JP2006275901A - Device and method for crystal evaluation - Google Patents

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Hiroshi Aoyama
拓 青山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for crystal evaluation capable of efficiently acquiring many data related to a crystal structure, and method for crystal evaluation. <P>SOLUTION: The device 100 for crystal evaluation includes a sample stand 10 for mounting a sample 32, an X-ray source 12 for irradiating the sample 32 placed on the sample stand 10 with X rays, an X-ray detection part 14 for detecting diffracted X rays emitted by irradiating the sample 32, a laser light source 16 for irradiating the sample 32 with a laser beam, a spectroscope 18 for spectrally diffracting Raman scattered light scattered by irradiating the sample 32 and a light detecting part 20 for detecting the intensity of the spectrum spectrally diffracted by the spectroscope 18. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、結晶評価装置および結晶評価方法に関する。特に、本発明は、X線回折装置を含む結晶評価装置および結晶評価方法に関する。   The present invention relates to a crystal evaluation apparatus and a crystal evaluation method. In particular, the present invention relates to a crystal evaluation apparatus and a crystal evaluation method including an X-ray diffraction apparatus.

電子デバイス等に応用される基板上の結晶性薄膜の構造を評価するには、X線回折装置が最も汎用的に使われている。X線回折装置によれば、結晶の格子定数に関する情報が得られ、この情報を解析することで結晶の結晶系、結晶性、配向分布に関する知見を得ることができる。   In order to evaluate the structure of a crystalline thin film on a substrate applied to an electronic device or the like, an X-ray diffraction apparatus is most widely used. According to the X-ray diffractometer, information on the crystal lattice constant can be obtained, and by analyzing this information, knowledge on the crystal system, crystallinity, and orientation distribution of the crystal can be obtained.

しかし、電子デバイス等の小型化、大容量化にともない、上述した結晶に関する情報に加えて、結晶内のより詳細な構造に関する情報を得る方法が開発されており、これらの結晶に関する情報をより速く効率的に取得する方法が望まれている。
特開2003−215069号公報
However, along with the downsizing and increasing capacity of electronic devices and the like, in addition to the above-described information on crystals, methods for obtaining information on more detailed structures in crystals have been developed. An efficient acquisition method is desired.
JP 2003-215069 A

本発明は、結晶構造に関するより多くの情報を効率的に取得することのできる結晶評価装置および結晶評価方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a crystal evaluation apparatus and a crystal evaluation method capable of efficiently acquiring more information on a crystal structure.

本発明にかかる結晶評価装置は、
試料を載置するための試料台と、
前記試料台に載置された試料にX線を照射するためのX線源と、
前記試料に照射されることにより生じた回折X線を検出するX線検出部と、
前記試料にレーザ光を照射するためのレーザ光源と、
前記試料に照射されることにより散乱したラマン散乱光を分光する分光器と、
前記分光器が分光したスペクトルの強度を検出する光検出部と、
を含む。
The crystal evaluation apparatus according to the present invention includes:
A sample stage for placing the sample;
An X-ray source for irradiating the sample placed on the sample stage with X-rays;
An X-ray detector that detects diffracted X-rays generated by irradiating the sample;
A laser light source for irradiating the sample with laser light;
A spectroscope for spectroscopic analysis of Raman scattered light scattered by irradiating the sample;
A light detection unit for detecting the intensity of the spectrum dispersed by the spectrometer;
including.

本発明にかかる結晶評価装置によれば、ラマン散乱測定とX線回折測定とを同一の装置で行うことができ、X線回折測定のみでは得ることのできない精密な結晶系の同定や結晶主軸方位等を示す情報を試料を破壊することなく、短時間で得ることができる。また、同一の試料に対して、同一の環境(温度、湿度など)下で、ラマン散乱測定とX線回折測定とを行うことができるため、異なる装置でラマン散乱測定とX線回折測定とを行う場合と比べて、より精度の高い結果を得ることができる。   According to the crystal evaluation apparatus according to the present invention, Raman scattering measurement and X-ray diffraction measurement can be performed with the same apparatus, and precise crystal system identification and crystal principal axis orientation that cannot be obtained only by X-ray diffraction measurement. And the like can be obtained in a short time without destroying the sample. In addition, since Raman scattering measurement and X-ray diffraction measurement can be performed on the same sample under the same environment (temperature, humidity, etc.), Raman scattering measurement and X-ray diffraction measurement can be performed with different apparatuses. Compared with the case where it performs, a more accurate result can be obtained.

本発明にかかる結晶評価装置において、
前記レーザ光源からのレーザ光を前記試料の表面に集光するレンズをさらに含み、
前記X線源および前記X線検出部は、前記レンズの焦点を回転中心として回転可能に設けられていることができる。
In the crystal evaluation apparatus according to the present invention,
A lens for condensing laser light from the laser light source on the surface of the sample;
The X-ray source and the X-ray detection unit may be rotatably provided with the focal point of the lens as a rotation center.

これにより、試料表面において、ラマン散乱測定とほぼ同じ位置をX線回折測定することができる。   As a result, X-ray diffraction measurement can be performed at substantially the same position as the Raman scattering measurement on the sample surface.

本発明にかかる結晶評価装置において、
前記レーザ光源からのレーザ光を集光するレンズをさらに含み、
前記X線源は、少なくとも前記レンズの焦点の位置に前記X線を照射することができる。これにより、ラマン散乱測定用のレーザ光を用いて、ラマン散乱測定およびX線回折測定の試料の位置決めを同時にすることができる。
In the crystal evaluation apparatus according to the present invention,
A lens for condensing laser light from the laser light source;
The X-ray source can irradiate at least the focal position of the lens with the X-ray. Thereby, the positioning of the sample of a Raman scattering measurement and a X-ray diffraction measurement can be performed simultaneously using the laser beam for a Raman scattering measurement.

