JPH06265489A - X-ray diffractometer - Google Patents

X-ray diffractometer

Info

Publication number
JPH06265489A
JPH06265489A JP5396793A JP5396793A JPH06265489A JP H06265489 A JPH06265489 A JP H06265489A JP 5396793 A JP5396793 A JP 5396793A JP 5396793 A JP5396793 A JP 5396793A JP H06265489 A JPH06265489 A JP H06265489A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
sample
incident
measured
diffraction pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5396793A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyoshi Ogata
潔 尾形
Asao Nakano
朝雄 中野
Kazufumi Suenaga
和史 末永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP5396793A priority Critical patent/JPH06265489A/en
Publication of JPH06265489A publication Critical patent/JPH06265489A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide an X-ray diffractometer that is able to analyze an orientation property of crystal grains speedily by way of performing the measurement and analysis of an X-ray diffraction pattern. CONSTITUTION:This X-ray diffractometer is made up of installing a sample stage 9 provided with a sample rotary mechanism 8 holding a measured sample 4 and rotating this sample around at least an incident X-ray, an X-ray source 1 applying a white X-ray to the sample 4 at a specified incident angle, an X-ray detector 6 measuring a diffractive X-ray 5 to be diffracted out of the sample 4 and outputting it, and a computer 12 controlling each part, and operating a diffracting angle 2theta from the measured value out of the X-ray detector 6, compounding a turning angle phi of the sample 4 and this diffracting angle 2theta of the diffractive X-ray 5, and making an X-ray diffraction diagram respectively.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、X線をプローブとして
材料の評価を行うためのX線回折装置に係り、特に各種
工業材料および電子材料中の結晶粒の配向性の解析を迅
速に行うために好適なX線回折装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an X-ray diffractometer for evaluating materials using X-rays as a probe, and in particular, to rapidly analyze the orientation of crystal grains in various industrial materials and electronic materials. An X-ray diffractometer suitable for

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の技術では、例えばB.D.カリテ
ィ(B.D.Cullity)著「X線回折要論」(”
ELEMENTS OF X−RAY DIFFRAC
TION”,松村源太郎訳 アグネ社、1972年)の
219頁に記述されているように、白色X線を試料に入
射させ、試料より発する背面反射をX線フィルムによっ
て検出している。そして、フィルムを現像した後、フィ
ルム上に記録されたラウエ斑点の位置を、Grenin
gerチャート等の座標軸変換用の定規を用いて読み取
り、Wulffネット等を用いてステレオ投影図上にプ
ロットし、結晶粒の配向性を解析していた。
2. Description of the Related Art In the prior art, for example, B.I. D. "The X-ray Diffraction Principles" by BD Cullity ("
ELEMENTS OF X-RAY DIFFRAC
Tion ", translated by Gentaro Matsumura, Agne Co., 1972, p. 219, white X-rays are incident on the sample, and the back reflection emitted from the sample is detected by an X-ray film. After developing, the position of the spots of Laue recorded on the film was adjusted to
It was read using a ruler for coordinate axis conversion such as a ger chart and plotted on a stereo projection diagram using a Wulff net or the like to analyze the crystal grain orientation.

【0003】また、例えばフォトンファクトリー・アク
ティビティ・レポート #9(”PHOTON FAC
TORY ACTIVITY REPORT #9”,
KEK Progress Report 91−2
A/M,文部省高エネルギー物理学研究所、1992
年)の137頁には、試料に単色X線を入射させ、試料
からの回折X線パターンを2次元のX線検出素子上に蓄
積し、He−Neレーザを用いた読み取り装置によって
2次元のデータを自動的に読み取り、X線回折パターン
を得る技術が示されている。
Also, for example, Photon Factory Activity Report # 9 ("PHOTON FAC
TORY ACTIVITY REPORT # 9 ",
KEK Progress Report 91-2
A / M, Institute of High Energy Physics, Ministry of Education, 1992
Pp. 137), a monochromatic X-ray is made incident on the sample, the diffracted X-ray pattern from the sample is accumulated on the two-dimensional X-ray detection element, and the two-dimensional image is read by a reading device using a He-Ne laser. Techniques for automatically reading data and obtaining X-ray diffraction patterns have been shown.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来技術
のうちの文献「X線回折要論」に記載されている技術で
は、X線検出素子としてフィルムを用いるため、現像,
定着等の過程が必要であり、またラウエ斑点の位置読み
取りおよびステレオ投影等のデータ処理は、定規等を用
いて手動で行う必要があり、迅速化,自動化の点に問題
があった。
However, in the technique described in the document "X-ray Diffraction Principles" among the above-mentioned conventional techniques, since a film is used as the X-ray detection element, the development,
A process such as fixing is required, and data processing such as position reading of Laue spots and stereo projection needs to be performed manually using a ruler or the like, which is a problem in terms of speeding up and automation.

【0005】また、別の文献「PHOTON FACT
ORY ACTIVITY REPORT #9」に記
載されている従来技術では、2次元の回折強度情報を蓄
積し、回折装置に組み込んだ読み取り装置を用いて自動
的に数値データに変換することができる。しかし、単色
X線を用いるため、モノクロメータ等の光学素子が必要
であること、また単色化する過程でX線の光量が低下す
るという問題があった。さらに、読み取り装置の構造が
複雑で高価であること、読み取りに時間を要するという
問題があった。しかも、得られる結果はフィルムを用い
た場合と本質的に同一であり、配向性の解析は手動で行
っていた。
Another document, "PHOTOFACT"
In the conventional technique described in "ORY ACTIVITY REPORT # 9", two-dimensional diffraction intensity information can be accumulated and automatically converted into numerical data by using a reading device incorporated in the diffracting device. However, since monochromatic X-rays are used, there is a problem that an optical element such as a monochromator is required and that the light amount of X-rays decreases in the process of monochromaticization. Further, there are problems that the structure of the reading device is complicated and expensive, and that reading takes time. Moreover, the results obtained were essentially the same as when using the film, and the orientation analysis was performed manually.

【0006】本発明の目的は、前記従来技術の問題点を
解消することにあり、X線回折パターンの測定および解
析を自動的に行い、結晶粒の配向性を迅速に解析し得る
X線回折装置を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art. X-ray diffraction which can automatically measure and analyze the X-ray diffraction pattern and rapidly analyze the orientation of crystal grains. To provide a device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記目的は、被測定試料
を保持しかつ少なくとも入射X線の回りに回転させる機
構を備えた試料台と、前記試料に所定の入射角度で白色
X線を照射するX線源と、前記試料から回折される回折
X線を測定し出力するX線検出器と、前記各部を制御
し、かつ前記X線検出器からの測定値より回折角を演算
し、試料の回転角と回折X線の回折角とを合成し、X線
回折図形を作成するコンピュータとを備えて構成したこ
とにより、達成される。
The object is to irradiate the sample with a white X-ray at a predetermined incident angle, and a sample stage equipped with a mechanism for holding the sample to be measured and rotating at least around the incident X-ray. An X-ray source, an X-ray detector that measures and outputs diffracted X-rays diffracted from the sample, controls each of the above parts, and calculates a diffraction angle from the measured value from the X-ray detector, And a computer that creates an X-ray diffraction pattern by synthesizing the rotation angle and the diffraction angle of the diffracted X-ray.

