光線透過率は78%、曇価は21%であった。
Then, the case body 1 is held for 30 seconds.
It was immersed in ethyl acetate for degreasing and then dried.
Next, while making the longitudinal direction of the case body 1 vertical,
After being immersed in the antistatic paint for 30 seconds, 30c
After pulling up from the paint at a speed of m / min to form a coating film on the inner and outer surfaces of the case body 1, at room temperature of 25 ° C., 2
A conductive layer 2 was formed by drying for a period of time to prepare a case A according to this example. The surface electric resistance of Case A is
It was 150 MΩ (1.5 × 10 8 Ω) and the film thickness measured by an ultrasonic film thickness meter was 1.8 μm. The conductive layer formed on the surface of the test piece under the same conditions as above had a light transmittance of 78% and a haze value of 21%.

【0025】実施例2 本実施例のケース本体1は、ポリエーテルスルホン樹脂
(商品名;「レーデルA−300、アモコ社製)を用
い、バレル温度を350℃、スクリュー回転数17rp
mとしたこと以外は、実施例1と同様の方法により作製
したものである。尚、このケース本体1の反りは、0.
7mmであった。また、実施例1と同様に厚さ1mmの
試験片を作製し、測定した所、光線透過率が82%、曇
価が6%であり、荷重たわみ温度が203℃(18.6
kgf/cm2 )であった。一方、上記導電層2は、帯
電防止用塗料中からの引き上げ速度を50cm/分とし
たこと以外は、実施例1と同様な方法により形成した。
尚、この導電層2の厚みは、1.6μm、表面電気抵抗
は、200MΩ(2.0×108 Ω)であった。また、
上記試験片の表面に導電層を形成したものの光線透過率
は79%、曇価は18%であった。
Example 2 A case main body 1 of this example uses a polyether sulfone resin (trade name; "Radel A-300, manufactured by Amoco Co."), a barrel temperature of 350 ° C., and a screw rotation speed of 17 rp.
It was produced by the same method as in Example 1 except that m was used. The warp of the case main body 1 is 0.
It was 7 mm. Further, a test piece having a thickness of 1 mm was prepared and measured in the same manner as in Example 1. The light transmittance was 82%, the haze value was 6%, and the deflection temperature under load was 203 ° C. (18.6).
kgf / cm 2 ). On the other hand, the conductive layer 2 was formed by the same method as in Example 1 except that the pulling rate from the antistatic coating was 50 cm / min.
The conductive layer 2 had a thickness of 1.6 μm and a surface electric resistance of 200 MΩ (2.0 × 10 8 Ω). Also,
The test piece having a conductive layer formed on the surface had a light transmittance of 79% and a haze value of 18%.

【0026】実施例3 本実施例のケース本体1は、ポリフェニルスルホン樹脂
(商品名;「レーデルR−5000、アモコ社製)を用
い、バレル温度を340℃、スクリュー回転数15rp
mとしたこと以外は、実施例1と同様の方法により作製
したものである。尚、このケース本体1の反りは、0.
4mmであった。また、実施例1と同様に厚さ1mmの
試験片を作製し、測定した所、光線透過率が78%、曇
価が7%であり、荷重たわみ温度が190℃(18.6
kgf/cm2 )であった。一方、上記導電層2は、帯
電防止用塗料中からの引き上げ速度を70cm/分とし
たこと以外は、実施例2と同様にして形成した。尚、こ
の導電層2の厚みは、1.0μm、表面電気抵抗は、5
00MΩ(5.0×108 Ω)であった。また、上記試
験片の表面に導電層を形成したものの光線透過率は76
%、曇価は15であった。
Example 3 The case body 1 of this example uses a polyphenyl sulfone resin (trade name; "Radell R-5000, manufactured by Amoco Co."), a barrel temperature of 340 ° C., and a screw rotation speed of 15 rp.
It was produced by the same method as in Example 1 except that m was used. The warp of the case main body 1 is 0.
It was 4 mm. Further, a test piece having a thickness of 1 mm was prepared and measured in the same manner as in Example 1. The light transmittance was 78%, the haze value was 7%, and the deflection temperature under load was 190 ° C (18.6).
kgf / cm 2 ). On the other hand, the conductive layer 2 was formed in the same manner as in Example 2 except that the pulling rate from the antistatic coating was 70 cm / min. The conductive layer 2 has a thickness of 1.0 μm and a surface electric resistance of 5
It was 00 MΩ (5.0 × 10 8 Ω). In addition, the light transmittance of the test piece having a conductive layer formed on the surface is 76
%, And the haze value was 15.