本発明にかかる結晶評価装置において、
前記レーザ光源からのレーザ光を集光するレンズと、
前記レンズの焦点が前記試料の表面に一致しているか否かを判断するために設けられ、前記試料にレーザ光が照射された試料の画像を表示する表示部と、をさらに含むことができる。
In the crystal evaluation apparatus according to the present invention,
A lens for condensing the laser light from the laser light source;
A display unit configured to determine whether the focal point of the lens is coincident with the surface of the sample, and displaying an image of the sample irradiated with laser light on the sample;

これにより、結晶評価装置のオペレータは、表示部を視認することによりレンズの焦点が前記試料の表面に一致しているか否かを容易に判断することができる。   Thereby, the operator of the crystal evaluation apparatus can easily determine whether or not the focal point of the lens coincides with the surface of the sample by visually recognizing the display unit.

本発明にかかる結晶評価装置において、
前記試料にレーザ光が照射されることにより生じた散乱光の強度を検出する強度検出部をさらに含むことができる。
In the crystal evaluation apparatus according to the present invention,
It may further include an intensity detection unit that detects the intensity of scattered light generated by irradiating the sample with laser light.

本発明にかかる結晶評価装置において、
前記強度検出部が検出した強度に基づいて、前記試料台の位置を決定する試料台位置決定部をさらに含むことができる。
In the crystal evaluation apparatus according to the present invention,
The apparatus may further include a sample stage position determining unit that determines the position of the sample stage based on the intensity detected by the intensity detecting unit.

本発明にかかる結晶評価装置において、
前記レーザ光は、前記レーザ光源から出射されていることができる。これにより、結晶評価装置は、ラマン散乱測定に用いるレーザ光源と同一のレーザ光源を、試料の位置決めに用いることができる。
In the crystal evaluation apparatus according to the present invention,
The laser beam may be emitted from the laser light source. Thereby, the crystal evaluation apparatus can use the same laser light source as the laser light source used for the Raman scattering measurement for the positioning of the sample.

本発明にかかる結晶評価方法は、
(a)試料台に載置されている試料にレンズを介して、レーザ光源からレーザ光を照射するステップと、
(b)前記試料にレーザ光が照射されることにより生じた散乱光を検出することにより、前記試料の表面に前記レンズの焦点が一致しているか否かを判断するステップと、
(c)前記試料の表面に前記レンズの焦点が一致していないと判断した場合に、前記試料台の位置を移動するステップと、
(d)前記試料の表面に前記レンズの焦点が一致していると判断した場合に、前記レーザ光源からレーザ光を前記試料に照射することにより、ラマン散乱測定を行うステップと、
(e)前記試料の表面に前記レンズの焦点が一致している場合に、前記試料にX線を照射することにより、X線回折測定を行うステップと、
を含む。
The crystal evaluation method according to the present invention includes:
(A) irradiating a sample placed on the sample stage with laser light from a laser light source via a lens;
(B) detecting whether or not the focus of the lens coincides with the surface of the sample by detecting scattered light generated by irradiating the sample with laser light;
(C) moving the position of the sample stage when it is determined that the focal point of the lens does not coincide with the surface of the sample;
(D) performing Raman scattering measurement by irradiating the sample with laser light from the laser light source when it is determined that the focal point of the lens coincides with the surface of the sample;
(E) performing X-ray diffraction measurement by irradiating the sample with X-rays when the focal point of the lens coincides with the surface of the sample;
including.

本発明にかかる結晶評価方法において、
前記ステップ(b)では、レーザ光が照射された前記試料の画像を検出し、検出した画像に基づいて前記試料の表面に前記レンズの焦点が一致しているか否かを判断することができる。
In the crystal evaluation method according to the present invention,
In the step (b), an image of the sample irradiated with laser light can be detected, and it can be determined based on the detected image whether the focal point of the lens coincides with the surface of the sample.

本発明にかかる結晶評価方法において、
前記ステップ(b)では、散乱光の強度を検出し、検出した散乱光の強度に基づいて、前記試料の表面に前記レンズの焦点が一致しているか否かを判断することができる。
In the crystal evaluation method according to the present invention,
In the step (b), it is possible to detect the intensity of the scattered light and determine whether or not the focus of the lens coincides with the surface of the sample based on the detected intensity of the scattered light.

本発明にかかる結晶評価方法において、
前記ステップ(c)の前に、前記ステップ(b)において検出した散乱光の強度に基づいて、前記試料の表面の位置を算出するステップをさらに含み、
前記ステップ(c)では、算出した前記試料の表面の位置が前記レンズの焦点の位置に一致するように前記試料台の位置を移動することができる。
In the crystal evaluation method according to the present invention,
Before the step (c), further comprising the step of calculating the position of the surface of the sample based on the intensity of the scattered light detected in the step (b);
In the step (c), the position of the sample stage can be moved so that the calculated position of the surface of the sample matches the position of the focal point of the lens.

