JPH06258728A - 画像露光装置及び画像露光方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目 的】 ネガフィルムの画像にパターンマスク等の
画像を簡易に合成可能にするとともに、高精細な画像を
印画紙へ露光可能な画像露光装置を提供することを目的
とする。 【構 成】 写真フィルム１０７の画像を照明して第１
の画像光を生成する第１の画像光生成手段と、写真フィ
ルム１０７の画像に合成されるパターンマスク１２３の
画像を照明して第２の画像光を生成する第２の画像光生
成手段と、前記第１の画像光が読み出し側から入射さ
れ、前記第２の画像光が書き込み側から入射される如く
配置され、前記第２の画像光により前記第１の画像光を
変調し、写真フィルム１０７の画像にパターンマスク１
２３の画像が合成された画像の光を出射するＳＬＭ１１
５と、前記画像が露光される印画紙１２９とを具備した
ものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、写真フィルムの画像
の露光に係わり、特に、写真フィルムの画像に別の画像
が合成された画像を露光する画像露光装置及び画像露光
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、写真プリンタにおいて、画像露光
を行う際に、ネガフィルムの画像と、これとは異なる別
の画像、例えば、枠、図形、及び文字等とを合成して印
画紙へ露光することが行われている。上記露光は、従
来、リスフィルム等のパターンマスクを光路に挿入した
り、合成する画像情報をレーザにより印画紙に書き込ん
だり、若しくは液晶マスクを光路に挿入することにより
行われている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上述の露光において、
パターンマスクによる露光では、パターンマスクを印画
紙付近に挿入しなければならないので、パターンマスク
の挿脱作業を暗室で行わなければならないという問題が
ある。また、レーザを用いた露光では、走査露光を行う
ため相当の露光時間を要するとともに、可動部が複雑構
成になるという問題がある。

【０００４】また、液晶マスクによる露光では、液晶マ
スクを構成する画素がマトリクス配列されているため、
特に、曲線画像を露光すると滑らかな画像とならず精細
度に欠けるという問題がある。そこでこの発明は、上記
事情に鑑みて成されたもので、ネガフィルムの画像にパ
ターンマスク等の画像を簡易に合成可能にするととも
に、高精細な画像を印画紙へ露光可能な画像露光装置及
び画像露光方法を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この発明に係わる画像露
光装置は、第１の画像情報を生成する第１の画像情報生
成手段と、第２の画像情報を生成する第２の画像情報生
成手段と、前記第１の画像情報が読み出し側から導入さ
れ、前記第２の画像情報が書き込み側から導入される如
く配置され、前記第２の画像情報により前記第１の画像
情報を変調して前記第１の画像情報と前記第２の画像情
報とが合成された第３の画像情報を導出する空間光変調
手段と、前記第３の画像情報を記録若しくは表示する手
段とを具備したものであり、更に、前記第２の画像情報
生成手段は、前記第１の画像情報と合成される前記第２
の画像情報が表示可能な発光手段である。

【０００６】また、この発明に係わる画像露光方法は、
読み出し側から導入された第１の画像情報を、書き込み
側から導入された第２の画像情報により変調し、該第１
の画像情報と該第２の画像情報とが合成された第３の画
像情報を導出する空間光変調手段を有し、該第３の画像
情報が感光材料に露光されるようにしたものである。

【０００７】

【作用】この発明に係わる前記手段によれば、第１の画
像情報生成手段で生成された画像情報は、空間光変調手
段の読み出し側から導入され、書き込み側から導入され
る第２の画像情報生成手段で生成された画像情報により
変調されて導出される。空間光変調手段である空間光変
調素子（以下ＳＬＭと記す）は、それぞれ透明電極を対
向させた一対のガラス基板に、光導体膜、遮光膜、誘電
体ミラー、及び配向膜により液晶分子が所要角度に配向
された液晶を該順序で挟持させたものである（日本学術
振興会編：液晶デバイスハンドブック，ビーム・アドレ
ス方式，pp434 〜436(1989).滝沢，菊地，藤掛：光散乱
性液晶複合体を用いた空間光変調素子，NHK 技研R&D ，
No.12,pp11〜22(1992). 岡野，小林共編：「液晶・応用
編」，第１０章 光伝導型液晶ディスプレイ，pp223 〜
228(1985).参照）。

