JPH06228107A - 2−アシロキシメトキシ−1,3,4−トリアシロキシブタン類の製造法 - Google Patents

2−アシロキシメトキシ−1,3,4−トリアシロキシブタン類の製造法

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JPH06228107A
JPH06228107A JP1652993A JP1652993A JPH06228107A JP H06228107 A JPH06228107 A JP H06228107A JP 1652993 A JP1652993 A JP 1652993A JP 1652993 A JP1652993 A JP 1652993A JP H06228107 A JPH06228107 A JP H06228107A
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JP
Japan
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compound
formula
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acyloxymethoxy
give
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Application number
JP1652993A
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English (en)
Inventor
Toshimitsu Suzuki
利光 鈴木
Azuma Nishio
東 西尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pola Chemical Industries Inc
Original Assignee
Pola Chemical Industries Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 次の反応式に従い、1,3−ジオキソラン誘
導体(1)にルイス酸の存在下、酸無水物(2)を反応
させて2−アシロキシメトキシ−1,3,4−トリアシ
ロキシブタン類(3)を製造する方法。 【化1】 [式中、R及びRは脂肪族基(たとえば低級アルキ
ル基)、芳香族基を示す] 【効果】 放射線増感剤の製造中間体として有用な2−
アシロキシメトキシ−1,3,4−トリアシロキシブタ
ン類が高収率で製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は放射線増強剤として有用
なニトロイミダゾール誘導体の製造中間体である2−ア
シロキシメトキシ−1,3,4−トリアシロキシブタン
類の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】次の式(4)
【0003】
【化4】
【0004】で表わされるニトロイミダゾール誘導体
は、腫瘍内にある低酸素性細胞の放射線感受性を高める
作用、すなわち優れた放射線増感作用を有し、かつ安全
性が高いため、腫瘍の放射線治療の際に併用する薬剤と
して有用であることが知られている(特開平3−223
258号公報)。
【0005】この放射線増強剤(4)の製法としては以
下の反応式に示す方法が知られている。
【0006】
【化5】
【0007】〔式中、Acはアシル基を示す〕
【0008】この方法は、原料化合物であるエリトリト
ールの4個の水酸基のうち、一級水酸基2個、二級水酸
基1個の計3個の水酸基を選択的にアシル化する工程を
経ており、一級水酸基と二級水酸基の反応性に差異を出
すためには、低温での反応が必要であるが、原料化合物
の溶解性が悪く、大量の溶媒が必要となる。また、この
工程の生成物は、テトラアシル化物、トリアシル化物、
ジアシル化物、モノアシル化物及び未反応物の混合物と
して得られ、目的とするトリアシル化物だけを得るには
カラムクロマトグラフィー等による精製が必要となる。
また、この工程の単離収率が低いため、全体としての収
率も低いという欠点も有する。さらに、光学活性なニト
ロイミダゾール誘導体(4)を製造するためには、D−
エリトリトールやL−エリトリトール等の高価な原料を
用いなければならないという問題もあった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】このように従来のニト
ロイミダゾール誘導体(1)の製法の欠点はトリアシル
化物を得る工程にあり、当該トリアシル化物を経ずに上
記2−アシロキシメトキシ−1,3,4−トリアシロキ
シブタン類を効率よく得ることができれば、ニトロイミ
ダゾール誘導体(4)が高収率で製造できる。従って、
本発明の目的は2−アシロキシメトキシ−1,3,4−
トリアシロキシブタン類の新規な製造法を提供すること
にある。
【0010】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは鋭意