以下に、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

1.結晶評価装置
本実施の形態にかかる結晶評価装置100は、試料のラマン散乱測定とX線回折測定とを行う。ラマン散乱測定によれば、試料中の原子の振動状態に関する情報を得ることができる。試料中の原子の振動状態に関する情報とは、たとえば、結晶を構成する原子配列の秩序状態、化学量論比からのずれ、欠陥の位置に関する情報、面方位に関する情報である。一方、X線回折測定によれば、結晶の格子定数に関する情報を得ることができる。ラマン散乱測定から得られる情報と、X線回折測定から得られる情報との双方を解析することにより、結晶の構造について詳細に調べることが可能となる。
1. Crystal Evaluation Apparatus The crystal evaluation apparatus 100 according to this embodiment performs Raman scattering measurement and X-ray diffraction measurement of a sample. According to the Raman scattering measurement, information on the vibration state of atoms in the sample can be obtained. The information on the vibrational state of the atoms in the sample is, for example, information on the ordered state of the atomic arrangement constituting the crystal, deviation from the stoichiometric ratio, information on the position of defects, and plane orientation. On the other hand, according to the X-ray diffraction measurement, information on the crystal lattice constant can be obtained. By analyzing both the information obtained from the Raman scattering measurement and the information obtained from the X-ray diffraction measurement, the crystal structure can be examined in detail.

図1は、本実施の形態にかかる結晶評価装置100の主な機能構成を示すブロック図である。結晶評価装置100は、測定部110と、表示部42と、入力部44と、測定制御部46と、記憶部48と、処理部50とを備える。   FIG. 1 is a block diagram showing a main functional configuration of the crystal evaluation apparatus 100 according to the present embodiment. The crystal evaluation apparatus 100 includes a measurement unit 110, a display unit 42, an input unit 44, a measurement control unit 46, a storage unit 48, and a processing unit 50.

測定部110は、たとえば結晶からなる試料32をX線回折法およびラマン散乱分光分析法により測定する。測定部110の詳細な構成については、後述する。   The measuring unit 110 measures, for example, a sample 32 made of crystals by an X-ray diffraction method and a Raman scattering spectroscopic analysis method. The detailed configuration of the measurement unit 110 will be described later.

測定制御部46は、測定部110に試料を測定させるための制御を行う。処理部50は、測定部110が測定した測定値を処理し、処理結果を記憶部48または表示部42に送る。記憶部48は、各種の設定データ(たとえば、測定制御用データなど)を記憶する他に、処理部50および測定制御部46の各種処理機能を実現するためのワーク領域となるもので、その機能はRAM、ROM、光ディスク、光磁気ディスクなどのハードウエアにより実現できる。また記憶部48には、結晶評価装置100の各部を機能させるためのプログラムが格納されていてもよい。結晶評価装置100は、記憶部48に格納されているプログラムを読み取って結晶評価装置100の各部の機能を実現させることができる。また、記憶部48に代えて、上述した各機能を実現するためのプログラム等を、伝送路を介してホスト装置等からダウンロードすることによって上述した結晶評価装置100の各部の機能を実現することも可能である。   The measurement control unit 46 performs control for causing the measurement unit 110 to measure the sample. The processing unit 50 processes the measurement value measured by the measurement unit 110 and sends the processing result to the storage unit 48 or the display unit 42. The storage unit 48 serves as a work area for realizing various processing functions of the processing unit 50 and the measurement control unit 46 in addition to storing various setting data (for example, measurement control data). Can be realized by hardware such as RAM, ROM, optical disk, magneto-optical disk. The storage unit 48 may store a program for causing each unit of the crystal evaluation apparatus 100 to function. The crystal evaluation apparatus 100 can read the program stored in the storage unit 48 and realize the functions of each unit of the crystal evaluation apparatus 100. Moreover, it replaces with the memory | storage part 48, and also implement | achieves the function of each part of the crystal | crystallization evaluation apparatus 100 mentioned above by downloading the program etc. for implement | achieving each function mentioned above from a host apparatus etc. via a transmission line. Is possible.

表示部42は、後述する測定部110の画像検出部24が検出した画像を表示する。また表示部42は、結晶評価装置100の設定状態、作動状態、または測定結果などを画像出力してもよく、その機能はCRT、LCD、タッチパネル型ディスプレイ等の公知のハードウエアにより実現できる。   The display unit 42 displays an image detected by the image detection unit 24 of the measurement unit 110 described later. The display unit 42 may output an image of the setting state, operating state, measurement result, or the like of the crystal evaluation apparatus 100, and the function can be realized by known hardware such as a CRT, LCD, touch panel display.

入力部44は、結晶評価装置100のオペレータが各種の設定データや操作データを入力するためのものであり、その機能は、キーボード、操作ボタン、タッチパネル型ディスプレイなどのハードウエアにより実現できる。   The input unit 44 is for an operator of the crystal evaluation apparatus 100 to input various setting data and operation data, and the function can be realized by hardware such as a keyboard, operation buttons, and a touch panel display.

次に、測定部110の詳細について説明する。図2は、本実施の形態にかかる測定部110の詳細な構成を示す図である。測定部110は、ラマン散乱測定装置としての機能と、X線回折装置としての機能とを有する。測定部110は、図2に示すように、たとえば結晶からなる試料32を載置するための試料台10と、X線回折測定を行うX線源12およびX線検出部14と、ラマン散乱測定を行うレーザ光源16、分光器18、光検出部20、第1のミラー25、および対物レンズ22とを含む。   Next, details of the measurement unit 110 will be described. FIG. 2 is a diagram illustrating a detailed configuration of the measurement unit 110 according to the present embodiment. The measurement unit 110 has a function as a Raman scattering measurement device and a function as an X-ray diffraction device. As shown in FIG. 2, the measurement unit 110 includes, for example, a sample stage 10 on which a crystal sample 32 is placed, an X-ray source 12 and an X-ray detection unit 14 that perform X-ray diffraction measurement, and Raman scattering measurement. A laser light source 16, a spectroscope 18, a light detection unit 20, a first mirror 25, and an objective lens 22.