【0008】また、前記目的は試料台に、入射X線の回
りに回転させる機構のほか、入射X線に対して3次元方
向に移動させる機構を取り付けたことにより、さらには
前記X線検出器として、試料からの複数の回折X線を同
時に測定可能な位置敏感型検出器を配備したことによ
り、達成される。
Further, the object is to mount a mechanism for rotating around the incident X-rays and a mechanism for moving the sample X-rays in three dimensions with respect to the incident X-rays. As a result, a position sensitive detector capable of simultaneously measuring a plurality of diffracted X-rays from the sample is provided.

【0009】さらに、前記目的はX線検出器として、入
射X線ビームを集光するためのX線集光素子を有するX
線検出器を配備したことにより、達成される。
Further, the above object is an X-ray detector having an X-ray condensing element for condensing an incident X-ray beam.
Achieved by deploying a line detector.

【0010】さらにまた、前記目的は試料台と、X線源
と、X線検出器と、試料台を入射X線の回りに回転させ
る機構や入射X線に対して3次元方向に移動させる機構
を、真空排気手段を配設した真空測定容器内に収納する
とともに、前記試料台を入射X線の回りに回転させる機
構や入射X線に対して3次元方向に移動させる機構を、
真空測定容器の外部より操作可能に構成したことによ
り、達成される。
Still further, the above-mentioned object is to provide a sample stage, an X-ray source, an X-ray detector, a mechanism for rotating the sample stage around an incident X-ray, and a mechanism for moving the sample X-ray in a three-dimensional direction. And a mechanism for rotating the sample stage around the incident X-rays and a mechanism for moving the sample stage in a three-dimensional direction with respect to the incident X-rays.
This is achieved by being configured to be operable from outside the vacuum measuring container.

【0011】そして、前記目的はコンピュータに、既知
の物質のX線回折情報の記憶機能と、前記記憶している
X線回折情報からX線回折図形を演算するX線回折図形
演算機能と、測定されたX線回折図形と前記演算して得
られたX線回折図形とを対比し、被測定試料の物質同定
を判断する物質判断機能とを持たせたことにより、さら
には前記コンピュータに、予め入力した被測定試料のX
線回折情報からX線回折図形を演算するX線回折図形演
算機能と、測定されたX線回折図形と前記演算して得ら
れたX線回折図形とを対比し、被測定試料の結晶粒方位
を解析する結晶粒方位解析機能とを持たせたことによっ
て、達成される。
The above-mentioned object is to have a computer store a function of storing X-ray diffraction information of a known substance, an X-ray diffraction pattern calculation function of calculating an X-ray diffraction pattern from the stored X-ray diffraction information, and measurement. By comparing the X-ray diffraction pattern obtained with the X-ray diffraction pattern obtained by the above calculation with a substance determination function for determining the substance identification of the sample to be measured, the computer can be further preliminarily stored in advance. Input measured sample X
The X-ray diffraction pattern calculation function for calculating the X-ray diffraction pattern from the line diffraction information, and the measured X-ray diffraction pattern and the X-ray diffraction pattern obtained by the calculation are compared to obtain the crystal grain orientation of the sample to be measured. It is achieved by having a crystal grain orientation analysis function for analyzing.

【0012】[0012]

【作用】本発明では、試料台と、試料台を入射X線の回
りに回転させる機構と、X線源と、X線検出器と、コン
ピュータとを備えている。そして、前記試料台に被測定
試料を保持し、この試料の表面にX線源から所定の角度
で白色X線を照射する。試料の表面に照射された白色X
線は、X線検出器に回折する。X線検出器は、試料より
回折X線が入射すると、これを測定しコンピュータに対
して出力する。一方、前記試料台を入射X線の回りに回
転させる機構を介して試料台を回転させ、入射X線を回
転軸として試料を回転させる。前記コンピュータは、試
料の回転角φを例えば0.1°刻みで制御すると同時
に、その回転角φを読み取り、このときのX線検出器か
ら出力される回折X線の測定値を入力し、回折X線の回
折角2θを演算する。ついで、コンピュータは前記入射
X線を回転軸とする試料の回転角φと、回折X線の回転
角2θとを合成し、ラウエ斑点の位置x,yを求め、X
線回折図形としてのラウエ図形を作成する。
The present invention comprises a sample stage, a mechanism for rotating the sample stage around incident X-rays, an X-ray source, an X-ray detector, and a computer. Then, the sample to be measured is held on the sample table, and the surface of the sample is irradiated with white X-rays from the X-ray source at a predetermined angle. White X illuminated on the surface of the sample
The rays diffract to the x-ray detector. When the diffracted X-ray is incident from the sample, the X-ray detector measures the diffracted X-ray and outputs it to the computer. On the other hand, the sample stage is rotated through a mechanism that rotates the sample stage around the incident X-ray, and the sample is rotated with the incident X-ray as a rotation axis. The computer controls the rotation angle φ of the sample in increments of 0.1 °, for example, and at the same time reads the rotation angle φ and inputs the measured value of the diffracted X-rays output from the X-ray detector at this time to perform diffraction. The diffraction angle 2θ of the X-ray is calculated. Then, the computer synthesizes the rotation angle φ of the sample with the incident X-ray as the rotation axis and the rotation angle 2θ of the diffracted X-ray to obtain the Laue spot positions x and y, and X
Create a Laue pattern as a line diffraction pattern.

【0013】これにより、本発明ではX線回折パターン
の測定および解析を自動的に行い、被測定試料の結晶粒
の配向性を迅速に解析することが可能となる。
As a result, according to the present invention, it is possible to automatically measure and analyze the X-ray diffraction pattern and quickly analyze the orientation of the crystal grains of the sample to be measured.

【0014】また、本発明では前記試料台に、これを入
射X線の回りに回転させる機構のほか、入射X線に対し
て3次元方向に移動させる機構を取り付けている。これ
により、試料台に保持された被測定試料を、入射X線を
回転軸として回転させ得るほか、試料の表面における入
射X線の入射位置を移動させ、調整することができるの
で、正確な測定データを得ることが可能となる。
Further, in the present invention, in addition to a mechanism for rotating the sample stage around the incident X-ray, a mechanism for moving the sample stage in a three-dimensional direction with respect to the incident X-ray is attached. As a result, the sample to be measured held on the sample table can be rotated about the incident X-ray as a rotation axis, and the incident position of the incident X-ray on the surface of the sample can be moved and adjusted, so that accurate measurement can be performed. It becomes possible to obtain data.

