JPH06236544A - 磁気記録媒体の基板及びその製造方法並びに磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 表面平滑性が良好で、微小な欠陥も無く、し
かしながら適度な表面粗さを有し、高強度、高硬度で、
耐衝撃性に富み、非磁性であり、軽量であること、か
つ、固有抵抗が小さいといった特性をも満足する磁気記
録媒体の基板を提供することである。 【構成】 複合成分として０．１〜１μｍの大きさの微
粒子を含有するガラス状炭素で構成されてなる磁気記録
媒体の基板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の基板及
びその製造方法並びに磁気記録媒体に関するものであ
る。

【０００２】

【発明の背景】現在、ハードディスク用基板の材料とし
て提案されているものはアルミニウム合金が主流であ
り、アルミニウム合金の表面に１０μｍ程度のＮｉ−Ｐ
メッキを施したものが使用されている。しかしながら、
アルミニウム合金製の基板は、厚さが薄くなると、剛性
が不足するという問題点が有る。すなわち、剛性が不足
すると、鏡面加工の際、基板にうねりが生じて平坦化で
きず、この為うねりが有る基板をディスクに使用した
際、回転むらが生じ、又、磁気ヘッドの浮上量を小さく
出来ない（スペーシングロスが大きい）という不都合を
生じたり、さらにはスピンドルへのチャッキングの際に
ディスクが変形すると言う不都合が有る。

【０００３】又、ディスクの製造は基板上にスパッリン
グ等の薄膜形成手段で磁性膜を形成する方法が一般的で
あるが、この際、基板温度が数百℃となる為、耐熱性が
要求される。しかしながら、アルミニウム合金を主材料
とした基板にあっては、耐熱性が不足するという問題点
が有り、この結果、基板が熱変形するという不都合が有
る。

【０００４】更に、成膜後に基板を加熱すると磁性膜の
保磁力が高くなることが知られており、この観点から熱
処理が行われることも有り、従って耐熱性が一層要求さ
れている。ところで、剛性や耐熱性に富む基板材料とし
て結晶化ガラスや強化ガラス等のガラスが考えられる。
この他に、ガラスは基板に要求される表面平滑性と硬度
の面では優れているものの、破壊（衝撃）に対して弱
く、又、表面に水分の吸着を起こしやすいという難点が
有る。又、磁性膜を形成するスパッタリングに際して、
高性能の磁性膜を得る為には、真空度を上げる必要が有
るが、減圧（真空）によりガラス内部から水分がしみ出
し、真空度が上がり難いという不都合も有る。さらに
は、基板加熱の際、赤外線ヒータを用いることが多いも
のの、赤外線が基板を透過し、基板の加熱効率が悪く、
又、基板の固有抵抗が高い為に静電気によるゴミの付着
が起こり易く、エラーレートの増加の原因にもなってい
る。この為、基板材料としてガラスがアルミニウム合金
に取って代わるといった展望は現在の処ない。

【０００５】このようなことから、前記のようなアルミ
ニウム合金やガラスとは全く異なる材料としてカーボ
ン、特にガラス状炭素が注目を浴び始めている。すなわ
ち、ガラス状炭素は、一般に、三次元網目構造を有して
おり、不溶・不融の性質をもつ熱硬化性樹脂の硬化物を
不活性雰囲気中で焼成炭化させると得られる。そして、
このものはガス不透過性に優れ、硬度が高く、かつ、等
方的組織を有する。更に、軽量、耐熱性、高電気伝導
度、耐食性、高熱伝導度、高い潤滑性等の特性に加え、
均質で摺動部品に用いても炭素粉末を生じない特性を備
えていて、エレクトロニクス産業、原子力産業、宇宙産
業を始め、各種分野での広範囲な利用が期待されてい
る。このような観点から、本出願人によっても、ガラス
状炭素をハードディスクの基板として利用することが提
案（特開昭６０−３５３３３号公報）されている。

【０００６】尚、フェノール樹脂やフラン樹脂等の熱硬
化性樹脂を主成分とする原料から得られる従来のガラス
状炭素にはμｍオーダー以上の開孔と閉孔（空孔、気
孔）が存在している。この為、ガラス状炭素を研磨して
表面平滑性に富むハードディスク基板を得ようとして
も、研磨によって材料内部に存在する閉孔が開孔とな
り、研磨面に微小な欠陥が生じ、表面平滑性に富む基板
が得られ難く、記録・再生特性に優れた記録媒体が得ら
れ難い。