まず、測定部110の各機能の中で、ラマン散乱測定を行う機能について説明する。本実施の形態においてラマン散乱測定は、後方散乱配置で行われる。レーザ光源16は、レーザ光を出射する。測定部110に設けられるレーザ光源16としては、発光素子であってもよいし、光ファイバ等の光伝送媒体であってもよい。出射されたレーザ光は、第1のミラー25により反射し、対物レンズ22を介して試料32の表面を照射する。第1のミラー25は、レーザ光の光路に対して45度傾斜状態で配置され、レーザ光の光路を90度変換して試料台10上に載置された試料32方向に向けることができる。対物レンズ22は、試料32上に向けられたレーザ光を集光する。これによりラマン散乱効率を上げることができる。集光されたレーザ光は、試料32上に照射されることにより発生したラマン散乱光は、対物レンズ22を介して第3のミラー27に出射する。第3のミラー27はハーフミラーであり、ラマン散乱光を分光器18方向に導く。第3のミラー27は、レーザ光の光路に対して45度傾斜状態で配置され、ラマン散乱光の光路を90度変換して分光器18方向に向けることができる。分光器18は、ラマン散乱光を複数のスペクトルに分光して光検出部20に送る。光検出部20は、分光器18から送られたスペクトルの強度を検出する。光検出部20は、複数のスペクトルを同時に検出するためにマルチチャンネルであることが好ましく、光検出部20としては、たとえばCCDが用いられる。光検出部20は、検出したスペクトルの強度を示す情報を処理部50に送る。   First, among the functions of the measurement unit 110, functions for performing Raman scattering measurement will be described. In the present embodiment, the Raman scattering measurement is performed in a backscattering arrangement. The laser light source 16 emits laser light. The laser light source 16 provided in the measurement unit 110 may be a light emitting element or an optical transmission medium such as an optical fiber. The emitted laser light is reflected by the first mirror 25 and irradiates the surface of the sample 32 through the objective lens 22. The first mirror 25 is disposed in a state inclined by 45 degrees with respect to the optical path of the laser light, and can be directed to the direction of the sample 32 placed on the sample stage 10 by converting the optical path of the laser light by 90 degrees. The objective lens 22 condenses the laser light directed onto the sample 32. Thereby, the Raman scattering efficiency can be increased. The condensed laser light is emitted to the third mirror 27 via the objective lens 22 as the Raman scattered light generated by being irradiated onto the sample 32. The third mirror 27 is a half mirror, and guides the Raman scattered light toward the spectroscope 18. The third mirror 27 is arranged in a state inclined by 45 degrees with respect to the optical path of the laser light, and can convert the optical path of the Raman scattered light by 90 degrees and direct it in the direction of the spectrometer 18. The spectroscope 18 splits the Raman scattered light into a plurality of spectra and sends it to the light detection unit 20. The light detection unit 20 detects the intensity of the spectrum sent from the spectroscope 18. The light detection unit 20 is preferably multi-channel in order to detect a plurality of spectra simultaneously. As the light detection unit 20, for example, a CCD is used. The light detection unit 20 sends information indicating the intensity of the detected spectrum to the processing unit 50.

次にX線回折測定を行う機能について説明する。X線源12は、対物レンズ22の焦点30の位置にX線を照射する。これにより、結晶評価装置100は、試料32上においてラマン散乱分光測定をする位置と同一の位置を、X線回折測定することができ、精度の高い結晶評価を行うことができる。   Next, the function of performing X-ray diffraction measurement will be described. The X-ray source 12 irradiates the position of the focal point 30 of the objective lens 22 with X-rays. Thereby, the crystal evaluation apparatus 100 can perform X-ray diffraction measurement at the same position on the sample 32 as the position where Raman scattering spectroscopic measurement is performed, and can perform highly accurate crystal evaluation.

X線検出部14は、試料32に照射されることにより発生した回折X線を検出する。X線検出部14およびX線源12は、回転中心を中心として互いに独立に回転運動可能なゴニオメータ構造となっている。X線検出部14とX線源12は、回転中心が対物レンズ22の焦点30と一致するように設けられている。X線源12によるX線の照射と、X線検出部14による回折X線の検出は、ゴニオメータによって回折角を変化させながら順次行われる。   The X-ray detector 14 detects diffracted X-rays generated by irradiating the sample 32. The X-ray detector 14 and the X-ray source 12 have a goniometer structure that can rotate independently of each other about the rotation center. The X-ray detector 14 and the X-ray source 12 are provided such that the center of rotation coincides with the focal point 30 of the objective lens 22. X-ray irradiation by the X-ray source 12 and detection of diffracted X-rays by the X-ray detector 14 are sequentially performed while changing the diffraction angle by a goniometer.

測定部110は、画像検出部24と、試料台10を駆動する試料台駆動部11と、第2のミラー26と、第2のミラー26を駆動するミラー駆動部23とをさらに含む。第2のミラー26は、ラマン散乱光を画像検出部24に導く機能を有する。具体的には第2のミラー26は、第3のミラー27からのラマン散乱光に対して45度傾斜状態で配置され、ラマン散乱光の光路を90度変換して画像検出部24の方向に向けることができる。第2のミラー26は、第3のミラー27と分光器18との間に図2において上下方向に可動に設けられ、ラマン散乱測定を行うときには、ラマン散乱光を遮らない位置(上方向)に移動する。   The measurement unit 110 further includes an image detection unit 24, a sample stage drive unit 11 that drives the sample stage 10, a second mirror 26, and a mirror drive unit 23 that drives the second mirror 26. The second mirror 26 has a function of guiding Raman scattered light to the image detection unit 24. Specifically, the second mirror 26 is arranged in a 45 ° tilted state with respect to the Raman scattered light from the third mirror 27, and the optical path of the Raman scattered light is converted by 90 ° in the direction of the image detection unit 24. Can be directed. The second mirror 26 is provided between the third mirror 27 and the spectroscope 18 so as to be movable in the vertical direction in FIG. 2. When performing the Raman scattering measurement, the second mirror 26 is at a position (upward) that does not block the Raman scattered light. Moving.