【0027】実施例4 本実施例のケース本体1は、ポリアリレート樹脂(商品
名;「P−1001、ユニチカ社製)を用い、バレル温
度を350℃、スクリュー回転数12rpmとしたこと
以外は、実施例1と同様の方法により作製したものであ
る。尚、このケース本体1の反りは、0.5mmであっ
た。また、実施例1と同様に厚さ1mmの試験片を作製
し、測定した所、光線透過率が87%、曇価が2%であ
り、荷重たわみ温度が175℃(18.6kgf/cm
2 )であった。一方、上記導電層2は、帯電防止用塗料
中からの引き上げ速度を30cm/分としたこと以外
は、実施例1と同様にして形成した。尚、この導電層2
の厚みは、2.0μm、表面電気抵抗は、500MΩ
(5.0×108 Ω)であった。また、上記試験片の表
面に導電層を形成したものの光線透過率は76%、曇価
は18%であった。
Example 4 The case body 1 of this example uses polyarylate resin (trade name; “P-1001, manufactured by Unitika Ltd.”) except that the barrel temperature is 350 ° C. and the screw rotation speed is 12 rpm. The case body 1 was manufactured by the same method as in Example 1. The warp of the case body 1 was 0.5 mm, and a test piece having a thickness of 1 mm was prepared and measured as in Example 1. As a result, the light transmittance was 87%, the haze value was 2%, and the deflection temperature under load was 175 ° C (18.6 kgf / cm
2 ) was. On the other hand, the conductive layer 2 was formed in the same manner as in Example 1 except that the pulling rate from the antistatic coating was 30 cm / min. In addition, this conductive layer 2
Has a thickness of 2.0 μm and a surface electrical resistance of 500 MΩ.
(5.0 × 10 8 Ω). The test piece having a conductive layer formed on its surface had a light transmittance of 76% and a haze value of 18%.

【0028】比較例1 本比較例のケースは、導電層が形成されておらず、ポリ
カーボネート樹脂(商品名;「パンライトAM−10
0」、帝人化成社製)を用い、バレル温度を180℃、
スクリュー回転数15rpmとして、上記ケース本体と
同形状に作製したものである。このケースの反りは0.
2mm以下でありる。また、実施例1と同様に厚さ1m
mの試験片を作製し、測定した所、光線透過率は88
%、曇価は1%であり、荷重たわみ温度は138℃(1
8.6kgf/cm2 )であった。
Comparative Example 1 In the case of this comparative example, a conductive resin was not formed, and a polycarbonate resin (trade name; "Panlite AM-10" was used.
0 ", manufactured by Teijin Chemicals Ltd., and the barrel temperature is 180 ° C.,
The screw rotation speed was 15 rpm, and the screw was produced in the same shape as the case body. The warpage in this case is 0.
It is 2 mm or less. In addition, as in Example 1, the thickness is 1 m.
When a test piece of m was prepared and measured, the light transmittance was 88.
%, The haze value is 1%, and the deflection temperature under load is 138 ° C. (1
It was 8.6 kgf / cm 2 .

【0029】(2)性能試験及びその評価 目視観察及び模擬輸送試験 図2に示す様に、上記実施例1〜4のケースA内に、D
IP型の集積回路(IC、チップサイズ;16mm×4
0mm×3mm)3を5個入れた後、ケースAの両端を
表面電気抵抗108 ΩのEPDM製のゴム栓にて封止し
た。そして、ケースA外より収納された集積回路3の表
面に印刷された文字の識別を試みた。この段階では、い
ずれのケースAにおいても識別が可能であった。更に、
この状態(集積回路3の収納された状態)のケースAを
それぞれ9ケースずつ作製し輪ゴムで結束後、6回/分
の割合でケースAの上端と下端を逆転させ、この動作を
1時間継続し、集積回路3の出荷と輸送の状況を模擬的
に再現をした。
(2) Performance test and its evaluation Visual observation and simulated transportation test As shown in FIG.
IP type integrated circuit (IC, chip size; 16mm x 4
After inserting 5 pieces of 0 mm × 3 mm) 3, both ends of the case A were sealed with rubber stoppers made of EPDM having a surface electric resistance of 10 8 Ω. Then, an attempt was made to identify the characters printed on the surface of the integrated circuit 3 stored from outside the case A. At this stage, identification was possible in any case A. Furthermore,
Nine cases A each of which is in this state (in which the integrated circuit 3 is housed) are produced, bound with rubber bands, and then the upper and lower ends of the case A are reversed at a rate of 6 times / minute, and this operation is continued for 1 hour. Then, the shipping and transportation conditions of the integrated circuit 3 were simulated.

【0030】次いで、上記各ケースA内より、集積回路
3を取り出し、リードフレーム31の表面の様子を実体
顕微鏡(倍率;20倍)で調べた。これによれば、上記
実施例1〜4の各ケースAでは、導電層2の破損等を原
因とする塗膜粉のリードフレーム31の表面への付着
は、全く観察されなかった。また、ケース本体1の破損
も、ケース本体1内側の導電層2の破損もなかった。更
に、これらのケース本体1を切開して集積回路3が摺動
した部分の実体顕微鏡観察(倍率;20倍)を行っても
ケース本体1内の導電層2に、傷や剥離等の異常は確認
されなかった。
Next, the integrated circuit 3 was taken out from each case A, and the state of the surface of the lead frame 31 was examined with a stereoscopic microscope (magnification: 20 times). According to this, in each case A of Examples 1 to 4, no adhesion of coating film powder to the surface of the lead frame 31 due to damage to the conductive layer 2 was observed. Further, neither the case body 1 was damaged nor the conductive layer 2 inside the case body 1 was damaged. Further, even when the case body 1 is incised and the part where the integrated circuit 3 slides is observed by a stereoscopic microscope (magnification: 20 times), the conductive layer 2 in the case body 1 is not damaged or peeled. Not confirmed.

【0031】ベーキング試験 上記実施例1〜4及び比較例1のケースAに、上記と同
様な集積回路3を8個ずつ収納(通常の収納数)したも
のを、それぞれ9本ずつ用意し、1cm間隔を於いて並
べ、表1に示す条件の下、オーブン中に放置した後、冷
却した。
Baking Tests 9 pieces of the same integrated circuits 3 as described above were stored in the case A of each of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 (normal number of storages), 9 pieces each were prepared, and 1 cm was prepared. After arranging at intervals, under the conditions shown in Table 1, the sample was left in an oven and then cooled.