【０００７】特に、最近、ハードディスク装置は、小型
・高密度化が進み、ディスクドライブ自体が小型化さ
れ、これに伴ってハードディスク基板は薄型化される傾
向にある。そして、高密度化に伴って面記録密度が非常
に大きくなり、すなわちビット当たりの記録面積が小さ
くなり、微小な欠陥も許されなくなって来ている。従っ
て、このような観点からも高度な表面平滑性が要求され
ている。又、ヘッド浮上量を小さくする観点からも表面
平滑性が要求されている。

【０００８】ところで、表面平滑性に富むガラス状炭素
を得る技術として、例えば神戸製鋼所技報（Ｖｏｌ．３
９ Ｎｏ．４（１９８９））の提案がある。この文献に
は、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂粉末を金型に充
填し、ホットプレスにて成型した後、不活性ガス中にお
いて１２００〜２０００℃の温度で予備焼成し、超高温
熱間静水圧加圧処理を行って閉孔（微小気孔）を消滅さ
せる技術が開示されている。すなわち、熱硬化性樹脂
（フェノール・ホルムアルデヒド樹脂）粉末から得られ
るガラス状炭素には、ホットプレスで完全に除去出来な
かった材料中の気泡、１２００〜２０００℃の温度での
予備焼成段階で発生する熱分解ガス、原料が粉末である
ことから生ずる結晶粒界等によって微小気孔が存在して
おり、鏡面研磨しても研磨面には微小な欠陥が生じてい
る。そこで、超高温熱間静水圧加圧処理、つまり２００
ＭＰａの圧力下で２５００℃の熱処理によって、材料を
緻密化し、微小気孔を消滅させ、鏡面研磨後の研磨面に
微小欠陥が起きないようにしているのである。

【０００９】しかしながら、このようにして得られた表
面平滑性に富むガラス状炭素は、高強度、高硬度、低固
有抵抗、軽量、耐熱性といった特性に関しては磁気ディ
スクの基板として満足できるものの、磁気ヘッドとのイ
ンターフェースを考慮すると次のようなことになる。す
なわち、磁気記録媒体の基板は、単に、高度な表面平滑
性などが満足されれば良いかと言うとそうではない。つ
まり、記録再生装置の磁気ヘッドとの関係において、磁
気記録媒体が走行している記録・再生動作中においては
磁気ヘッドが磁気記録媒体から離間した浮上状態にある
ものの、記録・再生動作の開始や停止時に際して磁気ヘ
ッドは磁気記録媒体に摺接する状態にあり、このような
時に磁気ヘッドが磁気記録媒体に吸着してしまい、記録
再生装置のモータに過負荷が作用したり、磁気ヘッドや
磁気記録媒体の磁性膜を損傷させる恐れが有る。

【００１０】このような現象を防止する為、磁気記録媒
体の表面を適度な表面粗さのものに設計することが要望
されている。その手段として、例えば磁気記録媒体の基
板表面を鏡面研磨した後、その表面を粗くして適度な表
面粗さのものに調整するテキスチャー処理が行われてい
る。尚、これまでのテキスチャー処理としては、炭化珪
素、酸化珪素、アルミナ、酸化セリウム、酸化ジルコニ
ウム、ダイヤモンド等の砥粒を設けた研磨テープによる
研磨手段が採用されている。つまり、磁気ディスク基板
を回転させた状態で研磨テープをテープの裏面側から磁
気ディスク半径方向に揺動しながら押し付けて粗面化す
るのである。

【００１１】しかしながら、このような従来のテキスチ
ャー処理を上記のガラス状炭素からなる基板に適用する
と、表面粗さを所望のものにできず、磁気ヘッドとの間
に適度なスペーシングを確保できず、記録密度の向上が
図れ難い。

【００１２】

【発明の開示】本発明者は、ハードディスク基板に要求
される項目に着目し、すなわち １．高記録密度化する為に基板の表面平滑性が良好で、
微小な欠陥も無いこと、 ２．磁気ヘッドの吸着現象が起きないよう適度な表面粗
さを有すること、 ３．磁気ヘッドの追従性から基板のうねりを小さくする
必要があり、基板材料の剛性が高いこと、 ４．基板加工時における内外周加工やチャンフォー加工
の際、割れや欠けが起き難いよう、又、テキスチャー形
成や薄膜形成の際のハンドリング時においての信頼性の
面から高強度であること、 ５．テキスチャー処理が容易であること、 ６．磁性膜の特性を向上させる為に基板は非磁性である
こと、 ７．耐食性、耐候性が良好であること、 ８．耐衝撃性に富むこと、 ９．製造時の信頼性、及びＣＳＳ特性（耐久性）の面か
ら高硬度であること、 10．ＣＳＳ特性を高め、ハードディスクドライブのスピ
ンドル負荷を低減化する為に、基板は軽量であること、 11．静電気によるゴミ等の付着防止の為に基板材料の固
有抵抗が小さいことに着目し、鋭意検討の末、本発明を
完成するに至った。