画像検出部24は、試料32から発生したラマン散乱光を受光することで試料32の画像を表示部42に送る。結晶評価装置100のオペレータは、表示部42を確認することで、対物レンズ22の焦点30が試料32の表面に一致しているか否かを判断することができる。結晶評価装置100のオペレータは、入力部44から試料台10の位置に関する情報を入力することができる。試料台駆動部11は、入力部44から入力された試料台10の位置に関する情報に応じて試料台10の位置をx、y、またはz軸方向に移動させることができる。   The image detection unit 24 receives the Raman scattered light generated from the sample 32 to send an image of the sample 32 to the display unit 42. The operator of the crystal evaluation apparatus 100 can determine whether or not the focal point 30 of the objective lens 22 coincides with the surface of the sample 32 by checking the display unit 42. An operator of the crystal evaluation apparatus 100 can input information regarding the position of the sample stage 10 from the input unit 44. The sample stage drive unit 11 can move the position of the sample stage 10 in the x, y, or z axis direction according to the information regarding the position of the sample stage 10 input from the input unit 44.

2.結晶評価方法
次に本実施の形態にかかる結晶評価方法について説明する。図3は、本実施の形態にかかる結晶評価装置の動作を示すフローチャートである。
2. Crystal Evaluation Method Next, a crystal evaluation method according to this embodiment will be described. FIG. 3 is a flowchart showing the operation of the crystal evaluation apparatus according to this embodiment.

まず、結晶評価装置100のオペレータは、試料32を試料台10に載置する(ステップS100)。ついで、レーザ光源16は、対物レンズ22を介して試料32にレーザ光を照射する(ステップS102)。このとき、第2のミラー26は、試料32からのラマン散乱光を画像検出部24に導くことのできる位置に配置される。   First, the operator of the crystal evaluation apparatus 100 places the sample 32 on the sample stage 10 (step S100). Next, the laser light source 16 irradiates the sample 32 with laser light through the objective lens 22 (step S102). At this time, the second mirror 26 is disposed at a position where the Raman scattered light from the sample 32 can be guided to the image detection unit 24.

次に、結晶評価装置100のオペレータは、画像検出部24が検出した試料32の表面の画像を確認して、試料32の表面に対物レンズ22の焦点が一致しているか否かを判断する(ステップS104)。具体的には、結晶評価装置100のオペレータは、表示部42に表示された試料32上のレーザビーム径を確認することにより、試料32の表面に対物レンズ22の焦点が一致しているか否かを判断する。レーザビーム径が最小のときに、試料32の表面に対物レンズ22の焦点が一致しているといえる。試料32の表面に対物レンズ22の焦点が一致しているとオペレータが判断した旨を示す情報を入力部44が受け取った場合に、結晶評価装置100の動作は、ステップS112にジャンプする。   Next, the operator of the crystal evaluation apparatus 100 confirms the image of the surface of the sample 32 detected by the image detection unit 24 and determines whether or not the focus of the objective lens 22 coincides with the surface of the sample 32 ( Step S104). Specifically, the operator of the crystal evaluation apparatus 100 checks whether or not the focus of the objective lens 22 coincides with the surface of the sample 32 by checking the laser beam diameter on the sample 32 displayed on the display unit 42. Judging. It can be said that the focal point of the objective lens 22 coincides with the surface of the sample 32 when the laser beam diameter is minimum. When the input unit 44 receives information indicating that the operator has determined that the focal point of the objective lens 22 is coincident with the surface of the sample 32, the operation of the crystal evaluation apparatus 100 jumps to step S112.

一方、オペレータは、試料32の表面に対物レンズ22の焦点が一致していないと判断した場合に、試料台10の高さを変更する(ステップS106)。   On the other hand, when the operator determines that the focal point of the objective lens 22 does not coincide with the surface of the sample 32, the operator changes the height of the sample stage 10 (step S106).

次に、レーザ光源16は、試料32にレーザ光を照射する(ステップS108)。次に、結晶評価装置100のオペレータは、画像検出部24が検出した試料32の表面の画像を確認して、試料32の表面に対物レンズ22の焦点が一致しているか否かを判断する(ステップS110)。試料32の表面に対物レンズ22の焦点が一致しているとオペレータが判断するまで、結晶評価装置100は、ステップS106〜S110の動作を繰り返す。   Next, the laser light source 16 irradiates the sample 32 with laser light (step S108). Next, the operator of the crystal evaluation apparatus 100 confirms the image of the surface of the sample 32 detected by the image detection unit 24 and determines whether or not the focus of the objective lens 22 coincides with the surface of the sample 32 ( Step S110). The crystal evaluation apparatus 100 repeats the operations in steps S106 to S110 until the operator determines that the focal point of the objective lens 22 coincides with the surface of the sample 32.

このように、結晶評価装置100は、ラマン散乱測定に用いているレーザ光源16から出射されるレーザ光を予め試料32に照射して、画像を確認することにより、試料32の表面を対物レンズ22の焦点の位置に調節することができる。これにより、精度の高いラマン散乱測定およびX線回折測定を行うことが可能となる。   As described above, the crystal evaluation apparatus 100 irradiates the sample 32 with the laser light emitted from the laser light source 16 used for the Raman scattering measurement in advance and confirms the image, whereby the surface of the sample 32 is observed on the objective lens 22. Can be adjusted to the focus position. This makes it possible to perform highly accurate Raman scattering measurement and X-ray diffraction measurement.