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】そして、ケース本体1及び導電層2に生じ
た異常の有無を観察した。この結果も表1に併記する。
尚、同表中の表示は、「○」は「異常無し」を、「×」
は「異常有り」をそれぞれ示す。これによれば、比較例
1のケースAでは、捩じれを生じとても再使用できる状
態ではなかった。一方、実施例1〜4のケースAでは、
ケース本体1及び導電層2に、破損等の異常は見られ
ず、また集積回路3のケース本体1内面への固着もなか
った。また、集積回路3のケース本体1内面での接触部
についても上記と同様な実体顕微鏡観察を行ったが、傷
や剥離等の異常は確認されなかった。
Then, the presence or absence of abnormality in the case body 1 and the conductive layer 2 was observed. The results are also shown in Table 1.
In addition, in the table, "○" means "no abnormality" and "x" means
Indicates "abnormality". According to this, in Case A of Comparative Example 1, twisting occurred and it was not in a state where it could be reused very much. On the other hand, in case A of Examples 1 to 4,
No abnormality such as breakage was found in the case body 1 and the conductive layer 2, and the integrated circuit 3 was not fixed to the inner surface of the case body 1. Further, the contact portion on the inner surface of the case body 1 of the integrated circuit 3 was also observed by a stereoscopic microscope in the same manner as above, but no abnormality such as scratches or peeling was confirmed.

【0034】更に、実施例1〜4のケースAについて
は、ケース本体1の反り、導電層2の表面抵抗、収納さ
れた集積回路3の表面の文字の識別を行った。また、厚
さ1mmの長尺状板からなる試験片を作製し、上記ケー
ス本体1への形成条件と同じ条件で、導電層2を形成し
たもを用い、光透過率及び曇価の測定を行った。これら
の結果も表1に併記する。これによれば、実施例1〜4
のケースAについては、いずれも反り、表面抵抗とも上
記ベーキング工程前の数値と大差はなかった。また、導
電層2の光透過率及び曇価ともベーキング前に比べ若干
低下したが、集積回路3の表面の文字、リードフレーム
の識別等には問題はなく、十分に再使用できるものであ
った。
Further, in the case A of Examples 1 to 4, the warp of the case body 1, the surface resistance of the conductive layer 2, and the characters on the surface of the integrated circuit 3 housed therein were identified. Further, a test piece made of a long plate having a thickness of 1 mm was prepared, and the conductive layer 2 was formed under the same conditions as the case main body 1 described above. went. These results are also shown in Table 1. According to this, Examples 1-4
In case A, the warpage and the surface resistance were not much different from the values before the baking process. Further, although the light transmittance and the haze value of the conductive layer 2 were slightly lowered as compared with those before the baking, there was no problem in identifying the characters on the surface of the integrated circuit 3, the lead frame, etc., and they could be sufficiently reused. .

【0035】B.実施例5〜8及び比較例2〜5 実施例1と同様のポリスルホン樹脂を用い、表2に示す
条件及び方法で、ケース本体を作製し、同表に示す処方
にて各種帯電防止塗料を配合し、上記実施例1と同様の
方法によりケース本体の内面及び外面に導電層を形成
し、実施例5〜及び比較例2〜5のケースを作製し
た。但し、実施例8及び比較例5は、導電層の形成後、
150℃の温度の下、20分間熱風により、焼き付け硬
化処理を行ったものである。
B. Examples 5 to 8 and Comparative Examples 2 to 5 Using the same polysulfone resin as in Example 1, a case body was prepared under the conditions and methods shown in Table 2, and various antistatic paints were blended according to the formulation shown in the same table. and, a conductive layer on the inner surface and the outer surface of the case body in the same manner as in example 1 to prepare the case of examples 5-8 and Comparative examples 2-5. However, in Example 8 and Comparative Example 5, after forming the conductive layer,
It was baked and cured with hot air at a temperature of 150 ° C. for 20 minutes.

【0036】[0036]

【表2】 [Table 2]

