JPH06256257A - フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類 - Google Patents
フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類Info
- Publication number
- JPH06256257A JPH06256257A JP6013085A JP1308594A JPH06256257A JP H06256257 A JPH06256257 A JP H06256257A JP 6013085 A JP6013085 A JP 6013085A JP 1308594 A JP1308594 A JP 1308594A JP H06256257 A JPH06256257 A JP H06256257A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- fluoro
- acid
- mol
- difluoro
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- CDGGKKODENBDJO-UHFFFAOYSA-N 3-fluoro-2-(trifluoromethyl)benzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC(F)=C1C(F)(F)F CDGGKKODENBDJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 52
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 16
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 6
- BGVGHYOIWIALFF-UHFFFAOYSA-N 1-fluoro-2-(trifluoromethyl)benzene Chemical class FC1=CC=CC=C1C(F)(F)F BGVGHYOIWIALFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 23
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 18
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 7
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 7
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 5
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 4
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 claims description 4
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 20
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- RHOJXSFJDSOLSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-difluoro-3-(trifluoromethyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(F)C(C(F)(F)F)=C1F RHOJXSFJDSOLSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 38
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000047 product Substances 0.000 description 26
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 26
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 15
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 15
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 9
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 8
- -1 sulfur halide Chemical class 0.000 description 8
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 7
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XOQQVKDBGLYPGH-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-1h-quinoline-3-carboxylic acid Chemical class C1=CC=C2NC(=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 XOQQVKDBGLYPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 2,2-diethylpropanedioate Chemical compound CCC(CC)(C([O-])=O)C([O-])=O LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- HTJDQJBWANPRPF-UHFFFAOYSA-N Cyclopropylamine Chemical compound NC1CC1 HTJDQJBWANPRPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 4
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N triethyl orthoformate Chemical compound CCOC(OCC)OCC GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NKKFHDNJRMWBFS-UHFFFAOYSA-N 1,3-difluoro-2-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC1=CC=CC(F)=C1C(F)(F)F NKKFHDNJRMWBFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- PWOYTBYNBYNZCO-UHFFFAOYSA-N ethyl quinoline-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C(=O)OCC)=CC=C21 PWOYTBYNBYNZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- QMNBWOHIZQXHJZ-UHFFFAOYSA-N 2,3,3a,4,7,7a-hexahydro-1h-isoindol-4-amine Chemical compound NC1C=CCC2CNCC12 QMNBWOHIZQXHJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCWMVVSPTWDSFT-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trifluoro-6-(trifluoromethyl)benzoyl chloride Chemical compound FC1=CC(C(F)(F)F)=C(C(Cl)=O)C(F)=C1F HCWMVVSPTWDSFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSYKNPIYKRIIDZ-UHFFFAOYSA-N 2,4-difluoro-3-(trifluoromethyl)benzoyl chloride Chemical compound FC1=CC=C(C(Cl)=O)C(F)=C1C(F)(F)F MSYKNPIYKRIIDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZLAZGPMHURVPH-UHFFFAOYSA-N 7-methyl-2,3,3a,4,7,7a-hexahydro-1h-isoindol-4-amine Chemical compound CC1C=CC(N)C2CNCC12 WZLAZGPMHURVPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ULYPMJMZSNQCGI-UHFFFAOYSA-N CCOC(C1F)(C(F)(F)F)C(F)=CC=C1C(CCOC(C=C)=O)=O Chemical compound CCOC(C1F)(C(F)(F)F)C(F)=CC=C1C(CCOC(C=C)=O)=O ULYPMJMZSNQCGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNKQPOUGLARCSW-UHFFFAOYSA-N [Li]C1=CC=C(F)C(C(F)(F)F)=C1F Chemical compound [Li]C1=CC=C(F)C(C(F)(F)F)=C1F QNKQPOUGLARCSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- CRENBXIYSJKBKK-UHFFFAOYSA-N diethyl 2-[2,4-difluoro-3-(trifluoromethyl)benzoyl]propanedioate Chemical compound CCOC(=O)C(C(=O)OCC)C(=O)C1=CC=C(F)C(C(F)(F)F)=C1F CRENBXIYSJKBKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- LOAUVZALPPNFOQ-UHFFFAOYSA-N quinaldic acid Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C(=O)O)=CC=C21 LOAUVZALPPNFOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 2
- FTTATHOUSOIFOQ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6,7,8,8a-octahydropyrrolo[1,2-a]pyrazine Chemical compound C1NCCN2CCCC21 FTTATHOUSOIFOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOZFIIXUNAKEJP-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrafluorobenzene Chemical class FC1=CC=C(F)C(F)=C1F SOZFIIXUNAKEJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMGVNGKNLMRPNP-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopropyl-5,7-difluoro-4-oxo-8-(trifluoromethyl)quinoline-3-carboxylic acid Chemical compound C12=C(C(F)(F)F)C(F)=CC(F)=C2C(=O)C(C(=O)O)=CN1C1CC1 PMGVNGKNLMRPNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCJAYPISTMMNOD-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopropyl-7,8-difluoro-4-oxo-5-(trifluoromethyl)quinoline-3-carboxylic acid Chemical compound C12=C(F)C(F)=CC(C(F)(F)F)=C2C(=O)C(C(=O)O)=CN1C1CC1 PCJAYPISTMMNOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWDOGGWAZPIAQF-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopropyl-7-fluoro-4-oxo-8-(trifluoromethyl)quinoline-3-carboxylic acid Chemical compound C12=C(C(F)(F)F)C(F)=CC=C2C(=O)C(C(=O)O)=CN1C1CC1 ZWDOGGWAZPIAQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWZHYUCYEYJQTE-UHFFFAOYSA-N 2,3,3a,4,7,7a-hexahydro-1h-isoindole Chemical compound C1C=CCC2CNCC21 HWZHYUCYEYJQTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFKRXQKJTIYUAG-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5-tetrafluorobenzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC(F)=C(F)C(F)=C1F SFKRXQKJTIYUAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLTIALGKEMEUCV-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trifluoro-6-(trifluoromethyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(F)C(F)=C(F)C=C1C(F)(F)F OLTIALGKEMEUCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNMPXWDJLWYDAF-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trifluoro-3-(trifluoromethyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(F)C=C(F)C(C(F)(F)F)=C1F SNMPXWDJLWYDAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OELMPUNBBJFMGM-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trifluoro-3-(trifluoromethyl)benzoyl chloride Chemical compound FC1=CC(F)=C(C(F)(F)F)C(F)=C1C(Cl)=O OELMPUNBBJFMGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIECNZKJUFATCM-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(fluoromethyl)benzoyl chloride Chemical compound FCC1=CC=C(C(Cl)=O)C(CF)=C1 PIECNZKJUFATCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIKJKJUZUAEILN-UHFFFAOYSA-N C=CC(=O)OCC(C(=O)C1=C(C(=C(C=C1C(F)(F)F)F)F)F)NC2CC2 Chemical compound C=CC(=O)OCC(C(=O)C1=C(C(=C(C=C1C(F)(F)F)F)F)F)NC2CC2 NIKJKJUZUAEILN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBTODOKKXXNAEE-UHFFFAOYSA-N C=CC(=O)OCC(C(=O)C1=C(CC(C=C1)(C(F)(F)F)F)F)NC2CC2 Chemical compound C=CC(=O)OCC(C(=O)C1=C(CC(C=C1)(C(F)(F)F)F)F)NC2CC2 MBTODOKKXXNAEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUYZYIRFABKVMQ-UHFFFAOYSA-N C=CC(=O)OCC(C(=O)C1=C(CC(C=C1F)(C(F)(F)F)F)F)NC2CC2 Chemical compound C=CC(=O)OCC(C(=O)C1=C(CC(C=C1F)(C(F)(F)F)F)F)NC2CC2 OUYZYIRFABKVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOPHTHRFDFMVAI-UHFFFAOYSA-N C=CC(=O)OCCC(=O)C1=C(CC(C=C1)(C(F)(F)F)F)F Chemical compound C=CC(=O)OCCC(=O)C1=C(CC(C=C1)(C(F)(F)F)F)F IOPHTHRFDFMVAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFKHSVKVMHHAHU-UHFFFAOYSA-N CC(=O)OCCC(=O)C1=C(C(=C(C=C1)F)C(F)(F)F)F Chemical compound CC(=O)OCCC(=O)C1=C(C(=C(C=C1)F)C(F)(F)F)F UFKHSVKVMHHAHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOXFJGYUCSPFHW-UHFFFAOYSA-N CC(=O)OCCC(=O)C1=C(C(=C(C=C1C(F)(F)F)F)F)F Chemical compound CC(=O)OCCC(=O)C1=C(C(=C(C=C1C(F)(F)F)F)F)F VOXFJGYUCSPFHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNWLYEDJXPBAIJ-UHFFFAOYSA-N CC(=O)OCCC(=O)C1=C(C(=C(C=C1F)F)C(F)(F)F)F Chemical compound CC(=O)OCCC(=O)C1=C(C(=C(C=C1F)F)C(F)(F)F)F LNWLYEDJXPBAIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100386054 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) CYS3 gene Proteins 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003674 animal food additive Substances 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 1
- OUSZRMCIBAXRQH-UHFFFAOYSA-N diethyl 2-[2,3,4-trifluoro-6-(trifluoromethyl)benzoyl]propanedioate Chemical compound CCOC(=O)C(C(=O)OCC)C(=O)C1=C(F)C(F)=C(F)C=C1C(F)(F)F OUSZRMCIBAXRQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- OXZOLXJZTSUDOM-UHFFFAOYSA-N fluoro 2,2,2-trifluoroacetate Chemical class FOC(=O)C(F)(F)F OXZOLXJZTSUDOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- DJXNJVFEFSWHLY-UHFFFAOYSA-N quinoline-3-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)O)=CN=C21 DJXNJVFEFSWHLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 101150035983 str1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005226 trifluoromethylbenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D215/48—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
- C07D215/54—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen attached in position 3
- C07D215/56—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen attached in position 3 with oxygen atoms in position 4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C63/00—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings
- C07C63/68—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings containing halogen
- C07C63/70—Monocarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
- C07C69/73—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
- C07C69/738—Esters of keto-carboxylic acids or aldehydo-carboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 一般式
具体的には、例えば
で示されるフルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導
体類。 【効果】 該誘導体類は抗バクテリア剤および飼料添加
物の製造用の出発物質として適している。
体類。 【効果】 該誘導体類は抗バクテリア剤および飼料添加
物の製造用の出発物質として適している。
Description
【0001】本発明は、新規なフルオロ−トリフルオロ
メチル安息香酸誘導体類、新規な中間生成物、およびそ
れらの製造方法に関するものである。
メチル安息香酸誘導体類、新規な中間生成物、およびそ
れらの製造方法に関するものである。
【0002】新規なフルオロ−トリフルオロ安息香酸誘
導体類は、一般式(I)
導体類は、一般式(I)
【0003】
【化6】
【0004】[式中、Rはヒドロキシル、−OM、ハロ
ゲンまたはC1−C4-アルコキシを表し、ここでMはア
ルカリ金属、好適にはリチウム、ナトリウムまたはカリ
ウム、を表し、そして a)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
R4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または b)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または c)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がHを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または d)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または e)R1がFを表し、R2がHを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または f)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
R4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または g)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または h)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
R4がCF3を表しそしてR5がFを表すか、または i)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
R4がCF3を表しそしてR5がHを表すか、または k)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がFを表しそしてR5がHを表すか、または l)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表す]に相当する。
ゲンまたはC1−C4-アルコキシを表し、ここでMはア
ルカリ金属、好適にはリチウム、ナトリウムまたはカリ
ウム、を表し、そして a)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
R4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または b)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または c)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がHを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または d)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または e)R1がFを表し、R2がHを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または f)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
R4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または g)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または h)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
R4がCF3を表しそしてR5がFを表すか、または i)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
R4がCF3を表しそしてR5がHを表すか、または k)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がFを表しそしてR5がHを表すか、または l)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表す]に相当する。
