JPH06251697A - 電極間の絶縁接合構造及び電極間の絶縁接合方法 - Google Patents

電極間の絶縁接合構造及び電極間の絶縁接合方法

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JPH06251697A
JPH06251697A JP3497993A JP3497993A JPH06251697A JP H06251697 A JPH06251697 A JP H06251697A JP 3497993 A JP3497993 A JP 3497993A JP 3497993 A JP3497993 A JP 3497993A JP H06251697 A JPH06251697 A JP H06251697A
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JP
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grid
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JP3497993A
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Hirokazu Saruwatari
浩和 猿渡
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 電極間距離が正確に設定できるようにする。 【構成】 電子銃の第1グリッド電極2bと第2グリッ
ド電極3とは、間隔Xを隔ててスペーサー11により接
合されている。スペーサー11は、絶縁層20と金属層
21とが第1結合層22を介して接合したものである。
絶縁層20は、メタライズ層26とメッキ層27とがこ
の順に積層された第2結合層23部分でろう材28によ
り第1グリッド電極2bに接合されている。金属層21
は、間隔Xが達成されるように研磨により厚さが調整さ
れており、第2グリッド電極3に溶接されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、絶縁接合構造及び絶縁
接合方法、特に、電極間の絶縁接合構造及び絶縁接合方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】ブラウン管等に使用される電子銃は、第
1グリットを始めとする多数のグリット(電極)を備え
ている。これらの複数の電極のうち、第1グリッドと、
それに隣接する第2グリッドとは、セラミックス等の電
気絶縁材料からなるスペーサーを挟んで絶縁状態で接合
されている。スペーサーは、第1グリッド及び第2グリ
ッドとの接合面に例えばモリブデン−マンガンからなる
メタライズ層が形成されており、このメタライズ層が対
応するグリッドにろう付けされている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述の電子銃におい
て、第1グリッドと第2グリッドとの間隔は、ブラウン
管の画像精度に大きな影響を与えるため、設計値通りに
正確に設定するのが好ましい。ところが、上述の第1グ
リッドと第2グリッドとを接合するスペーサーは、ろう
材を用いて第1グリッド及び第2グリッドに接合されて
いるため、メタライズ層の表面状態やろう付け時の僅か
な条件変化によりろう材の厚みが変化するので、第1グ
リッドと第2グリッドとの間隔を設計値通りに正確に設
定するのは困難である。
【0004】本発明の目的は、電極間距離を正確に設定
することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】第1の発明に係る電極間
の絶縁接合構造は、間隔を隔てて配置された1対の第1
電極及び第2電極と、第1電極にろう材を用いて固定さ
れた絶縁性スペーサーと、絶縁性スペーサーと一体に固
定されかつ第2電極に溶接された、第1電極と第2電極
との間に一定の間隔が形成されるよう研磨により厚さが
調整された金属製スペーサーとを備えている。
【0006】第2の発明に係る電極間の絶縁接合方法
は、1対の第1電極と第2電極とを一定の間隔を隔てて
絶縁しながら接合するための方法である。この方法は、
次の工程を含んでいる。 ◎絶縁層と金属層とが積層されかつ一体化されたスペー
サー部材を用意する工程。 ◎第1電極にスペーサー部材の絶縁層を固定する工程。 ◎金属層を研磨してスペーサー部材の厚さを調整する工
程。 ◎金属層に第2電極を溶接する工程。
【0007】
【作用】第1の発明に係る電極間の絶縁接合構造では、
第1電極に固定された絶縁性スペーサーと一体の金属製
スペーサーの研磨状態により第1電極と第2電極との間
隔が決定される。この間隔は、金属製スペーサーが第2