【０００８】ＳＬＭを構成する光導体膜に画像情報が導
入されると、光導体膜のインピーダンスが低下し、画像
情報導入部分に相当する液晶に電界が印加される。これ
により液晶に、電気光学効果が生じ、ＳＬＭは、書き込
み側から導入された画像情報を変調して導出する。導出
された画像情報は、第１及び第２の画像生成手段で生成
された各画像情報が合成された画像情報であり、該画像
情報を露光手段に供給することにより合成画像が露光さ
れる。

【０００９】第１の画像情報生成手段は、写真フィルム
の画像等の原画を照明して画像光を得るものであり、第
２の画像情報生成手段は、原画に合成される所要画像パ
ターンが形成されたパターンマスク、若しくは写真フィ
ルムの画像を照明して画像情報を得るもの、又は所要画
像を表示させたＥＬ（エレクトロルミネセンス）表示装
置及びＣＲＴ（陰極線管）等の発光手段を発光させて画
像情報を得るものである。

【００１０】ＳＬＭに挟持させる液晶は、ＴＮ（Twiste
d Nematic ）型液晶、ＧＨ（GuestHost）型液晶、表面
安定化型強誘電性液晶、及び高分子分散型液晶がある。
ＴＮ型液晶は、４５°ツイスト分子配列された正の誘電
率異方性を有する多成分混合のネマチック液晶に、逆捩
じれのドメインの発生を抑制するカイラル物質を微量添
加した組成物を、一対のガラス基板に、配向処理が施さ
れた対向透明電極に挟持させ、更に、各ガラス基板の外
側にそれぞれ偏光板を備えたものである。

【００１１】ＴＮ型液晶を挟持したＳＬＭは、書き込み
側からの光が光導体膜に入射すると光導体膜のインピー
ダンスが低下し、該低下部分に相当する液晶に電界が印
加されて液晶分子の配列が変化する。読み出し側からの
光は、液晶により変調され、各偏光板を通過するときの
偏光角が光学的に平行となるため、偏光板を通過するこ
とができる。

【００１２】ＧＨ型液晶は、ツイスト分子配列された正
の誘電率異方性を有する多成分混合のネマチック液晶に
二色性染料を溶解した液晶を、一対のガラス基板に、配
向処理が施された対向透明電極に挟持させたものであ
る。二色性染料分子は、ネマチック液晶分子と平行配列
するため、液晶分子に電界を印加して配列を変化させる
と、これに伴い二色性染料分子の配列も変化する。二色
性染料分子の長軸方向と短軸方向とは、それぞれ光の吸
収が異なる。

【００１３】ＧＨ型液晶を挟持したＳＬＭは、二色性染
料分子の配列による光吸収率の変化により読み出し側か
らの光を変調する。表面安定化型強誘電性液晶は、カイ
ラルスメクチック液晶を、一対のガラス基板に、平行配
向処理が施された対向透明電極に層厚１〜２μｍで挟持
させたものである。カイラルスメクチック液晶は、分子
長軸が層に対して一定角度で傾斜しており、カイラルス
メクチック液晶に適当極性のパルス電界を印加すると、
分子長軸が層の法線に対して対称方向に反転する。

【００１４】表面安定化型強誘電性液晶を挟持したＳＬ
Ｍは、液晶分子長軸の傾斜の変化により、読み出し側か
らの直線偏光を楕円偏光若しくは円偏光に変調する。高
分子分散型液晶は、固相である高分子と液晶相であるネ
マチック液晶とが分散共存する複合材料であり、液晶に
印加される電界に応じて散乱状態が変化する。

【００１５】高分子型液晶を挟持したＳＬＭは、液晶の
散乱状態の変化により読み出し側からの光を変調する。

【００１６】

【実施例】以下、この発明の実施例を図面を参照して説
明する。図１はこの発明の一実施例を示している。光源
１０１からの光は、リフレクタ１０３で反射され、所要
の色フィルタ１０４を介して拡散板１０５で拡散された
のちネガフィルム１０７に入射する。