【0037】尚、表2中の「樹脂バインダ」として、実
施例5は熱可塑型変成アクリル樹脂(商品名「ダイヤナ
ール BR−90」、三菱レーヨン社製、固形分100
%))を、実施例6、比較例2及び3は熱可塑型変性メ
タクリル樹脂(商品名「ダイヤナール BR−11
3」、三菱レーヨン社製、固形分100%)を、実施例
7は熱可塑型メタクリル樹脂(商 名「ダイヤナール
BR−87」、三菱レーヨン社製、固形分100%)
を、実施例8は熱硬化型メタクリル樹脂(商品名「ダイ
ヤナール HW−138」、三菱レーヨン社製、50%
イソプロピルアルコール希釈品)を、比較例4は熱可塑
型アクリル樹脂(商品名「ダイヤナール BR−10
7」、三菱レーヨン社製、固形分100%)を、比較例
5は熱硬化型アクリル樹脂(商品名「ダイヤナール S
E−5102」、三菱レーヨン社製、50%トルエン希
釈品)をそれぞれ示す。また、同表中の「導電微粒子」
としては、実施例5のみが酸化スズ芯材の表面に酸化ア
ンチモンをドーピングしたもの(商品名「T−1」、三
菱金属社製)であり、他(実施例6〜8、比較例2〜
5)は硫酸バリウム芯材の表面に酸化スズ被膜をコーテ
ィングした後、酸化アンチモンをドーピングしたもの
(実施例6、8及び比較例2〜5;商品名「パストラン
4110」、三井金属鉱業社製、実施例7;商品名「パ
ストラン4111」、三井金属鉱業社製)である。更
に、同表中の「希釈剤」として、実施例5ではメチルエ
チルケトンを、実施例6、比較例2、3及び5ではトエ
ルンを、実施例7及び比較例5では酢酸エチルを、実施
例8ではイソプロピルアルコールをそれぞれ用いた。以
上の各ケースについて、表3に掲げる各項目の評価を行
い、その結果を表3に示す。
As the "resin binder" in Table 2, Example 5 was a thermoplastic modified acrylic resin (trade name "Dianal BR-90", manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., solid content 100).
%)), And Example 6 and Comparative Examples 2 and 3 are thermoplastic type modified methacrylic resins (trade name "Dianal BR-11").
3 ”, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., solid content 100%), and Example 7 is a thermoplastic methacrylic resin (trade name“ DIANAL ”).
BR-87 ", manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., solid content 100%)
Example 8 is a thermosetting methacrylic resin (trade name "Dianal HW-138", Mitsubishi Rayon Co., 50%
Comparative Example 4 is a thermoplastic acrylic resin (trade name “Dianal BR-10”) diluted with isopropyl alcohol.
7 ”, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., solid content 100%), and Comparative Example 5 is a thermosetting acrylic resin (trade name“ DIANAL S ”).
E-5102 ", manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., diluted with 50% toluene). In addition, "conductive fine particles" in the table
In Example 5, only Example 5 was a tin oxide core material doped with antimony oxide (trade name "T-1", manufactured by Mitsubishi Metals Co., Ltd.), and others (Examples 6 to 8 and Comparative Examples 2 to 2).
5) is a barium sulfate core material coated with a tin oxide film and then doped with antimony oxide (Examples 6 and 8 and Comparative Examples 2 to 5; trade name "Pastran 4110", manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd., Example 7; trade name "Pastlan 4111", manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.). Further, as "diluent" in the table, methyl ethyl ketone was used in Example 5, toerne was used in Example 6, Comparative Examples 2, 3 and 5, ethyl acetate was used in Example 7 and Comparative Example 5, and ethyl acetate was used in Example 8. Isopropyl alcohol was used respectively. For each of the above cases, each item listed in Table 3 was evaluated, and the results are shown in Table 3.

【0038】[0038]

【表3】 [Table 3]

【0039】尚、評価方法は実施例1に示したものと同
様であり、「光線透過率」及び「曇価」については、厚
さ1mmの試験片に、上記ケース本体への形成条件と同
じ条件で、導電層を形成したものを用いて行った。ま
た、同表中の「ベーキング後の特性」とは、各ケースを
150℃の温度の下、10時間掛けベーキングを行った
後の諸特性をいう。更に、同表中の「◎」は「特に良
い。」を、「○」は「良い。」を、「△」は「やや良
い」を、「×」は「問題あり(劣る)」を、「××」は
「特に問題あり(著しく劣る)」をそれぞれ示す。
The evaluation method was the same as that shown in Example 1, and the "light transmittance" and "cloudiness" were the same as the conditions for forming a 1 mm-thick test piece on the case body. Under the condition, the conductive layer was formed. In addition, "characteristics after baking" in the table means various characteristics after baking each case at a temperature of 150 ° C for 10 hours. Further, in the table, "◎" means "especially good", "○" means "good", "△" means "somewhat good", "x" means "problem (inferior)", "XX" indicates "especially problematic (remarkably inferior)".

【0040】以上の性能試験によれば、比較例2では、
導電層の表面抵抗が過大(1010Ω以上)であり、使用
に耐えられない。また、比較例3では、光線透過率、曇
価とも悪く、透明性が不十分で実用的とは言えない。更
に、比較例4では、ベーキング工程後に集積回路が導電
層に密着したり(分離性、離膜性が悪く。)、導電層を
構成する塗膜が剥離する傾向(塗膜状態が悪い。)にあ
る。また、比較例5においては、熱処理により塗膜が硬
化し、塗膜が厚いことも加わって塗膜の凝集力が上が
り、ケース本体への密着性が悪く、ケースを大きく曲げ
ると、塗膜の剥がれが発生した。一方、実施例5では導
電層の表面電気抵抗が若干高く、実施例7では導電微粒
子の配合比が高いため曇価がやや高いが、いずれも許容
範囲と言える。また、実施例6は、全ての要求性能を満
足し、優れたケースといえる。更に、実施例8において
は、熱処理により塗膜が硬化したものの、塗膜が薄いた
めケース本体への密着性が良く、ケースを大きく曲げて
も塗膜の剥がれは発生しなかった。
According to the above performance test, in Comparative Example 2,
The surface resistance of the conductive layer is too large (10 10 Ω or more) and cannot be used. Further, in Comparative Example 3, the light transmittance and the haze value are poor, and the transparency is insufficient, so that it cannot be said to be practical. Furthermore, in Comparative Example 4, the integrated circuit adheres to the conductive layer after the baking step (the separation property and the film separation property are poor), and the coating film forming the conductive layer tends to peel (the coating film state is poor). It is in. Further, in Comparative Example 5, the coating film was cured by heat treatment, and the thick coating film added to increase the cohesive force of the coating film, resulting in poor adhesion to the case body. Peeling occurred. On the other hand, in Example 5, the surface electric resistance of the conductive layer was slightly high, and in Example 7, the haze value was a little high because the blending ratio of the conductive fine particles was high. In addition, Example 6 satisfies all required performances and can be said to be an excellent case. Further, in Example 8, although the coating film was cured by heat treatment, the coating film was thin, so that the adhesion to the case body was good, and peeling of the coating film did not occur even when the case was bent greatly.