【００１３】すなわち、上記の項目のかなりの部分はガ
ラス状炭素を用いることによって解決されたものではあ
るが、これのみでは不十分なことも判り、更なる研究が
鋭意押し進められて行った結果、金属酸化物微粒子を含
むガラス状炭素を酸で選択的エッチングして表面の微粒
子を除去すれば、所望の粗面に構成された基板材料が得
られたことを見出したのである。

【００１４】このような知見に基づいて本発明が達成さ
れたものであり、本発明の第１の目的は、表面平滑性が
良好で、微小な欠陥も無く、しかしながら適度な表面粗
さを有する磁気記録媒体の基板を提供することである。
本発明の第２の目的は、高強度、高硬度で、耐衝撃性に
富み、非磁性であり、軽量であること、かつ、固有抵抗
が小さいといった特性をも満足する磁気記録媒体の基板
を提供することである。

【００１５】上記本発明の目的は、複合成分として０．
１〜１μｍの大きさの微粒子を含有するガラス状炭素で
構成されてなることを特徴とする磁気記録媒体の基板に
よって達成される。又、熱硬化性樹脂の前駆体に０．１
〜１μｍの大きさの微粒子が混合分散され、硬化、炭化
焼成して得られた微粒子を含有するガラス状炭素で構成
されてなることを特徴とする磁気記録媒体の基板によっ
て達成される。

【００１６】又、複合成分として０．１〜１μｍの大き
さの微粒子を含有するガラス状炭素複合材料から表面の
微粒子が除去されてなる磁気記録媒体の基板であって、
該基板表面の微粒子除去により粗面化がなされてなるこ
とを特徴とする磁気記録媒体の基板によって達成され
る。又、複合成分として金属酸化物微粒子を含有するガ
ラス状炭素で構成された複合材料を、前記ガラス状炭素
を実質上溶解しないけれども、金属酸化物微粒子を溶解
する溶液で処理し、表面の金属酸化物微粒子を除去する
ことを特徴とする磁気記録媒体の基板の製造方法によっ
て達成される。

【００１７】又、複合成分として金属酸化物微粒子を含
有するガラス状炭素で構成された複合材料を表面研磨し
た後、前記ガラス状炭素を実質上溶解しないけれども、
金属酸化物微粒子を溶解する溶液で処理し、表面の金属
酸化物微粒子を除去することを特徴とする磁気記録媒体
の基板の製造方法によって達成される。そして、上記の
基板に磁性膜が設けられてなる磁気記録媒体は、高密度
記録に対応でき、しかも耐久性にも富むといった特長が
奏されるものであった。

【００１８】尚、上記の発明において、微粒子は酸化ア
ルミニウム微粒子、酸化珪素微粒子、酸化チタン微粒子
といった金属酸化物微粒子の群の中から選ぶことが出
来、そして微粒子の含有率は約０．１〜２０体積％であ
ることが好ましい。又、金属酸化物微粒子を溶解し、表
面の中心線平均粗さ（テキスチャー処理後の中心線平均
粗さ）を約３０〜１５０Åのものとする溶液としては、
例えばフッ酸、塩酸、硝酸、硫酸、あるいはこれらの混
合物などの無機酸、そのほか有機酸といった酸性溶液を
用いることが出来る。すなわち、ガラス状炭素自体が酸
やアルカリに不溶であることを利用し、複合成分として
の金属酸化物を溶解させることの出来る酸などを利用す
れば、金属酸化物が選択的にエッチング除去され、基板
の表面が所望のものに粗面化でき、ハードディスク用の
基板として最適なものが得られるようになる。そして、
このような選択的エッチングといった手法によるメリッ
トは次の通りである。例えば、研磨テープによる処理で
は、ガラス状炭素も同時に研磨されることから、ガラス
状炭素及び微粒子双方の研磨の具合を考慮に入れなけれ
ばならないのに対して、上記の手段によれば、ガラス状
炭素自体は酸性溶液で腐食されず、テキスチャー処理の
際には微粒子の腐食のみを考慮すれば良いからである。

【００１９】本発明における特に好ましい熱硬化性樹脂
としては、硬化前の初期縮合物の状態で約２０重量％以
上の水を含有することが出来るものである。ここで、
「初期縮合物」とは、硬化前の樹脂を意味し、原料モノ
マーを相当量含む場合もあるが、ある程度付加及び／又
は縮合反応が起こり、粘度が高くなった樹脂組成物をい
う。