【0015】さらに、本発明では前記X線検出器とし
て、位置敏感型検出器を配備しており、この位置敏感型
検出器の特性を活かして、試料からの複数の回折X線を
同時に測定することが可能となる。
Furthermore, in the present invention, a position sensitive detector is provided as the X-ray detector, and a plurality of diffracted X-rays from the sample are simultaneously measured by utilizing the characteristics of this position sensitive detector. It becomes possible.

【0016】さらにまた、本発明では前記X線検出器と
して、X線集光素子を有するX線検出器を配備してお
り、前記X線集光素子により試料からの入射X線ビーム
を集光するようにしている。したがって、本発明によれ
ばX線検出に関する高精度の測定データを得ることがで
きる。
Furthermore, in the present invention, an X-ray detector having an X-ray condensing element is provided as the X-ray detector, and the X-ray condensing element condenses the incident X-ray beam from the sample. I am trying to do it. Therefore, according to the present invention, highly accurate measurement data regarding X-ray detection can be obtained.

【0017】また、本発明では前記試料台と、この試料
台を回転させる機構や3次元方向に移動させる機構と、
X線源と、X線検出器とを、真空排気手段を配設した真
空測定容器内に収納している。そして、試料台を回転さ
せる機構や3次元方向に移動させる機構を、真空測定容
器の外部より操作可能としている。これにより、本発明
では真空雰囲気下でX線検出を行い得るので、より一層
正確な測定データを得ることができる。
Further, in the present invention, the sample stage, a mechanism for rotating the sample stage and a mechanism for moving the sample stage in a three-dimensional direction,
The X-ray source and the X-ray detector are housed in a vacuum measuring container provided with a vacuum exhaust means. A mechanism for rotating the sample table and a mechanism for moving the sample table in three dimensions can be operated from outside the vacuum measurement container. As a result, in the present invention, since X-ray detection can be performed in a vacuum atmosphere, more accurate measurement data can be obtained.

【0018】さらに、本発明では前記コンピュータに、
既知の物質のX線回折情報の記憶機能と、前記記憶して
いるX線回折情報からX線回折図形を演算するX線回折
図形演算機能と、測定されたX線回折図形と前記演算し
て得られたX線回折図形とを対比し、被測定試料の物質
同定を判断する物質判断機能とを持たせている。その結
果、より一層迅速に被測定試料の結晶粒の配向性を解析
することができる。
Further, in the present invention, the computer is
A function of storing X-ray diffraction information of a known substance, an X-ray diffraction pattern calculation function of calculating an X-ray diffraction pattern from the stored X-ray diffraction information, and a calculation of the measured X-ray diffraction pattern. It has a substance judging function for judging the substance identification of the sample to be measured by comparing it with the obtained X-ray diffraction pattern. As a result, the orientation of the crystal grains of the sample to be measured can be analyzed more rapidly.

【0019】そして、本発明では前記コンピュータに、
予め入力した被測定試料のX線回折情報からX線回折図
形を演算するX線回折図形演算機能と、測定されたX線
回折図形と前記演算して得られたX線回折図形とを対比
し、被測定試料の結晶方位を解析する結晶方位解析機能
とを持たせている。その結果、この発明においても、よ
り一層迅速に被測定試料の結晶粒の配向性を解析するこ
とができる。
In the present invention, the computer is
An X-ray diffraction pattern calculation function for calculating an X-ray diffraction pattern from the X-ray diffraction information of the sample to be measured, which has been input in advance, and the measured X-ray diffraction pattern and the X-ray diffraction pattern obtained by the calculation are compared. , And a crystal orientation analysis function for analyzing the crystal orientation of the sample to be measured. As a result, also in the present invention, the orientation of the crystal grains of the sample to be measured can be analyzed more quickly.

【0020】[0020]

【実施例】以下、本発明の実施例を、図面を用いて具体
的に説明する。
Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.

【0021】(1)本発明X線回折装置の構成 図1は本発明の一実施例の概要を示す側面図である。(1) Structure of the X-ray Diffraction Apparatus of the Present Invention FIG. 1 is a side view showing the outline of one embodiment of the present invention.

【0022】この図1に示す実施例では、X線源1と、
コリメータ2と、試料4を保持する試料台9と、試料台
9のX,Yステージ7と、試料台9のZステージ(図示
せず)と、試料台9の回転機構8と、X線検出器6と、
コンピュータ(図2の符号12参照)を含む計数系とを
備えている。前記X,Yステージ7とZステージとで、
試料台9を入射X線3に対して3次元方向に移動させる
機構を構成している。
In the embodiment shown in FIG. 1, an X-ray source 1 and
Collimator 2, sample stage 9 holding sample 4, X, Y stage 7 of sample stage 9, Z stage (not shown) of sample stage 9, rotation mechanism 8 of sample stage 9, X-ray detection Vessel 6,
And a counting system including a computer (see reference numeral 12 in FIG. 2). With the X, Y stage 7 and the Z stage,
A mechanism for moving the sample table 9 in the three-dimensional direction with respect to the incident X-ray 3 is configured.

【0023】そして、この実施例ではX線源1より発生
する白色X線を、コリメータ2により整形し、試料4に
入射させる。X線源1として、本実施例では封入型X線
管を用いているが、回転対陰極型またはシンクロトロン
放射光型等を用いてもよい。試料4は、入射X線3に垂
直に置かれた試料台9の面上に固定用ワックスまたは真
空チャック等を用いて取り付けられる。試料台9には、
Zステージが組み込まれ、試料4の形状および厚さにか
かわらず、試料表面が所定の位置に置かれるように調整
できるようになっている。また、試料台9はX,Yステ
ージ7に取り付けられ、X,Yステージ7は試料回転機
構8に取り付けられている。X,Yステージ7により、
試料4の表面における入射X線3の入射位置を移動させ
ることができ、また試料回転機構8により、入射X線3
を回転軸として試料4を回転させることができる。
In this embodiment, the white X-rays generated by the X-ray source 1 are shaped by the collimator 2 and made incident on the sample 4. As the X-ray source 1, a sealed X-ray tube is used in this embodiment, but a rotating anticathode type, a synchrotron radiation type or the like may be used. The sample 4 is mounted on the surface of the sample table 9 placed perpendicularly to the incident X-ray 3 by using a fixing wax or a vacuum chuck. On the sample table 9,
A Z stage is incorporated so that regardless of the shape and thickness of the sample 4, the sample surface can be adjusted so as to be placed at a predetermined position. The sample table 9 is attached to the X, Y stage 7, and the X, Y stage 7 is attached to the sample rotating mechanism 8. With the X and Y stage 7,
The incident position of the incident X-ray 3 on the surface of the sample 4 can be moved, and the incident X-ray 3 can be moved by the sample rotating mechanism 8.
The sample 4 can be rotated around the rotation axis.