【0041】また、導電微粒子の含有量は、導電層全体
を100部に対して、62〜73部程度が望ましく、ベ
ーキング後の各試験片の透明性は、光線透過率が75%
以上であること、曇価が25%以下であることが使用上
好ましい。更に、実施例7及び比較例2を比較検討する
と、上記導電微粒子の含有量が60%未満であると帯電
防止性能が劣り、比較例4よりガラス転移温度が50℃
の樹脂バインダーで母材層を形成した場合には、満足な
結果が得られないことが判った。
The content of the conductive fine particles is preferably about 62 to 73 parts based on 100 parts of the entire conductive layer, and the transparency of each test piece after baking has a light transmittance of 75%.
It is preferable for use that the haze value is not less than 25%. Further, comparing Example 7 and Comparative Example 2, when the content of the conductive fine particles is less than 60 %, the antistatic performance is poor and the glass transition temperature is 50 ° C. as compared with Comparative Example 4.
It was found that satisfactory results could not be obtained when the base material layer was formed with the resin binder described in 1.

【0042】C.試験例1〜12 (1)ケースの概要と作製 試験例1 本試験例のケース本体1は、上記ポリスルホン樹脂の代
わりに、ポリエーテルスルホン樹脂(商品名;「レーデ
ル A−200、アモコ社製)を用いたこと以外は、実
施例1と同様の方法により作製したものである。一方、
導電層2は、以下の帯電防止用塗料を用いて作製したも
のである。即ち、導電微粒子としての「パストラン41
11」(商品名、三井金属鉱業製)65部に、樹脂バイ
ンダーとして上記容器本体1の作製に用いたものと同様
なポリエーテルスルホン樹脂35部を加え、次いで、ジ
クロルメタン350部加えた後、実施例1と同様の「ピ
ングメントツッカー」にて、3時間強制分散を行い、凝
集した二次粒子を元の一次粒子に解離させて調整した。
尚、ここで用いた導電微粒子は、固形化品での体積固有
抵抗値が12Ωcm、一次粒子径が0.1μm以下であ
ること以外は、実施例1と同様である。また、この塗料
も、実施例1の場合と同様に、一日以上放置しても層分
離や沈澱はみられなかった。
C. Test Examples 1 to 12 (1) Outline and Preparation of Case Test Example 1 The case main body 1 of this test example is a polyether sulfone resin (trade name; "Radel A-200, manufactured by Amoco Co., Ltd.") instead of the above polysulfone resin. Was produced by the same method as in Example 1 except that
The conductive layer 2 is produced using the following antistatic coating material. That is, "pastran 41 as a conductive fine particle
11 "(trade name, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) was added with 35 parts of the same polyethersulfone resin as that used in the production of the container body 1 as a resin binder, followed by addition of 350 parts of dichloromethane, followed by execution. Forcible dispersion was carried out for 3 hours using the same “Pingment Zuker” as in Example 1 to dissociate the aggregated secondary particles into the original primary particles for adjustment.
The conductive fine particles used here were the same as those in Example 1 except that the solidified product had a volume resistivity value of 12 Ωcm and a primary particle diameter of 0.1 μm or less. Also, this coating material, as in the case of Example 1, did not show layer separation or precipitation even after standing for one day or more.

【0043】そして、上記ケース本体1を、30秒間、
トルエン中に浸漬して脱脂を行った後、乾燥させた。次
いで、このケース本体1を長手方向を縦にしながら、上
記帯電防止用塗料中に浸漬した後、膜厚が所定の厚さに
なる様に引き上げ速度を調節しながら塗料中より引き上
げ、ケース本体1の内面及び外面に塗膜を形成した後、
40℃の温風で1時間乾燥し導電層2を形成して、本試
験例に係わるケースAを作製した。
Then, the case body 1 is held for 30 seconds.
It was immersed in toluene for degreasing and then dried. Next, the case body 1 is dipped in the antistatic coating material with the longitudinal direction being vertical, and then pulled up from the coating material while adjusting the pulling speed so that the film thickness becomes a predetermined thickness. After forming a coating film on the inner and outer surfaces of
A conductive layer 2 was formed by drying with hot air at 40 ° C. for 1 hour to prepare a case A according to this test example.