【００２０】該熱硬化性樹脂組成物の特徴は、硬化の際
に縮合水のような低沸点物の溜まりが起こらないことで
あり、つまり熱硬化性樹脂が硬化する前の粘度が高くな
った初期縮合物の状態で樹脂が２０重量％以上の水を含
有することが出来る程度の親水性を有するようにしてお
くことにより、低沸点物が樹脂内（あるいは硬化物内）
に閉じ込められても、低沸点物の溜まりが生ずることが
ないようになる。尚、より一層に低沸点物を樹脂内に完
全に分散溶解させる為には、約３０重量％以上の水を含
み得る樹脂組成物が望ましい。

【００２１】熱硬化性樹脂組成物がどの程度の粘度の時
に、樹脂組成物の水可溶能力が２０重量％を越えていれ
ば硬化・炭化後に空孔（気孔）を殆ど生じないようにな
るかは、原料樹脂の種類、重合度、ブレンド比率等によ
り異なるが、本発明者の研究の結果によれば、２００〜
８０００ｃｐｓ／２０℃の粘度状態において２０重量％
を越える水可溶能力があれば良いことが判明した。

【００２２】本発明における熱硬化性樹脂の初期縮合物
は、原料樹脂の種類、ブレンドの比率、重合度制御、変
性等により適宜設計することが出来る。本発明において
用いられる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エステル樹脂、
フラン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹
脂、キシレン樹脂等を挙げることが出来、これらの樹脂
をそのまま、あるいはブレンド、又は変性することによ
り用いられる。好ましくは変性フェノール・フラン樹脂
をベースにした樹脂で、例えば特開昭６０−１７１２０
８号公報、特開昭６０−１７１２０９号公報、特開昭６
０−１７１２１０号公報、特開昭６０−１７１２１１号
公報で開示された熱硬化性樹脂が挙げられる。熱硬化性
樹脂に変性し得るものとしては、上述のフェノール樹
脂、フラン樹脂等の熱硬化性樹脂、あるいはアスファル
ト、ピッチ類等の天然に産出する高い炭素化収率を有す
る材料、リグニン、セルロース、トラガカントガム、ア
ラビアガム、フミン酸、各種糖類等の比較的高い炭化収
率を有する親水性物質が挙げられる。

【００２３】熱硬化性樹脂の前駆体に混合分散される微
粒子としては、例えば酸化アルミニウム、酸化珪素ある
いは酸化チタンなどの金属酸化物からなる微粒子が好ま
しく用いられる。このような金属酸化物微粒子は、例え
ば気相反応を利用したガス中蒸発法、プラズマ蒸発法、
気相化学反応法、液相反応を利用した沈澱法、溶融噴霧
熱分解法、ゾル−ゲル法などを用いて製造される。勿
論、これらの製造方法に限られるものではない。

【００２４】具体的には、例えば大明化学工業社のＴＭ
−Ｄ（粒径約０．２〜０．３μｍの酸化アルミニウム微
粒子）、新日鉄化学社のエスクオーツ（平均粒径約０．
１〜１μｍの酸化珪素微粒子）、富士チタン社のＴＡＦ
−１３０（粒径約０．１５μｍの酸化チタン微粒子）等
が挙げられる。尚、本発明を実施するにあたって各種微
粒子の混合系でも構わない。

【００２５】本発明において用いる微粒子の粒径を約１
μｍ以下のものとしたのは、これを越えた大き過ぎるも
のでは、得られた複合材料を鏡面研磨、エッチング処理
すると、表面欠陥が形成されたものが出来てしまい、こ
れではビットエラーの原因となって、高密度化に支障が
起きてしまう。又、熱硬化性樹脂への複合化や硬化に際
して、沈降現象が起き易く、均一な分散の複合化が行わ
れ難く、均一性に劣る傾向が有るからである。尚、好ま
しくは約０．７μｍ以下、より好ましくは約０．５μｍ
以下の大きさのものである。微粒子の粒径の測定方法と
しては各種の方法が有るが、本発明では走査型電子顕微
鏡により測定した値である。

【００２６】そして、複合材料における微粒子（金属酸
化物微粒子）の割合が約０．１〜２０体積％、より望ま
しくは０．５〜１５体積％、さらに望ましくは１〜１０
体積％であるものが好ましいのは、０．１％未満の少な
過ぎた場合にはエッチングによる表面粗さが不十分な傾
向があり、磁気ヘッドとの間に吸着現象を起こしてしま
い、逆に、２０％を越えて多くなり過ぎた場合には選択
エッチングが行われ難く、エッチングによる表面粗さが
大きくなり過ぎる傾向があり、磁気ディスクの高密度化
が図れ難くなるからである。

