JPH06245152A - 光センサ読取り装置 - Google Patents
光センサ読取り装置Info
- Publication number
- JPH06245152A JPH06245152A JP5025523A JP2552393A JPH06245152A JP H06245152 A JPH06245152 A JP H06245152A JP 5025523 A JP5025523 A JP 5025523A JP 2552393 A JP2552393 A JP 2552393A JP H06245152 A JPH06245152 A JP H06245152A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical sensor
- photoelectric conversion
- conversion element
- thin film
- film transistor
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ファクシミリやイメージスキャナ、複写機等
に使用される、高速で高性能な光センサ読取り装置を提
供することである。 【構成】 薄膜トランジスタと、光電変換素子を使用し
た光センサ読取り装置において、ポリシリコンの薄膜ト
ランジスタ1と、この薄膜トランジスタ1のゲートに接
続された光電変換素子2を設け、該薄膜トランジスタ1
のドレイン側より光電変換素子に入力した信号を出力す
るように構成する。
に使用される、高速で高性能な光センサ読取り装置を提
供することである。 【構成】 薄膜トランジスタと、光電変換素子を使用し
た光センサ読取り装置において、ポリシリコンの薄膜ト
ランジスタ1と、この薄膜トランジスタ1のゲートに接
続された光電変換素子2を設け、該薄膜トランジスタ1
のドレイン側より光電変換素子に入力した信号を出力す
るように構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光センサ読取り装置に
係り、特にファクシミリやカラー用のイメ−ジスキャ
ナ、複写機等に使用される光センサ読取り装置に関す
る。
係り、特にファクシミリやカラー用のイメ−ジスキャ
ナ、複写機等に使用される光センサ読取り装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】ファクシミリやイメージスキャナ、複写
機等の入力部分に画像・原稿を電気信号に変換する光セ
ンサ読取り装置が使用されている。最近はこれらの高級
機化が要求され、例えば解像度が400dpI、256
階調、読取り速度が1line/msec以上のものが
要求されている。
機等の入力部分に画像・原稿を電気信号に変換する光セ
ンサ読取り装置が使用されている。最近はこれらの高級
機化が要求され、例えば解像度が400dpI、256
階調、読取り速度が1line/msec以上のものが
要求されている。
【0003】例えば図4(A)に示す如く、原稿40を
光源41で照射してこの原稿40の画像をロットレンズ
42を経由して密着型イメージセンサ43に入力し、密
着型イメージセンサ43よりイメージ信号を出力する。
この場合、密着型イメージセンサ43としてアモルファ
ス・シリコン(α−Si)のフォトダイオードが使用さ
れている。
光源41で照射してこの原稿40の画像をロットレンズ
42を経由して密着型イメージセンサ43に入力し、密
着型イメージセンサ43よりイメージ信号を出力する。
この場合、密着型イメージセンサ43としてアモルファ
ス・シリコン(α−Si)のフォトダイオードが使用さ
れている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のα−
Si形のフォトダイオードは、前記の如き、高性能化の
ために光源41の光の強度を増加してもそのS/N比に
限界があり、高性能化することが困難である。これは高
性能化するためにセンサ面積が小さくなり、また高速化
するために電荷蓄積時間が短くなり、イメージ信号の出
力電圧が大きくできないことによる。
Si形のフォトダイオードは、前記の如き、高性能化の
ために光源41の光の強度を増加してもそのS/N比に
限界があり、高性能化することが困難である。これは高
性能化するためにセンサ面積が小さくなり、また高速化
するために電荷蓄積時間が短くなり、イメージ信号の出
力電圧が大きくできないことによる。
【0005】また、図4(B)に示す如く、CCDを用
いたICイメージセンサ46を用いて原稿40のイメー
ジ信号を出力する場合には、原稿を縮小レンズ45によ
り得た縮小画像をICイメージセンサ46により、イメ
ージ信号に変換している。このような縮小型のイメージ
センサ・タイプのものでは、縮小レンズ系を必要とする
ため長い物像間距離を必要とし、装置のコンパクト化が
困難のため、大型化になる。しかもCCDをマルチチッ
プ化するとき、そのつなぎ目が出力として出てくるの
で、問題がある。
いたICイメージセンサ46を用いて原稿40のイメー
ジ信号を出力する場合には、原稿を縮小レンズ45によ
り得た縮小画像をICイメージセンサ46により、イメ
ージ信号に変換している。このような縮小型のイメージ
センサ・タイプのものでは、縮小レンズ系を必要とする
ため長い物像間距離を必要とし、装置のコンパクト化が
困難のため、大型化になる。しかもCCDをマルチチッ
プ化するとき、そのつなぎ目が出力として出てくるの
で、問題がある。
【0006】従って本発明の目的は、縮小レンズのよう
な光学系を使用することなく、高性能化することができ
る光センサ読取り装置を提供することである。
な光学系を使用することなく、高性能化することができ
る光センサ読取り装置を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明者は鋭意研究の結果、図1(A)に示す如
