JPH06281578A - ガス分析計 - Google Patents
ガス分析計Info
- Publication number
- JPH06281578A JPH06281578A JP9223993A JP9223993A JPH06281578A JP H06281578 A JPH06281578 A JP H06281578A JP 9223993 A JP9223993 A JP 9223993A JP 9223993 A JP9223993 A JP 9223993A JP H06281578 A JPH06281578 A JP H06281578A
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- sample
- light
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガスによる光の吸収特性を利用したガス分析
計において、測定値の誤差を抑え、光の利用効率を高め
る。 【構成】 試料セル１３の一端側に光源１１を、他端側
に検出器１５を設け、試料ガスの流路中に圧力変調装置
１７を設ける。圧力変調装置１７によって試料ガスの圧
力を変えて、二つの異なる圧力について、試料セル１３
を通過した赤外光の強度を検出し、これらから演算装置
１９が試料ガス中の測定対象成分の濃度を求める。
計において、測定値の誤差を抑え、光の利用効率を高め
る。 【構成】 試料セル１３の一端側に光源１１を、他端側
に検出器１５を設け、試料ガスの流路中に圧力変調装置
１７を設ける。圧力変調装置１７によって試料ガスの圧
力を変えて、二つの異なる圧力について、試料セル１３
を通過した赤外光の強度を検出し、これらから演算装置
１９が試料ガス中の測定対象成分の濃度を求める。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、赤外線式ガス分析計
等、ガスによる光（赤外線や紫外線を含む）の吸収特性
を利用してガスに含まれる特定成分の濃度を測定するガ
ス分析計に関する。
等、ガスによる光（赤外線や紫外線を含む）の吸収特性
を利用してガスに含まれる特定成分の濃度を測定するガ
ス分析計に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のガス分析計の一例として、図２に
赤外線式ガス分析計の構成を示す。このガス分析計は、
燃焼排ガスに含まれる一酸化炭素等の濃度を測定する場
合に使用されるものであって、比較セル５２と試料セル
５３の２本の円筒状のセルを平行に配置し、赤外光を投
射する光源５１と、光源５１からの赤外光を比較セル５
２と試料セル５３のいずれかのセルに選択的に投射する
ための回転セクタ５８と、両セル５２、５３を通過した
赤外光を集光する集光器５４と、集光された赤外光を受
光して両セル５２、５３を通過した特定波長帯の赤外光
の強度（透過光強度）を検出する検出器５５とを備えて
いる。
赤外線式ガス分析計の構成を示す。このガス分析計は、
燃焼排ガスに含まれる一酸化炭素等の濃度を測定する場
合に使用されるものであって、比較セル５２と試料セル
５３の２本の円筒状のセルを平行に配置し、赤外光を投
射する光源５１と、光源５１からの赤外光を比較セル５
２と試料セル５３のいずれかのセルに選択的に投射する
ための回転セクタ５８と、両セル５２、５３を通過した
赤外光を集光する集光器５４と、集光された赤外光を受
光して両セル５２、５３を通過した特定波長帯の赤外光
の強度（透過光強度）を検出する検出器５５とを備えて
いる。
【０００３】２本のセルのうち比較セル５２に基準とな
るガスを封入あるいは流通させておき、試料セル５３に
は試料ガスを流しておく。回転セクタ５８をモータ５７
で回転させることにより、光源５１からの赤外光を比較
セル５２と試料セル５３へ交互に投射する。それぞれの
セル５２、５３を通過した赤外光は、集光器５４で集光
され、交互に検出器５５に導入される。これにより、比
較セル５２の透過光強度と試料セル５３の透過光強度が
検出器５５で時分割により別個に検出される。これらの
検出値から試料ガスに含まれる特定成分の濃度（燃焼排
