JPH06220167A - Epoxy resin composition and encapsulated semiconductor device - Google Patents

Epoxy resin composition and encapsulated semiconductor device

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JPH06220167A
JPH06220167A JP3287493A JP3287493A JPH06220167A JP H06220167 A JPH06220167 A JP H06220167A JP 3287493 A JP3287493 A JP 3287493A JP 3287493 A JP3287493 A JP 3287493A JP H06220167 A JPH06220167 A JP H06220167A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin
resin composition
phenylphenol
component
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JP3287493A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Sawai
和弘 沢井
Hideo Shimakura
英夫 島倉
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Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide the subject composition composed of a specific resin and an inorganic filler at a specific ratio, excellent in moisture resistance, soldering heat resistance, corrosion resistance and mechanical properties such as crack resistance and useful for producing an encapsulated semiconductor device in an integrated circuit, etc. CONSTITUTION:The objective composition contains (A) a an epoxy resin such as an aromatic epoxy resin and an aliphatic epoxy resin having a cyclohexane derivative, (B) a novolak phenolic resin having a structure obtained by the condensation of o-phenylphenol or p-phenylphenol and (C) an inorganic filler such as silica particle having an average particle diameter of <=30mum, etc., at a ratio of 25-90wt.% based on the total resin composition (component A+B+ C=l00wt.%). As for the compounding ratio of component A and B in the objective composition, the molar ratio (epoxy group of component A/phenolic hydroxy group of component B) is 0.1-10. In the objective encapsulated semiconductor device semiconductor chips are preferably encapsulated by the hardened resin of the objective composition.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、耐湿性、半田耐熱性、
成形性に優れたエポキシ樹脂組成物および半導体封止装
置に関する。
The present invention relates to moisture resistance, solder heat resistance,
The present invention relates to an epoxy resin composition having excellent moldability and a semiconductor sealing device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体集積回路の分野において、
高集積化、高信頼性化の技術開発と同時に半導体装置の
実装工程の自動化が推進されている。例えばフラットパ
ッケージ型の半導体装置を回路基板に取り付ける場合
に、従来、リードピン毎に半田付けを行っていたが、最
近では半田浸漬方式や半田リフロー方式が採用されてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of semiconductor integrated circuits,
At the same time as technology development for high integration and high reliability, automation of the mounting process of semiconductor devices is being promoted. For example, when mounting a flat package type semiconductor device on a circuit board, conventionally, soldering is performed for each lead pin, but recently, a solder dipping method or a solder reflow method has been adopted.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来のノボラック型エ
ポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノール
樹脂およびシリカ粉末からなる樹脂組成物によって封止
した半導体装置は、装置全体の半田浴浸漬を行うと耐湿
性が低下するという欠点があった。特に吸湿した半導体
装置を浸漬すると、封止樹脂と半導体チップ、あるいは
封止樹脂とリードフレームの間の剥がれや、内部樹脂ク
ラックが生じて著しい耐湿性劣化を起こし、電極の腐蝕
による断線や水分によるリーク電流を生じ、その結果、
半導体装置は、長期間の信頼性を保証することができな
いという欠点があった。
A semiconductor device sealed with a conventional resin composition comprising an epoxy resin such as a novolac type epoxy resin, a novolac type phenolic resin and silica powder has a moisture resistance when the entire device is immersed in a solder bath. There was a drawback that the property deteriorated. Especially when a semiconductor device that has absorbed moisture is immersed, peeling between the encapsulation resin and the semiconductor chip, or the encapsulation resin and the lead frame, and internal resin cracks cause significant deterioration in moisture resistance, which may be caused by wire breakage or moisture due to electrode corrosion. Leakage current, resulting in
The semiconductor device has a drawback in that it cannot guarantee long-term reliability.

