JPH06232224A - プローブ装置 - Google Patents

プローブ装置

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JPH06232224A
JPH06232224A JP3938993A JP3938993A JPH06232224A JP H06232224 A JPH06232224 A JP H06232224A JP 3938993 A JP3938993 A JP 3938993A JP 3938993 A JP3938993 A JP 3938993A JP H06232224 A JPH06232224 A JP H06232224A
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Haruhiko Yoshioka
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 プローブ針を常に正確にウエハの電極パッド
に接触させて高い精度で電気的測定を行うプローブ装置
を提供すること。 【構成】 プローブ針25とウエハ保持台2との間に、
例えばCCDカメラ61によりウエハW表面を撮像でき
るように光学系部材を設け、ウエハW上の互に異なる特
定位置をCCDカメラ61が認識したときに認識信号を
出力する画像処理部62を設ける。画像処理部62の出
力にもとづきウエハ保持台2のX、Y方向に夫々対応す
るエンコーダ33、43のパルス数を演算処理部7でカ
ウントし、ウエハW上のX、Y方向の移動量とパルス数
との関係を求める。モータ制御部72はウエハWの測定
時にこの関係にもとづきモータを制御する。従ってプロ
ービング領域とアライメント領域とが一致するので、ボ
ールネジの加工精度にもとづく誤差などの影響を受けず
に高精度な位置合わせができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プローブ装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスの製造工程においては、
ウエハ製造プロセスが終了してウエハ内にICチップが
完成した後、電極パターンのショート、オープンやIC
チップの入出力特性などを調べるためにプローブ装置に
よるプローブテストと呼ばれる電気的測定が行われ、ウ
エハの状態でICチップの良否が判定される。その後ウ
エハはICチップに分断され、良品のICチップについ
てパッケージングされてから例えば所定のプローブテス
トを行って最終製品の良否が判定される。
【0003】従来のプローブ装置は、図6に示すように
X、Y、Z、θ方向に移動可能なウエハ保持台1の上方
側に、ウエハW内のICチップの電極パッド配列に対応
して配列されたプローブ針11を備えたプローブカード
12が配置されている。そしてウエハW内のICチップ
の電極パッドとプローブ針11とを接触させ、コンタク
トリング13を通してテストヘッド14により電気的測
定が行われる。
【0004】ところで正確な電気的測定を行うために
は、プローブ針11を電極パッドに確実に接触させなけ
ればならず、このためウエハ保持台1を高精度に制御す
ると共に、測定前にプローブ針11に対して電極パッド
を正確に位置合わせすることが必要である。一方テスト
ヘッド14内には多数の回路部品や配線が組み込まれて
いるため、この中にTVカメラなどを設けることが困難
であることから、テストヘッド14から離れた位置aに
光学系ユニット15を配置し、この光学系ユニット15
の下方側を図7に示すようにアライメント(位置合わ
せ)領域としてここでウエハWの位置合わせを例えば次
のようにして行っている。
【0005】即ち先ずアライメント対象のウエハをウエ
ハ保持台1に載置し、このウエハW上に形成された特定
点あるいは基準マークを、ウエハ保持台1を移動させる
ことにより光学系ユニット15の真下に正確に位置させ
て前記特定点あるいは基準マークを認識する。このとき
ボールネジよりなるX軸、Y軸の各モータに取り付けら
れたエンコーダからのパルス数をカウントし、各マーク
間の長さと、その長さを移動するのに必要なパルス数と
にもとずいて移動距離を求める。なお図6ではX軸に関
してのみモータ及びエンコーダを夫々符号18、19に
より示してある。
【0006】そしてウエハWを測定する場合、前記特定
点あるいは基準マ−ク例えばウエハWの周縁の所定の複
数箇所例えば4ヶ所について光学系ユニット15により
認識して前記アライメント対象のウエハとの移動量の差
を算出することにより位置合わせを行う。この位置合わ