ガスに含まれる一酸化炭素等の濃度等）を求めることが
できる。
るガスを封入あるいは流通させておき、試料セル５３に
は試料ガスを流しておく。回転セクタ５８をモータ５７
で回転させることにより、光源５１からの赤外光を比較
セル５２と試料セル５３へ交互に投射する。それぞれの
セル５２、５３を通過した赤外光は、集光器５４で集光
され、交互に検出器５５に導入される。これにより、比
較セル５２の透過光強度と試料セル５３の透過光強度が
検出器５５で時分割により別個に検出される。これらの
検出値から試料ガスに含まれる特定成分の濃度（燃焼排
ガスに含まれる一酸化炭素等の濃度等）を求めることが
できる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなガス分析
計では、試料ガスが汚れている場合に、試料セル５３が
汚れても比較セル５２が汚れることはないため、その汚
れが測定誤差の原因となる。また、回転セクタ５８の回
転が不安定となった場合に、その不安定な回転によって
測定値がばらつく。さらに、光源５１から出た赤外光が
試料セル５３のみならず比較セル５２にも投射されるこ
と、赤外光の一部が回転セクタ５８によって遮断される
こと、集光器５４において赤外光がある程度吸収される
こと等のため、赤外光の利用効率が低いという欠点があ
る。
計では、試料ガスが汚れている場合に、試料セル５３が
汚れても比較セル５２が汚れることはないため、その汚
れが測定誤差の原因となる。また、回転セクタ５８の回
転が不安定となった場合に、その不安定な回転によって
測定値がばらつく。さらに、光源５１から出た赤外光が
試料セル５３のみならず比較セル５２にも投射されるこ
と、赤外光の一部が回転セクタ５８によって遮断される
こと、集光器５４において赤外光がある程度吸収される
こと等のため、赤外光の利用効率が低いという欠点があ
る。
【０００５】本発明はこのような課題を解決するために
成されたものであり、その目的とするところは、ガスに
よる光の吸収特性を利用してガスに含まれる特定成分の
濃度を測定するガス分析計であって、測定値のばらつき
が少なく、光の利用効率が高いガス分析計を提供するこ
とを目的とする。
成されたものであり、その目的とするところは、ガスに
よる光の吸収特性を利用してガスに含まれる特定成分の
濃度を測定するガス分析計であって、測定値のばらつき
が少なく、光の利用効率が高いガス分析計を提供するこ
とを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明では、試料ガスによる光の吸収特性を
利用して試料ガスに含まれる特定成分の濃度を測定する
ガス分析計において、試料ガスが入る試料セルと、試料
セルに光を投射する光源と、試料セルを通過した光の強
度を検出する検出手段と、試料セル内の試料ガスの圧力
を変化させて少なくとも二つの異なる圧力を設定するこ
とができる圧力制御手段と、圧力制御手段が設定する二
つの異なる圧力に対して検出手段が検出した二つの検出
値に基づき、試料ガスに含まれる特定成分の濃度を算出
する算出手段と、を備えた構成としている。
に成された本発明では、試料ガスによる光の吸収特性を
利用して試料ガスに含まれる特定成分の濃度を測定する
ガス分析計において、試料ガスが入る試料セルと、試料
セルに光を投射する光源と、試料セルを通過した光の強
度を検出する検出手段と、試料セル内の試料ガスの圧力
を変化させて少なくとも二つの異なる圧力を設定するこ
とができる圧力制御手段と、圧力制御手段が設定する二
つの異なる圧力に対して検出手段が検出した二つの検出
値に基づき、試料ガスに含まれる特定成分の濃度を算出
する算出手段と、を備えた構成としている。
【０００７】
【作用】光源から試料セルに光が投射され、その光は試
料セル内の試料ガスを通過する。この通過により、試料
ガス中の特定成分（測定対象成分）に対応する波長帯の
光がその特定成分の密度（単位体積中に含まれる特定成
分の量）に応じて吸収される。試料セルを通過した光は
検出手段によって受光され、その強度（透過光強度）が
検出される。
料セル内の試料ガスを通過する。この通過により、試料
ガス中の特定成分（測定対象成分）に対応する波長帯の