【0005】R=ヒドロキシルである式(I)の新規な
フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類は、そ
れ自体は既知である方法(例えば、M.シュロッサー(Sc
hlosser)、シンレット(Synlett)、1990、747参
照)で、適宜希釈剤の存在下での−150〜50℃、好
適には−80〜30℃、の温度における式(II)
フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類は、そ
れ自体は既知である方法(例えば、M.シュロッサー(Sc
hlosser)、シンレット(Synlett)、1990、747参
照)で、適宜希釈剤の存在下での−150〜50℃、好
適には−80〜30℃、の温度における式(II)
【0006】
【化7】
【0007】[式中、Mはアルカリ金属、好適にはリチ
ウム、ナトリウムまたはカリウム、を表し、そして a)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
R4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または b)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または c)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がHを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または d)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または e)R1がFを表し、R2がHを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または f)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
R4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または g)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または h)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
R4がCF3を表しそしてR5がFを表すか、または i)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
R4がCF3を表しそしてR5がHを表すか、または k)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がFを表しそしてR5がHを表すか、または l)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表す]の含金属フル
オロ−トリフルオロメチルベンゼン誘導体類と二酸化炭
素との反応、およびその後の生成したR=OMである式
(I)のアルカリ金属炭酸エステル類と例えば塩酸の如
き酸との反応により、製造することができる。
ウム、ナトリウムまたはカリウム、を表し、そして a)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
R4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または b)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または c)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がHを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または d)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または e)R1がFを表し、R2がHを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または f)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
R4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または g)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または h)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
R4がCF3を表しそしてR5がFを表すか、または i)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
R4がCF3を表しそしてR5がHを表すか、または k)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がFを表しそしてR5がHを表すか、または l)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表す]の含金属フル
オロ−トリフルオロメチルベンゼン誘導体類と二酸化炭
素との反応、およびその後の生成したR=OMである式
(I)のアルカリ金属炭酸エステル類と例えば塩酸の如
き酸との反応により、製造することができる。
【0008】Rがハロゲンを表す式(I)の新規なフル
オロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類は、それ自
体は既知である方法で、Rがヒドロキシルまたは−OM
を表す式(I)の化合物を適宜希釈剤の存在下で0〜1
60℃、好適には60〜120℃、の温度において例え
ばハロゲン化硫黄または燐の如きハロゲン化剤と反応さ
せる工程により、製造することができる。
オロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類は、それ自
体は既知である方法で、Rがヒドロキシルまたは−OM
を表す式(I)の化合物を適宜希釈剤の存在下で0〜1
60℃、好適には60〜120℃、の温度において例え
ばハロゲン化硫黄または燐の如きハロゲン化剤と反応さ
せる工程により、製造することができる。
【0009】R=C1−C4-アルコキシである式(I)
の新規な化合物は、それ自体は既知である方法で、Rが
ヒドロキシルまたはハロゲンを表す式(I)の化合物を
適宜希釈剤の存在下でそして適宜酸−結合剤の存在下で
20〜160℃、好適には50〜120℃、の温度にお
いて式(III)
の新規な化合物は、それ自体は既知である方法で、Rが
ヒドロキシルまたはハロゲンを表す式(I)の化合物を
適宜希釈剤の存在下でそして適宜酸−結合剤の存在下で
20〜160℃、好適には50〜120℃、の温度にお
いて式(III)
【0010】
【化8】R6−OH (III) [式中、R6はC1−C4-アルキルを表す]のアルコール
と反応させる工程により、製造することができる。
と反応させる工程により、製造することができる。
【0011】式(II)の含金属化合物は新規でありそし
て本発明はそれらにも関するものである。
て本発明はそれらにも関するものである。
【0012】式(II)の含金属化合物は、それ自体は既
知である方法(例えば、M.シュロッサー、シンレッ
ト、1990、747参照)で、式(IV)
知である方法(例えば、M.シュロッサー、シンレッ
ト、1990、747参照)で、式(IV)
【0013】
【化9】
【0014】[式中、R1〜R5は式(I)に関してすで
に示されている意味を有する]のフルオロ−トリフルオ
ロメチルベンゼン類を適宜希釈剤の存在下で−150〜
30℃、好適には−100〜−20℃、の温度において
アルキル金属化合物、例えばメチルリチウム、n−ブチ
ルリチウム、−ナトリウムもしくは−カリウム、または
ターシャリー−ブチルリチウム、−ナトリウムもしくは
−カリウム、好適にはn−ブチルリチウム、と反応させ
る工程により、製造することができる。式(IV)の化合
物は有機化学において一般的に既知の化合物である。
に示されている意味を有する]のフルオロ−トリフルオ
ロメチルベンゼン類を適宜希釈剤の存在下で−150〜
30℃、好適には−100〜−20℃、の温度において
アルキル金属化合物、例えばメチルリチウム、n−ブチ
ルリチウム、−ナトリウムもしくは−カリウム、または
ターシャリー−ブチルリチウム、−ナトリウムもしくは
−カリウム、好適にはn−ブチルリチウム、と反応させ
る工程により、製造することができる。式(IV)の化合
物は有機化学において一般的に既知の化合物である。
【0015】含金属フルオロ−トリフルオロメチルベン
ゼン誘導体類(II)を好適には、中間生成物を単離せず
に、直接R=ヒドロキシルである本発明に従う化合物
(I)とさらに反応させる。
ゼン誘導体類(II)を好適には、中間生成物を単離せず
に、直接R=ヒドロキシルである本発明に従う化合物
(I)とさらに反応させる。
【0016】例えば、6−位置でリチウム化されている
1,3−ジフルオロ−2−トリフルオロメチルベンゼン
を出発化合物として使用する場合には、これを二酸化炭
素と反応させそして次に生成物を塩酸を用いて加水分解
する。ここでR=ヒドロキシルである化合物(I)の製
造に関する本発明に従う方法は下記の反応式により表す
ことができる:
1,3−ジフルオロ−2−トリフルオロメチルベンゼン
を出発化合物として使用する場合には、これを二酸化炭
素と反応させそして次に生成物を塩酸を用いて加水分解
する。ここでR=ヒドロキシルである化合物(I)の製
造に関する本発明に従う方法は下記の反応式により表す
ことができる:
【0017】
【化10】
【0018】含金属フルオロ−トリフルオロベンゼン誘
導体類の反応は気体状または固体の二酸化炭素のいずれ
を用いて行うこともできる。気体状二酸化炭素は好適に
は反応溶液中に大気圧で加えられる。
導体類の反応は気体状または固体の二酸化炭素のいずれ
を用いて行うこともできる。気体状二酸化炭素は好適に
は反応溶液中に大気圧で加えられる。
【0019】R=ヒドロキシルである化合物(I)の製
造に関する本発明に従う方法は好適には希釈剤の存在下
で行われる。原則的には、ここでは下記の希釈剤が適し
ている:低級炭化水素類、エーテル類またはこれらの2
種の混合物。
造に関する本発明に従う方法は好適には希釈剤の存在下
で行われる。原則的には、ここでは下記の希釈剤が適し
ている:低級炭化水素類、エーテル類またはこれらの2
種の混合物。
【0020】ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ジエチル
エーテルまたはテトラヒドロフランが希釈剤として好適
に使用される。
エーテルまたはテトラヒドロフランが希釈剤として好適
に使用される。
【0021】R=ヒドロキシルである化合物(I)の製
造に関する本発明に従う方法では、温度は広い範囲内で
変えることができる。一般的には、該方法は−150〜
50℃、好適には−80〜30℃、の温度において行わ
れる。
造に関する本発明に従う方法では、温度は広い範囲内で
変えることができる。一般的には、該方法は−150〜
50℃、好適には−80〜30℃、の温度において行わ
れる。
【0022】R=ヒドロキシルである化合物(I)の製
造に関する本発明に従う方法を行うためには、1モルの
化合物(II)当たり0.9〜10モル、好適には2.0〜
6.0モル、のCO2量の気体状CO2を、テトラヒドロ
フラン(THF)、ジエチルエーテルおよびヘキサンの
混合物中の化合物(II)の溶液の中に−80〜−20℃
の温度において通す。
造に関する本発明に従う方法を行うためには、1モルの
化合物(II)当たり0.9〜10モル、好適には2.0〜
6.0モル、のCO2量の気体状CO2を、テトラヒドロ
フラン(THF)、ジエチルエーテルおよびヘキサンの
混合物中の化合物(II)の溶液の中に−80〜−20℃
の温度において通す。
【0023】次に加水分解を1〜1.5当量の塩酸を用
いて行う。水性条件下での抽出により、例えば相の分
離、ジエチルエーテルを用いる抽出、その後の塩酸およ
び水を用いる洗浄並びに硫酸ナトリウム上での有機相の
乾燥および濃縮により、処理が行われる。
いて行う。水性条件下での抽出により、例えば相の分
離、ジエチルエーテルを用いる抽出、その後の塩酸およ
び水を用いる洗浄並びに硫酸ナトリウム上での有機相の
乾燥および濃縮により、処理が行われる。
【0024】例えば、2,4−ジフルオロ−3−トリフ
ルオロメチル安息香酸を出発化合物として使用しそして
これを塩化チオニルと反応させる場合には、R=ハロゲ
ンである化合物(I)の製造に関する本発明に従う方法
は下記の反応式により表すことができる:
ルオロメチル安息香酸を出発化合物として使用しそして
これを塩化チオニルと反応させる場合には、R=ハロゲ
ンである化合物(I)の製造に関する本発明に従う方法
は下記の反応式により表すことができる:
【0025】
【化11】
【0026】R=ハロゲンである化合物(I)の製造に
関する本発明に従う方法は好適には希釈剤の添加なしで
行われる。
関する本発明に従う方法は好適には希釈剤の添加なしで
行われる。
【0027】本発明に従う方法によるR=ハロゲンであ
る化合物(I)の製造用の温度は広い範囲内で変えるこ
とができる。一般的には、該製造は0〜160℃、好適
には60〜120℃、の温度において行われる。
る化合物(I)の製造用の温度は広い範囲内で変えるこ
とができる。一般的には、該製造は0〜160℃、好適
には60〜120℃、の温度において行われる。
【0028】R=ハロゲンである化合物(I)の製造に
関する本発明に従う方法を行うためには、R=ヒドロキ
シルである化合物(I)を最初に反応容器中に加えそし
て水分を除きながら且つ好適には0℃の温度において例
えば塩化チオニルの如きハロゲン化剤を1モルのR=O
Hである化合物(I)当たり1〜3モル、好適には2モ
ル、の量で滴々添加する。次に混合物を還流下で(60
−120℃)気体の発生が終わるまで撹拌し、過剰のS
OCl2を蒸留除去し、そして次に生成物を蒸留する。
関する本発明に従う方法を行うためには、R=ヒドロキ
シルである化合物(I)を最初に反応容器中に加えそし
て水分を除きながら且つ好適には0℃の温度において例