【0004】本発明は、上記の欠点を解消するためにな
されたもので、吸湿の影響が少なく、特に半田浴浸漬後
の耐湿性、半田耐熱性、成形性に優れ、封止樹脂と半導
体チップあるいは封止樹脂とリードフレームとの剥がれ
や内部樹脂クラックの発生がなく、また電極の腐蝕によ
る断線や水分によるリーク電流の発生もなく、長期信頼
性を保証できるエポキシ樹脂組成物および半導体封止装
置を提供しようとするものである。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned drawbacks, has little influence of moisture absorption, and is particularly excellent in moisture resistance after solder bath immersion, solder heat resistance and moldability, and a sealing resin and a semiconductor chip. Alternatively, the epoxy resin composition and the semiconductor encapsulation device can ensure long-term reliability without peeling of the encapsulation resin from the lead frame or generation of internal resin cracks, disconnection due to electrode corrosion, or leakage current due to moisture. Is to provide.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、エポキシ樹
脂、特定のフェノール樹脂を用いることによって、耐湿
性、半田耐熱性、成形性に優れた樹脂組成物が得られる
ことを見いだし、本発明を完成したものである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies aimed at achieving the above object, the present inventors have found that by using an epoxy resin or a specific phenol resin, moisture resistance, solder heat resistance, and moldability are improved. It was found that an excellent resin composition can be obtained, and the present invention has been completed.

【0006】即ち、本発明は、(A)エポキシ樹脂、
(B)o-フェニルフェノール又はp-フェニルフェノール
を縮合した骨格をもつノボラック型フェノール樹脂およ
び(C)無機質充填剤を必須成分とし、樹脂組成物に対
して前記(C)の無機質充填剤を25〜90重量%の割合で
含有してなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物であ
る。また、このエポキシ樹脂組成物の硬化物によって、
半導体チップが封止されてなることを特徴とする半導体
封止装置である。
That is, the present invention relates to (A) epoxy resin,
(B) A novolac-type phenol resin having a skeleton condensed with o-phenylphenol or p-phenylphenol and (C) an inorganic filler are essential components, and the inorganic filler of (C) above is added to the resin composition. The epoxy resin composition is characterized by being contained in a proportion of from 90 to 90% by weight. Further, by the cured product of this epoxy resin composition,
A semiconductor encapsulation device characterized in that a semiconductor chip is encapsulated.

【0007】以下、本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.

【0008】本発明に用いる(A)エポキシ樹脂として
は、その分子中にエポキシ基を少なくとも 2個有する化
合物であるかぎり、分子構造、分子量等特に制限される
ことなく、一般に封止用材料として使用されているもの
を広く包含することができる。例えば、ビスフェノール
型の芳香族系、シクロヘキサン誘導体等脂肪族系、ま
た、次の一般式で示されるエポキシノボラック系の樹脂
等が挙げられる。
As the epoxy resin (A) used in the present invention, as long as it is a compound having at least two epoxy groups in its molecule, the molecular structure, molecular weight and the like are not particularly limited, and generally used as a sealing material. It is possible to broadly include what has been done. Examples thereof include bisphenol-type aromatic resins, aliphatic resins such as cyclohexane derivatives, and epoxy novolac resins represented by the following general formula.

【0009】[0009]

【化1】 (但し、式中R1 は水素原子、ハロゲン原子又はアルキ
ル基を、R2 は水素原子又はアルキル基を、n は 1以上
の整数をそれぞれ表す)これらのエポキシ樹脂は、単独
又は 2種以上混合して使用することができる。
[Chemical 1] (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and n represents an integer of 1 or more.) These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. Can be used.

【0010】本発明に用いる(B)o-フェニルフェノー
ル又はp-フェニルフェノールを縮合した骨格をもつノボ
ラック型フェノール樹脂(以下、ノボラック型フェニル
フェノール樹脂と呼ぶ)としては、例えば、化2,化3
の式で示される骨格構造を有するものを使用することが
できる。
Examples of the (B) novolac type phenolic resin (hereinafter referred to as novolac type phenylphenolic resin) having a skeleton condensed with o-phenylphenol or p-phenylphenol used in the present invention include:
Those having a skeletal structure represented by the formula can be used.

【0011】[0011]

【化2】 (但し、式中n は 0又は 1以上の整数を表す)[Chemical 2] (However, in the formula, n represents 0 or an integer of 1 or more)

【0012】[0012]

【化3】 (但し、式中n は 0又は 1以上の整数を表す)これらは
単独又は 2種以上混合して使用することができる。
[Chemical 3] (In the formula, n represents 0 or an integer of 1 or more.) These can be used alone or in combination of two or more.