【００１７】ネガフィルム１０７を透過した光は、レン
ズ１０９、ハーフミラー１１１をそれぞれ通過したのち
レンズ１１３で平行光に変換されてＳＬＭ１１５に入射
する。一方、光源１１７からの光は、リフレクタ１１９
で反射され、拡散板１２１で拡散されたのち、枠、図
形、及び文字等の画像パターンが形成されたパターンマ
スク１２３に入射する。パターンマスク１２３を透過し
た光は、ＳＬＭ１１５に入射する。

【００１８】以下、図２を参照してＳＬＭ１１５につい
て説明する。図２に示すように、ＳＬＭ１１５は、それ
ぞれＩＴＯ（Indium Tin Oxide）透明電極２０３、２０
５を対向させた一対のガラス基板２０１、２０３に、光
導体膜２０９、遮光膜２１１、誘電体ミラー２１３、及
び配向膜２１５、２１７により液晶分子が所要角度に配
向されたＴＮ型の液晶２１９を該順序で挟持させたもの
であり、透明電極２０３、２０５には、駆動電圧が印加
される。さらにガラス基板２０３は、偏向板２０４を備
えている。

【００１９】以下、ＳＬＭ１１５の動作を説明する。Ｓ
ＬＭ１１５の書き込み側（ガラス基板２０１側）から光
が入射されると、光導体膜２０９のインピーダンスが低
下し、光が照射された部分の液晶２１９に電界が印加さ
れる。電界が印加された部分の液晶は、電気光学効果を
生じ、読み出し側（ガラス基板２０３側）から入射され
た光を変調する。

【００２０】図１に示すように、ＳＬＭ１１５の書き込
み側には、パターンマスク１２３の画像光が入射されて
おり、読み出し側には、ネガフィルム１０７の画像光が
入射されている。パターンマスク１２３を透過した画像
光がＳＬＭ１１５を構成する光導体膜２０９に入射され
ると、入射部分の光導体膜２０９のインピーダンスが低
下して入射部分に相当する液晶２１９に電界が印加さ
れ、これにより液晶２１９の配列が、パターンマスク１
２３の画像に対応して変化する。ネガフィルム１０７を
透過した画像光は、液晶２１９で変調されて出射され
る。

【００２１】このようにして読み出し側から出射された
光は、パターンマスク１２３の画像とネガフィルム１０
７の画像とが合成されたものである。また、ＳＬＭ１１
５の出射光強度は、書き込み側から入射される画像光強
度の変化に応答する。従って、書き込み側の入射光強度
を制御することにより、所要強度の出射光を得ることが
できる。

【００２２】ＳＬＭ１１５の出射光は、レンズ１１３で
収束光に変換されたのち、ハーフミラー１１１で反射さ
れ、レンズ１２３、１２５、ピンホール１２７を介した
のち、印画紙１２９に照射される。以下、図３を参照し
てネガフィルム１０７の画像に合成される画像パターン
について説明する。

【００２３】図３（ａ）に示したネガフィルム１０７の
画像に枠画像を合成するには、パターンマスク１２３に
図３（ｂ）に示すように、ＳＬＭ１１５の書き込み光の
うち、枠領域（図中網点領域）が遮光されて入射される
ようなパターンを形成する。このようにすると、ＳＬＭ
１１５の光導電膜２０９に入射される光が枠領域以外に
制限されるので、枠領域に相当する光導電膜２０９のイ
ンピーダンスの低下はなく、枠領域に相当する液晶２１
９には電界が印加されない。

【００２４】従って、液晶２１９は、枠領域に相当する
部分が散乱状態となるため、読み出し側から入射された
ネガフィルム１０７の画像光のうち枠領域以外に相当す
る画像光だけが出射される。これにより印画紙１２９に
は、ネガフィルム１０７の画像に白枠が合成された図３
（ｃ）に示した画像が露光される。また、ネガフィルム
１０７の画像に文字画像を合成するには、パターンマス
ク１２３に図３（ｄ）に示すように、ＳＬＭ１１５の書
き込み光のうち、文字領域が遮光されて入射されるよう
なパターンを形成する。