えば塩化チオニルの如きハロゲン化剤を1モルのR=O
Hである化合物(I)当たり1〜3モル、好適には2モ
ル、の量で滴々添加する。次に混合物を還流下で(60
−120℃)気体の発生が終わるまで撹拌し、過剰のS
OCl2を蒸留除去し、そして次に生成物を蒸留する。
【0029】例えば、2,4−ジフルオロ−3−トリフ
ルオロメチル安息香酸およびメタノールを出発化合物と
して使用する場合には、R=C1−C4-アルコキシであ
る化合物(I)の製造に関する本発明に従う方法は下記
の反応式により表すことができる:
ルオロメチル安息香酸およびメタノールを出発化合物と
して使用する場合には、R=C1−C4-アルコキシであ
る化合物(I)の製造に関する本発明に従う方法は下記
の反応式により表すことができる:
【0030】
【化12】
【0031】R=C1−C4-アルコキシである化合物
(I)の製造に関する本発明に従う方法は好適には希釈
剤の不存在下で行われる。しかしながら、原則的には、
低級塩素化炭化水素類が使用可能な希釈剤であり、クロ
ロホルムが好適である。
(I)の製造に関する本発明に従う方法は好適には希釈
剤の不存在下で行われる。しかしながら、原則的には、
低級塩素化炭化水素類が使用可能な希釈剤であり、クロ
ロホルムが好適である。
【0032】R=C1−C4-アルコキシである化合物
(I)の製造用の本発明に従う方法を行う際の温度は広
い範囲内で変えることができる。一般的には、該方法は
20〜160℃、好適には50〜120℃、の温度にお
いて行われる。
(I)の製造用の本発明に従う方法を行う際の温度は広
い範囲内で変えることができる。一般的には、該方法は
20〜160℃、好適には50〜120℃、の温度にお
いて行われる。
【0033】R=C1−C4-アルコキシである化合物
(I)の製造に関する本発明に従う方法を行うために
は、1モルのR=ヒドロキシルである化合物(I)と5
モルの式(III)のアルコールとの混合物を最初に反応
容器中に加え、0.2mlの濃硫酸を加え、そして混合
物を還流下で且つ水分を除きながら5時間にわたり撹拌
する。次に過剰のアルコールの大部分を蒸留除去し、そ
して残渣を水性条件下での抽出により処理する。エステ
ルは精製用に蒸留することができる。
(I)の製造に関する本発明に従う方法を行うために
は、1モルのR=ヒドロキシルである化合物(I)と5
モルの式(III)のアルコールとの混合物を最初に反応
容器中に加え、0.2mlの濃硫酸を加え、そして混合
物を還流下で且つ水分を除きながら5時間にわたり撹拌
する。次に過剰のアルコールの大部分を蒸留除去し、そ
して残渣を水性条件下での抽出により処理する。エステ
ルは精製用に蒸留することができる。
【0034】例えば、塩化2,4−ジフルオロ−3−ト
リフルオロメチルベンゾイルおよびメタノールを出発化
合物として使用する場合には、R=C1−C4-アルコキ
シである化合物(I)の製造に関する本発明に従う方法
は下記の反応式により表すことができる:
リフルオロメチルベンゾイルおよびメタノールを出発化
合物として使用する場合には、R=C1−C4-アルコキ
シである化合物(I)の製造に関する本発明に従う方法
は下記の反応式により表すことができる:
【0035】
【化13】
【0036】R=C1−C4-アルコキシである化合物
(I)の製造に関する本発明に従う方法は希釈剤なしで
または希釈剤の存在下で行われ、使用可能な希釈剤は原
則的にはエーテルおよび塩素化低級炭化水素類である。
(I)の製造に関する本発明に従う方法は希釈剤なしで
または希釈剤の存在下で行われ、使用可能な希釈剤は原
則的にはエーテルおよび塩素化低級炭化水素類である。
【0037】好適な希釈剤はジエチルエーテルである。
【0038】R=C1−C4-アルコキシである化合物
(I)の製造用の本発明に従う方法は、適宜、酸−結合
剤の存在下で行われる。使用できる酸−結合剤は、例え
ば、第三級アミン類、例えばトリエチルアミン、であ
る。
(I)の製造用の本発明に従う方法は、適宜、酸−結合
剤の存在下で行われる。使用できる酸−結合剤は、例え
ば、第三級アミン類、例えばトリエチルアミン、であ
る。
【0039】R=C1−C4-アルコキシである化合物
(I)の製造に関する本発明に従う方法を行うために
は、R=ハロゲンである化合物(I)を最初にエーテル
中に溶解させ、そして式(III)のアルコールを1モル
当たり1モルの量でこの溶液に酸−結合剤としてのNE
tの存在下で好適には20−50℃の温度において滴々
添加する。次に固体を吸引濾別し、濾液を水性条件下で
の抽出により処理し、そして適宜、生成物を蒸留により
単離する。
(I)の製造に関する本発明に従う方法を行うために
は、R=ハロゲンである化合物(I)を最初にエーテル
中に溶解させ、そして式(III)のアルコールを1モル
当たり1モルの量でこの溶液に酸−結合剤としてのNE
tの存在下で好適には20−50℃の温度において滴々
添加する。次に固体を吸引濾別し、濾液を水性条件下で
の抽出により処理し、そして適宜、生成物を蒸留により
単離する。
【0040】例えば、1,3−ジフルオロ−2−トリフ
ルオロメチルベンゼンおよびn−ブチルリチウムを出発
化合物として使用する場合には、式(II)の化合物の製
造に関する本発明に従う方法は下記の反応式により表す
ことができる:
ルオロメチルベンゼンおよびn−ブチルリチウムを出発
化合物として使用する場合には、式(II)の化合物の製
造に関する本発明に従う方法は下記の反応式により表す
ことができる:
【0041】
【化14】
【0042】化合物(II)の製造に関する本発明に従う
方法は好適には希釈剤の存在下で行われる。原則的に
は、ここで使用可能な希釈剤は低級炭化水素類、エーテ
ル類またはこれらの2種の混合物である。
方法は好適には希釈剤の存在下で行われる。原則的に
は、ここで使用可能な希釈剤は低級炭化水素類、エーテ
ル類またはこれらの2種の混合物である。
【0043】ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ヘキサンまたはそれらの混合物が好適に使用される。
ヘキサンまたはそれらの混合物が好適に使用される。
【0044】化合物(II)の製造用の本発明に従う方法
は一般的には−150〜30℃、好適には−100〜2
0℃、特に好適には−80〜−50℃、の温度において
行われる。
は一般的には−150〜30℃、好適には−100〜2
0℃、特に好適には−80〜−50℃、の温度において
行われる。
【0045】化合物(II)の製造に関する本発明に従う
方法は好適には不活性気体雰囲気下で行われ、ここで使
用可能な不活性気体は例えばアルゴンまたは窒素であ
る。
方法は好適には不活性気体雰囲気下で行われ、ここで使
用可能な不活性気体は例えばアルゴンまたは窒素であ
る。
【0046】好適には、化合物(II)の製造は式(IV)
のフルオロ−トリフルオロメチルベンゼンをTHFとE
t2Oとの1:1混合物の中に溶解させ、そしてヘキサ
ン中に溶解されている有機金属化合物をこの溶液に不活
性気体雰囲気下で好適には−80〜−30℃の温度にお
いて滴々添加する。
のフルオロ−トリフルオロメチルベンゼンをTHFとE
t2Oとの1:1混合物の中に溶解させ、そしてヘキサ
ン中に溶解されている有機金属化合物をこの溶液に不活
性気体雰囲気下で好適には−80〜−30℃の温度にお
いて滴々添加する。
【0047】式(II)の化合物は溶媒の除去(蒸留)に
より単離することができる。
より単離することができる。
【0048】式(I)のフルオロ−トリフルオロメチル
安息香酸誘導体類は、例えば、抗バクテリア剤および飼
料添加物の製造用に使用することができる。
安息香酸誘導体類は、例えば、抗バクテリア剤および飼
料添加物の製造用に使用することができる。
【0049】すなわち、例えば、 1)2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチル安息
香酸を、例えば塩化チオニルの如きハロゲン化剤との反
応により、塩化2,4−ジフルオロメチルベンゾイルに
転化させ、それを 2)マロン酸ジエチルと反応させて、(2,4−ジフルオ
ロ−3−トリフルオロメチルベンゾイル)−マロン酸ジ
エチルを与え、引き続き 3)段階2)に従い得られた化合物を、加水分解および
脱カルボキシル化により、(2,4−ジフルオロ−3−ト
リフルオロメチルベンゾイル)−酢酸エチルに転化さ
せ、それを 4)オルト蟻酸エチルとの反応により、3−エトキシ−
2−(2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチルベン
ゾイル)−アクリル酸エチルに転化させ、 5)段階4)に従い得られた化合物をシクロプロピルア
ミンと反応させて、3−シクロプロピルアミノ−2−
(2,4−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルベンゾイ
ル)−アクリル酸エチルを与え、 6)段階5)に従い得られた化合物を、HFの分離によ
り、対応するキノロンカルボン酸エステル誘導体に転化
させ、それを 7)加水分解により、対応するキノロンカルボン酸誘導
体に転化させる。
香酸を、例えば塩化チオニルの如きハロゲン化剤との反
応により、塩化2,4−ジフルオロメチルベンゾイルに
転化させ、それを 2)マロン酸ジエチルと反応させて、(2,4−ジフルオ
ロ−3−トリフルオロメチルベンゾイル)−マロン酸ジ
エチルを与え、引き続き 3)段階2)に従い得られた化合物を、加水分解および
脱カルボキシル化により、(2,4−ジフルオロ−3−ト
リフルオロメチルベンゾイル)−酢酸エチルに転化さ
せ、それを 4)オルト蟻酸エチルとの反応により、3−エトキシ−
2−(2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチルベン
ゾイル)−アクリル酸エチルに転化させ、 5)段階4)に従い得られた化合物をシクロプロピルア
ミンと反応させて、3−シクロプロピルアミノ−2−
(2,4−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルベンゾイ
ル)−アクリル酸エチルを与え、 6)段階5)に従い得られた化合物を、HFの分離によ
り、対応するキノロンカルボン酸エステル誘導体に転化
させ、それを 7)加水分解により、対応するキノロンカルボン酸誘導
体に転化させる。
【0050】他のキノロンカルボン酸誘導体類は本発明
に従う式(I)の化合物から対応する方法で製造するこ
とができる。
に従う式(I)の化合物から対応する方法で製造するこ
とができる。
【0051】上記の反応順序は例えば下記の反応式によ
り表すことができる:
り表すことができる:
【0052】
【化15】
【0053】
【化16】
【0054】段階7)で得られるキノロンカルボン酸誘
導体類は一般式(V)
導体類は一般式(V)
【0055】
【化17】
【0056】[式中、 n)R2′はCF3を表しそしてR3′はFを表しそして
R4′はHを表しそしてR5′はHを表すか、または o)R2′はFを表しそしてR3′はFを表しそして
R4′はHを表しそしてR5′はCF3を表すか、または p)R2′はCF3を表しそしてR3′はFを表しそして
R4′はHを表しそしてR5′はFを表す]に相当する。
R4′はHを表しそしてR5′はHを表すか、または o)R2′はFを表しそしてR3′はFを表しそして
R4′はHを表しそしてR5′はCF3を表すか、または p)R2′はCF3を表しそしてR3′はFを表しそして
R4′はHを表しそしてR5′はFを表す]に相当する。
【0057】式(V)のキノロンカルボン酸誘導体類
は、式(VI)
は、式(VI)
【0058】
【化18】Z−H (VI) [式中、Zは構造式
【0059】
【化19】
【0060】を有する基を表し、ここでR7は水素、ヒ
ドロキシル、−NR11R12、ヒドロキシルメチルまたは
−CH2−NR11R12を表し、ここでR11は水素、任意
にヒドロキシル−置換されていてもよいC1−C3-アル
キル、アルコキシ部分中の炭素数が1〜4のアルコキシ
カルボニルまたはC1−C3-アシルを示し、そしてR12
は水素またはメチルを示し、R8は水素、直鎖もしくは
分枝鎖状のC1−C3-アルキルまたはシクロプロピルを
表し、R8′は水素またはメチルを表し、R9は水素また
はメチルを表し、R10は水素、メチルまたは構造式−C
H=CH−CO2R9′、−CH2−CH2−CO2R9′、
−CH2−CO−CH3もしくは−CH2−CH2−CNを
有する基を表し、R9′はメチルまたはエチルを表し、
そしてBは−CH2−、Oまたは直接結合を表す]の化
合物との反応により、式(VII)
ドロキシル、−NR11R12、ヒドロキシルメチルまたは
−CH2−NR11R12を表し、ここでR11は水素、任意
にヒドロキシル−置換されていてもよいC1−C3-アル
キル、アルコキシ部分中の炭素数が1〜4のアルコキシ
カルボニルまたはC1−C3-アシルを示し、そしてR12
は水素またはメチルを示し、R8は水素、直鎖もしくは
分枝鎖状のC1−C3-アルキルまたはシクロプロピルを
表し、R8′は水素またはメチルを表し、R9は水素また
はメチルを表し、R10は水素、メチルまたは構造式−C
H=CH−CO2R9′、−CH2−CH2−CO2R9′、
−CH2−CO−CH3もしくは−CH2−CH2−CNを
有する基を表し、R9′はメチルまたはエチルを表し、
そしてBは−CH2−、Oまたは直接結合を表す]の化
合物との反応により、式(VII)
【0061】
【化20】
【0062】[式中、R2′、R4′、R5′、R7および
Zは上記の意味を有する]のキノロンカルボン酸誘導体
類に転化させることができる。
Zは上記の意味を有する]のキノロンカルボン酸誘導体
類に転化させることができる。
【0063】
【実施例】製造実施例 実施例1 a)1,3−ジフルオロ−6−リチオ−トリフルオロメ
チルベンゼン
チルベンゼン
【0064】
【化21】
【0065】窒素雰囲気下で、0.5モルの1,3−ジフ
ルオロ−2−トリフルオロメチルベンゼンを300ml
の無水テトラヒドロフランと300mlの無水ジエチル
エーテルとの混合物の中に溶解させ、220ml(0.
55モル)のn−ブチルリチウムのヘキサン中2.5モ
ル溶液を−70℃において滴々添加し、そして混合物を
1時間にわたり撹拌した。
ルオロ−2−トリフルオロメチルベンゼンを300ml
の無水テトラヒドロフランと300mlの無水ジエチル
エーテルとの混合物の中に溶解させ、220ml(0.