検討した結果、安価な酒石酸ジエステルから得られるジ
オキソラン化合物を開環せしめれば2−アシロキシメト
キシ−1,3,4−トリアシロキシブタン類が高収率で
得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0011】本発明は、次の反応式で示される。
【0012】
【化6】
【0013】〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なって
脂肪族基又は芳香族基を示す〕
【0014】すなわち、本発明は酒石酸ジエステル
(5)より容易に製造できる1,3−ジオキソラン誘導
体(1)にルイス酸の存在下酸無水物(2)を反応させ
ることを特徴とする2−アシロキシメトキシ−1,3,
4−トリアシロキシブタン誘導体(3)の製造法を提供
するものである。
【0015】前記反応式において、式中R1 及びR2
示される脂肪族基としては、例えば炭素数1〜24の直
鎖、分岐鎖又は環状のアルキル又はアルケニル基が挙げ
られる。その具体例としてはメチル基、エチル基、n−
プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチ
ル基、n−オクチル基、パルミチル基等が挙げられる。
また、芳香族基としては、フェニル基、ナフチル基等が
挙げられる。
【0016】以下、上記反応式に従って、本発明を説明
する。まず、化合物(5)から化合物(6)を得る反応
は、化合物(5)とジメトキシメタンの混合物に室温又
は加温下、五酸化リンを少量ずつ添加することにより行
なうのが好ましい。
【0017】化合物(6)から化合物(7)を得る反応
は、化合物(6)にルイス酸を反応させて閉環させる反
応である。化合物(6)に反応させるルイス酸として
は、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素エーテラート、無
水塩化亜鉛、無水塩化アルミニウム、無水塩化スズ等が
挙げられる。化合物(6)とルイス酸との反応は、化合
物(6)に触媒量から等量のルイス酸を加え、室温又は
加温下に攪拌すれば良い。なお、化合物(5)とジメト
キシメタンの反応で、五酸化リンの作用により一部閉環
反応が生起し、1,3−ジオキソラン誘導体(7)まで
進行するが、これを分離することなくそのままルイス酸
を加えて閉環反応を完了させることができる。
【0018】一般にジオールを1,3−ジオキソラン環
へ誘導するには、パラホルムアルデヒドや1,3,5−
トリオキサン等が用いられるが、化合物(5)の場合、
これらの試薬ではほとんど1,3−ジオキソラン環が形
成されないか、収率が非常に低い。これに対し、この方
法によれば化合物(5)から1,3−ジオキソラン誘導
体(7)が合計収率90%以上の高収率で得られる。
【0019】化合物(7)から化合物(1)を得る反応
は、化合物(7)を還元した後、脂肪族もしくは芳香族
カルボン酸又はその反応性誘導体を反応させることによ
り行なわれる。還元反応は、水素化リチウムアルミニウ
ム、水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤を用いるのが好
ましい。また、脂肪族カルボン酸又は芳香族カルボン酸
の反応性誘導体としては酸ハライド、酸無水物等が挙げ
られる。アシル化反応は常法に従い、例えばピリジン等
の塩基の存在下、低温から加温下に行なうことができ
る。
【0020】1,3−ジオキソラン誘導体(1)と酸無
水物(2)との反応は、ルイス酸の存在下に行なわれ
る。ルイス酸としては無水塩化亜鉛、無水臭化亜鉛、塩
化第二スズ、無水塩化アルミニウム等を用いることがで
きる。反応は無溶媒又は溶媒中のいずれで行なってもよ
く、溶媒としては、ベンゼン、トルエン、クロロホル
ム、ジクロルメタン、酢酸エチル、アセトニトリル等を
用いることができる。反応温度は氷冷下又は加熱下のい
ずれでもよいが、通常室温が好ましい。
【0021】前記の反応において、反応終了後、目的物
は常法によって反応液から分離精製される。例えば反応
液を抽出し、洗浄後濃縮し、残留物をクロマトグラフィ
ー等によって分離精製すれば目的物が得られる。
【0022】本発明の反応において、原料である化合物
(5)として光学活性体を用いれば、立体配置の保持さ
れた化合物(6)、(7)、(1)、(3)及びニトロ
イミダゾール誘導体(4)が得られる。
【0023】
【発明の効果】本発明によれば安価な酒石酸ジエステル
を原料とし、高収率、高純度で2−アシロキシメトキシ
−1,3,4−トリアシロキシブタン類を製造すること
ができる。
【0024】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を説明するが、本
発明はこれに何ら限定されるものではない。
【0025】実施例1 (S,S)−ビス(O−メトキシメチル)酒石酸ジエチ
ルの合成:D−(−)−酒石酸ジエチル25.76gを
ジメトキシメタン50mlに完全に混合溶解した。室温
下、攪拌しながら五酸化リンを少量ずつ添加し反応させ