【0024】図面では省略したが、前記試料台9の回転
機構8、X,Yステージ7およびZステージはモー制御
回路により駆動され、さらにコンピュータ12により制
御される。
Although not shown in the drawing, the rotation mechanism 8, the X, Y stage 7 and the Z stage of the sample table 9 are driven by a motor control circuit and further controlled by a computer 12.

【0025】試料4により回折された回折X線5は、X
線検出器6により測定される。本実施例の場合、湾曲型
の位置敏感型X線検出器を用いているが、直線型の検出
器でもよい。また、本実施例では背面反射ラウエ斑点を
測定する配置とし、測定可能な回折角2θの値は100
0°から170°である。
The diffracted X-rays 5 diffracted by the sample 4 are X-rays.
It is measured by the line detector 6. In the case of this embodiment, the curved position-sensitive X-ray detector is used, but a linear detector may be used. In this embodiment, the back reflection Laue spots are arranged to be measured, and the measurable diffraction angle 2θ is 100.
It is from 0 ° to 170 °.

【0026】なお、X線検出器6として、位置敏感型検
出器を用いることにより、試料4からの複数の回折X線
5を同時に測定することができる。
By using a position sensitive detector as the X-ray detector 6, a plurality of diffracted X-rays 5 from the sample 4 can be simultaneously measured.

【0027】図2は本発明の一実施例におけるX線検出
器および計数系のブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram of the X-ray detector and counting system in one embodiment of the present invention.

【0028】この図2に示す実施例では、X線検出器6
として通常の位置敏感型比例計数管を用いている。この
位置敏感型比例計数管は、X線入射窓31を有する検出
器容器30と、これに封入された動作ガスと、検出器容
器30内に張設された陽極線32および遅延線33と、
陽極線用の高圧電源20とにより構成されている。
In the embodiment shown in FIG. 2, the X-ray detector 6
An ordinary position-sensitive proportional counter is used as. This position-sensitive proportional counter has a detector container 30 having an X-ray entrance window 31, a working gas enclosed in the detector container 30, an anode line 32 and a delay line 33 stretched in the detector container 30,
It is composed of a high voltage power supply 20 for the anode wire.

【0029】しかして、動作ガスを満たした検出器容器
30内に張られた陽極線32には、検出器容器30をア
ース電位としたとき、正の高電圧が印加される。X線入
射窓31より回折X線5が入射すると動作ガスが電離
し、電子は陽極線32へ、イオンは検出器容器30の方
向へガス増幅しながら移動する。これと同時に、遅延線
33上に信号パルスが励起され、遅延線33の両方向に
伝搬する。遅延線33の両端における信号パルスの出力
は、増幅器22により増幅され、波高分析器23により
ノイズが除かれた後、時間/波高変換器25に入力され
る。ただし、片側の出力は遅延回路24を経てから時間
/波高変換器25に入力される。前述の信号処理によ
り、X線検出器6に対する回折X線5の入射位置がパル
スの波高に変換され、時間/波高変換器25の出力とな
る。この波高値は、A/D変換器26により数値化され
た後、マルチチャンネルアナライザ29によって処理さ
れる。いま、求めるべき値はX線入射位置であるが、直
接的にはマルチチャンネルアナライザ29の出力は、チ
ャンネルnの関数としての回折X線5の強度I(n)で
ある。回折X線5の強度I(n)は、コンピュータ12
に入力される。
Therefore, a positive high voltage is applied to the anode wire 32 stretched in the detector container 30 filled with the working gas when the detector container 30 is set to the ground potential. When the diffracted X-rays 5 enter through the X-ray entrance window 31, the working gas is ionized, and the electrons move toward the anode line 32 and the ions move toward the detector container 30 while amplifying the gas. At the same time, a signal pulse is excited on the delay line 33 and propagates in both directions of the delay line 33. The output of the signal pulse at both ends of the delay line 33 is amplified by the amplifier 22, noise is removed by the wave height analyzer 23, and then input to the time / wave height converter 25. However, the output on one side is input to the time / peak converter 25 after passing through the delay circuit 24. By the above-described signal processing, the incident position of the diffracted X-ray 5 on the X-ray detector 6 is converted into the pulse height of the pulse, which becomes the output of the time / wave height converter 25. The peak value is digitized by the A / D converter 26 and then processed by the multi-channel analyzer 29. Now, the value to be obtained is the X-ray incident position, but directly the output of the multi-channel analyzer 29 is the intensity I (n) of the diffracted X-ray 5 as a function of the channel n. The intensity I (n) of the diffracted X-ray 5 is calculated by the computer 12
Entered in.

【0030】また、陽極線32の出力は増幅器22によ
り増幅され、レートメータ28およびA/D変換器27
に入力される。A/D変換器27の出力は、前記遅延線
33の出力と異なり、位置分解能は持たないが、X線検
出器6の全角度範囲における回折X線5の入射強度の積
分値を示している。レートメータ28のメータを見るこ
とにより、全角度範囲に対する回折X線5の強度をリア
ルタイムでモニタすることができる。これと同時に、A
/D変換器27に入力されデジタル化された値は、コン
ピュータ12に入力される。これにより、試料4の回転
角と同期した制御を行うことができる。
The output of the anode line 32 is amplified by the amplifier 22, and the rate meter 28 and the A / D converter 27 are used.
Entered in. Unlike the output of the delay line 33, the output of the A / D converter 27 has no position resolution, but shows the integrated value of the incident intensity of the diffracted X-rays 5 in the entire angular range of the X-ray detector 6. . By looking at the meter of the rate meter 28, the intensity of the diffracted X-ray 5 over the entire angular range can be monitored in real time. At the same time, A
The digitized value input to the / D converter 27 is input to the computer 12. As a result, control can be performed in synchronization with the rotation angle of the sample 4.

【0031】(2)この実施例のX線回折装置による回
折X線の測定方法 図3は本実施例を用いて、背面反射ラウエ斑点を測定す
る原理を示したものである。
(2) Method of measuring diffracted X-rays by the X-ray diffractometer of this embodiment FIG. 3 shows the principle of measuring back reflection Laue spots using this embodiment.

【0032】以下に示す(a)〜(d)の測定手順を、
コンピュータ12を用いて自動的に実行し、測定する。
The measurement procedures (a) to (d) shown below are
It is automatically executed and measured by using the computer 12.