55モル)のn−ブチルリチウムのヘキサン中2.5モ
ル溶液を−70℃において滴々添加し、そして混合物を
1時間にわたり撹拌した。
【0066】b)2,4−ジフルオロ−3−トリフルオ
ロメチル安息香酸
ロメチル安息香酸
【0067】
【化22】
【0068】生成した1,3−ジフルオロ−6−リチオ
−トリフルオロメチルベンゼンを中間生成物を単離しな
がら2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチル安息
香酸に転化させた。このためには、200gの二酸化炭
素を−70℃において1a)で得られた溶液の中に通し
た。
−トリフルオロメチルベンゼンを中間生成物を単離しな
がら2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチル安息
香酸に転化させた。このためには、200gの二酸化炭
素を−70℃において1a)で得られた溶液の中に通し
た。
【0069】次に混合物を自然に5℃に下げ、そして続
いて1時間にわたり撹拌しそして200mlの2N塩酸
を用いて加水分解した。水相を分離しそしてジエチルエ
ーテルで2回抽出した。一緒にした有機相を希塩酸およ
び水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして濃
縮した。
いて1時間にわたり撹拌しそして200mlの2N塩酸
を用いて加水分解した。水相を分離しそしてジエチルエ
ーテルで2回抽出した。一緒にした有機相を希塩酸およ
び水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして濃
縮した。
【0070】98gの融点が108−110℃の2,4
−ジフルオロ−3−トリフルオロメチル安息香酸が得ら
れ、それは86%の収率に相当していた。
−ジフルオロ−3−トリフルオロメチル安息香酸が得ら
れ、それは86%の収率に相当していた。
【0071】表1に示されているフルオロ−トリフルオ
ロメチルカルボン酸類が実施例1b)と同様にして対応
する含リチウム化合物から得られた。
ロメチルカルボン酸類が実施例1b)と同様にして対応
する含リチウム化合物から得られた。
【0072】
【表1】
【0073】実施例7 塩化2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチルベン
ゾイル
ゾイル
【0074】
【化23】
【0075】19.3g(0.085モル)の実施例1
b)に従う2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチ
ル安息香酸を一部分ずつ130mlの塩化チオニル中に
室温において加えた。計量添加が終了した後に、気体の
発生が終わるまで混合物を80℃に加熱した。次に過剰
の塩化チオニルを蒸留により分離しそして生成物を直接
さらに反応させた。
b)に従う2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチ
ル安息香酸を一部分ずつ130mlの塩化チオニル中に
室温において加えた。計量添加が終了した後に、気体の
発生が終わるまで混合物を80℃に加熱した。次に過剰
の塩化チオニルを蒸留により分離しそして生成物を直接
さらに反応させた。
【0076】収量:20.0g(理論値の90%)実施例8 塩化2,4,6−トリフルオロ−3−トリフルオロメチル
ベンゾイル
ベンゾイル
【0077】
【化24】
【0078】5.8g(0.024モル)の実施例5に従
う2,4,6−トリフルオロ−3−トリフルオロメチル安
息香酸を一部分ずつ40mlの塩化チオニル中に室温に
おいて加えた。計量添加が終了した後に、気体の発生が
終わるまで混合物を80℃に加熱した。その後に、過剰
の塩化チオニルを蒸留により分離しそして粗製生成物を
直接さらに反応させた。
う2,4,6−トリフルオロ−3−トリフルオロメチル安
息香酸を一部分ずつ40mlの塩化チオニル中に室温に
おいて加えた。計量添加が終了した後に、気体の発生が
終わるまで混合物を80℃に加熱した。その後に、過剰
の塩化チオニルを蒸留により分離しそして粗製生成物を
直接さらに反応させた。
【0079】収量:6.0g(理論値の95%)実施例9 塩化2,3,4−トリフルオロ−6−トリフルオロメチル
ベンゾイル
ベンゾイル
【0080】
【化25】
【0081】5.8g(0.024モル)の実施例4に従
う2,3,4−トリフルオロ−6−トリフルオロメチル安
息香酸を一部分ずつ40mlの塩化チオニル中に室温に
おいて加えた。計量添加が終了した後に、気体の発生が
終わるまで混合物を80℃に加熱した。次に過剰の塩化
チオニルを蒸留により分離しそして粗製生成物を直接さ
らに反応させた。
う2,3,4−トリフルオロ−6−トリフルオロメチル安
息香酸を一部分ずつ40mlの塩化チオニル中に室温に
おいて加えた。計量添加が終了した後に、気体の発生が
終わるまで混合物を80℃に加熱した。次に過剰の塩化
チオニルを蒸留により分離しそして粗製生成物を直接さ
らに反応させた。
【0082】収量:5.0g(理論値の79%)実施例10 1−シクロプロピル−7−フルオロ−8−トリフルオロ
メチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリン
カルボン酸
メチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリン
カルボン酸
【0083】
【化26】
【0084】a)(2,4−ジフルオロ−3−トリフルオ
ロメチルベンゾイル)−マロン酸ジエチル 2.15g(0.09モル)のマグネシウム屑を最初に
4.8mlのエタノール中に加え、反応を2、3滴の四
塩化炭素を用いて開始しそして次に12.8g(0.07
5モル)のマロン酸ジエチルの9mlのエタノールおよ
び35mlのトルエン中溶液を内部温度が50〜60℃
となるような方法で滴々添加した。次に混合物を引き続
き60℃において1時間撹拌した。20.0g(0.08
2モル)の実施例7に従う塩化2,4−ジフルオロ−3
−トリフルオロメチルベンゾイルの9mlのトルエン中
溶液を−10〜−5℃において滴々添加しそして混合物
を引き続き0℃において1時間撹拌しそして次に室温に
暖めた。それを35mlの氷−水上に注ぎ、5.7ml
の濃硫酸を加えそして混合物をトルエンで抽出した。有
機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄しそして溶媒を真
空中で除去した。
ロメチルベンゾイル)−マロン酸ジエチル 2.15g(0.09モル)のマグネシウム屑を最初に
4.8mlのエタノール中に加え、反応を2、3滴の四
塩化炭素を用いて開始しそして次に12.8g(0.07
5モル)のマロン酸ジエチルの9mlのエタノールおよ
び35mlのトルエン中溶液を内部温度が50〜60℃
となるような方法で滴々添加した。次に混合物を引き続
き60℃において1時間撹拌した。20.0g(0.08
2モル)の実施例7に従う塩化2,4−ジフルオロ−3
−トリフルオロメチルベンゾイルの9mlのトルエン中
溶液を−10〜−5℃において滴々添加しそして混合物
を引き続き0℃において1時間撹拌しそして次に室温に
暖めた。それを35mlの氷−水上に注ぎ、5.7ml
の濃硫酸を加えそして混合物をトルエンで抽出した。有
機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄しそして溶媒を真
空中で除去した。
【0085】粗収量:30.0g b)(2,4−ジフルオロ−3−トリフルオロメチルベン
ゾイル)酢酸エチル 30.0gのa)で得られた粗製生成物を還流下で30
mlの水中で0.96gのp−トルエンスルホン酸と共
に4.5時間加熱した。冷却された混合物を塩化メチレ
ンで抽出しそして有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮
した。
ゾイル)酢酸エチル 30.0gのa)で得られた粗製生成物を還流下で30
mlの水中で0.96gのp−トルエンスルホン酸と共
に4.5時間加熱した。冷却された混合物を塩化メチレ
ンで抽出しそして有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮
した。
【0086】粗収量:22g c)3−エトキシ−2−(2,4−ジフルオロ−3−トリ
フルオロメチルベンゾイル)−アクリル酸エチル 22gのb)で得られた生成物を17.4g(0.12モ
ル)のオルト蟻酸エチルおよび19.4g(0.19モ
ル)の無水酢酸と共に150−160℃に2時間加熱し
た。過剰の試薬を最初に真空中でそして次に高真空中で
100℃の浴温以下で除去した。
フルオロメチルベンゾイル)−アクリル酸エチル 22gのb)で得られた生成物を17.4g(0.12モ
ル)のオルト蟻酸エチルおよび19.4g(0.19モ
ル)の無水酢酸と共に150−160℃に2時間加熱し
た。過剰の試薬を最初に真空中でそして次に高真空中で
100℃の浴温以下で除去した。
【0087】粗収量:23.1g d)3−シクロプロピルアミノ−2−(2,4−ジフルオ
ロ−4−トリフルオロメチルベンゾイル)−アクリル酸
エチル 23.0gのc)で得られた生成物を最初に0℃におい
て140mlのエタノール中に加え、そして4.08g
(0.072モル)のシクロプロピルアミンを滴々添加
した。混合物を引き続き室温において一夜撹拌し、14
0mlの水を滴々添加し、そして沈澱した生成物を単離
した。それを水ですすぎそして約100℃で乾燥した。
ロ−4−トリフルオロメチルベンゾイル)−アクリル酸
エチル 23.0gのc)で得られた生成物を最初に0℃におい
て140mlのエタノール中に加え、そして4.08g
(0.072モル)のシクロプロピルアミンを滴々添加
した。混合物を引き続き室温において一夜撹拌し、14
0mlの水を滴々添加し、そして沈澱した生成物を単離
した。それを水ですすぎそして約100℃で乾燥した。
【0088】収量:9.4g(理論値の39%) 融点:104−105℃ e)1−シクロプロピル−7−フルオロ−8−トリフル
オロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノ
リンカルボン酸エチル 9.0g(0.025モル)のd)で得られた生成物を
3.9g(0.028モル)の炭酸カリウムと共に50m
lのジメチルホルムアミド中で4時間にわたり100℃
に加熱した。冷却した混合物を氷−水上に注ぎ、そして
生成物を単離し、水ですすぎそして100℃で乾燥し
た。
オロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノ
リンカルボン酸エチル 9.0g(0.025モル)のd)で得られた生成物を
3.9g(0.028モル)の炭酸カリウムと共に50m
lのジメチルホルムアミド中で4時間にわたり100℃
に加熱した。冷却した混合物を氷−水上に注ぎ、そして
生成物を単離し、水ですすぎそして100℃で乾燥し
た。
【0089】収量:8.1g(理論値の98%) 融点:154−155℃ f)1−シクロプロピル−7−フルオロ−8−トリフル
オロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノ
リンカルボン酸 8.0g(0.023モル)のe)で得られた生成物を、
30mlの酢酸、30mlの水および3mlの濃硫酸の
混合物中で、2時間にわたり140℃に加熱した。冷却
した混合物を氷−水上に注ぎ、そして沈澱した生成物を
単離し、水ですすぎそして100℃で乾燥した。
オロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノ
リンカルボン酸 8.0g(0.023モル)のe)で得られた生成物を、
30mlの酢酸、30mlの水および3mlの濃硫酸の
混合物中で、2時間にわたり140℃に加熱した。冷却
した混合物を氷−水上に注ぎ、そして沈澱した生成物を
単離し、水ですすぎそして100℃で乾燥した。
【0090】収量:7.0g(理論値の96%) 融点:209−210℃実施例11 1−シクロプロピル−5,7−ジフルオロ−8−トリフ
ルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キ
ノリンカルボン酸
ルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キ
ノリンカルボン酸
【0091】
【化27】
【0092】a)(2,4,6−トリフルオロ−3−トリ
フルオロメチルベンゾイル)−マロン酸ジエチル 0.58g(0.024モル)のマグネシウム屑を最初に
1.3mlのエタノール中に加え、反応を2、3滴の四
塩化炭素を用いて開始しそして次に3.4g(0.019
モル)のマロン酸ジエチルの2.4mlのエタノールお
よび9mlのトルエン中溶液を内部温度が50〜60℃
となるような方法で滴々添加した。次に混合物を引き続
き60℃において1時間撹拌した。5.8g(0.027
モル)の実施例8に従う塩化2,4,6−トリフルオロ−
3−トリフルオロメチルベンゾイルの2.5mlのトル
エン中溶液を−10〜−5℃において滴々添加しそして
混合物を引き続き0℃において1時間撹拌しそして次に
室温に暖めた。それを10mlの氷−水上に注ぎ、1.