た。反応の進行をTLC(展開溶媒;CHCl3:CH3
OH=19:1、検出;ヨウ素)でチェックし、Rf値
0.88に単一スポットになるまで五酸化リンを添加し
た。反応終了後、反応液を分液ロートに移し、酢酸エチ
ル:ベンゼン=5:1の混合溶液700mlにて抽出し
た。水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濾過後溶媒をエバポレーターにて
留去し、標題化合物をオイル状物質として得た。 MS:294(M+) NMR(CDCl3)δ:1.30(6H,t,-OCH2CH3 ×2)、3.34(6H,s,-O
CH3 ×2)、4.16-4.30(4H,m,-OCH2 CH3×2)、4.66-4.79(6
H,m,>CHO-×2及び-OCH2 OCH3×2)
【0026】実施例2 (4S,5S)−4,5−ビス(エトキシカルボニル)
−1,3−ジオキソランの合成:実施例1で得た(S,
S)−ビス(O−メトキシメチル)酒石酸ジエチル3
0.07gにベンゼン300mlを加え溶解した中に、三
フッ化ホウ素エーテラート16.12gを加え室温にて
攪拌反応させた。一晩反応させた後、酢酸エチル500
mlを加え抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和
した。その後、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。濾過後、溶媒留
去した。このまま次の反応に用いることができるが、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製すると、無
色透明オイルとして標題化合物がほぼ定量的に得られ
た。 MS:218(M+) NMR(CDCl3)δ:1.31(6H,t,-CH2CH3 ×2)、4.26(4H,q,-CH
2 CH3×2)、4.76(2H,s,>CHO-×2)、5.26(2H,s,-OCH2 O-×
2)
【0027】実施例3 (4R,5R)−4,5−ビス(ヒドロキシメチル)−
1,3−ジオキソランの合成:水素化リチウムアルミニ
ウム25.75gにジエチルエーテル300mlを加え加
熱し還流させた。そこへ、(4S,5S)−4,5−ビ
ス(エトキシカルボニル)−1,3−ジオキソラン13
0.46gをエーテル100mlに溶かした物を徐々に滴
下した。滴下終了後、約1時間還流を続け反応させた。
放冷冷却後、氷冷下徐々に水30mlを加え過剰の水素化
リチウムアルミニウムを分解した。次いで4N水酸化ナ
トリウム水溶液30ml、水90mlを滴下した。反応混合
物を吸引濾過し、沈澱部分を約60℃のエタノールとジ
オキサンの混合液1000mlで抽出し、吸引濾過を行な
った。この操作を3回繰り返した。濾液はエバポレータ
ーで濃縮し、粗製の(4R,5R)−ビス(ヒドロキシ
メチル)−1,3−ジオキソランを得た。
【0028】実施例4 (4R,5R)−4,5−ビス(アセトキシメチル)−
1,3−ジオキソランの合成:実施例3で得た粗製の
(4R,5R)−ビス(ヒドロキシメチル)−1,3−
ジオキソランをピリジン300mlに溶解し、水冷下過剰
の無水酢酸150gを加え、室温下約16時間攪拌反応
させた。水浴で冷却しながら、過剰の無水酢酸を分解す
るためエタノール20mlを少量ずつ滴下した。エバポレ
ーターで濃縮後、酢酸エチル500mlを加え抽出し水で
洗浄しエバポレーターで溶媒を留去した。このまま次の
反応に用いることもできるが、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチルで溶出)で精
製し淡黄色オイルとして(4R,5R)−ビス(アセト
キシメチル)−1,3−ジオキソラン79.29gを得
た。 MS:218(M+) NMR(CDCl3)δ:2.11(6H,s,-COCH3 ×2)、4.00-4.04(2H,
m,>CHO-×2)、4.21-4.23(4H,m,-CH2 OCO×2)、5.06(2H,
s,-OCH2 O-)
【0029】実施例5 (2R,4R)−2−アセトキシメトキシ−1,3,4
−トリアセトキシブタンの合成:実施例4で得た(4
R,5R)−4,5−ビス(アセトキシメチル)−1,
3−ジオキソラン70.12gに無水酢酸100mlを加
え、室温にて混合溶解した。無水塩化亜鉛3.05g、
氷酢酸10mlを加え一晩攪拌を続けた。酢酸エチル70
0mlを加え抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて
中和分解した。次いで水、飽和塩化ナトリウム水溶液で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、濾過、溶媒留去
を行ない、赤茶色オイルとして標題化合物99.48g
を得た。 MS:320(M+) NMR(CDCl3)δ:2.07(3H,s,-COCH3 )、2.09(3H,s,-COC
H3 )、2.01(3H,s,-COCH3 )、2.12(3H,s,-COCH3 )、4.04-4.