【００２７】そして、上記したような熱硬化性樹脂の硬
化前駆体と微粒子を均一に混合分散し、硬化前に目的と
する用途に応じた所定の形状の型に入れ、加熱等による
硬化工程を経ることにより、所定の形状の複合樹脂材料
が得られる。このようにして得られた所定形状の複合樹
脂材料を加熱して炭化させる炭化焼成工程においては、
不活性雰囲気中において約１０００℃以上の温度、例え
ば約１０００〜１４００℃、より望ましくは約１１００
〜１３００℃で熱処理することが好ましい。尚、この
後、不活性雰囲気下における約１０００気圧以上の圧力
下において約１５００〜２０００℃で熱処理することが
一層好ましい。圧力を加える方法としては、密閉された
容器内に外部から油圧、その他の機械的力を加え、処理
中の材料に直接または間接に圧力を加える方法を用いる
ことが出来る。この方法により、密閉された容器内の気
圧は１０００気圧以上に高めることが出来、この圧力を
利用して内部の試料に等方的な圧力を加えるとことが出
来る。このような処理は熱間静水圧加圧装置（ＨＩＰ）
により実施することが可能である。すなわち、このよう
な処理により、ガラス状炭素複合材料は、よりパッキン
グ化し、材料内部に存在するミクロポアの径が小さくな
り、緻密化する。かつ、加圧熱処理段階は２０００℃以
下としたので、ガラス状炭素成分の黒鉛化が抑えられ、
高密度で、機械的強度（曲げ強度）が大きく向上し、基
板加工時における割れや欠けが激減し、又、薄膜形成等
に際してのハンドリングの信頼性が向上する。

【００２８】そして、このようにして得られたガラス状
炭素は、機械的強度が大きく、鏡面研磨後の表面平滑性
も良好であり、材料表面には微小な欠陥（開孔や結晶粒
界等）が殆ど認められない。又、ガラス状炭素自体が有
する特性、すなわち固有抵抗が小さく、耐食性、耐候性
が良好で、軽量、高硬度、非磁性である性質をも兼ね備
えている。

【００２９】この後、金属酸化物微粒子を含有するガラ
ス状炭素で構成された複合材料を、例えばフッ酸、塩
酸、硝酸、硫酸、これらの混酸などの溶液でエッチング
処理し、微粒子を除去することにより本発明の基板が得
られる。上記のようにして得られた基板の表面粗さＲａ
（中心線平均粗さ）は３０〜１５０Åのものであること
が好ましい。すなわち、Ｒａが３０Åより小さ過ぎたも
のでは磁気ヘッドの吸着現象が起き易く、逆に、１５０
Åを越えた大き過ぎたものでは磁気ヘッドとのスペーシ
ングロスが大き過ぎ、高密度記録に支障を来すことにな
るからである。

【００３０】そして、このような特徴を備えた基板に磁
性膜が設けられてなる磁気記録媒体は高密度記録に適し
たものであり、又、磁気ヘッドの吸着といった現象も認
められなかった。以下、実施例により本発明をさらに具
体的に説明するが、本発明はこれによって限定されるも
のではない。

【００３１】

【実施例】

〔実施例１〕フルフリルアルコール５００重量部、９２
％パラホルムアルデヒド４８０重量部および水３０重量
部を７５℃で攪拌して溶解させ、攪拌下でフェノール５
２０重量部、水酸化ナトリウム８．８重量部および水４
５重量部の混合液を滴下した。滴下終了後、７５℃で３
時間反応させた。この後、フェノール８０重量部、水酸
化ナトリウム８．８重量部および水４５重量部の混合液
をさらに滴下し、７５℃で４．５時間反応させた。３０
℃まで冷却した後に、６０％パラトルエンスルホン酸水
溶液で中和した。この中和物を減圧下で脱水して１７０
重量部の水を除去し、フルフリルアルコール５００重量
部を添加混合した。得られた樹脂の粘度は２０℃で３７
０ｃｐｓであった。尚、この樹脂が含むことのできる水
量を測定したところ３９重量％であった。

【００３２】この熱硬化性樹脂１００重量部に対し一次
粒子の平均粒径が約０．２μｍの酸化アルミニウム２重
量部を加え、サンドミルで混合分散した。そして、パラ
トルエンスルホン酸７０重量％、水２０重量％、セロソ
ルブ１０重量％の混合溶液３．５重量部を添加し、十分
攪拌した後、厚さ２ｍｍの円盤状の型に注入し、減圧脱
泡した。次に、８０℃で２日間加熱硬化した。