【0013】また、このフェノール樹脂の他にフェノー
ル、アルキルフェノール等のフェノール類とホルムアル
デヒドあるいはパラホルムアルデヒドとを反応させて得
られるノボラック型フェノール樹脂およびこれらの変性
樹脂を併用することができる。
In addition to the phenol resin, a novolac type phenol resin obtained by reacting phenols such as phenol and alkylphenol with formaldehyde or paraformaldehyde, and modified resins thereof can be used in combination.

【0014】ノボラック型フェニルフェノール樹脂の配
合割合は、前記(A)のエポキシ樹脂のエポキシ基(a
)と(B)のノボラック型フェニルフェノール樹脂の
フェノール性水酸基(b )とのモル比[(a )/(b
)]が 0.1〜10の範囲内であることが望ましい。モル
比が 0.1未満もしくは10を超えると耐熱性、耐湿性、成
形作業性および硬化物の電気特性が悪くなり、いずれの
場合も好ましくない。
The compounding ratio of the novolac type phenylphenol resin is such that the epoxy group (a
) To the phenolic hydroxyl group (b) of the novolac type phenylphenol resin of (B) [(a) / (b
)] Is preferably within the range of 0.1 to 10. When the molar ratio is less than 0.1 or more than 10, the heat resistance, moisture resistance, molding workability and electrical properties of the cured product deteriorate, which is not preferable.

【0015】本発明に用いる(C)無機質充填剤として
は、一般に使用されているものが広く使用されるが、そ
れらの中でも不純物濃度が低く、平均粒径30μm 以下の
シリカ粉末が好ましく使用される。平均粒径30μm を超
えると耐湿性および成形性が劣り好ましくない。無機質
充填剤の配合割合は、全体の樹脂組成物に対して25〜90
重量%含有するように配合することが望ましい。その割
合が25重量%未満では樹脂組成物の吸湿性が高く、半田
浸漬後の耐湿性に劣り、また90重量%を超えると極端に
流動性が悪くなり、成形性に劣り好ましくない。
As the inorganic filler (C) used in the present invention, those generally used are widely used. Among them, silica powder having a low impurity concentration and an average particle diameter of 30 μm or less is preferably used. . If the average particle size exceeds 30 μm, the moisture resistance and moldability are poor, which is not preferable. The blending ratio of the inorganic filler is 25 to 90 with respect to the entire resin composition.
It is desirable to formulate so as to contain the composition in a weight percentage. When the proportion is less than 25% by weight, the hygroscopicity of the resin composition is high and the moisture resistance after solder immersion is poor, and when it exceeds 90% by weight, the fluidity is extremely deteriorated and the moldability is poor, which is not preferable.

【0016】本発明のエポキシ樹脂組成物は、前述した
エポキシ樹脂、特定のフェノール樹脂および無機質充填
剤を必須成分とするが、本発明の目的に反しない限度に
おいて、また必要に応じて、例えば天然ワックス類、合
成ワックス類、直鎖脂肪酸の金属塩、酸アミド、エステ
ル類、パラフィン等の離型剤、三酸化アンチモン等の難
燃剤、カーボンブラック等の着色剤、シランカップリン
グ剤、種々の硬化促進剤、ゴム系やシリコーン系の低応
力付与剤等を適宜添加・配合することができる。
The epoxy resin composition of the present invention contains the above-mentioned epoxy resin, a specific phenol resin and an inorganic filler as essential components. However, as long as it does not deviate from the object of the present invention, and if necessary, it may be, for example, natural. Waxes, synthetic waxes, metal salts of straight chain fatty acids, acid amides, esters, release agents such as paraffin, flame retardants such as antimony trioxide, colorants such as carbon black, silane coupling agents, various curing Accelerators, rubber-based and silicone-based low stress imparting agents and the like can be added and blended appropriately.