5mlの濃硫酸を加えそして混合物をトルエンで抽出し
た。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄しそして溶
媒を真空中で除去した。
フルオロメチルベンゾイル)−マロン酸ジエチル 0.58g(0.024モル)のマグネシウム屑を最初に
1.3mlのエタノール中に加え、反応を2、3滴の四
塩化炭素を用いて開始しそして次に3.4g(0.019
モル)のマロン酸ジエチルの2.4mlのエタノールお
よび9mlのトルエン中溶液を内部温度が50〜60℃
となるような方法で滴々添加した。次に混合物を引き続
き60℃において1時間撹拌した。5.8g(0.027
モル)の実施例8に従う塩化2,4,6−トリフルオロ−
3−トリフルオロメチルベンゾイルの2.5mlのトル
エン中溶液を−10〜−5℃において滴々添加しそして
混合物を引き続き0℃において1時間撹拌しそして次に
室温に暖めた。それを10mlの氷−水上に注ぎ、1.
5mlの濃硫酸を加えそして混合物をトルエンで抽出し
た。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄しそして溶
媒を真空中で除去した。
【0093】粗収量:8.6g b)(2,4,6−トリフルオロ−3−トリフルオロメチ
ルベンゾイル)−酢酸エチル 8.6gのa)で得られた粗製生成物を還流下で9ml
の水中で0.26gのp−トルエンスルホン酸と共に4.
5時間加熱した。冷却された混合物を塩化メチレンで抽
出しそして有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮した。
ルベンゾイル)−酢酸エチル 8.6gのa)で得られた粗製生成物を還流下で9ml
の水中で0.26gのp−トルエンスルホン酸と共に4.
5時間加熱した。冷却された混合物を塩化メチレンで抽
出しそして有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮した。
【0094】粗収量:5.6g c)3−エトキシ−2−(2,4,6−トリフルオロ−3
−トリフルオロメチルベンゾイル)−アクリル酸エチル 5.4g(0.017モル)のb)で得られた生成物を
4.0g(0.027モル)のオルト蟻酸エチルおよび
4.45g(0.043モル)の無水酢酸と共に150−
160℃に2時間加熱した。過剰の試薬を最初に真空中
でそして次に高真空中で100℃の浴温以下で除去し
た。
−トリフルオロメチルベンゾイル)−アクリル酸エチル 5.4g(0.017モル)のb)で得られた生成物を
4.0g(0.027モル)のオルト蟻酸エチルおよび
4.45g(0.043モル)の無水酢酸と共に150−
160℃に2時間加熱した。過剰の試薬を最初に真空中
でそして次に高真空中で100℃の浴温以下で除去し
た。
【0095】粗収量:3.8g d)3−シクロプロピルアミノ−2−(2,4,6−トリ
フルオロ−4−トリフルオロメチルベンゾイル)−アク
リル酸エチル 3.8g(0.01モル)のc)で得られた生成物を最初
に0℃において22mlのエタノール中に加え、そして
0.63g(0.011モル)のシクロプロピルアミンを
滴々添加した。混合物を引き続き室温において一夜撹拌
し、22mlの水を滴々添加し、そして沈澱した生成物
を単離した。それを水ですすぎそして約100℃で乾燥
した。
フルオロ−4−トリフルオロメチルベンゾイル)−アク
リル酸エチル 3.8g(0.01モル)のc)で得られた生成物を最初
に0℃において22mlのエタノール中に加え、そして
0.63g(0.011モル)のシクロプロピルアミンを
滴々添加した。混合物を引き続き室温において一夜撹拌
し、22mlの水を滴々添加し、そして沈澱した生成物
を単離した。それを水ですすぎそして約100℃で乾燥
した。
【0096】収量:3.3g(理論値の86%) 融点:146−148℃ e)1−シクロプロピル−5,7−ジフルオロ−8−ト
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸エチル 3.5g(9.2ミリモル)のd)で得られた生成物を
1.45g(0.01モル)の炭酸カリウムと共に18m
lのジメチルホルムアミド中で1時間にわたり100℃
に加熱した。冷却した混合物を氷−水上に注ぎ、そして
生成物を単離しそして水ですすいだ。生成物をシリカゲ
ル上で可動相シクロヘキサン/テトラヒドロフラン7/
3を用いて精製した。
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸エチル 3.5g(9.2ミリモル)のd)で得られた生成物を
1.45g(0.01モル)の炭酸カリウムと共に18m
lのジメチルホルムアミド中で1時間にわたり100℃
に加熱した。冷却した混合物を氷−水上に注ぎ、そして
生成物を単離しそして水ですすいだ。生成物をシリカゲ
ル上で可動相シクロヘキサン/テトラヒドロフラン7/
3を用いて精製した。
【0097】収量:1.4g(理論値の42%) 融点:197−198℃ f)1−シクロプロピル−5,7−ジフルオロ−8−ト
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸 1.4g(3.9ミリモル)のe)で得られた生成物を、
5mlの酢酸、5mlの水および0.5mlの濃硫酸の
混合物中で、2時間にわたり140℃に加熱した。冷却
した混合物を氷−水上に注ぎ、そして沈澱した生成物を
単離し、水ですすぎそして100℃で乾燥した。
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸 1.4g(3.9ミリモル)のe)で得られた生成物を、
5mlの酢酸、5mlの水および0.5mlの濃硫酸の
混合物中で、2時間にわたり140℃に加熱した。冷却
した混合物を氷−水上に注ぎ、そして沈澱した生成物を
単離し、水ですすぎそして100℃で乾燥した。
【0098】収量:1.1g(理論値の84%) 融点:208−210℃実施例12 1−シクロプロピル−7,8−ジフルオロ−5−トリフ
ルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キ
ノリンカルボン酸
ルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キ
ノリンカルボン酸
【0099】
【化28】
【0100】a)(2,3,4−トリフルオロ−6−トリ
フルオロメチルベンゾイル)−マロン酸ジエチル 0.47g(0.019モル)のマグネシウム屑を最初に
1.0mlのエタノール中に加え、反応を2、3滴の四
塩化炭素を用いて開始しそして次に2.8g(0.016
モル)のマロン酸ジエチルの2.0mlのエタノールお
よび7.5mlのトルエン中溶液を内部温度が50〜6
0℃となるような方法で滴々添加した。次に混合物を引
き続き60℃において1時間撹拌した。4.8g(0.0
27モル)の実施例9に従う塩化2,3,4−トリフルオ
ロ−6−トリフルオロメチルベンゾイルの2.0mlの
トルエン中溶液を−10〜−5℃において滴々添加しそ
して混合物を引き続き0℃において1時間撹拌しそして
次に室温に暖めた。それを10mlの氷−水上に注ぎ、
1.25mlの濃塩酸を加えそして混合物をトルエンで
抽出した。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄しそ
して溶媒を真空中で除去した。
フルオロメチルベンゾイル)−マロン酸ジエチル 0.47g(0.019モル)のマグネシウム屑を最初に
1.0mlのエタノール中に加え、反応を2、3滴の四
塩化炭素を用いて開始しそして次に2.8g(0.016
モル)のマロン酸ジエチルの2.0mlのエタノールお
よび7.5mlのトルエン中溶液を内部温度が50〜6
0℃となるような方法で滴々添加した。次に混合物を引
き続き60℃において1時間撹拌した。4.8g(0.0
27モル)の実施例9に従う塩化2,3,4−トリフルオ
ロ−6−トリフルオロメチルベンゾイルの2.0mlの
トルエン中溶液を−10〜−5℃において滴々添加しそ
して混合物を引き続き0℃において1時間撹拌しそして
次に室温に暖めた。それを10mlの氷−水上に注ぎ、
1.25mlの濃塩酸を加えそして混合物をトルエンで
抽出した。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄しそ
して溶媒を真空中で除去した。
【0101】粗収量:6.6g b)(2,3,4−トリフルオロ−6−トリフルオロメチ
ルベンゾイル)−酢酸エチル 6.6gのa)で得られた粗製生成物を還流下で7.5m
lの水中で0.21gのp−トルエンスルホン酸と共に
4.5時間加熱した。冷却された混合物を塩化メチレン
で抽出しそして有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮し
た。
ルベンゾイル)−酢酸エチル 6.6gのa)で得られた粗製生成物を還流下で7.5m
lの水中で0.21gのp−トルエンスルホン酸と共に
4.5時間加熱した。冷却された混合物を塩化メチレン
で抽出しそして有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮し
た。
【0102】粗収量:4.2g c)3−エトキシ−2−(2,3,4−トリフルオロ−6
−トリフルオロメチルベンゾイル)−アクリル酸エチル 4.0g(0.013モル)のb)で得られた生成物を
3.5g(0.024モル)のオルト蟻酸エチルおよび
3.4g(0.033モル)の無水酢酸と共に150−1
60℃に2時間加熱した。過剰の試薬を最初に真空中で
そして次に高真空中で100℃の浴温以下で除去した。
−トリフルオロメチルベンゾイル)−アクリル酸エチル 4.0g(0.013モル)のb)で得られた生成物を
3.5g(0.024モル)のオルト蟻酸エチルおよび
3.4g(0.033モル)の無水酢酸と共に150−1
60℃に2時間加熱した。過剰の試薬を最初に真空中で
そして次に高真空中で100℃の浴温以下で除去した。
【0103】粗収量:2.7g d)3−シクロプロピルアミノ−2−(2,3,4−トリ
フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾイル)−アク
リル酸エチル 2.7g(7.3ミリモル)のc)で得られた生成物を最
初に0℃において16mlのエタノール中に加え、そし
て0.46g(8ミリモル)のシクロプロピルアミンを
滴々添加した。混合物を引き続き室温において一夜撹拌
し、16mlの水を滴々添加し、そして沈澱した生成物
を単離した。それを水ですすぎそして約100℃で乾燥
した。
フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾイル)−アク
リル酸エチル 2.7g(7.3ミリモル)のc)で得られた生成物を最
初に0℃において16mlのエタノール中に加え、そし
て0.46g(8ミリモル)のシクロプロピルアミンを
滴々添加した。混合物を引き続き室温において一夜撹拌
し、16mlの水を滴々添加し、そして沈澱した生成物
を単離した。それを水ですすぎそして約100℃で乾燥
した。
【0104】収量:2.1g(理論値の75%) 融点:165−168℃ e)1−シクロプロピル−7,8−ジフルオロ−5−ト
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸エチル 2.1g(5.5ミリモル)のd)で得られた生成物を
0.88g(6.4ミリモル)の炭酸カリウムと共に11
mlのジメチルホルムアミド中で1時間にわたり100
℃に加熱した。冷却した混合物を氷−水上に注ぎ、そし
て生成物を単離しそして水ですすいだ。
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸エチル 2.1g(5.5ミリモル)のd)で得られた生成物を
0.88g(6.4ミリモル)の炭酸カリウムと共に11
mlのジメチルホルムアミド中で1時間にわたり100
℃に加熱した。冷却した混合物を氷−水上に注ぎ、そし
て生成物を単離しそして水ですすいだ。
【0105】収量:1.7g(理論値の85%) 融点:188−190℃ f)1−シクロプロピル−5,7−ジフルオロ−8−ト
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸 1.5g(4.2ミリモル)のe)で得られた生成物を、
5.5mlの酢酸、5.5mlの水および0.55mlの
濃硫酸の混合物中で、2時間にわたり140℃に加熱し
た。冷却した混合物を氷−水上に注ぎ、そして沈澱した
生成物を単離し、水ですすぎそして100℃で乾燥し
た。
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸 1.5g(4.2ミリモル)のe)で得られた生成物を、
5.5mlの酢酸、5.5mlの水および0.55mlの
濃硫酸の混合物中で、2時間にわたり140℃に加熱し
た。冷却した混合物を氷−水上に注ぎ、そして沈澱した
生成物を単離し、水ですすぎそして100℃で乾燥し
た。
【0106】収量:1.3g(理論値の92%) 融点:226−228℃実施例13 7−(4−アミノ−1,3,3a,4,7,7a−ヘキサヒド
ロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプロピル−8−
フルオロ−5−トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
ロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプロピル−8−
フルオロ−5−トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
【0107】
【化29】
【0108】333mg(1ミリモル)の実施例12に
従う1−シクロプロピル−7,8−ジフルオロ−5−ト