【００３３】得られた円盤状の樹脂硬化物を炭化収縮率
を考慮して所定のドーナツ形状に加工し、この後に有機
物焼成炉（中外炉工業製）に入れ、窒素雰囲気中にて２
〜５℃／時の昇温速度で７００℃まで加熱し、さらに
０．５ｍＴｏｒｒ程度の真空中にて５〜２０℃／時の昇
温速度で１２００℃まで加熱焼成し、この温度で２時間
保持し、この後に冷却した。

【００３４】このようにして得られた主成分であるガラ
ス状炭素の密度は１．５ｇ／ｃｍ³であり、酸化アルミ
ニウム微粒子の見掛け上の比重は７５ｇ／ｌであり、熱
硬化性樹脂の残炭率、つまり焼成前後の重量比は約５０
％であった。本実施例では、熱硬化性樹脂１００重量部
に対し酸化アルミニウム微粒子が２重量部の配合で焼成
されているから、ガラス状炭素５０重量部に対し酸化ア
ルミニウム微粒子は２重量部となり、アルミナの比重が
約３．９であることを考慮すると、体積比としてはガラ
ス状炭素が５０／１．５、アルミナが２／３．９とな
り、ガラス状炭素複合材料中の酸化アルミニウム微粒子
は体積比で１．５２％となる。

【００３５】このドーナツ形状のガラス状炭素複合材料
をダイアモンドツールで内外周加工し、♯５００〜♯８
０００の砥粒で鏡面研磨し、２．５インチの磁気ディス
ク用の基板を得た。尚、この基板の表面粗さは中心線平
均粗さＲａが３０Åであり、開孔や結晶粒界に起因する
微小欠陥も認められなかった。そして、この後２０％フ
ッ酸水溶液に超音波をかけながら５分間浸漬した。尚、
このテキスチャー処理済みの基板の表面粗さは中心線平
均粗さＲａが８２Åであり、ランダムに表面が粗れたも
のであった。この表面粗さの増大はフッ酸水溶液によっ
て基板表面に介在している酸化アルミニウム微粒子がエ
ッチング除去されたからと考えられ、走査型電子顕微鏡
による観察でも確認された。

【００３６】この後、スパッタ手段により５００〜１０
００Å、例えば１０００ÅのＣｒ下地膜、６００〜８０
０Å、例えば６００ÅのＣｏＣｒＴａ磁性膜、さらに２
００〜２５０Å、例えば２５０Åのカーボン保護膜を設
け、その後デップコーターにてフォンブリンＡＭ２００
１（フッ素系の潤滑剤）を２０〜４０Å、例えば４０Å
設けた。

【００３７】〔実施例２〕実施例１における平均粒径が
約０．２μｍの酸化アルミニウムの添加量を２０重量部
とした他は同様に行った。本実施例で得たガラス状炭素
複合材料中の酸化アルミニウム微粒子は体積比で１３．
３％である。このドーナツ形状のガラス状炭素複合材料
をダイアモンドツールで内外周加工し、♯５００〜♯８
０００の砥粒で鏡面研磨し、２．５インチの磁気ディス
ク用の基板を得た。尚、この基板の表面粗さは中心線平
均粗さＲａは５５Åであり、開孔や結晶粒界に起因する
微小欠陥も認められなかった。

【００３８】そして、この後１０％フッ酸水溶液に超音
波をかけながら１０分間浸漬した。尚、このテキスチャ
ー処理済みの基板の表面粗さは中心線平均粗さＲａが１
１６Åであり、ランダムに表面が粗れたものであった。
この表面粗さの増大はフッ酸水溶液によって基板表面に
介在している酸化アルミニウム微粒子がエッチング除去
されたからと考えられ、走査型電子顕微鏡による観察で
も確認された。

【００３９】この後、スパッタ手段により１０００Åの
Ｃｒ下地膜、６００ÅのＣｏＣｒＴａ磁性膜、さらに２
５０Åのカーボン保護膜を設け、その後デップコーター
にてフォンブリンＡＭ２００１を４０Å設けた。 〔実施例３〕実施例１における酸化アルミニウム微粒子
の代わりに一次粒子の平均粒径が約０．５μｍの酸化ア
ルミニウム微粒子を５重量部用いて同様に行った。本実
施例で得たガラス状炭素複合材料中の酸化アルミニウム
微粒子は体積比で３．７０％である。