く、非単結晶シリコン薄膜トランジスタ(ポリSiTF
T)1のゲート回路に、例えばアモルファス・シリコン
(α−Si)ダイオードの如き、光電変換素子2を接続
することにより読取り装置を構成した。なお図1(A)
において、R1 、R 2 は抵抗であり、例えばポリSiの
抵抗体で構成される。
め、本発明者は鋭意研究の結果、図1(A)に示す如
く、非単結晶シリコン薄膜トランジスタ(ポリSiTF
T)1のゲート回路に、例えばアモルファス・シリコン
(α−Si)ダイオードの如き、光電変換素子2を接続
することにより読取り装置を構成した。なお図1(A)
において、R1 、R 2 は抵抗であり、例えばポリSiの
抵抗体で構成される。
【0008】例えばポリSiTFT1の特性は、図1
(B)において実線の特性曲線Pに示す如く、ゲート電
圧VGが約5Vのときドレイン電流IDは10-9程度で
あり、VGが約7.5Vのとき10-5程度である。従っ
て、α−Siダイオードの如き光電変換素子2が1×1
011(Ω)〜5×1010(Ω)の如く2倍の抵抗変化で
変化して、VGが5V〜7.5V位に変化させればドレ
イン電流IDを10-9から10-5に約4桁の、傾斜特性
つまりアナログ特性で変化させることができる。
(B)において実線の特性曲線Pに示す如く、ゲート電
圧VGが約5Vのときドレイン電流IDは10-9程度で
あり、VGが約7.5Vのとき10-5程度である。従っ
て、α−Siダイオードの如き光電変換素子2が1×1
011(Ω)〜5×1010(Ω)の如く2倍の抵抗変化で
変化して、VGが5V〜7.5V位に変化させればドレ
イン電流IDを10-9から10-5に約4桁の、傾斜特性
つまりアナログ特性で変化させることができる。
【0009】
【作用】TFTを単結晶Siで構成すると、その動作特
性は、図1(B)において点線の特性曲線Qに示す如く
きわめて急峻な、H、Lレベルの特性つまりディジタル
的な特性を有する。従って、ゲート電圧VGが7V前後
でH、Lのディジタル的な動作を行うのみであるが、本
発明の場合、ポリSiTFTは、ゲート電圧VGが例え
ば5V〜7.5Vの範囲で変化するとき、これに応じて
ドレイン電流IDも変化する。この変化はα−Siダイ
オードの如き光電変換素子2の2倍の抵抗変化で例えば
4桁のドレイン電流IDの変化を得ることができ、これ
に応じた出力電圧Voutを得ることができる。
性は、図1(B)において点線の特性曲線Qに示す如く
きわめて急峻な、H、Lレベルの特性つまりディジタル
的な特性を有する。従って、ゲート電圧VGが7V前後
でH、Lのディジタル的な動作を行うのみであるが、本
発明の場合、ポリSiTFTは、ゲート電圧VGが例え
ば5V〜7.5Vの範囲で変化するとき、これに応じて
ドレイン電流IDも変化する。この変化はα−Siダイ
オードの如き光電変換素子2の2倍の抵抗変化で例えば
4桁のドレイン電流IDの変化を得ることができ、これ
に応じた出力電圧Voutを得ることができる。
【0010】256階調の出力を得るには1桁程度の出
力変化が得られれば充分可能であるので、本発明により
前記高性能の光センサ読取り装置が得られることがわか
る。
力変化が得られれば充分可能であるので、本発明により
前記高性能の光センサ読取り装置が得られることがわか
る。
【0011】
【実施例】1.第1実施例 本発明の第1実施例については、前記の如く、図1につ
いて説明したとおりであり、重複説明をさけるため、追
加説明を省略する。
いて説明したとおりであり、重複説明をさけるため、追
加説明を省略する。
【0012】2.第2実施例 本発明の第2実施例を図2にもとづき説明する。図2に
おいて10はポリSiTFT、11は光電変換素子であ
って例えばアモルファス・シリコン(α−Si)のフォ
ト・ダイオードで構成されるもの、12はオペアンプ、
R3 、R4 はそれぞれ抵抗である。
おいて10はポリSiTFT、11は光電変換素子であ
って例えばアモルファス・シリコン(α−Si)のフォ
ト・ダイオードで構成されるもの、12はオペアンプ、
R3 、R4 はそれぞれ抵抗である。
【0013】ポリSiTFT10は、ゲート電圧VGに
よりドレイン電流IDが変化するものであり、例えば図
3の特性曲線A、特性曲線Bに示す如き特性を有する。
特性曲線Aの場合にはゲート電圧VGが5V〜7.5V
に変化するとき、ドレイン電流IDは5.9×10-5A
〜3.5×10-3Aの約2.4桁の変化を示し、特性曲
線Bの場合には、同様に約1桁の変化を示す、勿論本発
明はこれらの特性のTFTのみに限定されるものではな
い。
よりドレイン電流IDが変化するものであり、例えば図
3の特性曲線A、特性曲線Bに示す如き特性を有する。
特性曲線Aの場合にはゲート電圧VGが5V〜7.5V
に変化するとき、ドレイン電流IDは5.9×10-5A
〜3.5×10-3Aの約2.4桁の変化を示し、特性曲
線Bの場合には、同様に約1桁の変化を示す、勿論本発
明はこれらの特性のTFTのみに限定されるものではな
い。
【0014】ポリSiTFT10のドレイン側には、抵
抗R4 とオペアンプ12が接続されており、ドレイン電
流の電流値IDに応じた出力電圧Voutが増幅されて
オペアンプ12から得られることになる。
抗R4 とオペアンプ12が接続されており、ドレイン電
流の電流値IDに応じた出力電圧Voutが増幅されて
オペアンプ12から得られることになる。
【0015】また光電変換素子11は、例えばガラス基
板上にクロム電極を設けてその上にNIP型のα−Si
構成のダイオードを形成し、これにITO電極の如き透
明電極を設けたもので構成される。これにより光電変換
素子11をα−Siのフォト・ダイオードで構成したと
き、フォト・ダイオードのピュアンペアオーダの電流変
化により、ポリSiTFT10のドレイン電流において
マイクロアンペアの電流変化を得ることができる。
