JPH06242177A - Test device for semiconductor device - Google Patents

Test device for semiconductor device

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JPH06242177A
JPH06242177A JP5025205A JP2520593A JPH06242177A JP H06242177 A JPH06242177 A JP H06242177A JP 5025205 A JP5025205 A JP 5025205A JP 2520593 A JP2520593 A JP 2520593A JP H06242177 A JPH06242177 A JP H06242177A
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Mitsuru Yamazaki
満 山崎
Masakazu Yashiro
正和 八代
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PURPOSE:To prevent the damage of a semiconductor device and to improve working ability and reliability when it is tested. CONSTITUTION:A semiconductor device testing device has the first and the second electrode 11, 12 having semiconductor device mounting faces 11a and 12a; an electrode holder 13 which is arranged below the first and the second electrode 11, 12 and has contact points 13a, 13b to come into contact with the second electrode from an upper side, and moreover holds the first and the second electrode 11, 12 in a mutually insulated state; a lower conductor 14 which is arranged below the electrode holder 13 and has contact points 14a, 14b to come into contact with the first electrode 11 from an upper side; plural sets of contact probe pins to come into contact with the surface of the semiconductor device 5, the contact points 13a, 13b of the electrode holder 13 and the contact points 14a, 14b of the lower conductor 14.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、組立途中の半導体装
置の例えば導電性等の電気的特性の検査工程に使用され
る半導体装置のテスト装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device testing apparatus used in a process of inspecting electrical characteristics such as conductivity of a semiconductor device being assembled.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は従来の半導体装置のテスト装置の
一例を示し、また、図7はそのテスト装置のコンタクト
治具の一部を示し、図において、符号1はテスター、2
a及び2bはテスター1とコンタクト治具3a及び3b
とをそれぞれ接続する接続ケーブル、4は被検査物であ
る半導体装置5を収納するための金属トレイ、6はこの
金属トレイ4とテスター1とを接続ケーブル2cによっ
て接続するために、接続ケーブル2cの端部を金属トレ
イ4に固定するわにぐちクリップである。
2. Description of the Related Art FIG. 6 shows an example of a conventional semiconductor device test apparatus, and FIG. 7 shows a part of a contact jig of the test apparatus.
a and 2b are tester 1 and contact jigs 3a and 3b
And a connection cable 4 for connecting the metal tray 4 and the tester 1 to each other by the connection cable 2c. This is a crocodile clip that fixes the end portion to the metal tray 4.

【0003】また、符号7はコンタクト治具3a及び3
bの先端部にそれぞれ取り付けられたコンタクトプロー
ブピン、8は半導体装置5の測定ポイントに直接触れる
接触ピン、そして、符号9はスリーブ10に内蔵された
圧縮ばねである。また、図8はブレークされた半導体装
置5を示し、符号5a及び5bはこの半導体装置5の中
に組み込まれたセルであり、半導体装置5の裏面には共
通電極を有している。
Reference numeral 7 indicates contact jigs 3a and 3
Contact probe pins respectively attached to the tip of b, 8 are contact pins that come into direct contact with the measurement point of the semiconductor device 5, and reference numeral 9 is a compression spring built in the sleeve 10. Further, FIG. 8 shows a broken semiconductor device 5, and reference numerals 5a and 5b are cells incorporated in the semiconductor device 5, and a common electrode is provided on the back surface of the semiconductor device 5.

【0004】次に、半導体装置5のテスト手順について
説明すると、回路素子の組み込まれた半導体ウエハはダ
イシングされた後、ブレ−クシートの上で個々の半導体
装置5に分割され、その後、それぞれの電気的特性の近
いものどうしに分類するために次の検査工程にかけられ
る。検査工程では、ブレークシートから金属トレイ4に
真空ピンセット等によって検査待ちの半導体装置5を検
査済みの半導体装置5と移し替えた後、テスター1から
の接続ケーブル2cをわにぐちクリップ6を介して金属
トレイ4に接続して、テスター1と半導体装置5の裏面
にある共通電極とを接続する。
Next, the test procedure of the semiconductor device 5 will be described. After the semiconductor wafer in which the circuit elements are incorporated is diced, it is divided into individual semiconductor devices 5 on the break sheet, and then the respective electric devices are electrically connected. The next inspection process is performed to classify objects with similar physical characteristics. In the inspection process, after the semiconductor device 5 waiting for inspection is transferred from the break sheet to the metal tray 4 by vacuum tweezers or the like and the semiconductor device 5 that has been inspected is transferred, the connection cable 2c from the tester 1 is passed through the alligator clip 6 By connecting to the metal tray 4, the tester 1 and the common electrode on the back surface of the semiconductor device 5 are connected.