ステップS110およびステップS104において、試料32の表面に対物レンズ22の焦点が一致しているとオペレータが判断した旨を示す情報を入力部44が受け取った場合に、結晶評価装置100は、ラマン散乱測定およびX線回折測定を行う(ステップS112およびS114)。ここで結晶評価装置100は、ラマン散乱測定を行う前に、第2のミラー26の位置を、ラマン散乱光が分光器18に入射するように、移動させる。   In step S110 and step S104, when the input unit 44 receives information indicating that the operator has determined that the focus of the objective lens 22 is coincident with the surface of the sample 32, the crystal evaluation apparatus 100 performs the Raman scattering measurement. Then, X-ray diffraction measurement is performed (steps S112 and S114). Here, the crystal evaluation apparatus 100 moves the position of the second mirror 26 so that the Raman scattered light enters the spectrometer 18 before performing the Raman scattering measurement.

通常、ラマン散乱測定とX線回折測定は、異なる装置で行われるため、一方の測定を行った後、他方の測定を行うために試料を装置に装着しなおさなければならなかった。このときに、時間的負担だけでなく、試料の破損のリスク、温度の変化等による試料状態の変化などが生じていた。そこで本実施の形態にかかる結晶評価装置100によれば、同時にラマン散乱測定とX線回折測定を行うことができるため、より短時間で試料の破損等のリスクを低減することができる。また本実施の形態にかかる結晶評価装置100によれば、試料32の表面において、ラマン散乱測定を行う位置と同じ位置を、X線回折測定することができる。   Usually, since the Raman scattering measurement and the X-ray diffraction measurement are performed by different apparatuses, after performing one measurement, the sample has to be remounted on the apparatus in order to perform the other measurement. At this time, not only the time burden, but also the risk of sample breakage, changes in the sample state due to temperature changes, and the like occurred. Therefore, according to the crystal evaluation apparatus 100 according to the present embodiment, the Raman scattering measurement and the X-ray diffraction measurement can be performed at the same time, so that the risk of sample breakage or the like can be reduced in a shorter time. Further, according to the crystal evaluation apparatus 100 according to the present embodiment, X-ray diffraction measurement can be performed at the same position on the surface of the sample 32 as the position where Raman scattering measurement is performed.

さらに結晶評価装置100によれば、試料32の表面の複数の領域を測定する場合であっても、一の領域を上述した動作により測定した後、試料台10をxまたはy軸方向に移動させ、再度上述した動作を行うことによって、短時間で精度よく結晶評価を行うことができる。   Furthermore, according to the crystal evaluation apparatus 100, even when measuring a plurality of regions on the surface of the sample 32, after measuring one region by the above-described operation, the sample stage 10 is moved in the x or y axis direction. By performing the above-described operation again, crystal evaluation can be performed with high accuracy in a short time.

3.変形例
次に本実施の形態にかかる結晶評価装置の変形例について説明する。変形例にかかる結晶評価装置200は、ラマン散乱光の強度に基づいて試料台10の位置を決定している点で、オペレータが試料32の画像を確認しながら試料台10の位置を決定している結晶評価装置100と異なる。
3. Modified Example Next, a modified example of the crystal evaluation apparatus according to the present embodiment will be described. The crystal evaluation apparatus 200 according to the modified example determines the position of the sample stage 10 while checking the image of the sample 32 while the operator determines the position of the sample stage 10 based on the intensity of Raman scattered light. Different from the crystal evaluation apparatus 100.

図4は、変形例にかかる結晶評価装置200の機能構成を示すブロック図である。結晶評価装置200は、画像検出部24に代えて強度検出部28および位置決定部29をさらに含む。強度検出部28は、試料32にレーザ光が照射されることにより生じた散乱光の強度を検出して位置決定部29に送る。位置決定部29は、強度検出部28から受け取った強度を示す情報に基づいて、試料台10の位置を決定する。   FIG. 4 is a block diagram showing a functional configuration of the crystal evaluation apparatus 200 according to the modification. The crystal evaluation apparatus 200 further includes an intensity detection unit 28 and a position determination unit 29 in place of the image detection unit 24. The intensity detection unit 28 detects the intensity of the scattered light generated by irradiating the sample 32 with the laser light and sends it to the position determination unit 29. The position determination unit 29 determines the position of the sample stage 10 based on the information indicating the intensity received from the intensity detection unit 28.

次に、変形例にかかる結晶評価方法について図5を参照しながら説明する。図5は、結晶評価装置200の動作を示すフローチャートである。   Next, a crystal evaluation method according to a modification will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a flowchart showing the operation of the crystal evaluation apparatus 200.

まず、結晶評価装置200のオペレータは、試料32を試料台10に載置する(ステップS200)。ついで、レーザ光源16は、対物レンズ22を介して試料32にレーザ光を照射する(ステップS202)。   First, the operator of the crystal evaluation apparatus 200 places the sample 32 on the sample stage 10 (step S200). Next, the laser light source 16 irradiates the sample 32 with laser light through the objective lens 22 (step S202).

次に、強度検出部28は、試料32にレーザ光が照射されることにより生じた散乱光の強度を検出する(ステップS204)。   Next, the intensity detection unit 28 detects the intensity of scattered light generated by irradiating the sample 32 with laser light (step S204).