【0017】本発明のエポキシ樹脂組成物を成形材料と
して調製する場合の一般的方法は、前述したエポキシ樹
脂、特定のフェノール樹脂、無機質充填剤およびその他
の成分を配合し、ミキサー等によって十分均一に混合し
た後、さらに熱ロールによる溶融混合処理またはニーダ
等による混合処理を行い、次いで冷却固化させ適当な大
きさに粉砕して成形材料とすることができる。こうして
得られた成形材料は、半導体チップをはじめとする電子
部品或いは電気部品の封止・被覆・絶縁等に適用すれば
優れた特性と信頼性を付与させることができる。
A general method for preparing the epoxy resin composition of the present invention as a molding material is to mix the above-mentioned epoxy resin, a specific phenol resin, an inorganic filler and other components, and homogenize them sufficiently with a mixer or the like. After the mixing, the mixture can be melt-mixed with a hot roll or mixed with a kneader, and then cooled and solidified to be pulverized to an appropriate size to obtain a molding material. If the molding material thus obtained is applied to sealing, coating, insulation, etc. of electronic components such as semiconductor chips or electrical components, excellent properties and reliability can be imparted.

【0018】また、本発明の半導体封止装置は、上述の
成形材料を用いて半導体チップを封止することにより容
易に製造することができる。封止を行う半導体チップと
しては、例えば集積回路、大規模集積回路、トランジス
タ、サイリスタ、ダイオード等で特に限定されるもので
はない。封止の最も一般的な方法としては、低圧トラン
スファー成形法があるが、射出成形、圧縮成形、注形等
による封止も可能である。成形材料で封止後加熱して硬
化させ、最終的にはこの硬化物によって封止された半導
体封止装置が得られる。加熱による硬化は、150 ℃以上
に加熱して硬化させることが望ましい。
The semiconductor encapsulation device of the present invention can be easily manufactured by encapsulating a semiconductor chip using the above molding material. The semiconductor chip to be sealed is not particularly limited to, for example, an integrated circuit, a large scale integrated circuit, a transistor, a thyristor, a diode and the like. The most common method of sealing is a low-pressure transfer molding method, but sealing by injection molding, compression molding, casting or the like is also possible. After sealing with a molding material, it is heated and cured, and finally a semiconductor sealing device sealed with this cured product is obtained. For curing by heating, it is desirable to heat and cure at 150 ° C or higher.

【0019】[0019]

【作用】本発明のエポキシ樹脂組成物および半導体封止
装置は、エポキシ樹脂、特定のフェノール樹脂を用いる
ことによって、樹脂組成物のガラス転移温度が上昇し、
熱機械的特性と低応力性が向上し、半田浸漬、半田リフ
ロー後の樹脂クラックの発生がなくなり、耐湿性劣化が
少なくなるものである。
In the epoxy resin composition and the semiconductor encapsulation device of the present invention, the glass transition temperature of the resin composition is increased by using the epoxy resin and the specific phenol resin.
Thermo-mechanical properties and low stress properties are improved, resin cracks are not generated after solder immersion and solder reflow, and moisture resistance deterioration is reduced.

【0020】[0020]

【実施例】次に本発明を実施例によって説明するが、本
発明はこれらの実施例よって限定されるものではない。
以下の実施例および比較例において「%」とは「重量
%」を意味する。
EXAMPLES The present invention will now be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
In the following examples and comparative examples, “%” means “% by weight”.

【0021】実施例1 o-クレゾールノボラックエポキシ樹脂16%、化4に示し
たo-フェニルフェノール樹脂 9%、
Example 1 16% o-cresol novolac epoxy resin, 9% o-phenylphenol resin shown in Chemical formula 4,

【0022】[0022]

【化4】 (但し、式中n は 0又は 1以上の整数を表す)シリカ粉
末74%、硬化促進剤 0.4%、エステルワックス類 0.3%
およびシランカップリング剤 0.3%を常温で混合し、さ
らに90〜95℃で混練冷却した後、粉砕して成形材料
(A)を製造した。
[Chemical 4] (However, in the formula, n represents 0 or an integer of 1 or more.) Silica powder 74%, curing accelerator 0.4%, ester waxes 0.3%
Further, 0.3% of a silane coupling agent was mixed at room temperature, further kneaded and cooled at 90 to 95 ° C., and then pulverized to produce a molding material (A).