【0005】同様に、テスター1と接続ケーブル2a,
2bによって接続された、先端部にコンタクトプローブ
ピン7が組み込まれたコンタクト治具3a,3bを半導
体装置5の測定ポイントに押しつけることによりコンタ
クトプローブピン7内の圧縮ばね9が撓み、適度な接触
圧が接触ピン8に加えられ、例えば半導体装置5の導電
性等を検査するための特定検査用測定回路がつくられ
る。
Similarly, the tester 1 and the connection cable 2a,
By pressing the contact jigs 3a and 3b, which are connected by 2b and in which the contact probe pins 7 are incorporated into the tips, to the measurement points of the semiconductor device 5, the compression springs 9 in the contact probe pins 7 are bent and the appropriate contact pressure is applied. Is added to the contact pin 8 to form a specific test measuring circuit for testing, for example, the conductivity of the semiconductor device 5.

【0006】そして、検査作業台下のフットスイッチ
(図省略)によりテスター1側にスタート信号が送られ
てテスター1による検査が実施される。検査結果は、テ
スター1の前面のパネルの表示部(図省略)に表示さ
れ、不良品は作業者が分類区別する。また、図8に示す
ように、一個の半導体装置5に複数個の測定ポイントが
あるときは、コンタクト治具3a,3bの測定ポイント
を順次ずらしながら同様の検査を繰り返し行う。
Then, a start signal is sent to the tester 1 side by a foot switch (not shown) under the inspection workbench, and the inspection by the tester 1 is carried out. The inspection result is displayed on the display unit (not shown) on the front panel of the tester 1, and the defective product is classified by the operator. Further, as shown in FIG. 8, when one semiconductor device 5 has a plurality of measurement points, the same inspection is repeated while sequentially shifting the measurement points of the contact jigs 3a and 3b.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体装置のテ
スト装置は、以上のように構成されているので、図8に
示すように一個の半導体装置5の中に測定ポイントが複
数箇所あるときは、コンタクト治具3a及び3bの測定
ポイントを順次ずらしながら行う必要があるため、作業
性がきわめて悪く、しかも実際の使用状態とは異なる単
一の半導体装置のセル単位での測定しかできないため、
全セル動作時、即ち、一半導体装置での電気的特性との
相関が取り難く、正確なクラス分けがしにくいという課
題があった。
Since the conventional semiconductor device test apparatus is constructed as described above, when one semiconductor device 5 has a plurality of measurement points as shown in FIG. Since it is necessary to sequentially shift the measurement points of the contact jigs 3a and 3b, the workability is extremely poor, and only the measurement in units of cells of a single semiconductor device different from the actual use state can be performed.
There is a problem in that it is difficult to obtain correlation during electrical operation of all cells, that is, electrical characteristics of one semiconductor device, and it is difficult to perform accurate classification.

【0008】また、ブレーク時に発生したくずが半導体
装置5の裏側に付着することがあるが、そのとき上方か
ら測定ポイントにコンタクトプローブピン7によって測
定荷重を加えたとき、このくずが原因で半導体装置5を
損傷してしまう等の課題もあった。
Debris generated at the time of breakage may adhere to the back side of the semiconductor device 5. When a measurement load is applied to the measurement point from above by the contact probe pin 7 at this time, the debris causes the semiconductor device. There was also a problem such as damage to No. 5.

【0009】この発明は、以上のような課題を解決する
ためになされたもので、半導体装置テスト時の信頼性及
び作業性を向上させ、かつ半導体装置テスト時の半導体
装置の損傷を防止することを可能にした半導体装置のテ
スト装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and improves reliability and workability during a semiconductor device test and prevents damage to the semiconductor device during a semiconductor device test. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device test apparatus that enables the above.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この発明に係る請求項第
1項記載の半導体装置のテスト装置は、半導体装置を搭
載するための半導体装置搭載面を有する第1電極及び第
2電極と、この第1電極及び第2電極の下側に配置さ
れ、前記第2電極とコンタクトするためのコンタクトポ
イントを有し、かつ前記第1電極と第2電極とを絶縁し
た状態で保持する電極ホルダーと、この電極ホルダーの
下側に配置され、前記第1電極とコンタクトするための
コンタクトポイントを有する下部導体とを含む下電極ユ
ニットと、前記第1電極及び前記第2電極の上方に配置
され、前記半導体装置の表面、前記電極ホルダーのコン
タクトポイント及び前記下部導体のコンタクトポイント
と上方からコンタクトするための複数組のコンタクトプ
ローブピンを有するコンタクトユニットとを備えたもの
である。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device test apparatus comprising: a first electrode and a second electrode having a semiconductor device mounting surface for mounting a semiconductor device; An electrode holder disposed below the first electrode and the second electrode, having a contact point for contacting the second electrode, and holding the first electrode and the second electrode in an insulated state; A lower electrode unit disposed below the electrode holder and including a lower conductor having a contact point for contacting the first electrode; and a lower electrode unit disposed above the first electrode and the second electrode. A plurality of sets of contact probe pins for contacting the surface of the device, the contact points of the electrode holder and the contact points of the lower conductor from above It is obtained by a down tact unit.

