JPH0625130A - 選択的ハロゲン化によるハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体類の製造方法及びハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体類 - Google Patents

選択的ハロゲン化によるハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体類の製造方法及びハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体類

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JPH0625130A
JPH0625130A JP5090724A JP9072493A JPH0625130A JP H0625130 A JPH0625130 A JP H0625130A JP 5090724 A JP5090724 A JP 5090724A JP 9072493 A JP9072493 A JP 9072493A JP H0625130 A JPH0625130 A JP H0625130A
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JP
Japan
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group
atom
same
lower alkyl
formula
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JP5090724A
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Tomokazu Hino
智和 日野
Kenji Tsubata
健治 津幡
Hiroshi Hamaguchi
洋 濱口
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Nihon Nohyaku Co Ltd
Original Assignee
Nihon Nohyaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体類の新規な
製造法を提供する。 【構成】 式(II)のフェノキシ脂肪酸類を不活性溶媒の
存在下にハロゲン化剤でハロゲン化することにより選択
的に式(I) のハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体を製造す
る。式(I) の化合物の一部は新規化合物である。 ( 式中、Rは特定の基、R1とR2はH又は低級アルキル
基、Xはハロゲン又は低級アルキル基、Yはハロゲン原
子を示す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般式(I)
【化4】 〔式中、Rはシアノ基、-CON(R3)R4(式中、R3 及びR
4 は同一又は異なっても良く、水素原子、低級アルキル
基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、低級アルキル基、低級ハロア
ルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルコキシ基、
低級アルキルチオ基又は低級ハロアルキルチオ基から選
択される1〜5個の置換基を有するフェニル基、ベンジ
ル基、又は同一又は異なっても良く、低級アルキル基、
低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアル
コキシ基、低級アルキルチオ基又は低級ハロアルキルチ
オ基から選択される1〜5個の置換基を有するベンジル
基を示し、R3 及びR4 は一緒になってアルキレン基を
示すこともできる。)又は-COAR5(式中、R5 は水素原
子、低級アルキル基、フェニル基、同一又は異なっても
良く、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、低級アルキ
ル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハ
ロアルコキシ基、低級アルキルチオ基又は低級ハロアル
キルチオ基から選択される1〜5個の置換基を有するフ
ェニル基、ベンジル基又は同一又は異なっても良く、低
級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ
基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキルチオ基又は低
級ハロアルキルチオ基から選択される1〜5個の置換基
を有するベンジル基を示し、Aは酸素原子又は硫黄原子
を示す。)を示し、R1 及びR2 は同一又は異なっても
良く, 水素原子又は低級アルキル基を示し、Xはハロゲ
ン原子又は低級アルキル基を示し、Yはハロゲン原子を
示す。〕で表されるハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体類
の製造方法及び本製造方法によって得られる一部のハロ
ゲノフェノキシ脂肪酸誘導体類に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体の製造
方法としては、例えばモノハロゲノフェノ−ルをハロゲ
ン化してジハロゲノフェノ−ルとして、該ジハロゲノフ
ェノ−ルからハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体を製造す
る方法が一般的である(特開昭60−193939号公
報、特開昭62−223140号公報、特公平3−22
377号公報、特開平3−99033号公報等)。又、
モノハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体をハロゲン化して
ハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体を製造する方法として
は、ハロゲン化剤及び触媒を用いてハロゲン化する方法
〔J.O.C.,426(1946)〕等が報告されて
いる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は触媒等を
使用せずに収率良くハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体類
を製造する新規な製造方法を鋭意研究を重ねた結果、本
発明を完成させたものである。本発明の製造方法による
一般式(I)で表されるハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導
体類は医薬、農薬、化学品等の中間体として有用な化合
物であり、そのうちの一部の一般式(I’)
【化5】 〔式中、R’はシアノ基又は-CON(R3')R4'(式中、R3'
及びR4'は同一又は異なっても良く、水素原子、低級ア
ルキル基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、低級アルキル基、低級
ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルコキ
シ基、低級アルキルチオ基又は低級ハロアルキルチオ基
から選択される1〜5個の置換基を有するフェニル基、
ベンジル基又は同一又は異なっても良く、低級アルキル
基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロ
アルコキシ基、低級アルキルチオ基又は低級ハロアルキ
ルチオ基から選択される1〜5個の置換基を有するベン
ジル基を示す。)を示し、R1'及びR2'は同一又は異な
っても良く、水素原子又は低級アルキル基を示し、X'
はフッ素原子、沃素原子、臭素原子又は低級アルキル基
を示し、Y' はハロゲン原子を示す。但し、R1'及びR
2'が水素原子を示し、X’がフッ素原子、Y’が塩素原
子を示す場合、R’はシアノ基を除く。〕で表されるハ
ロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体類は文献未記載の新規化
合物である。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明のハロゲノフェノ
キシ脂肪酸誘導体類の製造方法としては、例えば下記に
図示する方法により製造することができる。
【化6】 (式中、R、R1 、R2 、X及びYは前記に同じ。)一
般式(II)で表されるフェノキシ脂肪酸類を不活性溶媒の
存在下にハロゲン化剤でハロゲン化することにより選択
的に目的物であるハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体を製
造することができる。
【0005】本製造方法で使用できる不活性溶媒として
は、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良
く、例えば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、
パ−クロロエチレン等のハロゲン化炭化水素類、蟻酸、
酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、ニトロベンゼ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベ
ンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエステル
類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミ
ド類、スルホラン、ジメチルスルホン、ジメチルスルホ
キシド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、水
等を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で
又は混合して使用することができる。
【0006】ハロゲン化剤としては、例えば塩素、臭
素、沃素、塩酸−過酸化水素、スルフリルクロリド,五
塩化リン、N,N−ジクロロウレア、N−クロロスクシ
ンイミド、N−ブロモスクシンイミド、次亜ハロゲン酸
t−ブチル、トリクロロイソシアヌル酸、トリクロロメ
タンスルホニルハロゲニド等のハロゲン化剤を使用する
ことができ、ハロゲン化剤の使用量は一般式(II)で表さ
れるフェノキシ脂肪酸類に対して0.1モル乃至過剰モ
ルの範囲から適宜選択して使用すれば良い。
【0007】本発明の製造方法は、必要に応じて有機塩
基、無機塩基又は有機塩を使用することができ、例えば
有機塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン等のアミ
ン類、無機塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ
金属又はアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸カルシウム等のアルカリ金属又はア
ルカリ土類金属炭酸塩、有機塩としては酢酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、安息香酸ナトリウ
ム等の有機酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩、
酢酸アンモニウム等の有機アミン塩等を使用することが
でき、これらの使用量は一般式(II)で表されるフェノキ
シ脂肪酸類に対して0.1モル乃至過剰モルの範囲から
適宜選択して使用すれば良い。
【0008】反応温度は−20℃乃至使用する不活性溶
媒の沸点域から適宜選択すれば良い。反応時間は反応温
度、反応規模等により一定しないが数分乃至48時間の
範囲から選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反
応液を常法により、例えば溶媒抽出等の方法により単離
し、必要に応じてカラムクロマトグラフィ−法、再結晶
法、蒸留法等により精製することにより一般式(I)又
は一般式(I’)で表されるハロゲノフェノキシ脂肪酸
誘導体を製造することができる。
【0009】本発明の一般式(I’)で表される新規化
合物であるハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体類の代表的
な化合物を第1表に示す。
【0010】
【化7】
【表1】
【0011】以下に第1表中、物性が油状物で示される
化合物のNMRのデ−タを第2表に示す。
【表2】
【0012】
【実施例】以下に本発明の代表的な実施例を例示する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0013】実施例1 2−クロロ−4−フルオロフェ
ノキシアセトニトリルの製造(化合物No25)
【化8】 4−フルオロフェノキシアセトニトリル1.51g
(0.01モル)及び酢酸ナトリウム0.82g(0.
01モル)を酢酸7ml及び水3mlの混合溶媒に溶解
し、50℃で攪拌下に塩素ガスを12.3ml/分の速
度で60分間導入した。反応終了後、反応液に10%チ
オ硫酸ナトリウム水溶液3mlを加え、減圧下に溶媒を
留去し、得られた残渣に10%炭酸水素ナトリウム水溶
液20mlを加え、酢酸エチル(30ml×2)で目的
物を抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
減圧下に濃縮して得られた濃縮物を蒸留することにより
2−クロロ−4−フルオロフェノキシアセトニトリル
1.54gを得た。本化合物は公知化合物であり、融
点、NMRは文献値と一致した。収率83.0%
【0014】実施例2 2,4−ジクロロフェノキシ酢
酸アミドの製造(化合物No10)
【化9】 4−クロロフェノキシ酢酸アミド1.86g(0.01
モル)を酢酸11mlに加え、50℃に加熱溶解し、同
温度で塩素ガスを12.3ml/分の速度で50分間導
入した。反応終了後、反応液に10%チオ硫酸ナトリウ
ム水溶液3mlを加え、減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残渣に10%炭酸水素ナトリウム水溶液20mlを加
え、酢酸エチル(30ml×2)で目的物を抽出した。
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮し
て得られた結晶をn−ヘキサンで洗浄することにより目
的物である2,4−ジクロロフェノキシ酢酸アミド2.