電極と溶接されるため、金属製スペーサーと第2電極と
の固定後も維持される。第1電極と第2電極との絶縁
は、絶縁性スペーサーにより確保される。
【0008】第2の発明に係る電極間の絶縁接合方法で
は、第1電極に固定されたスペーサー部材の金属層を研
磨してスペーサー部材の厚さを調整すると、第1電極と
第2電極との間隔が設定される。設定された間隔は、金
属層と第2電極とが溶接されているため、両者の固定後
も維持される。なお、第1電極と第2電極との絶縁は、
スペーサー部材の絶縁層により確保される。
【0009】
【実施例】図1に本発明の一実施例が採用された電子銃
1を示す。この電子銃1は、高精度カラー陰極線管用の
3ビーム単電子銃であり、第1グリッド電極部2、第2
グリッド電極3、第3グリッド電極4、第4グリッド電
極5、第5グリッド電極6及びコンバージェンス装置7
をこの順に備えている。
【0010】第1グリッド電極部2は、3組の第1グリ
ッド電極2a,2b,2cを備えている。各第1グリッ
ド電極2a,2b,2cは、概ね円筒状の部材であり、
第2グリッド電極3との対面部にそれぞれ電子ビーム透
過孔8a,8b,8cを有している(図2参照)。ま
た、各第1グリッド電極2a,2b,2c内には、それ
ぞれ赤、緑及び青に対応するカソード9a,9b,9c
が支持部材10により支持されている。各第1グリッド
電極2a,2b,2cは、スペーサー11を用いて第2
グリッド電極3に固定されている。
【0011】各グリッド電極2a,2b,2cは、ステ
ンレス,42アロイ又はコバール等の金属製であり、カ
ソード9a,9b,9cからの電子ビームを電子ビーム
透過孔8a,8b,8cを通して絞り込むためのもので
ある。第2グリッド電極3は、概ね円板状の部材であ
り、第1グリッド電極部2の各第1グリッド電極2a,
2b,2cと対面する部位に電子ビーム透過孔12a,
12b,12cを有している(図2参照)。このような
第2グリッド電極3は、第1グリッド電極2a,2b,
2cと同様の金属製であり、電子ビーム透過孔12a,
12b,12cを通過する電子を加速するためのもので
ある。
【0012】第3グリッド電極4は、第2グリッド電極
3と対面する端部が閉鎖された概ね円筒状の部材であ
り、第2グリッド電極3との対面部に、カソード9a,
9b,9cからの電子ビームをそれぞれ通過させるため
の電子ビーム透過孔13a,13b,13cを有してい
る。第4グリッド電極5及び第5グリッド電極6は、概
ね円筒状の部材であり、両端が開口している。
【0013】コンバージェンス装置7は、概ね平行に配
列された4枚の静電偏向電極板14a,14b,14
c,14dを備えている。上述の電子銃1において、第
2グリッド電極3、第3グリッド電極4、第4グリッド
電極5、第5グリッド電極6及びコンバージェンス装置
7は、所定の位置関係を保った状態で配列されており、
ビーディングガラス(図示せず)により一体化されてい
る。
【0014】図2を参照して、第1グリッド電極部2と
第2グリッド電極3との接合部の詳細を説明する。ここ
では、第1グリッド電極2bと第2グリッド電極3との
接合部を例にして説明する。図において、第1グリッド
電極2bと第2グリッド電極3とは、第1グリッド電極
2bの電子ビーム通過孔8bと第2グリッド電極3の電
子ビーム通過孔12bとが一定の間隔Xを隔てて対面す
るようスペーサー11を用いて接合されている。
【0015】図3に示すように、スペーサー11は、ブ
ロック状であり、絶縁層20と、金属層21と、絶縁層
20と金属層21との間に配置された第1結合層22
と、絶縁層20の他方の主面に配置された第2結合層2
3とから主に構成されている。絶縁層20は例えばアル
ミナセラミックス等の電気絶縁材料からなる板状であ
り、第1グリッド電極2bと第2グリッド電極3とを絶
縁するためのものである。金属層21は、例えばコバー
ルや42アロイ等の金属からなる板状であり、絶縁層2
0とともに第1グリッド電極2bと第2グリッド電極3
との間隔Xを設定するためのものである。金属層21の
第2グリッド電極3側端面は、第1グリッド電極2bと
第2グリッド電極3との間隔がXになるよう研磨されて
おり、第2グリッド電極3にスポット溶接やレーザー溶
接等の溶接法により接合されている。
【0016】第1接合層22は、絶縁層20と金属層2
1とを一体に接合するためのものであり、絶縁層20側
から順に第1メタライズ層24と第1メッキ層25とを
備えている。第1メタライズ層24はモリブデン−マン
ガン等の高融点金属材料からなり、厚さが約10μmに
設定されている。第1メッキ層25は、ニッケル等のろ
う材濡れ性が良好な金属材料からなり、絶縁層20と金
属層21との接合強度を高めるためのものである。第1
メッキ層25の厚さは、絶縁層20と金属層21との接