光がその特定成分の密度（単位体積中に含まれる特定成
分の量）に応じて吸収される。試料セルを通過した光は
検出手段によって受光され、その強度（透過光強度）が
検出される。
【０００８】上記の透過光強度の検出において、圧力制
御手段は試料ガスを少なくとも二つの異なる圧力に設定
する。二つの異なる圧力に対する透過光強度は、それぞ
れの圧力における試料ガス中の特定成分の密度に対応
し、この二つの密度の相違は測定対象成分の濃度（体積
濃度）に応じたものとなる。したがって、算出手段は、
二つの異なる圧力に対する透過光強度の相違に基づき測
定対象成分の濃度を算出する。
御手段は試料ガスを少なくとも二つの異なる圧力に設定
する。二つの異なる圧力に対する透過光強度は、それぞ
れの圧力における試料ガス中の特定成分の密度に対応
し、この二つの密度の相違は測定対象成分の濃度（体積
濃度）に応じたものとなる。したがって、算出手段は、
二つの異なる圧力に対する透過光強度の相違に基づき測
定対象成分の濃度を算出する。
【０００９】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の実施例につ
いて説明する。図１は、本発明の一実施例である赤外線
式ガス分析計の構成を示す図である。図１に示すよう
に、本ガス分析計は、従来と異なり比較セルがなく、試
料セル１３のみを備え、試料セル１３の一方の端面側に
光源１１を、他方の端面側には検出器１５を設けてい
る。試料セル１３は円筒状のセルであって、その側面内
側を鏡面に加工し、両端面に赤外光を透過するガラス窓
を設けている。試料セル１３には試料ガスが流される
が、この試料ガスの圧力を変化させるための圧力変調装
置１７を試料ガスの流路中に設けている。
いて説明する。図１は、本発明の一実施例である赤外線
式ガス分析計の構成を示す図である。図１に示すよう
に、本ガス分析計は、従来と異なり比較セルがなく、試
料セル１３のみを備え、試料セル１３の一方の端面側に
光源１１を、他方の端面側には検出器１５を設けてい
る。試料セル１３は円筒状のセルであって、その側面内
側を鏡面に加工し、両端面に赤外光を透過するガラス窓
を設けている。試料セル１３には試料ガスが流される
が、この試料ガスの圧力を変化させるための圧力変調装
置１７を試料ガスの流路中に設けている。
【００１０】上記構成のガス分析計において、光源１１
からの赤外光は、試料セル１３の一端から投射され、試
料セル１３内の試料ガスを通過した後、検出器１５によ
って受光される。検出器１５では試料ガスに含まれる特
定成分（測定対象成分）に対応する吸収波長帯の赤外光
（透過光強度）が検出される。この透過光強度は試料ガ
スに含まれる特定成分の密度（単位体積中に含まれる特
定成分の量）に応じた値となっているが、密度は試料ガ
スの温度や圧力によって変化するものであり、ガス分析
で最終的に求めたいのは温度や圧力に依存しない体積濃
度（同じ圧力のもとで特定成分の体積が試料ガス全体に
対して占める割合）である。一方、前述のように試料ガ
スの流路中には圧力変調装置１７が設けられている。本
ガス分析装置では、この圧力変調装置１７により試料ガ
スの圧力を変化させ、二つの異なる圧力（温度は一定）
における透過光強度を測定し、この二つの圧力及び透過
光強度の値から演算装置１９が以下のようにして体積濃
度を求める。
からの赤外光は、試料セル１３の一端から投射され、試
料セル１３内の試料ガスを通過した後、検出器１５によ
って受光される。検出器１５では試料ガスに含まれる特
定成分（測定対象成分）に対応する吸収波長帯の赤外光
（透過光強度）が検出される。この透過光強度は試料ガ
スに含まれる特定成分の密度（単位体積中に含まれる特
定成分の量）に応じた値となっているが、密度は試料ガ
スの温度や圧力によって変化するものであり、ガス分析
で最終的に求めたいのは温度や圧力に依存しない体積濃
度（同じ圧力のもとで特定成分の体積が試料ガス全体に
対して占める割合）である。一方、前述のように試料ガ
スの流路中には圧力変調装置１７が設けられている。本
ガス分析装置では、この圧力変調装置１７により試料ガ
スの圧力を変化させ、二つの異なる圧力（温度は一定）
における透過光強度を測定し、この二つの圧力及び透過