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸を一夜にわたり室温において16
5mg(1.2ミリモル)の4−アミノ−1,3,3a,
4,7,7a−ヘキサヒドロイソインドールおよび224
mg(2ミリモル)の1,4−ジアザビシクロ[2.2.
2]オクタンと共に10mlのジメチルスルホキシド中
で撹拌した。全ての揮発分を高真空下で除去し、そして
残渣をアセトニトリルと共に撹拌しそして100℃で乾
燥した。
従う1−シクロプロピル−7,8−ジフルオロ−5−ト
リフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸を一夜にわたり室温において16
5mg(1.2ミリモル)の4−アミノ−1,3,3a,
4,7,7a−ヘキサヒドロイソインドールおよび224
mg(2ミリモル)の1,4−ジアザビシクロ[2.2.
2]オクタンと共に10mlのジメチルスルホキシド中
で撹拌した。全ての揮発分を高真空下で除去し、そして
残渣をアセトニトリルと共に撹拌しそして100℃で乾
燥した。
【0109】収量:330mg(理論値の73%) 融点:248−249℃(分解を伴う)実施例14 7−(4−アミノ−7−メチル−1,3,3a,4,7,7a
−ヘキサヒドロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプ
ロピル−8−フルオロ−5−トリフルオロメチル−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
−ヘキサヒドロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプ
ロピル−8−フルオロ−5−トリフルオロメチル−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
【0110】
【化30】
【0111】実施例13と同様にして1−シクロプロピ
ル−7,8−ジフルオロ−5−トリフルオロメチル−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸と
4−アミノ−7−メチル−1,3,3a,4,7,7a−ヘ
キサヒドロイソインドールとの反応により標記化合物が
得られた。
ル−7,8−ジフルオロ−5−トリフルオロメチル−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸と
4−アミノ−7−メチル−1,3,3a,4,7,7a−ヘ
キサヒドロイソインドールとの反応により標記化合物が
得られた。
【0112】融点:242−244℃(分解を伴う)実施例15 7−(4−アミノ−1,3,3a,4,7,7a−ヘキサヒド
ロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプロピル−5−
フルオロ−8−トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
ロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプロピル−5−
フルオロ−8−トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
【0113】
【化31】
【0114】実施例13と同様にして1−シクロプロピ
ル−5,7−ジフルオロ−8−トリフルオロメチル−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸と
4−アミノ−7−メチル−1,3,3a,4,7,7a−ヘ
キサヒドロイソインドールとの反応により標記化合物が
得られた。
ル−5,7−ジフルオロ−8−トリフルオロメチル−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸と
4−アミノ−7−メチル−1,3,3a,4,7,7a−ヘ
キサヒドロイソインドールとの反応により標記化合物が
得られた。
【0115】融点:238−240℃(分解を伴う)実施例16 7−(4−アミノ−7−メチル−1,3,3a,4,7,7a
−ヘキサヒドロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプ
ロピル−5−フルオロ−8−トリフルオロメチル−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
−ヘキサヒドロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプ
ロピル−5−フルオロ−8−トリフルオロメチル−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
【0116】
【化32】
【0117】実施例13と同様にして実施例11に従い
得られた1−シクロプロピル−5,7−ジフルオロ−8
−トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ
−3−キノリンカルボン酸と4−アミノ−7−メチル−
1,3,3a,4,7,7a−ヘキサヒドロイソインドール
との反応により標記化合物が得られた。
得られた1−シクロプロピル−5,7−ジフルオロ−8
−トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ
−3−キノリンカルボン酸と4−アミノ−7−メチル−
1,3,3a,4,7,7a−ヘキサヒドロイソインドール
との反応により標記化合物が得られた。
【0118】融点:234−236℃(分解を伴う)実施例17 7−(4−アミノ−7−メチル−1,3,3a,4,7,7a
−ヘキサヒドロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプ
ロピル−8−トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−
4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
−ヘキサヒドロイソインドリ−2−ル)−1−シクロプ
ロピル−8−トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−
4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
【0119】
【化33】
【0120】315mg(1ミリモル)の実施例10に
従い得られた1−シクロプロピル−7−フルオロ−8−
トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−
3−キノリンカルボン酸を100℃において165mg
(1.2ミリモル)の4−アミノ−1,3,3a,4,7,7
a−ヘキサヒドロイソインドールおよび224mg(2
ミリモル)の1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタ
ンと共に10mlのジメチルスルホキシド中で2時間に
わたり撹拌した。全ての揮発分を高真空下で除去し、そ
して残渣をアセトニトリルと共に撹拌しそして100℃
で乾燥した。 収量:280mg(理論値の65%) 融点:168−170℃(分解を伴う)
従い得られた1−シクロプロピル−7−フルオロ−8−
トリフルオロメチル−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−
3−キノリンカルボン酸を100℃において165mg
(1.2ミリモル)の4−アミノ−1,3,3a,4,7,7
a−ヘキサヒドロイソインドールおよび224mg(2
ミリモル)の1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタ
ンと共に10mlのジメチルスルホキシド中で2時間に
わたり撹拌した。全ての揮発分を高真空下で除去し、そ
して残渣をアセトニトリルと共に撹拌しそして100℃
で乾燥した。 収量:280mg(理論値の65%) 融点:168−170℃(分解を伴う)
Claims (6)
- 【請求項1】 式(I) 【化1】 [式中、Rはヒドロキシル、−OM、ハロゲンまたはC
1−C4-アルコキシを表し、ここでMはアルカリ金属、
好適にはリチウム、ナトリウムまたはカリウム、を表
し、そして a)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
R4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または b)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または c)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がHを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または d)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または e)R1がFを表し、R2がHを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または f)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
R4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または g)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または h)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
R4がCF3を表しそしてR5がFを表すか、または i)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
R4がCF3を表しそしてR5がHを表すか、または k)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がFを表しそしてR5がHを表すか、または l)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表す]のフルオロ−
トリフルオロメチル安息香酸誘導体類。 - 【請求項2】 適宜希釈剤の存在下での−150〜50
℃の温度における式(II) 【化2】 [式中、Mはアルカリ金属、好適にはリチウム、ナトリ
ウムまたはカリウム、を表し、そしてR1、R2、R3、
R4およびR5は請求項1に記載の意味を有する]の含金
属フルオロ−トリフルオロメチルベンゼン誘導体類と二
酸化炭素との反応、およびその後の生成したR=OM
(ここでMは請求項1に記載の意味を有する)である式
(I)のアルカリ金属炭酸エステル類と酸との反応によ
る、R=ヒドロキシルである請求項1に記載のフルオロ
−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類の製造方法。 - 【請求項3】 適宜希釈剤の存在下での0〜160℃の
温度におけるR=OHまたはOMである請求項1に記載
の式(I)の化合物とハロゲン化剤との反応による、R
がハロゲンを表す式(I)に相当する請求項1に記載の
フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類の製造
方法。 - 【請求項4】 Rがヒドロキシルまたはハロゲンを表す
請求項1に記載の式(I)の化合物を適宜希釈剤の存在
下でそして適宜酸−結合剤の存在下で20〜160℃の
温度において式(III) 【化3】R6−OH (III) [式中、R6はC1−C4-アルキルを表す]のアルコール
と反応させる工程による、R=C1−C4-アルコキシで
ある式(I)に相当する請求項1に記載のフルオロ−ト
リフルオロメチル安息香酸誘導体類の製造方法。 - 【請求項5】 式 【化4】 [式中、Mはアルカリ金属、好適にはリチウム、ナトリ
ウムまたはカリウム、を表し、そして a)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
R4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または b)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または c)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がHを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または d)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がHを表すか、または e)R1がFを表し、R2がHを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または f)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
R4がHを表しそしてR5がCF3を表すか、または g)R1がFを表し、R2がCF3を表し、R3がFを表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表すか、または h)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がHを表し、
R4がCF3を表しそしてR5がFを表すか、または i)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がFを表し、
R4がCF3を表しそしてR5がHを表すか、または k)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がFを表しそしてR5がHを表すか、または l)R1がFを表し、R2がFを表し、R3がCF3を表