【0033】(a)試料4を入射X線3を回転軸として
回転させ、そのときの回転角をφとし、回転角φを一定
の間隔、例えば0.1°刻みで回転させながら、陽極線
32の出力をモニタする。すなわち、A/D変換器27
の出力を読む。
(A) The sample 4 is rotated about the incident X-ray 3 as a rotation axis, the rotation angle at that time is φ, and the rotation angle φ is rotated at regular intervals, for example, in 0.1 ° increments, while the anode wire is rotated. Monitor the output of 32. That is, the A / D converter 27
Read the output of.

【0034】(b)この計数値が予め設定したあるスレ
ッショルド以上になった場合、試料4の回転を止め、一
定時間、例えば2秒間、A/D変換器26の出力をマル
チチャンネルアナライザ29に蓄積した後、コンピュー
タ12に転送する。
(B) When this count value exceeds a preset threshold value, the rotation of the sample 4 is stopped and the output of the A / D converter 26 is accumulated in the multi-channel analyzer 29 for a fixed time, for example, 2 seconds. After that, it is transferred to the computer 12.

【0035】(c)コンピュータ12は、回転角φおよ
びマルチチャンネルアナライザ29の出力データ、すな
わちI(φ,n)を磁気ディスク等の記憶媒体に記録す
る。
(C) The computer 12 records the rotation angle φ and the output data of the multi-channel analyzer 29, that is, I (φ, n) in a storage medium such as a magnetic disk.

【0036】(d)(a)〜(c)を0°<φ<360
°の範囲で行う。
(D) (a) to (c): 0 ° <φ <360
Do in the range of °.

【0037】(3)ラウエ写真の合成方法 図4は仮想的なフィルムと、その面上に入射するラウエ
斑点を説明する原理図である。
(3) Method for synthesizing Laue photograph FIG. 4 is a principle diagram for explaining a virtual film and Laue spots incident on its surface.

【0038】前記(2)で説明した手順で測定すると同
時に、以下(e)〜(g)の演算を行うことによりラウ
エ写真が得られる。
A Laue photograph can be obtained by performing the following calculations (e) to (g) at the same time as the measurement is performed by the procedure described in (2) above.

【0039】(e)回折角2θは、次の数1によりチャ
ンネル数nから求められる。
(E) The diffraction angle 2θ can be obtained from the number of channels n by the following equation 1.

【0040】[0040]

【数1】 [Equation 1]

【0041】ただし、kおよびΔnは、増幅器22のゲ
インおよびX線検出器6の配置等により決まる定数であ
り、事前に標準試料等を用いて求めることができる。
However, k and Δn are constants determined by the gain of the amplifier 22 and the arrangement of the X-ray detector 6, and can be obtained in advance using a standard sample or the like.

【0042】これにより、前記(c)で得られたI
(φ,n)は、I(φ,θ)に変換される。
As a result, I obtained in (c) above
(Φ, n) is converted to I (φ, θ).

【0043】(f)仮想的なフィルム10の面上におけ
るラウエ斑点11の位置(x,y)は、次の数2および
数3で表される。
(F) The position (x, y) of the Laue spot 11 on the surface of the virtual film 10 is expressed by the following equations 2 and 3.

【0044】[0044]

【数2】 [Equation 2]

【0045】[0045]

【数3】 [Equation 3]

【0046】ただし、Dは試料4とフィルム10の間の
距離(mm)とし、xおよびyをフィルム10の上のラウ
エ斑点11の座標(mm)とする。
Here, D is the distance (mm) between the sample 4 and the film 10, and x and y are the coordinates (mm) of the Laue spot 11 on the film 10.

【0047】(g)以上によりI(φ,θ)をI(x,
y)に変換する。ついで、コンピュータ12の出力装
置、例えばCRTまたはプリンタ等に、合成された背面
反射ラウエ写真を出力することが可能である。
(G) From the above, I (φ, θ) is changed to I (x,
y). The combined back reflection Laue photograph can then be output to an output device of the computer 12, such as a CRT or printer.

【0048】(4)ステレオ投影 以上説明したようにラウエ斑点11の位置は、回折角2
θと試料4の回転角φで表されるが、入射X線3として
白色X線を用いているため、回折に寄与したX線の波長
は未定であり、反射面の面間隔を求めることはできな
い。しかし、ラウエ斑点11を作る反射面の法線の方向
は、次に説明する(h)により、波長に関わらずラウエ
斑点11の位置から求めることができる。
(4) Stereo Projection As described above, the position of the Laue spot 11 has a diffraction angle of 2
It is represented by θ and the rotation angle φ of the sample 4, but since the white X-rays are used as the incident X-rays 3, the wavelength of the X-rays that contributed to the diffraction is undetermined, and it is not possible to obtain the spacing between the reflecting surfaces. Can not. However, the direction of the normal line of the reflecting surface that forms the Laue spot 11 can be obtained from the position of the Laue spot 11 regardless of the wavelength by (h) described below.

【0049】(h)反射面間の角度の関係を簡単に知る
ためには、角度の関係を保持する等角ステレオ投影を用
いることが便利である。一般的には、等角ステレオ投影
の一種であるWulffネットを用いれば、反射面の角
座標を簡単にプロットすることができる。
(H) In order to easily know the angular relationship between the reflecting surfaces, it is convenient to use the conformal stereo projection which holds the angular relationship. Generally, if a Wulff net, which is a kind of conformal stereo projection, is used, the angular coordinates of the reflecting surface can be easily plotted.

【0050】図5はラウエ斑点と角座標の関係を説明す
る原理図である。
FIG. 5 is a principle diagram for explaining the relationship between Laue spots and angular coordinates.

【0051】Wulffネット上の角座標δおよびγ
は、次の数4および数5で求められる。
Angular coordinates δ and γ on the Wulff net
Is calculated by the following equations 4 and 5.

【0052】[0052]

【数4】 [Equation 4]

【0053】[0053]

【数5】 [Equation 5]

【0054】これにより、I(φ,θ)をI(δ,γ)
に変換する。
As a result, I (φ, θ) is changed to I (δ, γ)
Convert to.

【0055】以上説明したように、本実施例のX線回折
装置で測定した回折X線の強度データより、容易に背面
反射ラウエ写真および等角ステレオ投影図を合成するこ
とができる。これにより、結晶粒の配向性の解析を迅速
に行うことが可能である。
As described above, the back reflection Laue photograph and the conformal stereo projection can be easily combined from the intensity data of the diffracted X-rays measured by the X-ray diffractometer of this embodiment. This makes it possible to quickly analyze the crystal grain orientation.

【0056】(5)本発明の他の実施例 本発明では、X線検出器6として、入射X線ビームを集
光するためのX線集光素子を用いてもよい。
(5) Other Embodiments of the Present Invention In the present invention, as the X-ray detector 6, an X-ray focusing element for focusing the incident X-ray beam may be used.