【0011】この発明に係る請求項第2項記載の半導体
装置のテスト装置は、請求項第1項記載の半導体装置の
テスト装置において、第1電極及び第2電極の半導体装
置搭載面を角錐台形状に所定間隔おきに形成したもので
ある。
A semiconductor device test apparatus according to a second aspect of the present invention is the semiconductor device test apparatus according to the first aspect, wherein the semiconductor device mounting surface of the first electrode and the second electrode is a truncated pyramid. The shape is formed at predetermined intervals.

【0012】この発明に係る請求項第3項記載の半導体
装置のテスト装置は、下電極ユニットを所定間隔おきに
複数個搭載するためのテストトレイと、このテストトレ
イ上の前記下電極ユニットをコンタクトユニットの位置
まで水平移動するためのテストトレイ搬送モジュールと
を備えたものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device test apparatus in which a test tray for mounting a plurality of lower electrode units at predetermined intervals and a contact between the lower electrode unit on the test tray. And a test tray transfer module for horizontally moving to the position of the unit.

【0013】[0013]

【作用】この発明に係る請求項第1項記載の半導体装置
のテスト装置においては、コンタクトプローブピンによ
って半導体装置の表面の測定ポイント間及び裏面の共通
電極での導通チェックが行われる。その際、半導体装置
の表面は、コンタクトプローブピンを半導体装置の測定
ポイントに直接接触することにより行われる。一方、半
導体装置の裏面は、第1電極に接続された下部導体のコ
ンタクトポイントと電極ホルダーに設けられたコンタク
トポイントとの間を上方からコンタクトプローブピンに
よってコンタクトすることにより行われる。そして、半
導体装置の表面および裏面の導通チェックが正常であれ
ば、その後半導体装置の実測定が行われる。
In the semiconductor device test apparatus according to the first aspect of the present invention, the contact probe pin checks the continuity between the measurement points on the front surface of the semiconductor device and the common electrode on the rear surface. At this time, the surface of the semiconductor device is formed by directly contacting the contact probe pin with the measurement point of the semiconductor device. On the other hand, the back surface of the semiconductor device is formed by contacting the contact point of the lower conductor connected to the first electrode and the contact point provided on the electrode holder from above with a contact probe pin. Then, if the continuity check of the front surface and the back surface of the semiconductor device is normal, then the actual measurement of the semiconductor device is performed.

【0014】また、この発明に係る請求項第2項記載の
半導体装置のテスト装置においては、第1電極及び第2
電極の半導体装置搭載面の間隙に半導体装置のブレーク
時に発生したくずが入り込むことで、第1電極及び第2
電極の半導体装置搭載面と半導体装置との間にブレーク
くずが挟まることが防止され、ブレークくずによる半導
体装置の損傷が防止される。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device test apparatus comprising: a first electrode and a second electrode.
The waste generated during the break of the semiconductor device enters the gap between the electrodes on the semiconductor device mounting surface, so that the first electrode and the second electrode
Break scraps are prevented from being sandwiched between the semiconductor device mounting surface of the electrode and the semiconductor device, and damage to the semiconductor device due to the break scraps is prevented.

【0015】また、この発明に係る請求項第3項記載の
半導体装置のテスト装置においては、各下電極ユニット
の半導体装置搭載面に搭載された半導体装置は、半導体
装置搭載面上に保持された状態でコンタクトユニットの
位置までテストトレイ搬送モジュールによって水平移動
され、そこで、半導体装置の表面及び裏面の導通チェッ
クが正常であれば、その後半導体装置の実測定が行われ
る。
In the semiconductor device test apparatus according to the third aspect of the present invention, the semiconductor device mounted on the semiconductor device mounting surface of each lower electrode unit is held on the semiconductor device mounting surface. In this state, the test tray transport module horizontally moves to the position of the contact unit, and if the conduction check of the front surface and the back surface of the semiconductor device is normal there, then the actual measurement of the semiconductor device is performed.

【0016】[0016]

【実施例】【Example】

実施例1.図1〜図4は、この発明に係る請求項第1項
及び第2項記載の半導体装置のテスト装置の一実施例を
示し、図において、符号11は半導体装置搭載面11a
が角錐台形状に所定間隔おきに形成された第1電極、1
2は半導体装置搭載面12aが同じく角錐台形状に所定
間隔おきに形成され、かつ、第1電極11の側部にL字
状に配置された第2電極、13は第1電極11及び第2
電極12の下側に設置され、第1電極11及び第2電極
12を保持する電極ホルダーであって、この電極ホルダ
ー13には真上に突出したコンタクトポイント13aと
13bとが設けられている。
Example 1. 1 to 4 show an embodiment of a semiconductor device test apparatus according to claims 1 and 2 of the present invention, in which reference numeral 11 denotes a semiconductor device mounting surface 11a.
Are first electrodes formed in a truncated pyramid shape at predetermined intervals, 1
2 is a second electrode in which the semiconductor device mounting surfaces 12a are also formed in a truncated pyramid shape at predetermined intervals and are arranged in an L shape on the side portion of the first electrode 11, and 13 is the first electrode 11 and the second electrode.
The electrode holder is installed below the electrode 12 and holds the first electrode 11 and the second electrode 12. The electrode holder 13 is provided with contact points 13a and 13b protruding right above.