【0023】実施例2 o-クレゾールノボラックエポキシ樹脂16%、化5に示し
たp-フェニルフェノール樹脂 9%、
Example 2 16% o-cresol novolac epoxy resin, 9% p-phenylphenol resin shown in Chemical formula 5,

【0024】[0024]

【化5】 (但し、式中n は 0又は 1以上の整数を表す)シリカ粉
末74%、硬化促進剤 0.4%、エステルワックス類 0.3%
およびシランカップリング剤 0.3%を常温で混合し、さ
らに90〜95℃で混練冷却した後、粉砕して成形材料
(B)を製造した。
[Chemical 5] (However, in the formula, n represents 0 or an integer of 1 or more.) Silica powder 74%, curing accelerator 0.4%, ester waxes 0.3%
And 0.3% of a silane coupling agent were mixed at room temperature, further kneaded and cooled at 90 to 95 ° C., and then pulverized to produce a molding material (B).

【0025】比較例1 o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂17%、ノボラッ
ク型フェノール樹脂 8%、シリカ粉末74%、硬化促進剤
0.4%、エステルワックス類 0.3%およびシランカップ
リング剤 0.3%を常温で混合し、さらに90〜95℃で混練
冷却した後、粉砕して成形材料(C)を製造した。
Comparative Example 1 o-Cresol Novolac type epoxy resin 17%, novolac type phenolic resin 8%, silica powder 74%, curing accelerator
0.4%, ester waxes 0.3% and silane coupling agent 0.3% were mixed at room temperature, kneaded and cooled at 90 to 95 ° C., and then pulverized to produce a molding material (C).

【0026】比較例2 エピビス型エポキシ樹脂(エポキシ当量 450)20%、ノ
ボラック型フェノール樹脂 5%、シリカ粉末74%、硬化
促進剤 0.4%、エステルワックス類 0.3%およびシラン
カップリング剤 0.3%を常温で混合し、さらに90〜95℃
で混練冷却した後、粉砕して成形材料(D)を製造し
た。
Comparative Example 2 Epibis type epoxy resin (epoxy equivalent 450) 20%, novolac type phenol resin 5%, silica powder 74%, curing accelerator 0.4%, ester waxes 0.3% and silane coupling agent 0.3% at room temperature. And mix at 90-95 ℃
After kneading and cooling with, the mixture was pulverized to produce a molding material (D).

【0027】こうして製造した成形材料(A)〜(D)
を用いて 170℃に加熱した金型内にトランスファー注入
し、半導体チップを封止し硬化させて半導体封止装置を
製造した。これらの半導体封止装置について、諸試験を
行ったのでその結果を表1に示したが、本発明のエポキ
シ樹脂組成物および半導体封止装置は、耐湿性、半田耐
熱性に優れており、本発明の顕著な効果を確認すること
ができた。
Molding materials (A) to (D) thus produced
Transfer injection was carried out into a mold heated to 170 ° C. by using, and the semiconductor chip was sealed and cured to manufacture a semiconductor sealing device. Various tests were conducted on these semiconductor encapsulation devices, and the results are shown in Table 1. The epoxy resin composition and the semiconductor encapsulation device of the present invention are excellent in moisture resistance and solder heat resistance. The remarkable effect of the invention could be confirmed.

【0028】[0028]