【0057】また、本発明では前記試料台と、この試料
台を回転させる機構や3次元方向に移動させる機構と、
X線源と、X線検出器とを、真空排気手段を配設した真
空測定容器内に収納し、前記試料台を回転させる機構や
3次元方向に移動させる機構を、真空測定容器の外部よ
り操作可能に構成してもよい。このようにすれば、真空
雰囲気下でX線検出を行い得るので、より一層正確な測
定データを得ることができる。
Further, according to the present invention, the sample stage, a mechanism for rotating the sample stage and a mechanism for moving the sample stage in a three-dimensional direction,
An X-ray source and an X-ray detector are housed in a vacuum measurement container provided with a vacuum exhaust means, and a mechanism for rotating the sample table and a mechanism for moving the sample table in a three-dimensional direction are provided from the outside of the vacuum measurement container. It may be operable. By doing so, since X-ray detection can be performed in a vacuum atmosphere, more accurate measurement data can be obtained.

【0058】さらに、本発明では前記コンピュータに、
既知の物質のX線回折情報の記憶機能と、前記記憶して
いるX線回折情報からX線回折図形を演算するX線回折
図形演算機能と、測定されたX線回折図形と前記演算し
て得られたX線回折図形とを対比し、被測定試料の物質
同定を判断する物質判断機能とを持たせるようにしても
よい。このようにすれば、より一層迅速に被測定試料の
結晶粒の配向性を解析することができる。
Further, in the present invention, the computer is
A function of storing X-ray diffraction information of a known substance, an X-ray diffraction pattern calculation function of calculating an X-ray diffraction pattern from the stored X-ray diffraction information, and a calculation of the measured X-ray diffraction pattern. The obtained X-ray diffraction pattern may be compared with a substance determination function for determining the substance identification of the sample to be measured. By doing so, the orientation of the crystal grains of the sample to be measured can be analyzed more rapidly.

【0059】さらにまた、本発明では前記コンピュータ
に、予め入力した被測定試料のX線回折情報からX線回
折図形を演算するX線回折図形演算機能と、測定された
X線回折図形と前記演算して得られたX線回折図形とを
対比し、被測定試料の結晶方位を解析する結晶方位解析
機能とを持たせもよい。このようにすれば、より一層迅
速に被測定試料の結晶粒の配向性を解析することができ
る。
Furthermore, according to the present invention, an X-ray diffraction pattern calculation function for calculating an X-ray diffraction pattern from the X-ray diffraction information of the sample to be measured, which has been input in advance to the computer, the measured X-ray diffraction pattern and the calculation. A crystal orientation analysis function of analyzing the crystal orientation of the sample to be measured by comparing it with the X-ray diffraction pattern obtained in this manner may be provided. By doing so, the orientation of the crystal grains of the sample to be measured can be analyzed more rapidly.

【0060】[0060]

【発明の効果】 (請求項1)被測定試料を保持しかつ少なくとも入射X
線の回りに回転させる機構を備えた試料台と、前記試料
に所定の入射角度で白色X線を照射するX線源と、前記
試料から回折される回折X線を測定し出力するX線検出
器と、前記各部を制御し、かつ前記X線検出器からの測
定値より回折角を演算し、試料の回転角と回折X線の回
折角とを合成し、X線回折図形を作成するコンピュータ
とを備えて構成しているので、X線回折パターンの測定
および解析を自動的に行い、被測定試料の結晶粒の配向
性を迅速に解析し得る効果がある。
Advantageous Effects of Invention (Claim 1) A sample to be measured is held and at least incident X
A sample stage having a mechanism for rotating around a line, an X-ray source for irradiating the sample with white X-rays at a predetermined incident angle, and an X-ray detection for measuring and outputting diffracted X-rays diffracted from the sample And a computer for controlling the above-mentioned respective parts, calculating a diffraction angle from the measured value from the X-ray detector, synthesizing the rotation angle of the sample and the diffraction angle of the diffracted X-ray, and creating an X-ray diffraction pattern. Since it is configured to include and, the X-ray diffraction pattern is automatically measured and analyzed, and the orientation of the crystal grains of the sample to be measured can be quickly analyzed.

【0061】(請求項2)前記試料台に、入射X線の回
りに回転させる機構のほか、入射X線に対して3次元方
向に移動させる機構を取り付けているので、試料台に保
持された被測定試料を、入射X線を回転軸として回転さ
せ得るほか、試料の表面における入射X線の入射位置を
移動させ、調整することができるので、正確な測定デー
タが得られる効果がある。
(Claim 2) Since a mechanism for rotating around the incident X-rays and a mechanism for moving the incident X-rays in a three-dimensional direction are attached to the sample table, the sample table is held. Since the sample to be measured can be rotated about the incident X-ray as a rotation axis and the incident position of the incident X-ray on the surface of the sample can be moved and adjusted, accurate measurement data can be obtained.

【0062】(請求項3)前記X線検出器として、試料
からの複数の回折X線を同時に測定可能な位置敏感型検
出器を配備しており、この位置敏感型検出器の特性を活
かして、試料からの複数の回折X線を同時に測定し得る
効果がある。
(Claim 3) As the X-ray detector, a position-sensitive detector capable of simultaneously measuring a plurality of diffracted X-rays from a sample is provided, and the characteristics of this position-sensitive detector are utilized. , There is an effect that a plurality of diffracted X-rays from the sample can be simultaneously measured.

【0063】(請求項4)前記X線検出器として、X線
集光素子を有するX線検出器を配備しており、前記X線
集光素子により試料からの入射X線ビームを集光するよ
うにしているので、X線検出に関する高精度の測定デー
タが得られる効果がある。
(Claim 4) An X-ray detector having an X-ray condensing element is provided as the X-ray detector, and the X-ray condensing element condenses the incident X-ray beam from the sample. Therefore, there is an effect that highly accurate measurement data regarding X-ray detection can be obtained.

【0064】(請求項5)前記試料台と、この試料台を
回転させる機構や3次元方向に移動させる機構と、X線
源と、X線検出器とを、真空排気手段を配設した真空測
定容器内に収納するとともに、前記試料台を回転させる
機構や3次元方向に移動させる機構を、真空測定容器の
外部より操作可能に構成しており、真空雰囲気下でX線
検出を行い得るので、より一層正確な測定データが得ら
れる効果がある。
(Claim 5) A vacuum provided with a vacuum exhaust means for the sample stage, a mechanism for rotating the sample stage and a mechanism for moving the sample stage in three dimensions, an X-ray source and an X-ray detector. A mechanism for rotating the sample table and a mechanism for moving the sample table in a three-dimensional direction while being housed in the measurement container are configured to be operable from outside the vacuum measurement container, and X-ray detection can be performed in a vacuum atmosphere. There is an effect that more accurate measurement data can be obtained.