02gを得た。 収率92.0% 本化合物は公知の化合物であり、融点及びNMRは文献
値と一致した。
【0015】実施例3 2,4−ジクロロフェノキシ酢
酸の製造(化合物No17)
【化10】 4−クロロフェノキシ酢酸1.87g(0.01モル)
をジメチルホルムアミド10mlに加え、50℃で攪拌
下に塩素ガスを12.3ml/分の速度で45分間導入
した。反応終了後、反応液に10%チオ硫酸ナトリウム
水溶液3mlを加え、減圧下に溶媒を留去し、得られた
残渣に10%炭酸水素ナトリウム水溶液20mlを加
え、酢酸エチル(30ml×2)で目的物を抽出した。
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮し
て得られた結晶をn−ヘキサンで洗浄することにより目
的物である2,4−ジクロロフェノキシ酢酸2.07g
を得た。 収率93.6% 本化合物は公知の化合物であり、融点及びNMRは文献
値と一致した。
【0016】第3表に実施例1〜3と同様にして製造し
た一般式(I)で表されるハロゲノフェノキシ脂肪酸誘
導体類の代表例を例示する。第3表に記載の化合物は公
知化合物であるので、その同定は融点及びNMR、IR
等により文献値と一致することにより確認した。
【0017】
【化11】
【表3】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 231/12 235/24 7106−4H 255/16 6917−4H 255/60 6917−4H 323/25 7419−4H 327/40 8619−4H C07D 295/16 Z

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(II) 【化1】 〔式中、Rはシアノ基、-CON(R3)R4(式中、R3 及びR
    4 は同一又は異なっても良く、水素原子、低級アルキル
    基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原
    子、ニトロ基、シアノ基、低級アルキル基、低級ハロア
    ルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルコキシ基、
    低級アルキルチオ基又は低級ハロアルキルチオ基から選
    択される1〜5個の置換基を有するフェニル基、ベンジ
    ル基、又は同一又は異なっても良く、低級アルキル基、
    低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアル
    コキシ基、低級アルキルチオ基又は低級ハロアルキルチ
    オ基から選択される1〜5個の置換基を有するベンジル
    基を示し、R3 及びR4 は一緒になってアルキレン基を
    示すこともできる。)又は-COAR5(式中、R5 は水素原
    子、低級アルキル基、フェニル基、同一又は異なっても
    良く、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、低級アルキ
    ル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハ
    ロアルコキシ基、低級アルキルチオ基又は低級ハロアル
    キルチオ基から選択される1〜5個の置換基を有するフ
    ェニル基、ベンジル基又は同一又は異なっても良く、低
    級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ
    基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキルチオ基又は低
    級ハロアルキルチオ基から選択される1〜5個の置換基
    を有するベンジル基を示し、Aは酸素原子又は硫黄原子
    を示す。)を示し、R1 及びR2 は同一又は異なっても
    良く, 水素原子又は低級アルキル基を示し、Xはハロゲ
    ン原子又は低級アルキル基を示す。〕で表されるフェノ
    キシ脂肪酸類をハロゲン化剤の存在下に選択的にハロゲ
    ン化することを特徴とする一般式(I) 【化2】 (式中、R、R1 、R2 及びXは前記に同じくし、Yは
    ハロゲン原子を示す。)で表されるハロゲノフェノキシ
    脂肪酸誘導体類の製造方法。
  2. 【請求項2】 ハロゲン化剤が塩素化剤である請求項第
    1項記載のハロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体類の製造方
    法。
  3. 【請求項3】 一般式(I’) 【化3】 〔式中、R’はシアノ基又は-CON(R3')R4'(式中、R3'
    及びR4'は同一又は異なっても良く、水素原子、低級ア
    ルキル基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロ
    ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、低級アルキル基、低級
    ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルコキ
    シ基、低級アルキルチオ基又は低級ハロアルキルチオ基
    から選択される1〜5個の置換基を有するフェニル基、
    ベンジル基又は同一又は異なっても良く、低級アルキル
    基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロ
    アルコキシ基、低級アルキルチオ基又は低級ハロアルキ
    ルチオ基から選択される1〜5個の置換基を有するベン
    ジル基を示す。)を示し、R1'及びR2'は同一又は異な
    っても良く、水素原子又は低級アルキル基を示し、X'
    はフッ素原子、沃素原子、臭素原子又は低級アルキル基
    を示し、Y' はハロゲン原子を示す。但し、R1'及びR
    2'が水素原子を示し、X’がフッ素原子、Y’が塩素原
    子を示す場合、R’はシアノ基を除く。〕で表されるハ
    ロゲノフェノキシ脂肪酸誘導体類。
  4. 【請求項4】 R’がシアノ基又は-CON(R3')R4'(式
    中、R3'及びR4'は同一又は異なっても良く、水素原
    子、低級アルキル基、フェニル基又は同一又は異なって
    も良く、1〜5個のハロゲン原子で置換されたフェニル
    基を示し、R3'及びR4'は一緒になってアルキレン基を
    示すこともできる。)を示し、R1'が水素原子又は低級
    アルキル基を示し、R2'が水素原子を示し、X' がフッ
    素原子又は低級アルキル基を示し、Y' が塩素原子であ
    る請求項第3項記載のハロゲノフェノキシ酢酸誘導体
    類。
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