【表1】 *1 :トランスファー成形によって直径50mm、厚さ3mm
の成形品を作り、これを127℃, 2.5気圧の飽和水蒸気
中に24時間放置し、増加した重量によって測定した。 *2 :吸水率の場合と同様な成形品を作り、 175℃,8
時間の後硬化を行い、適当な大きさの試験片とし、熱機
械分析装置を用いて測定した。 *3 :JIS−K−6911に準じて試験した。 *4 :成形材料を用いて、 2本以上のアルミニウム配線
を有するシリコン製チップを、通常の42アロイフレーム
に接着し、175 ℃,2 分間トランスファー成形した後、
175 ℃,8 時間の後硬化を行った。こうして得た成形品
を、予め40℃,90%RH、100 時間の吸湿処理した後、
250 ℃の半田浴に10秒間浸漬した。その後、127 ℃,
2.5気圧の飽和水蒸気中でPCTを行い、アルミニウム
の腐蝕による50%断線を不良として評価した。 *5 : 8×8mm ダミーチップをQFP(14×14× 1.4m
m)パッケージに納め、成形材料を用いて175 ℃,2 分
間トランスファー成形した後、175 ℃,8 時間の後硬化
を行った。こうして得た半導体封止装置を85℃,85%,
24時間の吸湿処理をした後、240 ℃の半田浴に 1分間浸
漬した。その後、実体顕微鏡でパッケージ表面を観察
し、外部樹脂クラックの発生の有無を評価した。
[Table 1] * 1: Diameter 50 mm, thickness 3 mm by transfer molding
The molded product of No. 1 was prepared, and it was left in saturated steam at 127 ° C. and 2.5 atm for 24 hours and measured by the increased weight. * 2: Make a molded product similar to the case of water absorption, 175 ℃, 8
After post-curing for a certain time, a test piece of an appropriate size was prepared and measured using a thermomechanical analyzer. * 3: Tested according to JIS-K-6911. * 4: Using a molding material, attach a silicon chip with two or more aluminum wires to a normal 42 alloy frame and transfer mold at 175 ° C for 2 minutes.
Post-curing was performed at 175 ° C for 8 hours. The molded product thus obtained is subjected to moisture absorption treatment at 40 ° C., 90% RH for 100 hours in advance, and then
It was immersed in a solder bath at 250 ° C for 10 seconds. After that, 127 ℃,
PCT was performed in saturated steam of 2.5 atm and 50% disconnection due to corrosion of aluminum was evaluated as defective. * 5: QFP (14 × 14 × 1.4m) with 8 × 8mm dummy chip
m) It was placed in a package, transfer molding was performed for 2 minutes at 175 ° C using the molding material, and then post-curing was performed at 175 ° C for 8 hours. The semiconductor encapsulation device obtained in this way is 85 ℃, 85%,
After absorbing moisture for 24 hours, it was immersed in a solder bath at 240 ° C for 1 minute. Then, the package surface was observed with a stereoscopic microscope to evaluate the presence or absence of external resin cracks.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明のエポキシ樹脂組成物および半導体封止装置
は、耐湿性、半田耐熱性、成形性に優れ、吸湿による影
響が少なく、電極の腐蝕による断線や水分によるリーク
電流の発生等を著しく低減することができ、しかも長期
間にわたって信頼性を保証することができる。
As is clear from the above description and Table 1, the epoxy resin composition and the semiconductor encapsulating device of the present invention are excellent in moisture resistance, solder heat resistance and moldability, are less affected by moisture absorption, It is possible to remarkably reduce the disconnection due to corrosion and the generation of leak current due to moisture, and it is possible to guarantee the reliability for a long period of time.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)エポキシ樹脂、(B)o-フェニル
フェノール又はp-フェニルフェノールを縮合した骨格を
もつノボラック型フェノール樹脂および(C)無機質充
填剤を必須成分とし、樹脂組成物に対して前記(C)の
無機質充填剤を25〜90重量%の割合で含有してなること
を特徴とするエポキシ樹脂組成物。
1. A resin composition comprising (A) an epoxy resin, (B) a novolac-type phenol resin having a skeleton condensed with o-phenylphenol or p-phenylphenol, and (C) an inorganic filler as essential components. An epoxy resin composition comprising the inorganic filler (C) in an amount of 25 to 90% by weight.
【請求項2】 (A)エポキシ樹脂、(B)o-フェニル
フェノール又はp-フェニルフェノールを縮合した骨格を
もつノボラック型フェノール樹脂および(C)無機質充
填剤を必須成分とし、樹脂組成物に対して前記(C)の
無機質充填剤を25〜90重量%の割合で含有したエポキシ
樹脂組成物の硬化物によって、半導体チップが封止され
てなることを特徴とする半導体封止装置。
2. A resin composition comprising (A) an epoxy resin, (B) a novolak type phenol resin having a skeleton condensed with o-phenylphenol or p-phenylphenol, and (C) an inorganic filler as essential components. A semiconductor encapsulation device in which a semiconductor chip is encapsulated with a cured product of an epoxy resin composition containing the inorganic filler (C) in a proportion of 25 to 90% by weight.
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Cited By (1)

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