合強度を高めるために0.5〜5.0μmに設定するの
が好ましい。この第1結合層22は、第1メッキ層25
と金属層21との間に配置されたろう材(図示せず)に
より絶縁層20と金属層21とを接合している。
【0017】第2結合層23は、絶縁層20側から順に
第2メタライズ層26と第2メッキ層27とを備えてお
り、スペーサー11を第1グリッド電極2bに接合する
ためのものである。第2メタライズ層26及び第2メッ
キ層27は、それぞれ第1メタライズ層24及び第1メ
ッキ層25と同様に構成されている。この第2結合層2
3は、銀ろう等のろう材28により第1グリッド電極2
bに接合されている。
【0018】なお、第1グリッド電極2a,2cも、第
1グリッド電極2bと同様に第2グリッド電極3に固定
されている。次に、第1グリッド電極2bと第2グリッ
ド電極3との接合方法について説明する。まず、両グリ
ッド電極2b,3を固定するためのスペーサー11を用
意する。スペーサー11を製造する場合は、まず、図4
に示すように、絶縁層20を用意する。絶縁層20は、
上述のセラミック材料をプレス成形法等の周知の手法に
より成形して得られた生セラミック体を所定温度で焼成
すると得られる。用意された絶縁層20の両主面には、
図5に示すように、第1結合層22及び第2結合層23
を形成する。ここでは、まず絶縁層20の両主面にモリ
マン法等の周知の手法により第1メタライズ層24及び
第2メタライズ層26を形成する。その後、絶縁層20
にメッキ処理を施すと、第1メタライズ層24及び第2
メタライズ層26上にそれぞれ第1メッキ層25及び第
2メッキ層27が形成される。
【0019】次に、図6に示すように、第1結合層22
上に図示しないろう材を用いて金属層21を接合する。
ここで接合する金属層21は、接合面と反対側の主面の
外周端面部21aが研磨後も完全に除去されることがな
い程度にR加工を施されている。ここで、外周端面部2
1aのR加工は、曲率半径が0.01〜5mmになるよ
うにするのが好ましい。曲率半径が0.01mm未満の
場合は、後述する金属層21の研磨工程においてバリが
発生し、グリッド電極2b,3間の間隔Xを正確に設定
しにくくなるとともにバリから異常放電が発生して画像
を乱したり、バリが剥離して塵となりブラウン管に悪影
響(例えば、シャドウマスクの目詰まり等)を及ぼす。
逆に、曲率半径が5mmを越えると、スペーサー11の
小型化が困難になる。なお、このようなR加工は、金属
層21をバレル研磨したり化学研磨したりすることによ
り実施できるが、金属層21の打ち抜き加工時に同時に
形成することもできる。金属層21と第1結合層22と
の接合が完了すると、スペーサー11が得られる。
【0020】次に、図7に示すように、上述のスペーサ
ー11を第1グリッド電極2bに固定する。ここでは、
スペーサー11の第2メッキ層27を銀ろう等のろう材
28を用いて接合する。次に、第1グリッド電極2bに
接合されたスペーサー11の金属層21の主面を研磨
し、スペーサー11の厚さを調整する。ここでは、図7
に示すように、第1グリッド電極2bと第2グリッド電
極3との間隔Xが設計値通りに達成されるよう、金属層
21を厚さYだけ研磨する。なお、研磨方法としては、
一般的な機械的研磨方法が採用され得る。また、研磨状
況は、例えばレーザー式変位計やエアマイクロメータ、
ディプスゲージ等の厚み測定器を用いて確認できる。こ
のような研磨工程において、金属層21の主面の周縁部
21aには上述のようなR加工が施されているため、バ
リが発生しにくい。
【0021】次に、図8示すように、研磨された金属層
21の主面を第2グリッド電極3の所定部位に当接し、
金属層21と第2グリッド電極3とを溶接する。これに
より第1グリッド電極2bと第2グリッド電極3とが間
隔Xを隔てて接合される。なお、金属層21と第2グリ
ッド電極3との接合時には、上述のように金属層21の
研磨面にバリが発生しにくいので、研磨面のバリが接合
面に挟まって第1グリッド電極2bと第2グリッド電極
3との間隔Xを狂わせるおそれが少ない。また、金属層
21は第2グリッド電極3に溶接されるため、金属層2
1の研磨により設定した両グリッド電極2b,3間の間
隔Xは損なわれにくい。この結果、上述の接合方法によ
れば、設計値通りの間隔Xを隔てて第1グリッド電極2
bと第2グリッド電極3とを正確に接合することができ
る。
【0022】上述の電子銃1では、各カソード9a,9
b,9cから照射される電子ビームR,G,Bが、アノ
ード電圧が与えられる第3グリッド電極4及び第5グリ
ッド電極6とフォーカス電圧が与えられる第4グリッド
電極5とで形成される主電子レンズにそのレンズ中心で
交差するように入射する。入射した電子ビームR,G,
Bは、その後コンバージェンス装置7によりブラウン管