【００２５】このようにすると、ＳＬＭ１１５の光導電
膜２０９に入射される光が文字領域以外に制限されるの
で、文字領域に相当する光導電膜２０９のインピーダン
スの低下はなく、文字領域に相当する液晶２１９には電
界が印加されない。従って、液晶２１９は、文字領域に
相当する部分が散乱状態となるため、読み出し側から入
射されるネガフィルム１０７の画像光のうち文字領域以
外に相当する画像光だけが出射される。これにより印画
紙１２９には、ネガフィルム１０７の画像に白抜き文字
が合成された画像が露光される。

【００２６】一方、パターンマスク１２３及び光源１１
７の代わりに、水平及び垂直電極がマトリク配列された
ＥＬパネル及びＣＲＴを用い、これらＥＬパネル及びＣ
ＲＴに、枠、図形、及び文字等の画像を表示させて発光
させるようにしても良い。さらに、液晶表示装置に画像
を表示させるようにしても良い。特に、ＥＬパネルを用
いた場合、液晶表示装置に付随するブラックマトリクス
が存在しないため、高精細な画像を提供することができ
る。

【００２７】また、パターンマスク１２３の代わりにネ
ガフィルムを用い、異なるネガフィルムの画像が合成さ
れるようにしても良い。

【００２８】

【発明の効果】以上説明した発明によれば、ネガフィル
ムの画像情報及びパターンマスク等の画像情報をＳＬＭ
に導入することにより、ネガフィルムの画像にパターン
マスク等の画像が合成されるようにネガフィルムの画像
情報を変調することができる。これにより簡易にネガフ
ィルムの画像に他の画像を合成することができる。

【００２９】また、ＳＬＭは、画素単位に分割すること
なく画像情報を導出することができるので、高精細な画
像を印画紙へ露光することができる。更に、ＳＬＭの書
き込み側の入射光強度を制御することにより出射光強度
を変化させることができるので、所要強度の光を印画紙
へ照射することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施例を示す概略構成図。

【図２】図１に示したＳＬＭ１１５を示す構造図。

【図３】図１に示したパターンマスク１２３の画像パタ
ーンを示すパターン図。

【符号の説明】

１０１、１１７ 光源 １０３、１１９ リフレクタ １０４ 色フィルタ １０５、１２１ 拡散板 １０７ ネガフィルム １０９、１１３、１２３、１２５ レンズ １１１ ハーフミラー １１５ ＳＬＭ １２３ パターンマスク １２７ ピンホール １２９ 印画紙 ２０１、２０３ ガラス基板 ２０４ 偏向板 ２０５、２０７ 透明電極 ２０９ 光導体膜 ２１１ 遮光膜 ２１３ 誘電体ミラー ２１５、２１７ 配向膜 ２１９ 液晶

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１の画像情報を生成する第１の画像情
   報生成手段と、 第２の画像情報を生成する第２の画像情報生成手段と、 前記第１の画像情報が読み出し側から導入され、前記第
   ２の画像情報が書き込み側から導入される如く配置さ
   れ、前記第２の画像情報により前記第１の画像情報を変
   調して前記第１の画像情報と前記第２の画像情報とが合
   成された第３の画像情報を導出する空間光変調手段と、 前記第３の画像情報を記録若しくは表示する手段とを具
   備したことを特徴とする画像露光装置。
2. 【請求項２】 前記第２の画像情報生成手段は、前記第
   １の画像情報と合成される前記第２の画像情報が表示可
   能な発光手段であることを特徴とする請求項１記載の画
   像露光装置。
3. 【請求項３】 読み出し側から導入された第１の画像情
   報を、書き込み側から導入された第２の画像情報により
   変調し、該第１の画像情報と該第２の画像情報とが合成
   された第３の画像情報を導出する空間光変調手段を有
   し、該第３の画像情報が感光材料に露光されるようにし
   たことを特徴とする画像露光方法。