次に、位置決定部29は、強度検出部28が検出した強度に基づいて試料台10の位置を決定する(ステップS206)。具体的には、位置決定部29は、強度検出部28が検出した強度に基づいて試料32の表面の位置を算出し、当該位置と、現時点での試料台10の位置とから適切な試料台10の位置を決定する。散乱光の強度は、焦点30の位置が試料32の表面に近いほど高いため、結晶評価装置200は、たとえば、予め焦点30の位置と試料32表面の間の距離と、散乱光の強度との関係式を試料ごとに記憶しておき、位置決定部29は、かかる関係式を用いて、試料台10の位置を決定することができる。   Next, the position determination unit 29 determines the position of the sample stage 10 based on the intensity detected by the intensity detection unit 28 (step S206). Specifically, the position determination unit 29 calculates the position of the surface of the sample 32 based on the intensity detected by the intensity detection unit 28, and an appropriate sample table is calculated from the position and the current position of the sample table 10. 10 positions are determined. Since the intensity of the scattered light is higher as the position of the focal point 30 is closer to the surface of the sample 32, the crystal evaluation apparatus 200, for example, previously determines the distance between the position of the focal point 30 and the surface of the sample 32 and the intensity of the scattered light. The relational expression is stored for each sample, and the position determination unit 29 can determine the position of the sample stage 10 using the relational expression.

次に、試料台駆動部11は、位置決定部29が決定した位置に試料台10を移動する(ステップS208)。   Next, the sample stage drive unit 11 moves the sample stage 10 to the position determined by the position determination unit 29 (step S208).

次に、結晶評価装置100は、ラマン散乱測定およびX線回折測定を行う(ステップS210およびS212)。   Next, the crystal evaluation apparatus 100 performs Raman scattering measurement and X-ray diffraction measurement (steps S210 and S212).

このように結晶評価装置200によれば、レーザ光源16からのレーザ光に基づく散乱光の強度を検出することにより、試料台10の位置を決定することができる。これにより、試料台10の位置合わせを簡便かつ正確に行うことができる。   Thus, according to the crystal evaluation apparatus 200, the position of the sample stage 10 can be determined by detecting the intensity of the scattered light based on the laser light from the laser light source 16. Thereby, alignment of the sample stage 10 can be performed simply and accurately.

変形例にかかる結晶評価装置200のその他の構成および動作は、上述した結晶評価装置100の構成および動作と同様であるので説明を省略する。   Other configurations and operations of the crystal evaluation apparatus 200 according to the modified example are the same as the configurations and operations of the crystal evaluation apparatus 100 described above, and thus description thereof is omitted.

本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、変形例にかかる結晶評価装置200は、散乱光の強度を検出することにより、試料台10の高さを決定しているが、これにかえて、試料32の表面の画像を検出し、画像解析することによって試料台10の適切な高さを決定してもよい。たとえば、結晶評価装置200は、画像解析により試料32上のレーザビーム径と試料32表面と焦点との距離との関係式を記憶しておき、かかる関係式を用いて試料台10の適切な高さを決定することができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, the crystal evaluation apparatus 200 according to the modified example determines the height of the sample stage 10 by detecting the intensity of scattered light, but instead detects an image of the surface of the sample 32, An appropriate height of the sample stage 10 may be determined by image analysis. For example, the crystal evaluation apparatus 200 stores a relational expression between the laser beam diameter on the sample 32 and the distance between the surface of the specimen 32 and the focal point by image analysis, and uses the relational expression to appropriately increase the height of the sample stage 10. Can be determined.

また本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び結果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。   Further, the invention includes substantially the same configuration (for example, a configuration having the same function, method, and result, or a configuration having the same purpose and result) as the configuration described in the embodiment. In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that achieves the same effect as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. Further, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

本実施の形態にかかる結晶評価装置の機能構成を示すブロック図。The block diagram which shows the function structure of the crystal | crystallization evaluation apparatus concerning this Embodiment. 本実施の形態にかかる測定部を模式的に示す図。The figure which shows typically the measurement part concerning this Embodiment. 本実施の形態にかかる結晶評価方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the crystal | crystallization evaluation method concerning this Embodiment. 変形例にかかる結晶評価装置の機能構成を示すブロック図。The block diagram which shows the function structure of the crystal | crystallization evaluation apparatus concerning a modification. 変形例にかかる結晶評価方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the crystal | crystallization evaluation method concerning a modification.

符号の説明Explanation of symbols

10 試料台、12 X線源、14 X線検出部、16 レーザ光源、18 分光器、20 光検出部、22 対物レンズ、24 画像検出部、25 第1のミラー、26 第2のミラー、27 第3のミラー、28 強度検出部、29 位置決定部、30 焦点、32 試料、42 表示部、44 入力部、46 測定制御部、48 記憶部、50 処理部、100、200 結晶評価装置、110、210 測定部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Sample stand, 12 X-ray source, 14 X-ray detection part, 16 Laser light source, 18 Spectrometer, 20 Optical detection part, 22 Objective lens, 24 Image detection part, 25 1st mirror, 26 2nd mirror, 27 Third mirror, 28 Intensity detection unit, 29 Position determination unit, 30 Focus, 32 Sample, 42 Display unit, 44 Input unit, 46 Measurement control unit, 48 Storage unit, 50 Processing unit, 100, 200 Crystal evaluation apparatus, 110 210 Measurement unit

Claims (11)