【0044】試験例2〜6 試験例2〜6のケースAと試験例1のケースAの異同
は、以下の通りである。即ち、試験例2、5及び6にお
いてポリスルホン樹脂(商品名;「ユーデル P−17
00」、アモコ社製)を、試験例3においてポリフェニ
ルスルホン樹脂(商品名;「レーデル R−500
0」、アモコ社製)を、試験例4においてポリアリレー
ト樹脂(商品名;「P−1001」、ユニチカ社製)を
それぞれ用いケース本体1を作製した。また、各帯電防
止用塗料中の樹脂バインダーには、上記各ケース本体1
を構成する樹脂と同様な樹脂材料からなるバインダーを
それぞれを用いた。更に、同塗料中の導電微粒子は、試
験例2のみが酸化スズ芯材の表面に酸化アンチモンをド
ーピングしたもの(商品名「T−1」、三菱金属社製)
である他は、試験例1と同様のものである。
Test Examples 2 to 6 Case A of Test Examples 2 to 6 and Case A of Test Example 1 are as follows. That is, in Test Examples 2, 5 and 6, the polysulfone resin (trade name; "Udel P-17"
00 "manufactured by Amoco Co., Ltd. in Test Example 3 was used as a polyphenyl sulfone resin (trade name;" Radel R-500 ").
0 ", manufactured by Amoco Co., Ltd., and polyarylate resin (trade name;" P-1001 ", manufactured by Unitika Co., Ltd.) in Test Example 4 were used to manufacture the case body 1. In addition, the resin binder in each antistatic coating is used for the case body 1
Each of the binders made of the same resin material as that of the resin was used. Further, the conductive fine particles in the coating composition were obtained by doping the surface of a tin oxide core material with antimony oxide only in Test Example 2 (trade name "T-1", manufactured by Mitsubishi Metals Co., Ltd.).
Other than that is the same as in Test Example 1.

【0045】試験例7〜12 試験例7〜12のケースAと試験例1のケースAの異同
は、以下の通りである。即ち、試験例12において試験
例1と同様なポリエーテルスルホン樹脂を用いた他は、
試験例2等と同様なポリスルホン樹脂をそれぞれ用いケ
ース本体1を作製した。また、各帯電防止用塗料中の樹
脂バインダーには、試験例7は熱可塑型メタクリル樹脂
(商品名;「ダイヤナール BR−87」、三菱レーヨ
ン社製、固形分100%)を、試験例8は熱可塑型変性
アクリル樹脂(商品名;「ダイヤナールBR−90」、
三菱レーヨン社製、固形分100%)を、試験例9、1
0及び12はポリスルホン樹脂(商品名;「ユーデル
P−1700」、アモコ社製、固形分100%)をそれ
ぞれを用いた。更に、試験例11はポリスルホン樹脂
(商品名;「ユーデル P−1700」、アモコ社製、
固形分100%)と熱可塑型メタクリル樹脂(商品名;
「ダイヤナール BR−87」、三菱レーヨン社製、固
形分100%)を2:1の割合で混合した樹脂材料から
なるバイダーを用いた。また、同塗料中の導電微粒子
は、試験例10のみが酸化スズ芯材の表面に酸化アンチ
モンをドーピングしたもの(商品名「SN−100」、
石原産業社製)である他は、試験例1と同様のものを用
いた。
Test Examples 7 to 12 Case A of Test Examples 7 to 12 and Case A of Test Example 1 are as follows. That is, except that the same polyether sulfone resin as in Test Example 1 was used in Test Example 12,
A case body 1 was produced using the same polysulfone resin as in Test Example 2 and the like. In addition, as a resin binder in each antistatic coating, in Test Example 7, a thermoplastic methacrylic resin (trade name; "Dianal BR-87", manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., solid content 100%) was used. Is a thermoplastic modified acrylic resin (trade name; "Dianal BR-90",
Mitsubishi Rayon Co., Ltd., solid content 100%), Test Examples 9, 1
0 and 12 are polysulfone resin (trade name; "Udel
P-1700 ", manufactured by Amoco Co., Ltd., solid content 100%). Further, Test Example 11 is a polysulfone resin (trade name; "Udel P-1700", manufactured by Amoco,
Solid content 100%) and thermoplastic methacrylic resin (trade name;
A binder made of a resin material in which "Dianal BR-87", manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., solid content 100%) was mixed at a ratio of 2: 1 was used. In addition, the conductive fine particles in the paint were obtained by doping the surface of the tin oxide core material with antimony oxide only in Test Example 10 (trade name "SN-100",
Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd.) was used, and the same as in Test Example 1 was used.

【0046】以上に述べた試験例1〜12のケース本体
の材質、荷重たわみ温度(℃)、光透過率(%、m
m)、曇価(%、mm)等を「ケース本体特性」とし
て、また上記樹脂バインダー材質、配合量、導電微粒子
粒の径、導電微粒子の配合量等を「塗料特性」として表
4及び5に示す。尚、同表中における光透過率、曇価及
び荷重たわみ温度等の特性値は、全て実施例1と同様の
方法により測定したものである。また、上記導電層2の
形成前における各試験例のケース本体1のそりは、いず
れも0.7mm以下であり、この段階では、いずれのケ
ース本体1にも外観の異常は認められなかった。
The material of the case body, the deflection temperature under load (° C.), and the light transmittance (%, m) of Test Examples 1 to 12 described above.
m), haze value (%, mm) and the like as "case body characteristics", and the resin binder material, blending amount, conductive fine particle diameter, conductive fine particle blending amount and the like as "paint characteristics" in Tables 4 and 5. Shown in. The characteristic values such as light transmittance, haze value and deflection temperature under load in the table are all measured by the same method as in Example 1. In addition, the warpage of the case bodies 1 of the respective test examples before the formation of the conductive layer 2 was 0.7 mm or less, and at this stage, no abnormal appearance was observed in any of the case bodies 1.