【0017】符号14は電極ホルダー13の下側に設置
された下部導体であって、この下部導体14の両端部に
は電極ホルダー13の外側に真上に突出したコンタクト
ポイント14aと14bとを有している。また、符号1
5は先端部が電極ホルダー13に接続され、第1電極1
1の半導体装置搭載面11a及び第2電極12の半導体
装置搭載面12a上に載置された半導体装置5を半導体
装置搭載面11a側に真空吸着するために真空引きする
真空吸引用パイプである。
Reference numeral 14 is a lower conductor installed below the electrode holder 13, and both ends of the lower conductor 14 have contact points 14a and 14b projecting directly outside the electrode holder 13. is doing. Also, reference numeral 1
5, the tip of the first electrode 1 is connected to the electrode holder 13.
1 is a pipe for vacuum suction for vacuuming the semiconductor device 5 mounted on the semiconductor device mounting surface 11a of No. 1 and the semiconductor device mounting surface 12a of the second electrode 12 for vacuum suction to the semiconductor device mounting surface 11a side.

【0018】第1電極11及び第2電極12の半導体装
置搭載面11a,12a及び電極ホルダー13の上端面
は、半導体装置5が電気的に接して載置されるように同
一面状に形成されている。符号16は第1電極11の各
側面を電極ホルダー13と絶縁する第1絶縁シート、1
7は第1電極11の底面を電極ホルダー13と絶縁する
第2絶縁シート、18は電極ホルダー13と下部導体1
4とを絶縁する絶縁リング、19は第1電極11と下部
導体14とを導通可能なように連結する導体締結ボルト
である。なお、電極ホルダー13に形成されたボルト孔
13dは導体締結ボルト19が電極ホルダー13に接触
しないようにやや大きめに形成されている。
The semiconductor device mounting surfaces 11a and 12a of the first electrode 11 and the second electrode 12 and the upper end surface of the electrode holder 13 are formed in the same plane so that the semiconductor device 5 can be placed in electrical contact therewith. ing. Reference numeral 16 is a first insulating sheet that insulates each side surface of the first electrode 11 from the electrode holder 13,
Reference numeral 7 is a second insulating sheet that insulates the bottom surface of the first electrode 11 from the electrode holder 13, and 18 is the electrode holder 13 and the lower conductor 1.
An insulating ring that insulates the first electrode 11 and the lower conductor 14 from each other is provided. The bolt hole 13d formed in the electrode holder 13 is formed in a slightly larger size so that the conductor fastening bolt 19 does not come into contact with the electrode holder 13.

【0019】従って、電極ホルダー13の凹部13c内
に設置された第1電極11と下部導体14とは導通状態
にあり、また第2電極12と電極ホルダー13とは導通
状態にある。一方、第1電極11と第2電極12とは絶
縁状態にあり、第1電極11と電極ホルダー13とは絶
縁状態にあり、さらに第2電極12と下部導体14とは
電気的に絶縁状態にある。なお、第1電極11、第2電
極12、電極ホルダー13および下部導体14により下
電極ユニット27を構成している。
Therefore, the first electrode 11 and the lower conductor 14 installed in the recess 13c of the electrode holder 13 are in conduction, and the second electrode 12 and the electrode holder 13 are in conduction. On the other hand, the first electrode 11 and the second electrode 12 are insulated, the first electrode 11 and the electrode holder 13 are insulated, and the second electrode 12 and the lower conductor 14 are electrically insulated. is there. The first electrode 11, the second electrode 12, the electrode holder 13 and the lower conductor 14 form a lower electrode unit 27.

【0020】符号20,21,22及び23は半導体装
置5を測定するためのコンタクトプローブピンで、内部
にある圧縮ばね(図省略)が縮設され、押圧時にコンタ
クトポイントに加圧状態でコンタクするように構成され
ている。24はこのコンタクトプローブピン20,2
1,22及び23を保持して上下動させる駆動機構(図
示なし)を有するコンタクトユニット、25はコンタク
トプローブピン20,21,22及び23の接触ピン2
0a,21a,22a及び23aをテスター(図省略)
に接続する接続ケーブル、26は電極ホルダー13に接
続された真空吸引用パイプ15の接続部から空気がリー
クするのを防止するパッキンである。
Reference numerals 20, 21, 22, and 23 are contact probe pins for measuring the semiconductor device 5, and an internal compression spring (not shown) is contracted to contact the contact point in a pressurized state at the time of pressing. Is configured. 24 is this contact probe pin 20, 2
A contact unit having a drive mechanism (not shown) that holds 1, 22, and 23 up and down, and 25 is a contact pin 2 of the contact probe pins 20, 21, 22, and 23.
Testers 0a, 21a, 22a and 23a (not shown)
Reference numeral 26 is a connection cable for connecting to the electrode holder, and 26 is packing for preventing air from leaking from the connection portion of the vacuum suction pipe 15 connected to the electrode holder 13.