せを行うことによって、プロービング領域でのプローブ
針11とICチップの電極パッドとの位置合わせが自動
的に行われるように、プロービング領域とアライメント
領域との相対位置や、ボールネジの駆動量などが設定さ
れている。電極パッドとプローブ針11との相対位置が
合っていれば、既にアライメント領域にて移動距離を把
握しているので、そのデータにもとずいて保持台1を移
動させることにより、全ての電極パッドが正確にプロー
ブ針11と接触するようになる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで上述の装置で
は、光学系ユニット15の下のアライメント領域におけ
るウエハ保持台1のデータを、プローブカード12の下
のプロービング領域に転写して使用していることにな
る。従って両方の領域における三次元座標の状態が同じ
であればウエハはプロービング領域においてもアライメ
ント領域と同じように移動するが、次のように状態が異
なるため、ウエハの移動(ICチップの移動)に誤差が
生じる。
【0008】上記の2つの領域は、例えば約700mm
離れており、三次元方向のウエハの姿勢や位置は、この
間のボールネジの加工精度や、ガイドのヨーイング(X
−Y平面上の左右の振れ)、ピッチング(前後の傾き)
及びローリンク(移動軸のまわりの傾き)などの影響に
よって決定され、更に測定する時の環境温度によりボ−
ルネジの伸び縮みが発生したり、更にまたアライメント
領域からプロービング領域に移動するときのボールネジ
の摩擦熱による熱膨脹の影響も加わってウエハはアライ
メント領域からプロービング領域に移動したときに元の
姿勢と変わった姿勢、例えば催かに左右に振れたり、前
後に傾いた状態となる。
【0009】このようなウエハ保持台1の位置精度は、
温度一定の場合には、一軸(X方向またはY方向)で±
3〜5μm程度であるが、環境温度変化による影響を考
慮すると、更に精度が悪化する。例えばウエハ保持台1
の設定温度を150℃程度に加熱した場合には、シリコ
ンの熱膨脹係数とボールネジの熱膨脹係数とが大きく異
なることからこの分を補正しなくてはならない。この補
正は前記環境温度一定の条件では成り立つが、例えばこ
の環境温度が変化した場合には、その温度変化に応じた
ボールネジの熱膨脹の変化分、あるいは温度変化に応じ
た前記ヨーイング、ピッチング、ローリングの変化分な
どが誤差となってしまう。
【0010】従ってウエハ保持台1がプロービング領域
内の所定位置に置かれたとしても、ウエハの姿勢及びI
Cチップの位置は、アライメント領域で予定したものと
は異なってしまう。更にプロービング領域とアライメン
ト領域とでは、ボールネジの状態が上述のように加工精
度やヨーイングなどの影響により異なるため、エンコー
ダの1パルス当りの実際の移動量が異なってくる。以上
のような誤差は、それ程大きなものではないが、DRA
Mが32M、64Mへと移行しつつあるようにデバイス
が増々高集積化しつつあり、電極パッドが微小化しかつ
その数が増大することから、そしてまたウエハが大口径
化していることからこうしたウエハの位置の誤差(IC
チップの位置の誤差)が生じると、ウエハ上の全ての電
極パッドに対して正確に電極パッドに接触させることが
困難になり、精度の高い電気的測定を行うことができな
いという問題がある。
【0011】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は、プローブ針を常に正確に被
検査体の電極パッドに接触させることができ、高い精度
で電気的測定を行うことのできるプローブ装置を提供す
ることにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、被検
査チップが多数配列された被検査体を、エンコーダが連
結されたモータにより平面方向に駆動される保持台に保
持させ、この保持台を間欠的に移動させることにより、
プローブ針を電極パッドに順次接触させて被検査体の電
気的測定を行うプローブ装置において、被検査体が測定
領域を移動したときに被検査体の位置を当該被検査体を
介して認識する認識手段と、被検査体が測定領域内を移
動したときに前記認識手段の認識結果と前記エンコーダ
よりのパルス数とにもとづいて、被検査体の移動量とパ
ルス数との関係を求める演算処理部と、この演算処理部
の演算結果を記憶する記憶部と、被検査体の測定時に前
記記憶部のデータにもとづいて前記モータを制御するモ
ータ制御部と、を有してなることを特徴とする。
【0013】請求項2の発明は、請求項1の発明におい
て、認識手段は、プローブ針の針先と電極パッドとの平
面的相対位置を認識する機能を有し、モータ制御部は、
認識手段により認識された前記相対位置にもとづいて、
電極パッドとプローブ針の針先との平面的位置が合うよ
うにモータを制御する機能を有していることを特徴とす
る。
【0014】
【作用】測定領域(プロ−ビング領域)に置かれた被検
査体の例えば表面の特定位置を認識手段で認識し、保持
台を移動させて先の特定位置から被検査体上で例えばX
方向に離れている他の特定位置を認識手段で認識する。
このとき演算処理部でエンコーダのパルス数を求め、こ
の操作を例えばY方向についても行うことにより、被検
査体上のX、Y方向の長さとエンコーダのパルス数との
関係を求める。
【0015】この関係を用いてモータを制御することに
より、保持台の駆動系例えばボールネジの加工精度や歪
みなどにもとづく制御系の絶対座標中に含まれる誤差に
影響されずに、測定時に被検査体を正確に移動させるこ
とができる。また測定領域内でプローブ針と電極パッド
との相対的位置合わせを行うことにより、別のアライメ
ント領域で位置合わせを行う場合に比べて、領域間の駆
動系の誤差が含まれないので非常に高精度にプローブ針
と電極パッドとを接触させることができる。
【0016】
【実施例】図1は、本発明の実施例の概略全体を示す説
明図、図2はこの実施例の上部を示す縦断側面図であ
る。である。この実施例では、ウエハ保持台2はX軸テ
ーブル3の上に、図示しないθ移動機構によりθ方向に
移動自在に設けられており、例えばヒータ(図示せず)
を内蔵している。X軸テーブル3は、Y軸テーブル4の
上をボールネジよりなるX軸31によりガイド部3aに
ガイドされながらX方向に移動できるように構成される
と共に、Y軸テーブル4は、ベーステーブル40の上を
ボールネジよりなるY軸41によりガイド部4aにガイ
ドされながらY方向に移動でるように構成されている。
【0017】前記X軸31は、当該X軸31を駆動する
モータ32に連結されており、このモータ32には、エ
ンコーダ33が取り付けられている。またY軸41につ
いてもモータ42及びエンコーダ43が取り付けられて
いる。
【0018】前記ウエハ保持台2の上方側には、インサ
ートリング21に取り付けられたプローブカード22が
配置され、このインサートリング21は装置本体20に
固定されている。プローブカード22の上面側には、図
2の上部断面図に示すように測定系の電極例えばコンタ
クトリング23のポゴピン23aに接触される電極24
が配列される一方、プローブカード22の下面側には、
この電極22aに夫々電気的に接続され、被検査体であ
るウエハ上の電極パッドの配列に対応して接触手段をな
すプローブ針25が配列されている。
【0019】前記ウエハ保持台2とプローブ針25との
間の間隙には、中央部の上下両面に夫々開口部51、5
2を備えた筒状の保持部材5が進退自在に設けられ、こ
の保持部材5は、装置本体20の上面内部側に架設され
た2本のガイドレール53、53に両端が案内されて、
プローブ針25の下方側とウエハ保持台2の昇降領域か
ら外れた装置本体20の隅部との間で移動できるように
構成されている。またガイドレール53、53は図示し
ない例えばボールネジを用いた昇降機構に組み合わせて
設けられており、従って保持台部材5は、この例では
Y、Z方向に移動することができる。ただし保持部材5
は、X方向にも移動可能に構成してもよい。
【0020】この保持部材5の側端部には、当該保持部
材5内にて長さ方向に光軸が形成されるように、例えば
低倍率表示と高倍率表示との切り替えが可能な位置合わ
せ用のCCDカメラ61が取り付けられると共に、保持
部材5の中央部には、開口部51を介して取り込まれた
プローブ針25の画像を反射してCCDカメラ61内に
伝送させるようにハーフミラーM1が設けられている。
【0021】更に前記保持部材5内には、ハーフミラー
M1に対してCCDカメラ61とは反対位置でありかつ
CCDカメラ61の光軸上に、全反射ミラーM2が配置
されており、この全反射ミラーM2は、ウエハ保持台2
上のウエハWの表面の画像が開口部52を通ってハーフ
ミラーM1にて全反射ミラーM2側に反射した後、当該
画像をハーフミラーM1に向けて全反射する役割を持つ
ものである。この例ではハーフミラーM1及び全反射ミ
ラーM2により光学系部材が構成される。
【0022】前記CCDカメラ61には画像処理部62
が接続され、この画像処理部62にて、CCDカメラ6
1により撮像された画像を2値化して、この画像と例え
ば予め格納された画像データと比較して一致、不一致か
を判定する機能を有している。この画像データとして
は、例えば後述のようにウエハ上のICチップの配列群
の端部に位置するチップや電極パッドなどについての低
倍率モード、高倍率モードの夫々のデータが相当する。
【0023】この画像処理部62の出力側には演算処理
部7が設けられており、この演算処理部7は、前記エン
コーダ33、43よりのパルスが入力されると共に、例
えばウエハW上の特定の部位が画面の所定位置にきたと
きに画像処理部62より出力される認識信号が入力さ
れ、これら信号にもとづいて、ウエハW上の特定位置の
間をウエハ保持台2が移動するときのエンコーダ33ま
たは43のパルス数を演算し、これによりウエハWの移
動距離とパルス数との関係を求めて、例えばX、Y方向
の夫々について1パルスあたりのウエハWの移動距離を
求める機能を有している。この例では保持部材5に保持
された光学系部材、CCDカメラ及び画像処理部によっ
て、ウエハの位置を認識する認識手段が構成される。
【0024】またウエハ保持台1の制御系には、演算処
理部7の演算結果が格納される記憶部71と、ウエハW
の測定時にこの記憶部71内のデータを参照してモータ
32、42を駆動制御し、更にまたウエハWの測定前の
初期位置を設定するために画像処理部62よりの画像デ
ータ例えば電極パッドとプローブ針25との位置ずれ分
の情報にもとづいてモータ32、42及びウエハ保持台
1のθ方向の駆動用のモータを制御してウエハWの位置
合わせを行うモータ制御部72とが設けられている。な
おこのモータ制御部72は、図示していないが、ウエハ
保持台2のZ方向の駆動用モータを制御する機能も持っ
ている。
【0025】またこの実施例におけるプロービング領域
(測定領域)以外の部分について簡単に説明すると、プ
ロービング領域から離れた個所に、ロード、アンロード
用のウエハキャリアCと、このキャリアCから取り出さ
れたウエハをプリアライメントするためのプリアライメ
ントステージ81と、キャリアC、プリアライメントス
テージ81及びウエハ保持台2の間でウエハを受け渡す
搬送アーム82とが配設されている。
【0026】次に上述実施例の作用について説明する。
例えば今ある同一種類のウエハについて電気的測定を行
う場合、先ずそのウエハ群の1枚を用いて、プロービン
グ領域中におけるウエハの移動量とエンコーダ33、4
3のパルス数との関係を求めて、X−Yの座標系につい
て調べておく。具体的には搬送アーム82によりキャリ
アC内のウエハWをプリアライメントステージ81に受
け渡し、ここでウエハWのオリフラ(オリエンテーショ
ンフラット)の位置を合わせた後、ウエハ保持台2上に
受け渡す。
【0027】続いてウエハWのX方向の座標系を調べる
ために、ウエハW上のICチップの配列方向をX方向
(X軸41の方向)に一致させる。この一致操作はCC
Dカメラ61にて撮像された低倍率モードの画像が画像
処理部62に格納されている画像データと一致するよう
にウエハ保持台2をθ回転させることにより行われる。
ウエハW上のX方向に離れて位置する特定位置、例えば
図3に示すようにウエハW上の被検査体チップであるI
Cチップ100のX方向の両端部に位置する電極パッド
の中心x1、x2を、CCDカメラ61の光軸上に順次
位置させるようにモータ32、42を駆動する。前記特
定位置x1、x2がCCDカメラ61の光軸上に位置し
たときはには既述したようにCCDカメラ61よりの画
像にもとづいて画像処理部62から認識信号が出力され
るため、演算処理部7にて前記特定位置x1、x2間を
ウエハ保持台2を移動させるに必要なX軸31用のエン
コーダ33のパルス数がカウントされる。そしてx1、
x2間の長さは予めわかっているので、プロービング領
域中における、ウエハWのX方向の移動量とパルス数と
の関係が求まり、1パルス当りのX方向の長さがわか
る。
【0028】ここで画像認識の一例について述べると、
はじめにCCDカメラ61の低倍率モードを選択してお
くことにより、CCDカメラ61で撮像した、X方向の
両端部に位置するICチップ画像は図4に示すように表
示され、更にウエハ保持台2を光軸に対して走査するこ
とにより所定の電極パッドPが画面の中心にきたときに
高倍率モードに切り替える。これにより電極パッドPの
拡大画像は図5に示すように表示され、電極パッドPの
中心x1が画面の中心にきたときに画像処理部62から
認識信号が出力される。
【0029】そしてY方向についても、ウエハW上のY
方向に離れて位置する特定の位置として同様に両端部の
電極パッドの中心を用い、同様の操作を行うことにより
ウエハWの移動量とエンコーダ43のパルス数との関係
が求まり、1パルス当りのY方向の長さがわかる。これ
らX方向、Y方向の1パルス当りの長さのデータは記憶
部71に格納される。
【0030】このようなウエハWのX−Y座標系のデー
タを得るにあたっては、ウエハWを実際に測定するとき
に同じ条件で行われ、例えばウエハ保持台2に内蔵され
た図示しないヒータによりウエハWを約150℃程度に
加熱した状態で行われる。
【0031】次に当該ウエハWについてプローブ針25
に対して位置合わせを行う。この位置合わせは、カメラ
61により低倍率モードで撮像し、特定のICチップの
全電極パッド内にプローブ針25の針先が位置するよう
に、ウエハ保持台2を移動させて粗調整を行い、次いで
高倍率モードに切り替えて撮像し、特定の電極パッドの
中心に針先が位置するようにウエハ保持台2を移動させ
て微調整を行う。これらの調整は、X、Y、θ方向につ
いて行われる。その後光学系部材の保持部材5をガイド
レール53に沿ってプロービング領域から外れた領域に
図示しない駆動機構により退避させた後、ウエハ保持台
2を上昇させてプローブ針25と電極パッドとを接触さ
せ、テストヘッド26とICチップとの間で電気信号の
授受を行って電気的測定を行う。
【0032】このような実施例によれば、ウエハWのI
Cチップの配列パターンを基準スケールとして、ウエハ
Wがどれだけ移動するとエンコーダのパルスがいくつカ
ウントされるかということを、ウエハWの測定領域であ
るプロービング領域(ウエハWの測定時にウエハWが移
動する領域)内にて予め調べておき、そのデータにもと
づいて、ウエハWの測定時にウエハ保持台2を移動させ
ている。従ってボールネジ31、41の加工精度やウエ
ハWを加熱したときのシリコンとボールネジ31、41
との熱膨脹にもとづく誤差などが制御系の絶対座標中に
含まれていても、プロービング領域とアライメント領域
とが同じであるため、これら誤差は測定時のウエハWの
移動制御の中には含まれてない。この結果ウエハW上の
いずれの電極パッドに対してもプローブ針25を正確に
接触させることができ、電気的測定を高い精度で行うこ
とができる。
【0033】またプロービング領域内でプローブ針25
と電極パッドとの位置合わせを行うので、別のアライメ
ント領域で位置合わせを行う場合に比べて領域間のボー
ルネジの加工精度や歪みの誤差が含まれないので、この
点からも高い精度でプローブ針25と電極パッドとを接
触させることができる。
【0034】以上においてウエハW上の特定位置を認識
するにあたっては、ウエハW上のX方向(あるいはY方
向)に並ぶ3個以上のチップを特定位置とし、ウエハW
領域を分割して各分割領域毎にパルス数と長さとの関係
を調べてもよいし、あるいは製品として用いない専用の
ウエハW上に特定位置をなす多数マークを付しておいて
もよい。
【0035】そしてウエハ上の各チップや各マークの角
度も画像処理部62により認識し、ウエハがどの位置に
きたときにウエハ保持台2をθ方向にどのくらい移動
(回転)させればよいのかというθ方向の情報について
も、記憶部71に記憶しておき、ウエハの測定時にこの
情報にもとづいてθ駆動用のモータを制御してもよい。
このようにすれば、ボールネジの歪みなどの誤差につい
ても補正することができる。
【0036】更にまたプローブ針25の針先と電極パッ
ドとの位置合わせは、各ウエハWの測定毎に行わなくと
も、はじめの1枚について位置合わせを行っておき、そ
の位置を記憶させておくようにしてもよいし、またその
位置合わせのときに光学系部材を上下動させて針先及び
電極パッド夫々に対して焦点合わせを行うが、このとき
の光学系部材の昇降量にもとづいて針先のウエハとのZ
方向の距離を記憶しておくようにしてもよい。
【0037】なおプローブ針と電極パッドとは別々の光
学系部材で画像をとり込んでもよいし、あるいはプロー
ブ針の上から両方の画像を取り込んでもよい。また針先
の代りに相対的位置が決まっているマークを用いてもよ
い。
【0038】そして上述のパルス数とウエハW上の長さ
の関係の把握は、環境温度の変化などに応じて適宜行え
ばよく、例えば各ウエハW毎に行ってもよい。また認識
手段としては、CCDカメラを用いれば分解能が高いの
で好ましいが、これに限定されることなく、例えばレー
ザ干渉計を用いてウエハWの位置を認識するようにして
もよい。
【0039】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、測定領域内に
おいて、被検査体を介して認識した被検査体の移動量と
ウエハ保持台の駆動用のモータに連結されたエンコーダ
のパルス数との関係を把握し、この関係にもとづいて保
持台を移動させているため、保持台の駆動系に機械精度
などによる誤差が含まれていても被検査体とプローブ針
との位置が正確に合うように被検査体が移動するので、