光強度の値から演算装置１９が以下のようにして体積濃
度を求める。
【００１１】試料セル１３を通過した後の赤外光の強度
（透過光強度）Ｉは、次式により与えられる（ランバー
ト・ベールの法則）。 Ｉ＝Ｉ0・ｅｘｐ（−Ｋ・ρ・Ｌ） …(1) ただし、Ｉ0：試料セルに入射される赤外光の強度（入
射光強度） Ｋ ：吸光係数 ρ ：試料ガス中の測定対象成分の密度［kg／ｍ3］ Ｌ ：赤外光が試料ガスを通過する距離（試料セルの長
さ）［ｍ］ 一方、密度ρ［kg／ｍ3］は、圧力Ｐ［N／ｍ2］に比例
し、 ρ＝ｋ・ρ0・Ｐ …(2) ただし、ρ0：標準の温度及び圧力における密度［kg／
ｍ3］ ｋ ：比例定数 とおくことができ、体積濃度ｃは、標準の温度及び圧力
における純ガス（測定対象成分のみからなるガス）の密
度をρp［kg／ｍ3］とすると、 ｃ＝ρ0／ρp …(3) である。したがって、(1)式は、 Ｉ＝Ｉ0・ｅｘｐ（−Ｋ・ｋ・ρp・ｃ・Ｐ・Ｌ） …(4) となる。この式によると、異なる圧力Ｐ1及びＰ2におけ
る測定対象成分の体積濃度ｃと透過光強度Ｉとの関係
は、図３に示すようになる（ただし、Ｐ1＜Ｐ2）。い
ま、測定対象成分の体積濃度がｃ1の試料ガスについて
圧力変調装置１７により圧力を変えて測定した結果、圧
力がＰ1のときに透過光強度としてＩ1が、圧力がＰ2の
ときに透過光強度としてＩ2が、それぞれ得られたとす
ると、(4)式より Ｉ1＝Ｉ0・ｅｘｐ（−Ｋ・ｋ・ρp・ｃ1・Ｐ1・Ｌ） Ｉ2＝Ｉ0・ｅｘｐ（−Ｋ・ｋ・ρp・ｃ1・Ｐ2・Ｌ） である。これらより ｌｎ（Ｉ2／Ｉ1）＝−Ｋ・ｋ・ρp・ｃ1・Ｌ・（Ｐ2−Ｐ1） となり、 ｃ1＝−ｌｎ（Ｉ2／Ｉ1）／｛Ｋ・ｋ・ρp・Ｌ・（Ｐ2−Ｐ1）｝ …(5) が得られる。上式において、右辺のＩ2／Ｉ1は圧力Ｐ1
及びＰ2における検出器１５の出力値から求めることが
でき、Ｐ1及びＰ2は圧力変調装置１７によって設定され
る既知の値である。したがって、試料ガスの圧力を変え
て透過光強度を測定すれば、(5)式より、測定対象成分
の体積濃度ｃ1を求めることができる。なお、このよう
にして体積濃度ｃ1を算出する演算装置１９は、例え
ば、マイクロプロセッサ（ＭＰＵ）、メモリ、及びＡ／
Ｄ変換器を用いて実現することができる。この場合、検
出器１５から出力される信号及び圧力変調装置１７が設
定する二つの圧力Ｐ1、Ｐ2を表わす信号をＡ／Ｄ変換器
がデジタル信号に変換し、メモリに格納された所定のプ
ログラムに基づきＭＰＵが、このデジタル信号を取り込
んで、(5)式より体積濃度ｃ1を算出する。
（透過光強度）Ｉは、次式により与えられる（ランバー
ト・ベールの法則）。 Ｉ＝Ｉ0・ｅｘｐ（−Ｋ・ρ・Ｌ） …(1) ただし、Ｉ0：試料セルに入射される赤外光の強度（入
射光強度） Ｋ ：吸光係数 ρ ：試料ガス中の測定対象成分の密度［kg／ｍ3］ Ｌ ：赤外光が試料ガスを通過する距離（試料セルの長
さ）［ｍ］ 一方、密度ρ［kg／ｍ3］は、圧力Ｐ［N／ｍ2］に比例
し、 ρ＝ｋ・ρ0・Ｐ …(2) ただし、ρ0：標準の温度及び圧力における密度［kg／
ｍ3］ ｋ ：比例定数 とおくことができ、体積濃度ｃは、標準の温度及び圧力
における純ガス（測定対象成分のみからなるガス）の密
度をρp［kg／ｍ3］とすると、 ｃ＝ρ0／ρp …(3) である。したがって、(1)式は、 Ｉ＝Ｉ0・ｅｘｐ（−Ｋ・ｋ・ρp・ｃ・Ｐ・Ｌ） …(4) となる。この式によると、異なる圧力Ｐ1及びＰ2におけ
る測定対象成分の体積濃度ｃと透過光強度Ｉとの関係
は、図３に示すようになる（ただし、Ｐ1＜Ｐ2）。い
ま、測定対象成分の体積濃度がｃ1の試料ガスについて
圧力変調装置１７により圧力を変えて測定した結果、圧
力がＰ1のときに透過光強度としてＩ1が、圧力がＰ2の
ときに透過光強度としてＩ2が、それぞれ得られたとす
ると、(4)式より Ｉ1＝Ｉ0・ｅｘｐ（−Ｋ・ｋ・ρp・ｃ1・Ｐ1・Ｌ） Ｉ2＝Ｉ0・ｅｘｐ（−Ｋ・ｋ・ρp・ｃ1・Ｐ2・Ｌ） である。これらより ｌｎ（Ｉ2／Ｉ1）＝−Ｋ・ｋ・ρp・ｃ1・Ｌ・（Ｐ2−Ｐ1） となり、 ｃ1＝−ｌｎ（Ｉ2／Ｉ1）／｛Ｋ・ｋ・ρp・Ｌ・（Ｐ2−Ｐ1）｝ …(5) が得られる。上式において、右辺のＩ2／Ｉ1は圧力Ｐ1