【0021】次に、上記構成の半導体装置のテスト装置
による半導体装置5のテスト手順について説明する。半
導体装置5の搭載位置において、第1電極11及び第2
電極12の半導体装置搭載面11a及び12aに、双方
の搭載面に跨がるように半導体装置5を載せ、真空吸引
用パイプ15によって半導体装置5を真空吸引しながら
前後左右にアライメント爪(図省略)によって位置決め
する。
Next, a test procedure of the semiconductor device 5 by the semiconductor device test apparatus having the above-described structure will be described. At the mounting position of the semiconductor device 5, the first electrode 11 and the second electrode 11
The semiconductor device 5 is placed on the semiconductor device mounting surfaces 11a and 12a of the electrode 12 so as to extend over both mounting surfaces, and while the semiconductor device 5 is vacuum-sucked by the vacuum suction pipe 15, the alignment claws (front and rear, left and right) are omitted. ) To position.

【0022】その際、半導体装置5を挟み付ける等して
半導体装置搭載面11a及び12aの所定の位置にセッ
トするのではなく、真空吸引用パイプ15で真空吸引し
た状態で所定の位置にセットするので、半導体装置5の
セットがし易い。また、半導体装置5のサイズが変わっ
ても、第1電極11の半導体装置搭載面11aのコーナ
部A(図2参照)を基準にセットすることで対応でき、
作業性が著しく向上する。
At this time, the semiconductor device 5 is not set at a predetermined position on the semiconductor device mounting surfaces 11a and 12a by sandwiching it, but is set at a predetermined position in a state of being vacuum sucked by the vacuum suction pipe 15. Therefore, it is easy to set the semiconductor device 5. Further, even if the size of the semiconductor device 5 is changed, it can be dealt with by setting the corners A (see FIG. 2) of the semiconductor device mounting surface 11a of the first electrode 11 as a reference,
Workability is significantly improved.

【0023】半導体装置5の位置決めが完了したら、半
導体装置5が動かないように真空吸着した状態でコンタ
クトユニット24を駆動機構(図省略)によって軌道上
を降下させ、コンタクトプローブピン20及び21の接
触ピン20aと21aとによって半導体装置5表面の測
定ポイントにコンタクトする。このとき、テスター、接
続ケーブル25、コンタクトプローブピン20の接触ピ
ン20a、半導体装置5、コンタクトプローブピン21
の接触ピン21aおよび接続ケーブル25によって特定
検査用測定回路が形成され、半導体装置5表面の測定ポ
イント間の導通チェックを行うことにより、接触ピン2
0a、20bが測定ポイントと正常にコンタクトしてい
るが否かが判定される。
When the positioning of the semiconductor device 5 is completed, the contact unit 24 is lowered on the track by a driving mechanism (not shown) in a state where the semiconductor device 5 is vacuum-adsorbed so as not to move, and the contact probe pins 20 and 21 come into contact with each other. The measurement points on the surface of the semiconductor device 5 are contacted by the pins 20a and 21a. At this time, the tester, the connection cable 25, the contact pin 20a of the contact probe pin 20, the semiconductor device 5, the contact probe pin 21.
Measuring circuit for specific inspection is formed by the contact pin 21a and the connecting cable 25, and the contact pin 2 is checked by conducting a continuity check between the measuring points on the surface of the semiconductor device 5.
It is determined whether 0a and 20b are normally in contact with the measurement point.

【0024】また、コンタクトプローブピン20及び2
1をそれぞれ一本で一組として、複数組設けることによ
り、複数個の測定ポンイトを同時に導通チェックするこ
とが可能となる。次に、半導体装置5の裏面の共通電極
が第1の電極11と第2の電極12とに正常にコンタク
トしているかどうかを調べるために、コンタクトプロー
ブピン22及び23の接触ピン22aと23aとを上方
から電極ホルダー13のコンタクトポイント13aと下
部導体14のコンタントポイント14aとにコンタクト
して、導通チェックを行う。
Further, the contact probe pins 20 and 2
It is possible to simultaneously check the continuity of a plurality of measurement points by providing a plurality of sets, one for each one. Next, in order to check whether the common electrode on the back surface of the semiconductor device 5 is normally in contact with the first electrode 11 and the second electrode 12, the contact pins 22a and 23a of the contact probe pins 22 and 23 are Is contacted with the contact point 13a of the electrode holder 13 and the contact point 14a of the lower conductor 14 from above to conduct a continuity check.