【0047】[0047]

【表4】 [Table 4]

【0048】[0048]

【表5】 [Table 5]

【0049】尚、各表中の希釈剤としては、試験例1に
おいて上記の如く「ジクロルメタン」を用い、試験例3
において「N,N−ジメチルアセトアミド」を用いた他
は、「クロルベンゼン」を用いた。また、同表中の「P
ES」は上記「ポリエーテルスルホン樹脂」を、「PS
F」は上記「ポリスルホン樹脂」を、「PPS」は上記
「ポリフェニルスルホン樹脂」を、「PAR」は上記
「ポリアリレート樹脂」をそれぞれ示す。また、「熱可
塑型」とは上記「熱可塑型メタクリル樹脂」を、「熱可
塑型変性」とは上記「熱可塑型変性アクリル樹脂」をそ
れぞれ示す。更に、「混合品」とは上記熱可塑型メタク
リル樹脂とポリスルホン樹脂の混合品を示す。以上の各
ケースAについて、表6及び7に掲げる各項目の評価を
行い、その結果を同表に示す。
As the diluent in each table, "dichloromethane" was used as described above in Test Example 1, and Test Example 3 was used.
In the above, except that "N, N-dimethylacetamide" was used, "chlorobenzene" was used. In addition, "P
“ES” is the above “polyether sulfone resin” and “PS
“F” represents the above “polysulfone resin”, “PPS” represents the above “polyphenylsulfone resin”, and “PAR” represents the above “polyarylate resin”. Further, "thermoplastic type" means the above "thermoplastic methacrylic resin", and "thermoplastic type modified" means the above "thermoplastic type modified acrylic resin". Furthermore, the "mixed product" refers to a mixed product of the thermoplastic methacrylic resin and the polysulfone resin. For each of the above cases A, the items listed in Tables 6 and 7 were evaluated, and the results are shown in the same table.

【0050】[0050]

【表6】 [Table 6]

【0051】[0051]

【表7】 [Table 7]

【0052】尚、ベーキング後における各ケースAのそ
りは、いずれも1mm以下であった。また、表中の評価
方法は実施例1に示したものと同様であり、「光線透過
率」及び「曇価」については、厚さ1mmの試験片に、
上記ケース本体への形成条件と同じ条件で、導電層を形
成したものを用いて行った。また、同表中の「ベーキン
グ後の特性」とは、各ケースを155±1℃の温度の
下、10時間掛けベーキングを行った後の諸特性をい
う。更に、同表中の「◎」、「○」等の意味は、表3の
場合と同様である。
The warpage of each case A after baking was 1 mm or less. In addition, the evaluation methods in the table are the same as those shown in Example 1, and the "light transmittance" and "cloudiness value" are as follows:
The conductive layer was formed under the same conditions as the case body. The "characteristics after baking" in the table means various characteristics after baking each case for 10 hours at a temperature of 155 ± 1 ° C. Furthermore, the meanings of “⊚”, “∘” and the like in the table are the same as in Table 3.

【0053】以上の性能試験によれば、試験例1〜6及
び9に示す様に、容器本体1と樹脂バインダーを同一の
樹脂により構成した場合に、曇価が大きく改善されるこ
とが判る。特に、試験例5においては、導電層2の膜厚
が大きいのにも係わらず良好な結果を示している。ま
た、試験例12の様に容器本体1と樹脂バインダーを同
系列の樹脂により構成した場合、試験例11の様に容器
本体1を構成する樹脂と他の透明性を有する樹脂の混合
品を樹脂バインダーとして用いた場合にも、両者を異
種、異系列の樹脂により構成した試験例7及び8に比
べ、曇価の改善がみられた。尚、試験例10の場合は、
容器本体1と樹脂バインダーを同一の樹脂により構成し
たが、導電微粒子の1次粒子径と導電層の膜厚が過大な
ため曇価の改善はみられなかった。また、上記全試験例
に渡って、塗膜の密着性やICとの固着性等の基本的性
能については、略問題がなかったが、試験例9の様に導
電微粒子の配合量が少ない場合には、導電性が劣ってい
た。
According to the above performance tests, as shown in Test Examples 1 to 6 and 9, it is found that the haze value is greatly improved when the container body 1 and the resin binder are made of the same resin. Particularly, in Test Example 5, good results are shown despite the large thickness of the conductive layer 2. When the container body 1 and the resin binder are made of the same series of resin as in Test Example 12, a mixed product of the resin forming the container body 1 and another resin having transparency as in Test Example 11 is used as a resin. Even when used as a binder, the haze value was improved as compared with Test Examples 7 and 8 in which both were composed of different kinds and different series of resins. In the case of Test Example 10,
Although the container body 1 and the resin binder were made of the same resin, the haze value was not improved because the primary particle diameter of the conductive fine particles and the thickness of the conductive layer were excessive. In addition, there was almost no problem in the basic performance such as the adhesion of the coating film and the adhesion to the IC throughout all the test examples described above, but when the compounding amount of the conductive fine particles was small as in Test example 9. Had poor conductivity.