及びＰ2における検出器１５の出力値から求めることが
でき、Ｐ1及びＰ2は圧力変調装置１７によって設定され
る既知の値である。したがって、試料ガスの圧力を変え
て透過光強度を測定すれば、(5)式より、測定対象成分
の体積濃度ｃ1を求めることができる。なお、このよう
にして体積濃度ｃ1を算出する演算装置１９は、例え
ば、マイクロプロセッサ（ＭＰＵ）、メモリ、及びＡ／
Ｄ変換器を用いて実現することができる。この場合、検
出器１５から出力される信号及び圧力変調装置１７が設
定する二つの圧力Ｐ1、Ｐ2を表わす信号をＡ／Ｄ変換器
がデジタル信号に変換し、メモリに格納された所定のプ
ログラムに基づきＭＰＵが、このデジタル信号を取り込
んで、(5)式より体積濃度ｃ1を算出する。
【００１２】以上のように本実施例のガス分析計は、従
来例（図２）で用いられていた回転セクタ５８や、比較
セル５２、集光器５４を用いることなく、試料ガス中の
測定対象成分の体積濃度を測定することができる。した
がって、光源１１からの光は回転セクタに遮断されるこ
となく全てが試料セル１３に投射され、集光器における
光の吸収もないため、光の利用効率が向上する。また、
従来は、試料ガスの汚れによって試料セル５３が汚れて
測定誤差の原因となることがあったが、本実施例では、
試料セル１３が汚れても、その試料セル１３による測定
で得られた二つの透過光強度Ｉ1、Ｉ2を用いて濃度を算
出するため、汚れの影響がキャンセルされ、測定結果の
汚れによる誤差が抑えられる。さらに、回転セクタ５８
の不安定な回転によって測定結果がばらつくということ
もない。
来例（図２）で用いられていた回転セクタ５８や、比較
セル５２、集光器５４を用いることなく、試料ガス中の
測定対象成分の体積濃度を測定することができる。した
がって、光源１１からの光は回転セクタに遮断されるこ
となく全てが試料セル１３に投射され、集光器における
光の吸収もないため、光の利用効率が向上する。また、
従来は、試料ガスの汚れによって試料セル５３が汚れて
測定誤差の原因となることがあったが、本実施例では、
試料セル１３が汚れても、その試料セル１３による測定
で得られた二つの透過光強度Ｉ1、Ｉ2を用いて濃度を算
出するため、汚れの影響がキャンセルされ、測定結果の
汚れによる誤差が抑えられる。さらに、回転セクタ５８
の不安定な回転によって測定結果がばらつくということ
もない。
【００１３】なお、本実施例のガス分析計による測定の
感度は、圧力差（前記のＰ1とＰ2との差）が大きい程よ
くなるため、例えば、圧力変調装置１７により試料ガス
の圧力を大気圧よりも減圧したときと加圧したときとに
ついて透過光強度を測定するという方法が考えられる。
感度は、圧力差（前記のＰ1とＰ2との差）が大きい程よ
くなるため、例えば、圧力変調装置１７により試料ガス
の圧力を大気圧よりも減圧したときと加圧したときとに
ついて透過光強度を測定するという方法が考えられる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
試料セルの汚れによる測定値の誤差が抑えられ、回転セ
クタの不安定な回転によって測定値がばらつくというこ
ともないため、安定した測定を行なうことができる。ま
た、光源からの光は回転セクタに遮断されることなく全
てが試料セルに投射され、集光器における光の吸収もな
いため、光の利用効率が向上する。さらに、比較セル、
回転セクタ、及び集光器が不要となって従来に比べ構成
が簡素化されるため、ガス分析計の小型化及び低価格化
にも寄与する。
試料セルの汚れによる測定値の誤差が抑えられ、回転セ
クタの不安定な回転によって測定値がばらつくというこ
ともないため、安定した測定を行なうことができる。ま
た、光源からの光は回転セクタに遮断されることなく全
てが試料セルに投射され、集光器における光の吸収もな
いため、光の利用効率が向上する。さらに、比較セル、
回転セクタ、及び集光器が不要となって従来に比べ構成
が簡素化されるため、ガス分析計の小型化及び低価格化
にも寄与する。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一実施例である赤外線式ガス分析計
の構成を示す図。
の構成を示す図。