【0025】このとき、半導体装置5の裏面が第1電極
11及び第2電極12の半導体装置搭載面11a及び1
2aに電気的に接触していれば、テスター、接続ケーブ
ル25、コンタクトプローブピン22の接触ピン22
a、電極ホルダー13のコンタクトポイント13a、電
極ホルダー13、第2電極12、半導体装置5の共通電
極、第1電極11、導体締結ボルト19、下部導体1
4、下部導体14のコンタクトポイント14a、コンタ
クトプローブピン23の接触ピン23aおよび接続ケー
ブル25によって特定検査用測定回路が形成される。従
って、コンタクトポイント13a、13b間の導通チェ
ックを行うことにより、半導体装置5の裏面に形成され
た共通電極が第1電極11と第2電極12とに正常にコ
ンタクトしているか否かが判定される。次に、この半導
体装置5の表面がコンタクトポイント13a、14aに
正常にコンタクトされ、またその裏面が第1電極11、
第2電極12に正常にコンタクトされていれば、半導体
装置5の実測定に入り、テスターからコンタクトプロー
ブピンを介してテスト信号を入力し、半導体装置5の電
気的特性が測定される。なお、上記テスト信号の回路と
してコンタクトポイント13a,14aを用いて説明し
たが、テスト信号の容量が多いときには、電極ホルダー
13のコンタクトポイント13bと下部導体14のコン
タクトポイント14bとの間も同時にコンタクトするこ
とにより対処することができる。
At this time, the back surface of the semiconductor device 5 is the semiconductor device mounting surfaces 11a and 1 of the first electrode 11 and the second electrode 12, respectively.
The tester, the connecting cable 25, and the contact pin 22 of the contact probe pin 22 if they are in electrical contact with the 2a.
a, contact point 13a of electrode holder 13, electrode holder 13, second electrode 12, common electrode of semiconductor device 5, first electrode 11, conductor fastening bolt 19, lower conductor 1
4, the contact point 14a of the lower conductor 14, the contact pin 23a of the contact probe pin 23, and the connection cable 25 form a measurement circuit for specific inspection. Therefore, it is determined whether or not the common electrode formed on the back surface of the semiconductor device 5 is normally in contact with the first electrode 11 and the second electrode 12 by performing a continuity check between the contact points 13a and 13b. It Next, the front surface of the semiconductor device 5 is normally contacted with the contact points 13a, 14a, and the back surface thereof is the first electrode 11,
If the second electrode 12 is normally contacted, the actual measurement of the semiconductor device 5 is started, a test signal is input from the tester via the contact probe pin, and the electrical characteristics of the semiconductor device 5 are measured. Although the contact points 13a and 14a have been described as the circuit for the test signal, when the capacity of the test signal is large, the contact point 13b of the electrode holder 13 and the contact point 14b of the lower conductor 14 are simultaneously contacted. It can be dealt with.

【0026】実施例2.図5は、この発明に係る請求項
第3項記載の半導体装置のテスト装置の一実施例を示
し、図において、実施例1と同一部分及び相当する部分
には同一符号を付し、その説明は省略する。28は第1
電極11、第2電極12、電極ホルダー13および下部
導体14により構成された下電極ユニット27を所定間
隔おきに複数個搭載するテストトレイである。
Example 2. FIG. 5 shows an embodiment of a semiconductor device test apparatus according to claim 3 of the present invention. In the figure, the same parts as those of the first embodiment and the corresponding parts are designated by the same reference numerals, and their description will be given. Is omitted. 28 is the first
This is a test tray on which a plurality of lower electrode units 27 configured by the electrode 11, the second electrode 12, the electrode holder 13, and the lower conductor 14 are mounted at predetermined intervals.

【0027】次に、この半導体装置のテスト装置による
半導体装置5のテスト手順について説明する。半導体装
置5の搭載位置において、実施例1の動作と同じ要領で
テストトレイ28上の各下電極ユニット27の上に半導
体装置5をそれぞれ載せる。なお、このとき、各下電極
ユニット27の真空吸引用パイプ15の操作は個別に操
作できるようにしておく。
Next, a test procedure for the semiconductor device 5 by the semiconductor device test apparatus will be described. At the mounting position of the semiconductor device 5, the semiconductor device 5 is placed on each lower electrode unit 27 on the test tray 28 in the same manner as the operation of the first embodiment. At this time, the vacuum suction pipes 15 of each lower electrode unit 27 can be operated individually.

【0028】次に、各半導体装置5を半導体装置の搭載
面11a及び12aに真空吸着した状態で一番目の下電
極ユニット27をテストトレイ搬送モジュール(図省
略)の軌道上に設けられたコンタクトユニット24(図
1参照)の位置までテストトレイ搬送モジュールによっ
て水平移動する。次に、コンタクトユニット24を下降
させ、実施例1のコンタクト方法と同じ要領で半導体装
置5の表面及び裏面のコンタクト状態の判定を行い、コ
ンタクトが正常であれば、半導体装置5の電気的特性の
実測定を行う。
Next, a contact unit in which the first lower electrode unit 27 is provided on the track of the test tray transfer module (not shown) in a state where each semiconductor device 5 is vacuum-sucked on the mounting surfaces 11a and 12a of the semiconductor device. The test tray transfer module horizontally moves to a position 24 (see FIG. 1). Next, the contact unit 24 is lowered, and the contact states of the front surface and the back surface of the semiconductor device 5 are determined in the same manner as the contact method of the first embodiment. If the contact is normal, the electrical characteristics of the semiconductor device 5 are checked. Make an actual measurement.