38(5H,m,-CH2 OCO-×2及び>CHOCH2-)、5.21-5.27(1H,m,>
CHOCO-)、5.31(2H,s,-OCH2 O-)
【0030】実施例6 (2S,3S)−2−アセトキシメトキシ−1,3,4
−トリアセトキシブタンの合成:出発原料としてL−
(+)−酒石酸ジエチルを用い、実施例1〜4と同様に
して得た(4S,5S)−ビス(アセトキシメチル)−
1,3−ジオキソラン61.0gに無水酢酸100mlを
加え、室温にて混合溶解した。無水塩化亜鉛3.05
g、氷酢酸10mlを加え一晩攪拌を続けた。酢酸エチル
700mlを加え抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
にて中和分解した。次いで水、飽和塩化ナトリウム水溶
液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、濾過、溶媒
留去を行ない、赤茶色オイルとして標題化合物91.9
gを得た。 MS:320(M+) NMR(CDCl3)δ:2.05-2.15(12H,s×4,-COCH3 ×4)、4.1-
4.4(5H,m,-CH2 OCO-×2及び>CHOCH2-)、5.21-5.27(1H,m,
>CHOCO-)、5.35(2H,s,-OCH2 O-)
【0031】実施例7 (2RS,3SR)−2−アセトキシ−3−アセトキシ
メトキシ−1,4−ジベンゾイルオキシブタンの合成:
出発原料としてmeso−酒石酸ジエチルを用い、実施
例4における無水酢酸の代わりに無水安息香酸を用いる
以外は実施例1〜4と同様にして得た(4RS,5S
R)−4,5−ビス(ベンゾイルオキシメチル)−1,
3−ジオキソラン34.2gに無水酢酸100mlを加
え、室温にて混合溶解した。無水塩化第二スズ3.05
g、氷酢酸10mlを加え一晩攪拌を続けた。酢酸エチル
700mlを加え抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
にて中和分解した。次いで水、飽和塩化ナトリウム水溶
液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、濾過、溶媒
留去を行ない、赤茶色オイルとして標題化合物44.0
gを得た。 MS:444(M+) NMR(CDCl3)δ:2.0-2.1(6H,s×2,-COCH3 ×2)、4.04-4.3
8(5H,m,-CH2 OCO-×2及び>CHOCH2-)、5.21-5.27(1H,m,>C
HOCO-)、5.31(2H,s,-OCH2 O-) 、7.39-7.48(4H,m,芳香族
プロトン)、7.53-7.62(4H,m,芳香族プロトン)、7.93-8.
02(2H,m,芳香族プロトン)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 〔式中、R1 は脂肪族基又は芳香族基を示す〕で表わさ
    れる1,3−ジオキソラン誘導体に、ルイス酸の存在下
    一般式(2) 【化2】 〔式中、R2 は脂肪族基又は芳香族基を示す〕で表わさ
    れる酸無水物を反応させることを特徴とする一般式
    (3) 【化3】 〔式中、R1 及びR2 は前記と同じ意味を示す〕で表わ
    される2−アシロキシメトキシ−1,3,4−トリアシ
    ロキシブタン類の製造法。
JP1652993A 1993-02-03 1993-02-03 2−アシロキシメトキシ−1,3,4−トリアシロキシブタン類の製造法 Pending JPH06228107A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015044800A (ja) * 2013-07-31 2015-03-12 株式会社半導体エネルギー研究所 ジオキソラン誘導体、液晶組成物、液晶素子及び液晶表示装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015044800A (ja) * 2013-07-31 2015-03-12 株式会社半導体エネルギー研究所 ジオキソラン誘導体、液晶組成物、液晶素子及び液晶表示装置

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