板上にクロム電極を設けてその上にNIP型のα−Si
構成のダイオードを形成し、これにITO電極の如き透
明電極を設けたもので構成される。これにより光電変換
素子11をα−Siのフォト・ダイオードで構成したと
き、フォト・ダイオードのピュアンペアオーダの電流変
化により、ポリSiTFT10のドレイン電流において
マイクロアンペアの電流変化を得ることができる。
【0016】抵抗R3 としてはα−Siダイオードを逆
バイアス接続して使用してもよく、またポリシリコン抵
抗でもよい。
バイアス接続して使用してもよく、またポリシリコン抵
抗でもよい。
【0017】
【発明の効果】本発明によれば、ポリSiTFTを使用
しそのゲート回路に光電変換素子を接続して光センサ読
取り装置を構成したので、増幅度が大きいのみならず、
その出力変化が「1」、「0」でなく、アナログの出力
を得ることができる。しかもそのポリSiTFTの特性
により約1桁〜4桁の出力変化のものを得ることができ
るので256階調の、高速の、つまり高性能のカラー用
にも可能な光センサ読取り装置を提供することができ
る。
しそのゲート回路に光電変換素子を接続して光センサ読
取り装置を構成したので、増幅度が大きいのみならず、
その出力変化が「1」、「0」でなく、アナログの出力
を得ることができる。しかもそのポリSiTFTの特性
により約1桁〜4桁の出力変化のものを得ることができ
るので256階調の、高速の、つまり高性能のカラー用
にも可能な光センサ読取り装置を提供することができ
る。
【0018】さらに光電変換素子としてアモルファスS
iのフォトダイオードを使用するとき、ポリSiTFT
と基板上に一体的に集積構成することが可能になる。
iのフォトダイオードを使用するとき、ポリSiTFT
と基板上に一体的に集積構成することが可能になる。
【図1】本発明の第1実施例を示す。
【図2】本発明の第2実施例を示す。
【図3】ポリシリコンTFTの特性図である。
【図4】従来例説明図である。
1 ポリシリコンTFT 2 光電変換素子
Claims (3)
- 【請求項1】 薄膜トランジスタと、光電変換素子を使
用した光センサ読取り装置において、 ポリシリコンの薄膜トランジスタ(1)と、 この薄膜トランジスタ(1)のゲートに接続された光電
変換素子(2)を設け、 該薄膜トランジスタ(1)のドレイン側より光電変換素
子に入力した信号を出力するように構成したことを特徴
とする光センサ読取り装置。 - 【請求項2】 前記光電変換素子としてアモルファス・
シリコンのフォト・ダイオ−ドを用いたことを特徴とす
る請求項1記載の光センサ読取り装置。 - 【請求項3】 前記ポリシリコンの薄膜トランジスタの
ドレイン側に、ドレイン電流を入力するオペアンプを接
続したことを特徴とする請求項1記載の光センサ読取り
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5025523A JPH06245152A (ja) | 1993-02-15 | 1993-02-15 | 光センサ読取り装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5025523A JPH06245152A (ja) | 1993-02-15 | 1993-02-15 | 光センサ読取り装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06245152A true JPH06245152A (ja) | 1994-09-02 |
Family
ID=12168424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5025523A Pending JPH06245152A (ja) | 1993-02-15 | 1993-02-15 | 光センサ読取り装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06245152A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7868882B2 (en) | 2006-05-17 | 2011-01-11 | Sony Corporation | Electronic circuit, electro-optical device, and electronic apparatus including the same |
US7893932B2 (en) | 2006-04-28 | 2011-02-22 | Sony Corporation | Electronic circuit, electro-optical device, and electronic apparatus including the same |
-
1993
- 1993-02-15 JP JP5025523A patent/JPH06245152A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7893932B2 (en) | 2006-04-28 | 2011-02-22 | Sony Corporation | Electronic circuit, electro-optical device, and electronic apparatus including the same |
US7868882B2 (en) | 2006-05-17 | 2011-01-11 | Sony Corporation | Electronic circuit, electro-optical device, and electronic apparatus including the same |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040706 |