し、R4がHを表しそしてR5がFを表す]の化合物。 - 【請求項6】 式(IV) 【化5】 [式中、R1〜R5は請求項5に記載の意味を有する]の
フルオロ−トリフルオロメチルベンゼン類を適宜希釈剤
の存在下で−150〜30℃の、好適には−100〜−
20℃の、温度において有機金属化合物と反応させるこ
とを特徴とする、請求項5に記載の化合物の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4301245.0 | 1993-01-19 | ||
DE4301245A DE4301245A1 (de) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | Fluor-trifluormethylbenzoesäure-Derivate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06256257A true JPH06256257A (ja) | 1994-09-13 |
JP3452081B2 JP3452081B2 (ja) | 2003-09-29 |
Family
ID=6478453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01308594A Expired - Fee Related JP3452081B2 (ja) | 1993-01-19 | 1994-01-12 | フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5493048A (ja) |
EP (1) | EP0607826B1 (ja) |
JP (1) | JP3452081B2 (ja) |
DE (2) | DE4301245A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007021001A1 (ja) * | 2005-08-18 | 2007-02-22 | Ube Industries, Ltd. | 2,3,4-トリフルオロ-5-置換安息香酸化合物及びその製法 |
JP2011509300A (ja) * | 2008-01-11 | 2011-03-24 | ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー | 1−フルオロ−2−置換−3−クロロベンゼンの選択的脱プロトン化及び官能化の方法 |
JP2011521994A (ja) * | 2008-06-06 | 2011-07-28 | エフ.ホフマン−ラ ロシュ アーゲー | ハロゲン化安息香酸誘導体の製造方法 |
US8871970B2 (en) | 2008-12-25 | 2014-10-28 | Nippon Soda Co., Ltd. | Process for producing organolithium compound and process for producing substituted aromatic compound |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69716962T2 (de) | 1996-08-19 | 2003-07-03 | Ube Industries | Verfahren zur herstellung von substituierten trifluorobenzoesäurederivaten und deren ester |
SK286420B6 (sk) * | 1997-09-15 | 2008-09-05 | The Procter & Gamble Company | Zlúčenina so štruktúrou chinolónu, farmaceutický prostriedok s jej obsahom a jej použitie |
BRPI0709772B8 (pt) * | 2006-03-28 | 2021-05-25 | The Protecter & Gamble Company | sais de malato e polimorfos do ácido (3s,5s)-7-[3-amino-5-metil-piperidinil]-1-ciclopropil-1,4-diidro-8-metóxi-4-oxo-3-quinolinocarboxílico |
CA2647454A1 (en) * | 2006-03-28 | 2007-10-04 | The Procter & Gamble Company | A coupling process for preparing quinolone intermediates |
US7528264B2 (en) * | 2006-03-28 | 2009-05-05 | The Procter & Gamble Company | Hydride reduction process for preparing quinolone intermediates |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3985799A (en) * | 1971-01-18 | 1976-10-12 | Sandoz, Inc. | 2-Fluoro-6-trifluoromethylbenzoic acid |
US4780468A (en) * | 1987-08-07 | 1988-10-25 | Warner-Lambert Company | 8-trifluoromethyl quinolones as antibacterial agents |
US5194628A (en) * | 1988-03-18 | 1993-03-16 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of substituted difluorobenzo-1,3-dioxoles |
-
1993
- 1993-01-19 DE DE4301245A patent/DE4301245A1/de not_active Withdrawn
-
1994
- 1994-01-07 EP EP94100207A patent/EP0607826B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-01-07 DE DE59402621T patent/DE59402621D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-01-12 JP JP01308594A patent/JP3452081B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-01-12 US US08/180,590 patent/US5493048A/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-08-14 US US08/514,943 patent/US5648567A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007021001A1 (ja) * | 2005-08-18 | 2007-02-22 | Ube Industries, Ltd. | 2,3,4-トリフルオロ-5-置換安息香酸化合物及びその製法 |
JPWO2007021001A1 (ja) * | 2005-08-18 | 2009-02-26 | 宇部興産株式会社 | 2,3,4−トリフルオロ−5−置換安息香酸化合物及びその製法 |
JP2011509300A (ja) * | 2008-01-11 | 2011-03-24 | ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー | 1−フルオロ−2−置換−3−クロロベンゼンの選択的脱プロトン化及び官能化の方法 |
JP2011521994A (ja) * | 2008-06-06 | 2011-07-28 | エフ.ホフマン−ラ ロシュ アーゲー | ハロゲン化安息香酸誘導体の製造方法 |
US8871970B2 (en) | 2008-12-25 | 2014-10-28 | Nippon Soda Co., Ltd. | Process for producing organolithium compound and process for producing substituted aromatic compound |
US9133098B2 (en) | 2008-12-25 | 2015-09-15 | Nippon Soda Co., Ltd. | Process for producing organolithium compound and process for producing substituted aromatic compound |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0607826B1 (de) | 1997-05-07 |
DE59402621D1 (de) | 1997-06-12 |
DE4301245A1 (de) | 1994-07-21 |
JP3452081B2 (ja) | 2003-09-29 |
US5648567A (en) | 1997-07-15 |
US5493048A (en) | 1996-02-20 |
EP0607826A1 (de) | 1994-07-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0916675B1 (en) | Process for preparing sildenafil | |
EP1812394B1 (en) | Process for the preparation of montelukast and its salts | |
EP1886998A1 (en) | Purification process of montelukast and its amine salts | |
KR950000642B1 (ko) | 개선된 테트라플루오로벤조산의 제조 방법 | |
KR100669823B1 (ko) | 2-(4-클로로벤조일아미노)-3-[2(1h)-퀴놀리논-4-일]프로피온산의 제조방법 및 그 중간체 | |
JP2001518459A (ja) | 葉酸拮抗剤を作成するのに有用な方法及び中間体 | |
JP3452081B2 (ja) | フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類 | |
EP2066638B1 (en) | Process for the purification of montelukast | |
CA1333715C (en) | Process for the preparation of quinolonecarboxylic acids | |
US5659051A (en) | Process of producing 2-cyano-4-oxo-4H-benzopyran compounds | |
RU2260000C2 (ru) | Способ получения хинолилакрилонитрила и соответствующих промежуточных продуктов | |
KR100517632B1 (ko) | 3-시아노-2,4-디할로게노-5-플루오로-벤조산의 제조방법 | |
WO2007023503A1 (en) | A process for the preparation of fluvastatin sodium | |
JPS6261948A (ja) | テトラフルオロ安息香酸の改良された製法 | |
EP1116710B1 (en) | Process for producing pivaloyl-acetic acid ester | |
JPH0841029A (ja) | 3−置換キノリン−5−カルボン酸誘導体およびその製造法 | |
JP4148550B2 (ja) | 5−アミノ−1−シクロプロピル−4−オキソキノリン−3−カルボン酸誘導体とその製造方法 | |
US20080275243A1 (en) | Process for the Preparation of Polymorphs, Solvates of Aripiprazole Using Aripiprazole Acid Salts | |
EP0588372B1 (en) | Process for preparing pyridine-2,3-dicarboxylic acid compounds | |
EP0402561B1 (en) | Process for the manufacture of anilinofumarate via chloromaleate or chlorofumarate or mixtures thereof | |
EP0211588B1 (en) | Process for preparing 2-acyl-3,4-dialkoxyanilines | |
JP2816855B2 (ja) | ピリジン―2,3―ジカルボン酸誘導体の製造方法 | |
EP1361215A1 (en) | Process for producing quinoline carboxyaldehyde derivative and intermediate thereof | |
US5093515A (en) | Fluorinated benzoyl compounds | |
KR870001004B1 (ko) | 퀴놀론 카복실산의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |