JPH06230219A - 多層膜誘電体フィルターの製造装置及び製造方法 - Google Patents
多層膜誘電体フィルターの製造装置及び製造方法Info
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- JPH06230219A JPH06230219A JP3408093A JP3408093A JPH06230219A JP H06230219 A JPH06230219 A JP H06230219A JP 3408093 A JP3408093 A JP 3408093A JP 3408093 A JP3408093 A JP 3408093A JP H06230219 A JPH06230219 A JP H06230219A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 屈折率の異なる少なくとも二種類の物質で表
面が区分形成されたスパッタリング対象材１２と、前記
スパッタリング対象材表面からの飛散物質が蒸着し、表
面に多層膜フィルターを形成する被膜基板１６と、前記
スパッタリング対象材１２表面の一部が表出するように
被覆するマスク部１４と、前記スパッタリング対象材１
２のマスク部１４からの表出面において、屈折率の異な
る物質のそれぞれの表出比が連続的に変化するように、
スパッタリング対象材１２とマスク部１４とを相対移動
させる移動部２０と、を備えたことを特徴とする多層膜
誘電体フィルターの製造装置。 【効果】 スパッタリング対象材１２とマスク部１４と
の相対移動を繰返しながらスパッタリングを行うだけ
で、屈折率が連続的かつ周期的に変化する極めて多く積
層された多層膜誘電体フィルターを容易に製造すること
が可能となる。
面が区分形成されたスパッタリング対象材１２と、前記
スパッタリング対象材表面からの飛散物質が蒸着し、表
面に多層膜フィルターを形成する被膜基板１６と、前記
スパッタリング対象材１２表面の一部が表出するように
被覆するマスク部１４と、前記スパッタリング対象材１
２のマスク部１４からの表出面において、屈折率の異な
る物質のそれぞれの表出比が連続的に変化するように、
スパッタリング対象材１２とマスク部１４とを相対移動
させる移動部２０と、を備えたことを特徴とする多層膜
誘電体フィルターの製造装置。 【効果】 スパッタリング対象材１２とマスク部１４と
の相対移動を繰返しながらスパッタリングを行うだけ
で、屈折率が連続的かつ周期的に変化する極めて多く積
層された多層膜誘電体フィルターを容易に製造すること
が可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は多層膜誘電体フィルター
の製造装置及び製造方法、特にレーリー散乱光をカット
するために用いる多層膜誘電体フィルターの製造装置及
び製造方法の改良に関する。
の製造装置及び製造方法、特にレーリー散乱光をカット
するために用いる多層膜誘電体フィルターの製造装置及
び製造方法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光等の波長の短い単色光を試料に
当て、散乱光をレンズで集光して回折格子で分光する
と、該散乱光の成分には入射光と同じ波長の光の他に、
波長の異なった光も含まれている。そして、入射光と同
じ波長を持つ散乱光をレーリー散乱光、波長の異なった
散乱光をラマン散乱光と言い、ラマン散乱光は入射光の
振動数に対し、試料固有の振動数が結合したものであ
る。また、ラマン散乱光の強度は、入射光の強度及び試
料濃度（分子数）に比例する。従って、ラマン散乱光を
分光分析することにより、試料中の成分の同定及び定量
が可能となる。
当て、散乱光をレンズで集光して回折格子で分光する
と、該散乱光の成分には入射光と同じ波長の光の他に、
波長の異なった光も含まれている。そして、入射光と同
じ波長を持つ散乱光をレーリー散乱光、波長の異なった
散乱光をラマン散乱光と言い、ラマン散乱光は入射光の
振動数に対し、試料固有の振動数が結合したものであ
る。また、ラマン散乱光の強度は、入射光の強度及び試
料濃度（分子数）に比例する。従って、ラマン散乱光を
分光分析することにより、試料中の成分の同定及び定量
が可能となる。
【０００３】しかし、一般にラマン散乱光は、レーリー
散乱光の１０ー6から１０ー12倍と極めて微弱な光である
ため、該ラマン散乱光を高精度で測定するためには、レ
ーリー散乱光をカットしてラマン散乱光のみを取り出さ
なければならない。すなわち、ラマン散乱光のラマンシ
フトが微小である場合、該ラマン散乱光とレーリー散乱
光との波長のズレも当然微小となるため、レーリー散乱
光に混ざった微弱なラマン散乱光を検出するのが非常に
困難なのである。このため、前記レーリー散乱光をカッ
トするために各種フィルターが用いられており、一般的
なフィルターとして、多層膜誘電体フィルターやホログ
ラフィックノッチフィルターが汎用されている。
散乱光の１０ー6から１０ー12倍と極めて微弱な光である
ため、該ラマン散乱光を高精度で測定するためには、レ
ーリー散乱光をカットしてラマン散乱光のみを取り出さ
なければならない。すなわち、ラマン散乱光のラマンシ
フトが微小である場合、該ラマン散乱光とレーリー散乱
光との波長のズレも当然微小となるため、レーリー散乱
光に混ざった微弱なラマン散乱光を検出するのが非常に
困難なのである。このため、前記レーリー散乱光をカッ
トするために各種フィルターが用いられており、一般的
なフィルターとして、多層膜誘電体フィルターやホログ
ラフィックノッチフィルターが汎用されている。
【０００４】そして、従来の多層膜誘電体フィルター
は、スパッタリングにより被膜基板にまず所定の屈折率
を有する第１物質を被膜する。次に前記第１物質と屈折
率の異なる第２物質を被膜し、さらに前記第１物質と第
２物質とを交互に被膜していき多層膜を形成し、特定波
長の光をカットするものである。一方、ホログラフィッ
クノッチフィルターは、ゼラチンの厚膜中に光の干渉に
よって周期的屈折率の変化をつけて定着することによっ
て前記多層膜と同様の働きをさせ、特定波長の光をカッ
トするものである。
は、スパッタリングにより被膜基板にまず所定の屈折率
を有する第１物質を被膜する。次に前記第１物質と屈折
率の異なる第２物質を被膜し、さらに前記第１物質と第
２物質とを交互に被膜していき多層膜を形成し、特定波
長の光をカットするものである。一方、ホログラフィッ
クノッチフィルターは、ゼラチンの厚膜中に光の干渉に
よって周期的屈折率の変化をつけて定着することによっ
て前記多層膜と同様の働きをさせ、特定波長の光をカッ
トするものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、レーリー散
乱光をカットするためには、該レーリー散乱光の波長光
のみをカットするフィルターが望ましい。すなわち、フ
ィルターのカットする光の波長のバンド幅が広いと、レ
ーリー散乱光の波長と近いラマンシフトの小さなラマン
散乱光までカットしてしまうからである。従って、レー
リー散乱光のカット用フィルターにおいては、カットす
る光の波長のバンド幅をいかに小さくするかが重要にな
ってくる。そして、前記多層膜誘電体フィルターにおい
て、カットする光の波長のバンド幅は、第１物質と第２
物質の屈折率の差によって決定される。すなわち、前記
第１物質と第２物質の屈折率の差が小さい程、カットす
る波長のバンド幅が小さくなるのである。
乱光をカットするためには、該レーリー散乱光の波長光
のみをカットするフィルターが望ましい。すなわち、フ
ィルターのカットする光の波長のバンド幅が広いと、レ
ーリー散乱光の波長と近いラマンシフトの小さなラマン
散乱光までカットしてしまうからである。従って、レー
リー散乱光のカット用フィルターにおいては、カットす
る光の波長のバンド幅をいかに小さくするかが重要にな
ってくる。そして、前記多層膜誘電体フィルターにおい
て、カットする光の波長のバンド幅は、第１物質と第２
物質の屈折率の差によって決定される。すなわち、前記
第１物質と第２物質の屈折率の差が小さい程、カットす
る波長のバンド幅が小さくなるのである。
【０００６】しかし、その反面、前記二つの物質の屈折
率差を小さくすると、膜層における一定層数当りのカッ
ト率も小さくなってしまうため、レーリー散乱光を完全
にカットするためには、フィルターを最低数百層という
極めて多層膜に形成しなければならない。しかしなが
ら、前記従来の多層膜誘電体フィルターのように二つの
屈折率の異なる物質をスパッタリングにより交互に被膜
していたのでは、前記レーリー散乱光のカット用フィル
ターに必要な膜層数を膜厚の均一性を維持しながら形成
するのは、多大な時間を要し、技術的にもほとんど不可
能であった。
率差を小さくすると、膜層における一定層数当りのカッ
ト率も小さくなってしまうため、レーリー散乱光を完全
にカットするためには、フィルターを最低数百層という
極めて多層膜に形成しなければならない。しかしなが
ら、前記従来の多層膜誘電体フィルターのように二つの
屈折率の異なる物質をスパッタリングにより交互に被膜
していたのでは、前記レーリー散乱光のカット用フィル
ターに必要な膜層数を膜厚の均一性を維持しながら形成
するのは、多大な時間を要し、技術的にもほとんど不可
能であった。
【０００７】また、前記多層膜誘電体フィルターは、第
１物質と第２物質のそれぞれの膜層の境界面において、
屈折率が不連続的に段差変化するため、所謂リップルが
生じ、光の透過率が大きく変動してしまいラマン散乱光
の強度が正確に測定できないという問題もあった。一
方、前記ホログラフィックノッチフィルターは、前述し
たように光の干渉によってゼラチンの厚膜中に屈折率の
差を作るため、屈折率分布が連続的に段差変化なく形成
される。従って、前記リップルを生じることがなく、光
透過部の平坦性に優れ、またかなり多くの膜層を重ねて
形成するのも比較的容易である。
１物質と第２物質のそれぞれの膜層の境界面において、
屈折率が不連続的に段差変化するため、所謂リップルが
生じ、光の透過率が大きく変動してしまいラマン散乱光
の強度が正確に測定できないという問題もあった。一
方、前記ホログラフィックノッチフィルターは、前述し
たように光の干渉によってゼラチンの厚膜中に屈折率の
差を作るため、屈折率分布が連続的に段差変化なく形成
される。従って、前記リップルを生じることがなく、光
透過部の平坦性に優れ、またかなり多くの膜層を重ねて
形成するのも比較的容易である。
【０００８】しかしながら、前記ホログラフィックノッ
チフィルターは、ゼラチンの厚膜中での光の干渉強度の
不均一により、フィルターの端面近傍と中心付近におけ
る屈折率が異なってしまい、カットする光の中心波長に
ズレが生じてしまう。従って、カットする波長のバンド
幅を満足できる程度に狭くすることができず、レーリー
散乱光のみを正確にカットできないという問題があっ
た。また、フィルターの素材となるゼラチン膜が、高エ
ネルギーレーザ光には耐えられないという難点もあっ
た。本発明は前記従来技術の課題に鑑みなされたもので
あり、その目的は所望の波長光のみをバンド幅狭くカッ
トできるとともに、透過光の透過率が良好なフィルター
を容易に製造可能な多層膜誘電体フィルターの製造装置
及び製造方法を提供することにある。
チフィルターは、ゼラチンの厚膜中での光の干渉強度の
不均一により、フィルターの端面近傍と中心付近におけ
る屈折率が異なってしまい、カットする光の中心波長に
ズレが生じてしまう。従って、カットする波長のバンド
幅を満足できる程度に狭くすることができず、レーリー
散乱光のみを正確にカットできないという問題があっ
た。また、フィルターの素材となるゼラチン膜が、高エ
ネルギーレーザ光には耐えられないという難点もあっ
た。本発明は前記従来技術の課題に鑑みなされたもので
あり、その目的は所望の波長光のみをバンド幅狭くカッ
トできるとともに、透過光の透過率が良好なフィルター
を容易に製造可能な多層膜誘電体フィルターの製造装置
及び製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明にかかる多層膜誘電体フィルターの製造装置
は、屈折率の異なる少なくとも二種類の物質で表面が区
分形成されたスパッタリング対象材と、前記スパッタリ
ング対象材表面からの飛散物質が蒸着し、表面に多層膜
フィルターを形成する被膜基板と、前記スパッタリング
対象材表面の一部が表出するように被覆するマスク部
と、前記スパッタリング対象材のマスク部からの表出面
において、屈折率の異なる物質のそれぞれの表出比が連
続的に変化するように、スパッタリング対象材とマスク
部とを相対移動させる移動部と、を備えたことを特徴と
する。
に本発明にかかる多層膜誘電体フィルターの製造装置
は、屈折率の異なる少なくとも二種類の物質で表面が区
分形成されたスパッタリング対象材と、前記スパッタリ
ング対象材表面からの飛散物質が蒸着し、表面に多層膜
フィルターを形成する被膜基板と、前記スパッタリング
対象材表面の一部が表出するように被覆するマスク部
と、前記スパッタリング対象材のマスク部からの表出面
において、屈折率の異なる物質のそれぞれの表出比が連
続的に変化するように、スパッタリング対象材とマスク
部とを相対移動させる移動部と、を備えたことを特徴と
する。
【００１０】また、請求項２に記載の多層膜誘電体フィ
ルターの製造方法は、屈折率の異なる少なくとも二種類
の物質で表面が区分形成されたスパッタリング対象材
を、該スパッタリング対象材表面の一部が表出するよう
にマスク部で被覆し、前記スパッタリング対象材のマス
ク部からの表出面において、屈折率の異なる物質のそれ
ぞれの表出比が連続的に変化するように、前記スパッタ
リング対象材とマスク部とを相対移動させながら、前記
表出面からのスパッタリング対象材の飛散、及び該飛散
物質の被膜基板への蒸着を行うことにより多層膜フィル
ターを形成することを特徴とする。
ルターの製造方法は、屈折率の異なる少なくとも二種類
の物質で表面が区分形成されたスパッタリング対象材
を、該スパッタリング対象材表面の一部が表出するよう
にマスク部で被覆し、前記スパッタリング対象材のマス
ク部からの表出面において、屈折率の異なる物質のそれ
ぞれの表出比が連続的に変化するように、前記スパッタ
リング対象材とマスク部とを相対移動させながら、前記
表出面からのスパッタリング対象材の飛散、及び該飛散
物質の被膜基板への蒸着を行うことにより多層膜フィル
ターを形成することを特徴とする。
【００１１】
【作用】本発明にかかる多層膜誘電体フィルターの製造
装置及び製造方法は、前述したように屈折率の異なる二
種類の物質で区分形成されたスパッタリング対象材をマ
スク部からの表出面においてスパッタリングにより被膜
基板に飛散、蒸着させる。そして、前記スパッタリング
対象材とマスク部とを相対移動させることによって、該
マスク部からの表出面においてスパッタリング対象材を
形成する二種類の物質の表出比を連続的に変化させる。
装置及び製造方法は、前述したように屈折率の異なる二
種類の物質で区分形成されたスパッタリング対象材をマ
スク部からの表出面においてスパッタリングにより被膜
基板に飛散、蒸着させる。そして、前記スパッタリング
対象材とマスク部とを相対移動させることによって、該
マスク部からの表出面においてスパッタリング対象材を
形成する二種類の物質の表出比を連続的に変化させる。
【００１２】従って、前記スパッタリング対象材とマス
ク部とを相対移動させながら、表出面から飛散する物質
を被膜基板に蒸着させることにより、スパッタリング対
象材を形成する二種類の物質の混合比が連続的に変化し
た被膜が形成される。このため、前記相対移動を定速で
繰返し行えば、前記混合比が連続的に変化した被膜、即
ち屈折率が連続的に変化する被膜を周期的に繰返し所望
層数重ねた多層膜を形成することが可能となる。従っ
て、前記スパッタリング対象材に屈折率差の小さな二種
類の物質を用い、必要層数の多層膜を形成することによ
り、レーリー散乱光等の特定波長光のみを完全にカット
し、さらにリップルの発生原因となる屈折率の段差変化
のない多層膜誘電体フィルターを容易に製造することが
可能となる。
ク部とを相対移動させながら、表出面から飛散する物質
を被膜基板に蒸着させることにより、スパッタリング対
象材を形成する二種類の物質の混合比が連続的に変化し
た被膜が形成される。このため、前記相対移動を定速で
繰返し行えば、前記混合比が連続的に変化した被膜、即
ち屈折率が連続的に変化する被膜を周期的に繰返し所望
層数重ねた多層膜を形成することが可能となる。従っ
て、前記スパッタリング対象材に屈折率差の小さな二種
類の物質を用い、必要層数の多層膜を形成することによ
り、レーリー散乱光等の特定波長光のみを完全にカット
し、さらにリップルの発生原因となる屈折率の段差変化
のない多層膜誘電体フィルターを容易に製造することが
可能となる。
【００１３】
【実施例】以下、図面に基づき本発明の好適な実施例を
説明する。図１及び図２には、本発明の一実施例にかか
る多層膜誘電体フィルターの製造装置の概略構成が示さ
れている。なお、図１は外観斜視図であり、図２は側断
面図である。同図に示す多層膜誘電体フィルターの製造
装置は、スパッタリングを行うスパッタリング槽１０
と、該スパッタリング槽１０内にそれぞれ設けられた、
円盤状に形成されたスパッタリング対象材１２と、該ス
パッタリング対象材１２の表面を被膜するマスク部１４
と、該スパッタリング対象材１２の飛散物質が蒸着する
被膜基板１６と、を有している。
説明する。図１及び図２には、本発明の一実施例にかか
る多層膜誘電体フィルターの製造装置の概略構成が示さ
れている。なお、図１は外観斜視図であり、図２は側断
面図である。同図に示す多層膜誘電体フィルターの製造
装置は、スパッタリングを行うスパッタリング槽１０
と、該スパッタリング槽１０内にそれぞれ設けられた、
円盤状に形成されたスパッタリング対象材１２と、該ス
パッタリング対象材１２の表面を被膜するマスク部１４
と、該スパッタリング対象材１２の飛散物質が蒸着する
被膜基板１６と、を有している。
【００１４】また、前記マスク部１４には円形の開口部
１５が形成されており、スパッタリング対象材１２の一
部が該開口部１５から表出している。そして、前記スパ
ッタリング槽１０内にアルゴンガス等を充填し、図示を
省略した電極間に電圧をかけ、スパッタリングを行う。
前記スパッタリング対象材１２はマスク部１４で被覆し
ているため、前記開口部１５からの表出面においてのみ
スパッタリング対象物質が飛散する。
１５が形成されており、スパッタリング対象材１２の一
部が該開口部１５から表出している。そして、前記スパ
ッタリング槽１０内にアルゴンガス等を充填し、図示を
省略した電極間に電圧をかけ、スパッタリングを行う。
前記スパッタリング対象材１２はマスク部１４で被覆し
ているため、前記開口部１５からの表出面においてのみ
スパッタリング対象物質が飛散する。
【００１５】さらに、前記飛散物質ｎは、開口部１５上
方に設置された前記被膜基板１６に蒸着し、被膜を形成
する。本実施例において特徴的なことは、前記スパッタ
リング対象材１２を屈折率の異なる２種類の物質から形
成し、該スパッタリング対象材１２と前記マスク部１４
の開口部１５とを相対移動させることにより、該開口部
１５からの前記２種類の物質の表出比を連続的に変化さ
せることにある。すなわち、前記スパッタリング対象材
１２はそれぞれ屈折率の異なる物質からなる第１対象材
１２ａ及び第２対象材１２ｂから形成されており、該第
１対象材１２ａと第２対象材１２ｂはスパッタリング対
象材１２表面の中心を通る線分により区分されている。
方に設置された前記被膜基板１６に蒸着し、被膜を形成
する。本実施例において特徴的なことは、前記スパッタ
リング対象材１２を屈折率の異なる２種類の物質から形
成し、該スパッタリング対象材１２と前記マスク部１４
の開口部１５とを相対移動させることにより、該開口部
１５からの前記２種類の物質の表出比を連続的に変化さ
せることにある。すなわち、前記スパッタリング対象材
１２はそれぞれ屈折率の異なる物質からなる第１対象材
１２ａ及び第２対象材１２ｂから形成されており、該第
１対象材１２ａと第２対象材１２ｂはスパッタリング対
象材１２表面の中心を通る線分により区分されている。
【００１６】また、前記スパッタリング対象材１２は、
その裏面中心に軸１８を介して接続された移動部である
モータ２０により円周方向に回転可能に設けられてい
る。さらに、前記開口部１５は、スパッタリング対象材
１２の一部のみが表出するように設けられている。すな
わち、開口部１５は、スパッタリング対象材１２の半径
を直径とした円形に形成されており、該開口部１５の円
周上にスパッタリング対象材１２の回転中心点が位置す
るように配置されている。
その裏面中心に軸１８を介して接続された移動部である
モータ２０により円周方向に回転可能に設けられてい
る。さらに、前記開口部１５は、スパッタリング対象材
１２の一部のみが表出するように設けられている。すな
わち、開口部１５は、スパッタリング対象材１２の半径
を直径とした円形に形成されており、該開口部１５の円
周上にスパッタリング対象材１２の回転中心点が位置す
るように配置されている。
【００１７】従って、前記モータ２０によりスパッタリ
ング対象材１２を回転させると、該スパッタリング対象
材１２の開口部１５からの表出面は図３に示すように変
化する。すなわち、同図（Ａ）の開口部１５からの表出
面が第１対象材１２ａのみの状態から同図（Ｄ）の表出
面が第２対象材１２ｂのみの状態へと回転させる過程に
おいて、同図（Ｂ）、（Ｃ）に示すように第１対象材１
２ａと第２対象材１２ｂとの表出比が連続的に変化して
いくこととなる。同様に同図（Ｄ）から同図（Ａ）に回
転させる過程においても、第１対象材１２ａと第２対象
材１２ｂとの表出比が連続的に変化する。
ング対象材１２を回転させると、該スパッタリング対象
材１２の開口部１５からの表出面は図３に示すように変
化する。すなわち、同図（Ａ）の開口部１５からの表出
面が第１対象材１２ａのみの状態から同図（Ｄ）の表出
面が第２対象材１２ｂのみの状態へと回転させる過程に
おいて、同図（Ｂ）、（Ｃ）に示すように第１対象材１
２ａと第２対象材１２ｂとの表出比が連続的に変化して
いくこととなる。同様に同図（Ｄ）から同図（Ａ）に回
転させる過程においても、第１対象材１２ａと第２対象
材１２ｂとの表出比が連続的に変化する。
【００１８】従って、スパッタリング対象材１２を回転
させながら開口部１５を通してスパッタリングを行うこ
とにより、前記第１対象材１２ａと第２対象材１２ｂと
の表出比の変化に伴い、混合比の連続的に変化した第１
対象材１２ａ及び第２対象材１２ｂの飛散物質により被
膜基板１６に被膜が形成される。そして、前記スパッタ
リング対象材１２を定速で繰返し回転させ、スパッタリ
ングを行うことにより、第１対象材１２ａと第２対象材
１２ｂの屈折率が連続的かつ周期的に変化する多層膜を
被膜基板１６に形成することができるのである。
させながら開口部１５を通してスパッタリングを行うこ
とにより、前記第１対象材１２ａと第２対象材１２ｂと
の表出比の変化に伴い、混合比の連続的に変化した第１
対象材１２ａ及び第２対象材１２ｂの飛散物質により被
膜基板１６に被膜が形成される。そして、前記スパッタ
リング対象材１２を定速で繰返し回転させ、スパッタリ
ングを行うことにより、第１対象材１２ａと第２対象材
１２ｂの屈折率が連続的かつ周期的に変化する多層膜を
被膜基板１６に形成することができるのである。
【００１９】なお、前記多層膜の単位周期当りの膜厚
は、スパッタリング対象材１２の回転速度を調節するこ
とにより所望の厚さとすることができる。以上のように
本実施例にかかる多層膜誘電体フィルターの製造装置及
び製造方法は、スパッタリング対象材を屈折率の異なる
２種類の対象材から形成し、該スパッタリング対象材を
回転させながらスパッタリングを行うだけで容易に屈折
率が連続的かつ周期的に変化する多層膜を形成すること
が可能となる。従って、レーリー光を完全にカットする
のに必要な数百層という多層膜フィルターも容易に製造
することができ、該多層膜フィルターを用いることによ
り従来レーリー光を完全にカットするために必要であっ
たダブル、トリプルの分光器といった複雑かつ高価な光
学系が不要となり、安価なラマン分光器を得ることが可
能となる。
は、スパッタリング対象材１２の回転速度を調節するこ
とにより所望の厚さとすることができる。以上のように
本実施例にかかる多層膜誘電体フィルターの製造装置及
び製造方法は、スパッタリング対象材を屈折率の異なる
２種類の対象材から形成し、該スパッタリング対象材を
回転させながらスパッタリングを行うだけで容易に屈折
率が連続的かつ周期的に変化する多層膜を形成すること
が可能となる。従って、レーリー光を完全にカットする
のに必要な数百層という多層膜フィルターも容易に製造
することができ、該多層膜フィルターを用いることによ
り従来レーリー光を完全にカットするために必要であっ
たダブル、トリプルの分光器といった複雑かつ高価な光
学系が不要となり、安価なラマン分光器を得ることが可
能となる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明にかかる多層
膜誘電体フィルターの製造装置及び製造方法によれば、
スパッタリング対象材とマスク部とを相対移動させ、マ
スク部からの表出面においてスパッタリング対象材を形
成する屈折率の異なる二種類の物質の表出比を連続的に
変化させるため、該表出比と同様の変化の混合比で被膜
基板に被膜を形成することができる。従って、前記相対
移動を繰返しながらスパッタリングを行うだけで、屈折
率が連続的かつ周期的に変化する極めて多く積層された
多層膜誘電体フィルターを容易に製造することが可能と
なる。
膜誘電体フィルターの製造装置及び製造方法によれば、
スパッタリング対象材とマスク部とを相対移動させ、マ
スク部からの表出面においてスパッタリング対象材を形
成する屈折率の異なる二種類の物質の表出比を連続的に
変化させるため、該表出比と同様の変化の混合比で被膜
基板に被膜を形成することができる。従って、前記相対
移動を繰返しながらスパッタリングを行うだけで、屈折
率が連続的かつ周期的に変化する極めて多く積層された
多層膜誘電体フィルターを容易に製造することが可能と
なる。
【図１】本発明の一実施例にかかる多層膜誘電体フィル
ターの製造装置の外観斜視図の説明図である。
ターの製造装置の外観斜視図の説明図である。
【図２】図１に示す多層膜誘電体フィルターの製造装置
の側断面図の説明図である。
の側断面図の説明図である。
【図３】マスク開口部におけるスパッタリング対象材の
表出面の変化の説明図である。
表出面の変化の説明図である。
１０ … スパッタリング槽 １２ … スパッタリング対象材 １４ … マスク部 １５ … 開口部 １６ … 被膜基板 １８ … 軸 ２０ … モータ
Claims (2)
- 【請求項１】 屈折率の異なる少なくとも二種類の物質
で表面が区分形成されたスパッタリング対象材と、 前記スパッタリング対象材表面からの飛散物質が蒸着
し、表面に多層膜フィルターを形成する被膜基板と、 前記スパッタリング対象材表面の一部が表出するように
被覆するマスク部と、 前記スパッタリング対象材のマスク部からの表出面にお
いて、屈折率の異なる物質のそれぞれの表出比が連続的
に変化するように、スパッタリング対象材とマスク部と
を相対移動させる移動部と、を備えたことを特徴とする