試料を載置するための試料台と、
前記試料台に載置された試料にX線を照射するためのX線源と、
前記試料に照射されることにより生じた回折X線を検出するX線検出部と、
前記試料にレーザ光を照射するためのレーザ光源と、
前記試料に照射されることにより散乱したラマン散乱光を分光する分光器と、
前記分光器が分光したスペクトルの強度を検出する光検出部と、
を含む、結晶評価装置。
A sample stage for placing the sample;
An X-ray source for irradiating the sample placed on the sample stage with X-rays;
An X-ray detector that detects diffracted X-rays generated by irradiating the sample;
A laser light source for irradiating the sample with laser light;
A spectroscope for spectroscopic analysis of Raman scattered light scattered by irradiating the sample;
A light detection unit for detecting the intensity of the spectrum dispersed by the spectrometer;
A crystal evaluation apparatus.
請求項1において、
前記レーザ光源からのレーザ光を前記試料の表面に集光するレンズをさらに含み、
前記X線源および前記X線検出部は、前記レンズの焦点を回転中心として回転可能に設けられている、結晶評価装置。
In claim 1,
A lens for condensing laser light from the laser light source on the surface of the sample;
The crystal evaluation apparatus, wherein the X-ray source and the X-ray detection unit are rotatably provided with the focal point of the lens as a rotation center.
請求項1または2において、
前記レーザ光源からのレーザ光を集光するレンズをさらに含み、
前記X線源は、少なくとも前記レンズの焦点の位置に前記X線を照射する、結晶評価装置。
In claim 1 or 2,
A lens for condensing laser light from the laser light source;
The crystal evaluation apparatus, wherein the X-ray source irradiates at least a focal position of the lens with the X-ray.
請求項1ないし3のいずれかにおいて、
前記レーザ光源からのレーザ光を集光するレンズと、
前記レンズの焦点が前記試料の表面に一致しているか否かを判断するために設けられ、前記試料にレーザ光が照射された試料の画像を表示する表示部と、をさらに含む、結晶評価装置。
In any one of Claims 1 thru | or 3,
A lens for condensing the laser light from the laser light source;
A crystal evaluation apparatus, further comprising: a display unit configured to determine whether or not a focal point of the lens coincides with a surface of the sample, and displaying an image of the sample irradiated with laser light on the sample. .
請求項1ないし3のいずれかにおいて、
前記試料にレーザ光が照射されることにより生じた散乱光の強度を検出する強度検出部をさらに含む、結晶評価装置。
In any one of Claims 1 thru | or 3,
A crystal evaluation apparatus further comprising an intensity detector that detects the intensity of scattered light generated by irradiating the sample with laser light.
請求項5において、
前記強度検出部が検出した強度に基づいて、前記試料台の位置を決定する試料台位置決定部をさらに含む、結晶評価装置。
In claim 5,
The crystal evaluation apparatus further comprising a sample stage position determination unit that determines the position of the sample stage based on the intensity detected by the intensity detection unit.
請求項5において、
前記レーザ光は、前記レーザ光源から出射されている、結晶評価装置。
In claim 5,
The crystal evaluation apparatus, wherein the laser light is emitted from the laser light source.
(a)試料台に載置されている試料にレンズを介して、レーザ光源からレーザ光を照射するステップと、
(b)前記試料にレーザ光が照射されることにより生じた散乱光を検出することにより、前記試料の表面に前記レンズの焦点が一致しているか否かを判断するステップと、
(c)前記試料の表面に前記レンズの焦点が一致していないと判断した場合に、前記試料台の位置を移動するステップと、
(d)前記試料の表面に前記レンズの焦点が一致していると判断した場合に、前記レーザ光源からレーザ光を前記試料に照射することにより、ラマン散乱測定を行うステップと、
(e)前記試料の表面に前記レンズの焦点が一致している場合に、前記試料にX線を照射することにより、X線回折測定を行うステップと、
を含む、結晶評価方法。
(A) irradiating a sample placed on the sample stage with laser light from a laser light source via a lens;
(B) determining whether the focal point of the lens coincides with the surface of the sample by detecting scattered light generated by irradiating the sample with laser light;
(C) moving the position of the sample stage when it is determined that the focal point of the lens does not coincide with the surface of the sample;
(D) performing Raman scattering measurement by irradiating the sample with laser light from the laser light source when it is determined that the focal point of the lens coincides with the surface of the sample;
(E) performing X-ray diffraction measurement by irradiating the sample with X-rays when the focus of the lens coincides with the surface of the sample;
A crystal evaluation method comprising:
請求項8において、
前記ステップ(b)では、レーザ光が照射された前記試料の画像を検出し、検出した画像に基づいて前記試料の表面に前記レンズの焦点が一致しているか否かを判断する、結晶評価方法。
In claim 8,
In the step (b), a crystal evaluation method for detecting an image of the sample irradiated with laser light and determining whether the focus of the lens coincides with the surface of the sample based on the detected image .
請求項8において、
前記ステップ(b)では、散乱光の強度を検出し、検出した散乱光の強度に基づいて、前記試料の表面に前記レンズの焦点が一致しているか否かを判断する、結晶評価方法。
In claim 8,
In the step (b), the intensity of scattered light is detected, and based on the detected intensity of scattered light, it is determined whether or not the focus of the lens coincides with the surface of the sample.
請求項10において、
前記ステップ(c)の前に、前記ステップ(b)において検出した散乱光の強度に基づいて、前記試料の表面の位置を算出するステップをさらに含み、
前記ステップ(c)では、算出した前記試料の表面の位置が前記レンズの焦点の位置に一致するように前記試料台の位置を移動する、結晶評価方法。
In claim 10,
Before the step (c), further comprising the step of calculating the position of the surface of the sample based on the intensity of the scattered light detected in the step (b);
In the step (c), the crystal evaluation method of moving the position of the sample stage so that the calculated position of the surface of the sample coincides with the focal position of the lens.
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CN108401437A (en) * 2015-12-11 2018-08-14 科磊股份有限公司 X-ray scatterometry for high depth-width ratio structure is measured

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