精度の高い測定を行うことができる。
【0040】また請求項2の発明によれば、測定領域に
おける認識手段の認識結果にもとづいてプローブ針の針
先と電極パッドとの平面的位置が合うようにモータを制
御して保持台を位置設定しているので、別のアライメン
ト領域で位置合わせを行う場合に比べて高精度に位置合
わせを行うことができ、また測定の自動化を図ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す構成図である。
【図2】本発明の実施例の一部を示す縦断側面図であ
る。
【図3】半導体ウエハの特定位置の一例を示す説明図で
ある。
【図4】CCDカメラによる低倍率モード時の画像を示
す説明図である。
【図5】CCDカメラによる高倍率モード時の画像を示
す説明図である。
【図6】従来のプローブ装置の一部を示す縦断側面図で
ある。
【図7】従来のプローブ装置のアライメント領域を示す
説明図である。
【符号の説明】
2 ウエハ保持台 22 プローブカード 25 プローブ針 31、41 ボールネジ 32、42 モータ 33、43 エンコーダ 6 光学系部材の保持部材 61 CCDカメラ 62 画像処理部 7 演算処理部 71 記憶部 72 モータ制御部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被検査チップが多数配列された被検査体
    を、エンコーダが連結されたモータにより平面方向に駆
    動される保持台に保持させ、この保持台を間欠的に移動
    させることにより、プローブ針を電極パッドに順次接触
    させて被検査体の電気的測定を行うプローブ装置におい
    て、 被検査体が測定領域を移動したときに被検査体の位置を
    当該被検査体を介して認識する認識手段と、 被検査体が測定領域内を移動したときに前記認識手段の
    認識結果と前記エンコーダよりのパルス数とにもとづい
    て、被検査体の移動量とパルス数との関係を求める演算
    処理部と、 この演算処理部の演算結果を記憶する記憶部と、 被検査体の測定時に前記記憶部のデータにもとづいて前
    記モータを制御するモータ制御部と、 を有してなることを特徴とするプローブ装置。
  2. 【請求項2】 認識手段は、プローブ針の針先と電極パ
    ッドとの平面的相対位置を認識する機能を有し、 モータ制御部は、認識手段により認識された前記相対位
    置にもとづいて、電極パッドとプローブ針の針先との平
    面的位置が合うようにモータを制御する機能を有してい
    ることを特徴とする請求項1記載のプローブ装置。
JP5039389A 1993-02-02 1993-02-02 プローブ方法 Expired - Lifetime JP2979277B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR19990071141A (ko) * 1998-02-27 1999-09-15 윤종용 이디에스 공정설비를 사용한 반도체장치 이디에스방법
KR100301060B1 (ko) * 1999-07-22 2001-11-01 윤종용 웨이퍼 프로빙 장비 및 이를 이용한 웨이퍼 검사용 니들 교정방법
KR100328634B1 (ko) * 1998-12-22 2002-09-26 주식회사 다산 씨.앤드.아이 웨이퍼 프로브 시스템의 웨이퍼 핸들링 장치에서의 사전 정렬장치
CN107576849A (zh) * 2017-07-20 2018-01-12 中国计量大学 一种带机器视觉的pe管件电阻自动检测用移动定位装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990071141A (ko) * 1998-02-27 1999-09-15 윤종용 이디에스 공정설비를 사용한 반도체장치 이디에스방법
KR100328634B1 (ko) * 1998-12-22 2002-09-26 주식회사 다산 씨.앤드.아이 웨이퍼 프로브 시스템의 웨이퍼 핸들링 장치에서의 사전 정렬장치
KR100301060B1 (ko) * 1999-07-22 2001-11-01 윤종용 웨이퍼 프로빙 장비 및 이를 이용한 웨이퍼 검사용 니들 교정방법
CN107576849A (zh) * 2017-07-20 2018-01-12 中国计量大学 一种带机器视觉的pe管件电阻自动检测用移动定位装置

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