【0029】測定が完了したら、コンタクトユニット2
4を上昇させ、テストトレイ28を所定ピッチ水平移動
し、隣の半導体装置5を測定するために再度コンタクト
ユニット24を降下させ、前記動作を繰り返す。なお、
これらの動作は自動化されている。
When the measurement is completed, the contact unit 2
4, the test tray 28 is horizontally moved by a predetermined pitch, the contact unit 24 is lowered again to measure the adjacent semiconductor device 5, and the above operation is repeated. In addition,
These operations are automated.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、この発明に係る請
求項第1項記載の半導体装置のテスト装置によれば、検
査待ちの半導体装置を載せるための半導体装置搭載面を
有する第1電極及び第2電極と、この第1電極と第2電
極とを絶縁した状態に保持する電極ホルダーと、前記第
1電極と導通状態にある下部導体とを含む下電極ユニッ
トを備え、前記第2電極と導通状態にある電極ホルダー
には第2電極とコンタクトするためのコンタクトポイン
トが設けられ、かつ前記下部導体には第1電極とコンタ
クトするためのコンタクトポイントが設けられており、
半導体装置の表面だけでなく裏面の導通チェックも上方
からコンタクトプローブピンによってコンタクトポイン
トとコンタクトして容易に行うことができる。
As described above, according to the semiconductor device test apparatus of the first aspect of the present invention, the first electrode having the semiconductor device mounting surface for mounting the semiconductor device waiting for inspection, and A lower electrode unit including a second electrode, an electrode holder that holds the first electrode and the second electrode in an insulated state, and a lower conductor that is in a conductive state with the first electrode, and the second electrode The electrode holder in the conductive state is provided with a contact point for contacting the second electrode, and the lower conductor is provided with a contact point for contacting the first electrode,
Not only the front surface of the semiconductor device but also the back surface of the semiconductor device can be easily checked by contacting the contact point with the contact probe pin from above.

【0031】また、半導体装置の表面、電極ホルダーの
コンタクトポイント及び下部導体のコンタクトポイント
をコンタクトするためのコンタクトプローブピンは複数
組備えているので、複数箇所の測定ポンイトを同時にコ
ンタクトでき、作業性が向上するとともに半導体装置の
全セル動作時における電気的特性を測定することができ
る効果がある。さらに、半導体装置のサイズが変わって
も、半導体装置搭載面のコーナ部を基準にセットして対
応できるという効果がある。
Further, since a plurality of sets of contact probe pins for contacting the surface of the semiconductor device, the contact points of the electrode holder and the contact points of the lower conductor are provided, it is possible to simultaneously contact the measurement points at a plurality of locations, which improves workability. There is an effect that the electric characteristics can be improved and the electric characteristics can be measured during the operation of all cells of the semiconductor device. Further, even if the size of the semiconductor device is changed, there is an effect that it can be set by using the corner portion of the semiconductor device mounting surface as a reference.

【0032】また、請求項第2項記載の半導体装置のテ
スト装置によれば、第1電極及び第2電極の半導体装置
搭載面が角錐台形状に形成されているので、半導体装置
のブレーク時に発生したくずは半導体装置の搭載面の間
隙部に落ち込み、半導体装置搭載面とこの上に載置され
る半導体装置との間に挟まる確率がきわめて少なくな
り、半導体装置の損傷による製品不良を大幅に減らすこ
とができる効果がある。また、第1電極及び第2電極の
半導体装置搭載面が角錐台形状に形成されているので、
テスト時に半導体装置の裏面を流れる電流が分散され、
一か所当たりの発熱量が少なくなるので、半導体装置の
温度上昇が均一化されるという効果もある。
According to the semiconductor device test apparatus of the second aspect, since the semiconductor device mounting surface of the first electrode and the second electrode is formed in a truncated pyramid shape, it occurs when the semiconductor device breaks. Scraps fall into the gaps on the mounting surface of the semiconductor device, and the probability of being caught between the mounting surface of the semiconductor device and the semiconductor device mounted on it is extremely low, greatly reducing product defects due to damage to the semiconductor device. There is an effect that can be. Further, since the semiconductor device mounting surfaces of the first electrode and the second electrode are formed in a truncated pyramid shape,
The current flowing through the back surface of the semiconductor device is dispersed during the test,
Since the amount of heat generated per location is reduced, there is also an effect that the temperature rise of the semiconductor device is made uniform.

【0033】また、この発明に係る請求項第3項記載の
半導体装置のテスト装置にれば、検査待ちの半導体装置
を載せた下電極ユニットをコンタクトユニットの位置ま
で順次移動し、半導体装置の導通チェックを連続的に行
うことができ、半導体装置テストの作業性が著しく向上
するという効果がある。
According to the semiconductor device test apparatus of the third aspect of the present invention, the lower electrode unit on which the semiconductor device waiting for inspection is placed is sequentially moved to the position of the contact unit so that the semiconductor device becomes conductive. The check can be continuously performed, and the workability of the semiconductor device test is significantly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明に係る請求項第1項及び第2項記載の
半導体装置のテスト装置の一実施例を示す縦断面図であ
る。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of a semiconductor device test apparatus according to claims 1 and 2 of the present invention.