【0065】(請求項6)前記コンピュータに、既知の
物質のX線回折情報の記憶機能と、前記記憶しているX
線回折情報からX線回折図形を演算するX線回折図形演
算機能と、測定されたX線回折図形と前記演算して得ら
れたX線回折図形とを対比し、被測定試料の物質同定を
判断する物質判断機能とを持たせているので、より一層
迅速に被測定試料の結晶粒の配向性を解析し得る効果が
ある。
(Claim 6) A function of storing X-ray diffraction information of a known substance in the computer and the stored X
The X-ray diffraction pattern calculation function for calculating the X-ray diffraction pattern from the line diffraction information and the measured X-ray diffraction pattern and the X-ray diffraction pattern obtained by the calculation are compared to identify the substance of the sample to be measured. Since it has the function of judging the substance to be judged, there is an effect that the orientation of the crystal grains of the sample to be measured can be analyzed more rapidly.

【0066】(請求項7)前記コンピュータに、予め入
力した被測定試料のX線回折情報からX線回折図形を演
算するX線回折図形演算機能と、測定されたX線回折図
形と前記演算して得られたX線回折図形とを対比し、被
測定試料の結晶方位を解析する結晶方位解析機能とを持
たせているので、この発明においても、より一層迅速に
被測定試料の結晶粒の配向性を解析し得る効果がある。
(Claim 7) An X-ray diffraction pattern calculation function for calculating an X-ray diffraction pattern from the X-ray diffraction information of the sample to be measured, which has been input in advance to the computer, and the calculated X-ray diffraction pattern. Since it has a crystal orientation analysis function for analyzing the crystal orientation of the sample to be measured by comparing it with the X-ray diffraction pattern obtained as described above, in the present invention as well, the crystal grain of the sample to be measured can be more rapidly measured. The orientation can be analyzed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の概要を示す側面図である。FIG. 1 is a side view showing an outline of an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例のX線検出器と計数系を示す
ブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing an X-ray detector and a counting system according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例を用いた背面反射ラウエ斑点の
測定原理図である。
FIG. 3 is a principle diagram of measurement of back reflection Laue spots using an embodiment of the present invention.

【図4】ラウエ写真の合成方法を説明する原理図であ
る。
FIG. 4 is a principle diagram illustrating a method for synthesizing Laue photographs.

【図5】ラウエ斑点と角座標の関係を説明する原理図で
ある。
FIG. 5 is a principle diagram illustrating a relationship between Laue spots and angular coordinates.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…X線源、2…コリメータ、3…入射X線、4…試
料、5…回折X線、6…X線検出器、7…X,Yステー
ジ、8…試料回転機構、9…試料台、10…フィルム、
11…ラウエ斑点、12…コンピュータ、20…高圧電
源、30…検出器容器、31…X線入射窓、32…陽極
線、33…遅延線。
1 ... X-ray source, 2 ... Collimator, 3 ... Incident X-ray, 4 ... Sample, 5 ... Diffraction X-ray, 6 ... X-ray detector, 7 ... X, Y stage, 8 ... Sample rotation mechanism, 9 ... Sample stand 10 ... film,
11 ... Laue spots, 12 ... Computer, 20 ... High-voltage power supply, 30 ... Detector container, 31 ... X-ray entrance window, 32 ... Anode line, 33 ... Delay line.

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【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成5年4月9日[Submission date] April 9, 1993

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】請求項4[Name of item to be corrected] Claim 4

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0009[Correction target item name] 0009

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0009】さらに、前記目的は入射X線ビームを集光
するためのX線集光素子を配備したことにより、達成さ
れる。
Furthermore, the object is by the deployment of the X-ray focusing device for focusing the incoming morphism X-ray beam is achieved.

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0016[Correction target item name] 0016

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0016】さらにまた、本発明では前記入射X線を集
光するためのX線集光素子を配備しており、試料へ入射
するX線ビームを集光するようにしている。したがっ
て、本発明によれば試料表面の微小領域において高精度
の測定データを得ることができる。
Furthermore, in the present invention, the incident X-rays are collected.
The X-ray focusing device for light has deployment, incident on the sample
The X-ray beam is focused. Therefore, according to the present invention , highly accurate measurement data can be obtained in a minute area on the sample surface .

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0023[Name of item to be corrected] 0023

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0023】そして、この実施例ではX線源1より発生
する白色X線を、コリメータ2により整形し、試料4に
入射させる。X線源1として、本実施例では封入型X線
管を用いているが、回転対陰極型X線管またはシンクロ
トロン放射光等を用いてもよい。試料4は、入射X線3
に垂直に置かれた試料台9の面上に固定用ワックスまた
は真空チャック等を用いて取り付けられる。試料台9に
は、Zステージが組み込まれ、試料4の形状および厚さ
にかかわらず、試料表面が所定の位置に置かれるように
調整できるようになっている。また、試料台9はX,Y
ステージ7に取り付けられ、X,Yステージ7は試料回
転機構8に取り付けられている。X,Yステージ7によ
り、試料4の表面における入射X線3の入射位置を移動
させることができ、また試料回転機構8により、入射X
線3を回転軸として試料4を回転させることができる。
In this embodiment, the white X-rays generated by the X-ray source 1 are shaped by the collimator 2 and made incident on the sample 4. As X-ray source 1, in this embodiment uses a sealed X-ray tube, it may be used rotating anode type X-ray tube or synchrotron radiation light and the like. Sample 4 is incident X-ray 3
It is mounted on the surface of the sample table 9 placed vertically with respect to the surface using a fixing wax or a vacuum chuck. A Z stage is incorporated in the sample stage 9 and can be adjusted so that the sample surface is placed at a predetermined position regardless of the shape and thickness of the sample 4. Further, the sample table 9 is X, Y
It is attached to the stage 7, and the X, Y stage 7 is attached to the sample rotating mechanism 8. The X, Y stage 7 can move the incident position of the incident X-ray 3 on the surface of the sample 4, and the sample rotation mechanism 8 can move the incident X-ray 3.
The sample 4 can be rotated with the wire 3 as the axis of rotation.

【手続補正5】[Procedure Amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0024[Name of item to be corrected] 0024

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0024】図面では省略したが、前記試料台9の回転
機構8、X,Yステージ7およびZステージはモー
御回路により駆動され、さらにコンピュータ12により
制御される。
[0024] Although not shown in the drawings, the rotating mechanism 8, X of the sample stage 9, Y stage 7 and the Z stage is driven by a motor system <br/> control circuit is further controlled by the computer 12.