の蛍光面上にコンバージェンスされる。
【0023】〔他の実施例〕 (a) 前記実施例では、金属層21が第2グリッド電
極3に溶接されるようスペーサー11を配置したが、金
属層21が第1グリッド電極2b側に溶接されるように
スペーサー11を配置した場合も本発明を同様に実施で
きる。この場合は、スペーサー11の第2結合層23を
第2グリッド電極3にろう付けした後に金属層21を研
磨し、金属層21を第1グリッド電極2bに溶接するこ
とになる。 (b) 前記実施例では、第1結合層22を介して絶縁
層20と第1金属層21とが接合されたスペーサー11
を用いたが、スペーサーとしては他のものを利用するこ
ともできる。
【0024】図9に他のスペーサーの一例を示す。この
スペーサー30は、前記実施例で用いたスペーサー11
と同様に絶縁層31、第1結合層32及び第2結合層3
3を備えている。第1結合層32は、スペーサー11の
第1結合層22と同じく第1メタライズ層34と第1メ
ッキ層35とを備えている。一方、第2結合層33は、
第2メタライズ層36と第2メッキ層37とを備えてい
る。第2メッキ層37は、厚さが10〜50μmに設定
されている。
【0025】このようなスペーサー30は、第1結合層
32側が第1グリット電極2bにろう付けされる。そし
て、厚さが大きな第2メッキ層37の研磨処理により厚
さが調整される。そして、研磨処理された第2メッキ層
37が第2グリッド電極3に溶接される。なお、このよ
うなスペーサー30では、第2メッキ層37が延性を持
たないため、上述のスペーサー11で用いた金属層21
のようにR加工を施す必要がない。 (c) 前記実施例で用いたスペーサー11は、絶縁層
20の片面のみに金属層21を設けたが、絶縁層20の
両面に金属層21を設けた場合も本発明を同様に実施で
きる。この場合は、一方の金属層21を第1グリッド電
極2b又は第2グリッド電極3に溶接し、他方の金属層
21を研磨することになる。 (d) 前記実施例では、ブロック状のスペーサー11
を用いたが、電子ビーム通過孔8b及び12bに対応す
る部位に貫通孔を有する板状、リング状又は枠状に形成
されたスペーサーを用いることもできる。 (e) 前記実施例では、スペーサー11の金属層21
にR加工を施したが、R加工に代えてC面加工を施した
場合も同様の効果が得られる。 (f) 前記実施例では、本発明を電子銃に採用した
が、本発明は電子銃以外にも採用することができる。
【0026】
【発明の効果】第1の発明に係る電極間の絶縁接合構造
では、第1電極と第2電極との間に一定の間隔が形成さ
れるよう研磨された金属製スペーサーを第2電極に溶接
しているので、電極間距離を正確に設定することができ
る。第2の発明に係る電極間の絶縁接合方法では、スペ
ーサー部材の金属層を研磨してスペーサー部材の厚さを
調整し、研磨された金属層を第2電極に溶接しているの
で、電極間距離を正確に設定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例が採用された電子銃の縦断面
図。
【図2】図1の部分拡大図。
【図3】図2のIII 部分の拡大図。
【図4】前記実施例に採用されたスペーサーを製造する
ための工程図。
【図5】前記実施例に採用されたスペーサーを製造する
ための工程図。
【図6】前記実施例に採用されたスペーサーを製造する
ための工程図。
【図7】前記実施例の工程図。
【図8】前記実施例の工程図。
【図9】他のスペーサーの縦断面図。
【符号の説明】
2b 第1グリッド電極 3 第2グリッド電極 11 スペーサー 20 絶縁層 21 金属層 28 ろう材

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】間隔を隔てて配置された1対の第1電極及
    び第2電極と、 前記第1電極にろう材を用いて固定された絶縁性スペー
    サーと、 前記絶縁性スペーサーと一体に固定されかつ前記第2電
    極に溶接された、前記第1電極と前記第2電極との間に
    一定の間隔が形成されるよう研磨により厚さが調整され
    た金属製スペーサーと、を備えた電極間の絶縁接合構
    造。
  2. 【請求項2】1対の第1電極と第2電極とを一定の間隔
    を隔てて絶縁しながら接合するための電極間の絶縁接合
    方法であって、 絶縁層と金属層とが積層されかつ一体化されたスペーサ
    ー部材を用意する工程と、 前記第1電極に前記スペーサー部材の絶縁層を固定する
    工程と、 前記金属層を研磨して前記スペーサー部材の厚さを調整
    する工程と、 前記金属層に前記第2電極を溶接する工程と、を含む電
    極間の絶縁接合方法。
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