【図2】図1に示す半導体装置のテスト装置の一部斜視
図である。
FIG. 2 is a partial perspective view of a test device for the semiconductor device shown in FIG.

【図3】図1に示す半導体装置のテスト装置の一部分解
斜視図である。
3 is a partially exploded perspective view of the semiconductor device test apparatus shown in FIG. 1. FIG.

【図4】電極ホルダー及び下部導体のコンタクトポイン
トの位置を示す下電極ユニットの概要平面図である。
FIG. 4 is a schematic plan view of a lower electrode unit showing positions of contact points of an electrode holder and a lower conductor.

【図5】この発明に係る請求項第3項記載の半導体装置
のテスト装置の一実施例を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing an embodiment of a semiconductor device test apparatus according to claim 3 of the present invention.

【図6】従来の半導体装置のテスト装置の一例を示す斜
視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing an example of a conventional semiconductor device test apparatus.

【図7】コンタクトプローブピンの断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of a contact probe pin.

【図8】半導体装置の一例を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing an example of a semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5 半導体装置 11 第1電極 12 第2電極 13 電極ホルダー 14 下部導体 20 コンタクトプローブピン 21 コンタクトプローブピン 22 コンタクトプローブピン 23 コンタクトプローブピン 24 コンタクトユニット 13a コンタクトポイント 13b コンタクトポイント 14a コンタクトポイント 14b コンタクトポイント 27 下電極ユニット 28 テストトレイ 11a 半導体装置搭載面 12a 半導体装置搭載面 5 semiconductor device 11 first electrode 12 second electrode 13 electrode holder 14 lower conductor 20 contact probe pin 21 contact probe pin 22 contact probe pin 23 contact probe pin 24 contact unit 13a contact point 13b contact point 14a contact point 14b contact point 27 bottom Electrode unit 28 Test tray 11a Semiconductor device mounting surface 12a Semiconductor device mounting surface

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 裏面に共通電極を有する半導体装置の電
気的特性の検査工程に使用される半導体装置のテスト装
置において、 前記半導体装置を搭載するための半導体装置搭載面を有
する第1電極及び第2電極と、この第1電極及び第2電
極の下側に配置され、前記第2電極とコンタクトするた
めのコンタクトポイントを有し、かつ、前記第1電極と
第2電極とを絶縁した状態で保持する電極ホルダーと、
この電極ホルダーの下側に配置され、前記第1電極とコ
ンタクトするためのコンタクトポイントを有する下部導
体とを含む下電極ユニットと、 前記第1電極及び前記第2電極の上方に配置され、前記
半導体装置の表面、前記電極ホルダーのコンタクトポイ
ント及び前記下部導体のコンタクトポイントと上方から
コンタクトするための複数組のコンタクトプローブピン
を有するコンタクトユニットと、 を備えたことを特徴とする半導体装置のテスト装置。
1. A test device for a semiconductor device used in a step of inspecting an electrical characteristic of a semiconductor device having a common electrode on a back surface thereof, the first electrode having a semiconductor device mounting surface for mounting the semiconductor device, and Two electrodes and a contact point arranged below the first and second electrodes for contacting the second electrode, and in a state where the first electrode and the second electrode are insulated from each other. An electrode holder to hold,
A lower electrode unit disposed below the electrode holder, the lower electrode unit including a lower conductor having a contact point for contacting the first electrode; and a semiconductor electrode disposed above the first electrode and the second electrode. A test device for a semiconductor device, comprising: a contact unit having a plurality of sets of contact probe pins for contacting a surface of the device, a contact point of the electrode holder, and a contact point of the lower conductor from above.
【請求項2】 第1電極及び第2電極の半導体装置搭載
面を角錐台形状に所定間隔おきに形成してなることを特
徴とする請求項第1項記載の半導体装置のテスト装置。
2. The semiconductor device test apparatus according to claim 1, wherein the semiconductor device mounting surfaces of the first electrode and the second electrode are formed in a truncated pyramid shape at predetermined intervals.
【請求項3】 下電極ユニットを所定間隔おきに複数個
搭載するためのテストトレイと、このテストトレイ上の
前記下電極ユニットをコンタクトユニットの位置まで水
平移動するためのテストトレイ搬送モジュールとを備え
たことを特徴とする請求項第1項または第2項記載の半
導体装置のテスト装置。
3. A test tray for mounting a plurality of lower electrode units at predetermined intervals, and a test tray transfer module for horizontally moving the lower electrode unit on the test tray to the position of the contact unit. The semiconductor device test apparatus according to claim 1, wherein the test apparatus is a semiconductor device.
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