【0054】尚、本発明においては、前記具体的実施例
に示すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範
囲内で種々変更した実施例とすることができる。即ち、
本実施例では、DIP型のICの収納を主目的とするケ
ース(チューブ状等)について述べたが、QFP型のI
Cの収納を主目的とするケース(皿状等)についても適
用できる。
The present invention is not limited to the specific examples described above, and various modifications may be made within the scope of the present invention depending on the purpose and application. That is,
In this embodiment, the case (tube shape, etc.) whose main purpose is to store the DIP type IC has been described.
It can also be applied to a case (such as a dish) whose main purpose is to store C.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明のケースは、導電性、透明性及び
耐熱性の全ての要求性能を十分に満足するため、ICの
生産者から使用者への搬送に用いられるに止まらず、搬
送、実装等の各工程においてICをケースに収納したま
まの状態で品質管理ができると共に、ICを同ケースか
ら取り出す必要もなく、且つ品質を損なわずにベーキン
グをすることが可能である。従って、ICの生産者及び
使用者の双方において、作業効率の向上が図られる。ま
た、本ケースの製造には何らの複雑な工程を必要としな
いため量産に適する。また、ケース本体と母材層の樹脂
バインダを同一又は同種の硬質樹脂材料により構成した
場合には、ケース全体の透明度を更に向上させることが
できる。
Since the case of the present invention sufficiently satisfies all the required performances of conductivity, transparency and heat resistance, it is not only used for transportation from the producer of IC to the user, but In each step of mounting and the like, quality control can be performed with the IC stored in the case, and it is not necessary to take out the IC from the case, and baking can be performed without impairing the quality. Therefore, both IC producers and users can improve work efficiency. Moreover, since no complicated process is required for manufacturing the case, it is suitable for mass production. When the case body and the resin binder of the base material layer are made of the same or the same kind of hard resin material, the transparency of the entire case can be further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1の集積回路用ケース本体の一部斜視図
である。
FIG. 1 is a partial perspective view of an integrated circuit case body according to a first exemplary embodiment.

【図2】実施例1の集積回路用ケースに集積回路(I
C)を収納した状態を示す説明図である。
FIG. 2 shows an integrated circuit (I
It is explanatory drawing which shows the state which accommodated C).

【図3】導電層の状態を示す一部縦断面図である。FIG. 3 is a partial vertical cross-sectional view showing a state of a conductive layer.

【符号の説明】 1;容器本体、2;導電層、21;導電微粒子、22;
母材層。
[Explanation of reference numerals] 1; container body, 2; conductive layer, 21; conductive fine particles, 22;
Base material layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01B 1/22 Z 7244−5G H01L 23/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01B 1/22 Z 7244-5G H01L 23/00

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 JISK7105試験法に基づく厚さ1
mm当たりの光線透過率が75%以上で、且つ厚さ1m
m当たりの曇価が8%以下であって、更に、JISK7
202A試験法に基づく荷重たわみ温度が150℃以上
の硬質樹脂材料からなり多数の集積回路を収納する略管
状若しくは略皿状の集積回路用ケース本体と、該ケース
本体の内面及び外面を被覆する導電層と、を備え、 該導電層は樹脂バインダからなる母材層と、該母材層内
に分散され体積固有抵抗値が102 Ωcm以下で且つ一
次粒子径が0.2μm以下の導電微粒子と、を備え、該
導電微粒子の含有量は上記樹脂バインダと該導電微粒子
の合計を100重量部とした場合に60〜75重量部で
あり、上記導電層の表面には上記導電微粒子が表出して
いることを特徴とする集積回路用ケース。
1. Thickness 1 according to JIS K7105 test method
Light transmittance of 75% or more per mm and thickness of 1 m
Haze value per m is 8% or less, and further JISK7
202A test body made of a hard resin material having a deflection temperature under load of 150 ° C. or higher and containing a large number of integrated circuits. The case body has a substantially tubular or plate shape, and a conductive material that covers the inner and outer surfaces of the case body. A base material layer made of a resin binder, and conductive fine particles dispersed in the base material layer and having a volume resistivity of 10 2 Ωcm or less and a primary particle diameter of 0.2 μm or less. , And the content of the conductive fine particles is 60 to 75 parts by weight when the total of the resin binder and the conductive fine particles is 100 parts by weight, and the conductive fine particles are exposed on the surface of the conductive layer. A case for an integrated circuit characterized in that
【請求項2】 上記母材層は、上記ケース本体を構成す
る硬質樹脂材料と同一又は同系列の硬質樹脂材料からな
る樹脂バインダにより構成される請求項1記載の集積回
路用ケース。
2. The case for an integrated circuit according to claim 1, wherein the base material layer is made of a resin binder made of a hard resin material that is the same as or similar to the hard resin material that forms the case body.
【請求項3】 上記硬質樹脂材料が、ポリスルホン樹
脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニルスルホン
樹脂若しくはポリアリレート樹脂である請求項1又は2
記載の集積回路用ケース。
3. The hard resin material is polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyphenyl sulfone resin or polyarylate resin.
The integrated circuit case described.
【請求項4】 上記導電性微粒子は、硫酸バリウム粒子
からなる基体と、該基体の表面に被覆形成され、且つ表
面を酸化インジウム若しくは酸化アンチモンでドーピン
グしてなる酸化スズ被膜と、から構成される請求項1乃
至3記載の集積回路用ケース。
4. The conductive fine particles are composed of a substrate composed of barium sulfate particles, and a tin oxide coating film formed on the surface of the substrate by doping the surface with indium oxide or antimony oxide. The integrated circuit case according to claim 1.
【請求項5】 上記集積回路用ケース本体の端部開口部
若しくは側壁部開口部には、少なくとも1以上の脱落防
止手段が装着される請求項1乃至4記載の集積回路用ケ
ース。
5. The integrated circuit case according to claim 1, wherein at least one drop-out preventing means is attached to the end opening or the side wall opening of the integrated circuit case body.
JP5085357A 1993-02-05 1993-03-19 Integrated-circuit case Pending JPH06286782A (en)

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JP5-42056 1993-02-05
JP4205693 1993-02-05
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0661782A1 (en) * 1993-12-28 1995-07-05 Nec Corporation A semiconductor laser

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