【００４０】このドーナツ形状のガラス状炭素複合材料
をダイアモンドツールで内外周加工し、♯５００〜♯８
０００の砥粒で鏡面研磨し、２．５インチの磁気ディス
ク用の基板を得た。尚、この基板の表面粗さは中心線平
均粗さＲａは４３Åであり、開孔や結晶粒界に起因する
微小欠陥も認められなかった。そして、この後１０％フ
ッ酸水溶液に超音波をかけながら５分間浸漬した。尚、
このテキスチャー処理済みの基板の表面粗さは中心線平
均粗さＲａが７０Åであり、ランダムに表面が粗れたも
のであった。この表面粗さの増大はフッ酸水溶液によっ
て基板表面に介在している酸化アルミニウム微粒子がエ
ッチング除去されたからと考えられ、走査型電子顕微鏡
による観察でも確認された。

【００４１】この後、スパッタ手段により１０００Åの
Ｃｒ下地膜、６００ÅのＣｏＣｒＴａ磁性膜、さらに２
５０Åのカーボン保護膜を設け、その後デップコーター
にてフォンブリンＡＭ２００１を４０Å設けた。 〔実施例４〕実施例１における酸化アルミニウム微粒子
の代わりに一次粒子の平均粒径が約０．１５μｍの酸化
チタン微粒子を５重量部用いて同様に行った。本実施例
で得たガラス状炭素複合材料中の酸化チタン微粒子は体
積比で３．４０％である。

【００４２】このドーナツ形状のガラス状炭素複合材料
をダイアモンドツールで内外周加工し、♯５００〜♯８
０００の砥粒で鏡面研磨し、２．５インチの磁気ディス
ク用の基板を得た。尚、この基板の表面粗さは中心線平
均粗さＲａは３３Åであり、開孔や結晶粒界に起因する
微小欠陥も認められなかった。そして、この後１０％フ
ッ酸水溶液に超音波をかけながら５分間浸漬した。尚、
このテキスチャー処理済みの基板の表面粗さは中心線平
均粗さＲａが５６Åであり、ランダムに表面が粗れたも
のであった。この表面粗さの増大はフッ酸水溶液によっ
て基板表面に介在している酸化チタン微粒子がエッチン
グ除去されたからと考えられ、走査型電子顕微鏡による
観察でも確認された。

【００４３】この後、スパッタ手段により１０００Åの
Ｃｒ下地膜、６００ÅのＣｏＣｒＴａ磁性膜、さらに２
５０Åのカーボン保護膜を設け、その後デップコーター
にてフォンブリンＡＭ２００１を４０Å設けた。 〔実施例５〕実施例１における酸化アルミニウム微粒子
の代わりに一次粒子の平均粒径が約０．３μｍの酸化珪
素微粒子を１０重量部用いて同様に行った。本実施例で
得たガラス状炭素複合材料中の酸化珪素微粒子は体積比
で１０．１７％である。

【００４４】このドーナツ形状のガラス状炭素複合材料
をダイアモンドツールで内外周加工し、♯５００〜♯８
０００の砥粒で鏡面研磨し、２．５インチの磁気ディス
ク用の基板を得た。尚、この基板の表面粗さは中心線平
均粗さＲａは４９Åであり、開孔や結晶粒界に起因する
微小欠陥も認められなかった。そして、この後１０％フ
ッ酸水溶液に超音波をかけながら７分間浸漬した。尚、
このテキスチャー処理済みの基板の表面粗さは中心線平
均粗さＲａが８７Åであり、ランダムに表面が粗れたも
のであった。この表面粗さの増大はフッ酸水溶液によっ
て基板表面に介在している酸化珪素微粒子がエッチング
除去されたからと考えられ、走査型電子顕微鏡による観
察でも確認された。

【００４５】この後、スパッタ手段により１０００Åの
Ｃｒ下地膜、６００ÅのＣｏＣｒＴａ磁性膜、さらに２
５０Åのカーボン保護膜を設け、その後デップコーター
にてフォンブリンＡＭ２００１を４０Å設けた。 〔比較例１〕実施例１において酸化アルミニウム微粒子
を全く添加しないで同様に行い、２．５インチの磁気デ
ィスク用の基板を得た。尚、この基板のＲａは１３Åで
あった。

【００４６】この後、スパッタ手段により１０００Åの
Ｃｒ下地膜、６００ÅのＣｏＣｒＴａ磁性膜、さらに２
５０Åのカーボン保護膜を設け、その後デップコーター
にてフォンブリンＡＭ２００１を４０Å設けた。 〔比較例２〕実施例１における酸化アルミニウム微粒子
の代わりに一次粒子の平均粒径が約５μｍの酸化アルミ
ニウム微粒子５重量部を用いて同様に行った。本比較例
で得たガラス状炭素複合材料中の酸化アルミニウム微粒
子は体積比で３．７０％である。