【図２】 従来の赤外線式ガス分析計の構成を示す図。
【図３】 試料ガス中の測定対象成分の体積濃度と透過
光強度との関係を示す図。
光強度との関係を示す図。
１１…光源 １３…試料セル １５…検出器（検出手段） １７…圧力変調装置
（圧力制御手段） １９…演算装置（算出手段）
（圧力制御手段） １９…演算装置（算出手段）
Claims (1)
- 【請求項１】 試料ガスによる光の吸収特性を利用して
試料ガスに含まれる特定成分の濃度を測定するガス分析
計において、 試料ガスが入る試料セルと、 試料セルに光を投射する光源と、 試料セルを通過した光の強度を検出する検出手段と、 試料セル内の試料ガスの圧力を変化させて少なくとも二
つの異なる圧力を設定することができる圧力制御手段
と、 圧力制御手段が設定する二つの異なる圧力に対して検出
手段が検出した二つの検出値に基づき、試料ガスに含ま
れる特定成分の濃度を算出する算出手段と、を備えるこ
とを特徴とするガス分析計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9223993A JPH06281578A (ja) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | ガス分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9223993A JPH06281578A (ja) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | ガス分析計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06281578A true JPH06281578A (ja) | 1994-10-07 |
Family
ID=14048890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9223993A Pending JPH06281578A (ja) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | ガス分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06281578A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7057175B2 (en) | 2003-01-20 | 2006-06-06 | Seiko Epson Corporation | Infrared absorption measurement method, infrared absorption measurement device, and method of manufacturing semiconductor device |
| US7067813B2 (en) | 2003-01-20 | 2006-06-27 | Seiko Epson Corporation | Infrared absorption measurement method, infrared absorption measurement device, and method of manufacturing semiconductor device |
| JP2012501438A (ja) * | 2008-08-28 | 2012-01-19 | センスエア アーベー | 低濃度ガスのスペクトル分析に適合したスペクトル分析装置 |
| JP2016532858A (ja) * | 2013-10-11 | 2016-10-20 | エムケイエス インストゥルメンツ， インコーポレイテッド | 圧縮性流体の圧力差分子分光学のためのシステムおよび方法 |
-
1993
- 1993-03-26 JP JP9223993A patent/JPH06281578A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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