多層膜誘電体フィルターの製造装置。 - 【請求項２】 屈折率の異なる少なくとも二種類の物質
で表面が区分形成されたスパッタリング対象材を、該ス
パッタリング対象材表面の一部が表出するようにマスク
部で被覆し、 前記スパッタリング対象材のマスク部からの表出面にお
いて、屈折率の異なる物質のそれぞれの表出比が連続的
に変化するように、前記スパッタリング対象材とマスク
部とを相対移動させながら、前記表出面からのスパッタ
リング対象材の飛散、及び該飛散物質の被膜基板への蒸
着を行うことにより多層膜フィルターを形成することを
特徴とする多層膜誘電体フィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3408093A JPH06230219A (ja) | 1993-01-29 | 1993-01-29 | 多層膜誘電体フィルターの製造装置及び製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3408093A JPH06230219A (ja) | 1993-01-29 | 1993-01-29 | 多層膜誘電体フィルターの製造装置及び製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06230219A true JPH06230219A (ja) | 1994-08-19 |
Family
ID=12404290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3408093A Pending JPH06230219A (ja) | 1993-01-29 | 1993-01-29 | 多層膜誘電体フィルターの製造装置及び製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06230219A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4917473A (en) * | 1987-10-13 | 1990-04-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing liquid crystal devices |
| WO1991001016A1 (de) * | 1989-07-11 | 1991-01-24 | MERCK Patent Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Verfahren zur befüllung eines eine homeotrope randorientierung aufweisenden flüssigkristalldisplays |
| AU641248B2 (en) * | 1990-05-23 | 1993-09-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Process and apparatus for producing liquid crystal panel |
-
1993
- 1993-01-29 JP JP3408093A patent/JPH06230219A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4917473A (en) * | 1987-10-13 | 1990-04-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing liquid crystal devices |
| WO1991001016A1 (de) * | 1989-07-11 | 1991-01-24 | MERCK Patent Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Verfahren zur befüllung eines eine homeotrope randorientierung aufweisenden flüssigkristalldisplays |
| AU641248B2 (en) * | 1990-05-23 | 1993-09-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Process and apparatus for producing liquid crystal panel |
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