【００４７】このドーナツ形状のガラス状炭素複合材料
をダイアモンドツールで内外周加工し、♯５００〜♯８
０００の砥粒で鏡面研磨し、２．５インチの磁気ディス
ク用の基板を得た。尚、この基板の表面粗さは中心線平
均粗さＲａは２５０Åであった。この表面を走査型電子
顕微鏡で観察すると、酸化アルミニウム微粒子が脱落し
たと思われる痕跡や比較的大きな欠陥が観られた。

【００４８】そして、この後１０％フッ酸水溶液に超音
波をかけながら１０分間浸漬した。尚、このテキスチャ
ー処理済みの基板の表面粗さは中心線平均粗さＲａが５
４０Åであった。この後、スパッタ手段により１０００
ÅのＣｒ下地膜、６００ÅのＣｏＣｒＴａ磁性膜、さら
に２５０Åのカーボン保護膜を設け、その後デップコー
ターにてフォンブリンＡＭ２００１を４０Å設けた。

【００４９】〔特性〕上記の各例で得られた磁気ディス
クを磁気ディスク駆動装置に装着し、各種のテストを行
ったので、その結果を下記の表−１に示す。 表−１ ヘッドとの吸着 ビットエラー グライドハイテスト ＣＳＳテスト 実施例１ 認められず ４×10^-8 0.075 μｍクリア 30000回クリア 実施例２ 認められず ６×10^-8 0.075 μｍクリア 30000回クリア 実施例３ 認められず ７×10^-8 0.075 μｍクリア 30000回クリア 実施例４ 認められず ４×10^-8 0.075 μｍクリア 30000回クリア 実施例５ 認められず ６×10^-8 0.075 μｍクリア 30000回クリア 比較例１ 認められた ４×10^-8 0.075 μｍクリア − 比較例２ 認められず ６５×10^-8 0.075μｍクリア出来ず 30000回クリア ＊ＣＳＳテストは、０．１μｍの浮上量で実施

【００５０】

【効果】記録媒体の基板として好ましい特性を備えたも
のが得られ、この基板を基にした記録媒体はヘッドとの
間で吸着が起きることなく、又、エラーレートも低いも
のである。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複合成分として０．１〜１μｍの大きさ
   の微粒子を含有するガラス状炭素で構成されてなること
   を特徴とする磁気記録媒体の基板。
2. 【請求項２】 熱硬化性樹脂の前駆体に０．１〜１μｍ
   の大きさの微粒子が混合分散され、硬化、炭化焼成して
   得られた微粒子を含有するガラス状炭素で構成されてな
   ることを特徴とする磁気記録媒体の基板。
3. 【請求項３】 複合成分として０．１〜１μｍの大きさ
   の微粒子を含有するガラス状炭素複合材料から表面の微
   粒子が除去されてなる磁気記録媒体の基板であって、該
   基板表面の微粒子除去により粗面化がなされてなること
   を特徴とする磁気記録媒体の基板。
4. 【請求項４】 微粒子が金属酸化物であることを特徴と
   する請求項１〜請求項３の磁気記録媒体の基板。
5. 【請求項５】 微粒子の含有率が約０．１〜２０体積％
   であることを特徴とする請求項１〜請求項３の磁気記録
   媒体の基板。
6. 【請求項６】 表面の中心線平均粗さが約３０〜１５０
   Åであることを特徴とする請求項１〜請求項３の磁気記
   録媒体の基板。
7. 【請求項７】 複合成分として金属酸化物微粒子を含有
   するガラス状炭素で構成された複合材料を、前記ガラス
   状炭素を実質上溶解しないけれども、金属酸化物微粒子
   を溶解する溶液で処理し、表面の金属酸化物微粒子を除
   去することを特徴とする磁気記録媒体の基板の製造方
   法。
8. 【請求項８】 複合成分として金属酸化物微粒子を含有
   するガラス状炭素で構成された複合材料を表面研磨した
   後、前記ガラス状炭素を実質上溶解しないけれども、金
   属酸化物微粒子を溶解する溶液で処理し、表面の金属酸
   化物微粒子を除去することを特徴とする磁気記録媒体の
   基板の製造方法。
9. 【請求項９】 金属酸化物微粒子を溶解する溶液が酸性
   溶液であることを特徴とする請求項７または請求項８の
   磁気記録媒体の基板の製造方法。
10. 【請求項１０】 前記磁気記録媒体の基板に磁性膜が設
    けられてなることを特徴とする磁気記録媒体。