【手続補正6】[Procedure correction 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0025[Name of item to be corrected] 0025

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0025】試料4により回折された回折X線5は、X
線検出器6により測定される。本実施例の場合、湾曲型
の位置敏感型X線検出器を用いているが、直線型の検出
器でもよい。また、本実施例では背面反射ラウエ斑点を
測定する配置とし、測定可能な回折角2θの値は10°
から170°である。
The diffracted X-rays 5 diffracted by the sample 4 are X-rays.
It is measured by the line detector 6. In the case of this embodiment, the curved position-sensitive X-ray detector is used, but a linear detector may be used. In this embodiment, the back reflection Laue spots are arranged to be measured, and the measurable diffraction angle 2θ is 10 °.
To 170 °.

【手続補正7】[Procedure Amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0056[Correction target item name] 0056

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0056】(5)本発明の他の実施例 本発明では、入射X線ビームを集光するためのX線集光
素子を用いてもよい。
[0056] (5) In another embodiment the present invention of the present invention, it may be used X-ray focusing device for focusing the incoming morphism X-ray beam.

【手続補正8】[Procedure Amendment 8]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0063[Correction target item name] 0063

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0063】(請求項4)前記入射X線を集光するため
X線集光素子を配備しており、試料の微小領域から
精度の測定データが得られる効果がある。
(Claim 4) To collect the incident X-ray
Of which deployed X-ray focusing element, there is an effect that high-accuracy measurement data is obtained from the small region of the sample.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被測定試料を保持しかつ少なくとも入射
X線の回りに回転させる機構を備えた試料台と、前記試
料に所定の入射角度で白色X線を照射するX線源と、前
記試料から回折される回折X線を測定し出力するX線検
出器と、前記各部を制御し、かつ前記X線検出器からの
測定値より回折角を演算し、試料の回転角と回折X線の
回折角とを合成し、X線回折図形を作成するコンピュー
タとを備えて構成したことを特徴とするX線回折装置。
1. A sample stage having a mechanism for holding a sample to be measured and rotating at least around an incident X-ray, an X-ray source for irradiating the sample with white X-rays at a predetermined incident angle, and the sample. An X-ray detector that measures and outputs diffracted X-rays diffracted from the above, and controls each of the above-mentioned parts, and calculates a diffraction angle from the measured value from the X-ray detector to determine the rotation angle of the sample and the diffracted X-ray. An X-ray diffractometer, comprising: a computer for synthesizing an diffraction angle and an X-ray diffraction pattern.
【請求項2】 前記試料台に、入射X線の回りに回転さ
せる機構のほか、入射X線に対して3次元方向に移動さ
せる機構を取り付けたことを特徴とする請求項1記載の
X線回折装置。
2. The X-ray according to claim 1, wherein the sample stage is provided with a mechanism for rotating around the incident X-ray and a mechanism for moving the incident X-ray in a three-dimensional direction. Diffraction device.
【請求項3】 前記X線検出器として、試料からの複数
の回折X線を同時に測定可能な位置敏感型検出器を配備
したことを特徴とする請求項1記載のX線回折装置。
3. The X-ray diffractometer according to claim 1, wherein a position-sensitive detector capable of simultaneously measuring a plurality of diffracted X-rays from a sample is provided as the X-ray detector.
【請求項4】 前記X線検出器として、入射X線ビーム
を集光するためのX線集光素子を有するX線検出器を配
備したことを特徴とする請求項1記載のX線回折装置。
4. The X-ray diffractometer according to claim 1, wherein an X-ray detector having an X-ray condensing element for condensing an incident X-ray beam is provided as the X-ray detector. ..
【請求項5】 前記試料台と、X線源と、X線検出器
と、試料台を入射X線の回りに回転させる機構や入射X
線に対して3次元方向に移動させる機構を、真空排気手
段を配設した真空測定容器内に収納するとともに、前記
試料台を入射X線の回りに回転させる機構や入射X線に
対して3次元方向に移動させる機構を、真空測定容器の
外部より操作可能に構成したことを特徴とする請求項1
または4記載のX線回折装置。
5. A mechanism for rotating the sample stage, an X-ray source, an X-ray detector, a sample stage around an incident X-ray, and an incident X-ray.
A mechanism for moving in a three-dimensional direction with respect to the X-ray is housed in a vacuum measuring container provided with a vacuum evacuation means, and a mechanism for rotating the sample stage around the incident X-ray or 3 for the incident X-ray. The mechanism for moving in the dimensional direction is configured to be operable from the outside of the vacuum measuring container.
Alternatively, the X-ray diffractometer according to item 4.
【請求項6】 前記コンピュータに、既知の物質のX線
回折情報の記憶機能と、前記記憶しているX線回折情報
からX線回折図形を演算するX線回折図形演算機能と、
測定されたX線回折図形と前記演算して得られたX線回
折図形とを対比し、被測定試料の物質同定を判断する物
質判断機能とを持たせたことを特徴とする請求項1記載
のX線回折装置。
6. The computer has a function of storing X-ray diffraction information of a known substance, and an X-ray diffraction pattern calculation function of calculating an X-ray diffraction pattern from the stored X-ray diffraction information.
2. A substance judging function for judging the substance identification of the sample to be measured by comparing the measured X-ray diffraction pattern with the X-ray diffraction pattern obtained by the calculation. X-ray diffractometer.
【請求項7】 前記コンピュータに、予め入力した被測
定試料のX線回折情報からX線回折図形を演算するX線
回折図形演算機能と、測定されたX線回折図形と前記演
算して得られたX線回折図形とを対比し、被測定試料の
結晶方位を解析する結晶方位解析機能とを持たせたこと
を特徴とする請求項1記載のX線回折装置。
7. An X-ray diffraction pattern calculation function for calculating an X-ray diffraction pattern from X-ray diffraction information of a sample to be measured, which has been input to the computer in advance, and the measured X-ray diffraction pattern and the calculation result. The X-ray diffractometer according to claim 1, further comprising a crystal orientation analysis function for analyzing a crystal orientation of a sample to be measured by comparing it with the X-ray diffraction pattern.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012083349A (en) * 2010-10-11 2012-04-26 Commissariat A L'energie Atomique Method for measuring orientation and elastic strain of grains in polycrystalline materials
JP2013117495A (en) * 2011-12-05 2013-06-13 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Method for measuring orientation and elastic strain of grains in polycrystalline materials
CN113056669A (en) * 2018-11-21 2021-06-29 株式会社理学 Single crystal X-ray structure analysis device and method, and sample holder used for the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012083349A (en) * 2010-10-11 2012-04-26 Commissariat A L'energie Atomique Method for measuring orientation and elastic strain of grains in polycrystalline materials
JP2013117495A (en) * 2011-12-05 2013-06-13 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Method for measuring orientation and elastic strain of grains in polycrystalline materials
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