JPH0753670A - Epoxy rein composition and sealed semiconductor device - Google Patents

Epoxy rein composition and sealed semiconductor device

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JPH0753670A
JPH0753670A JP21810693A JP21810693A JPH0753670A JP H0753670 A JPH0753670 A JP H0753670A JP 21810693 A JP21810693 A JP 21810693A JP 21810693 A JP21810693 A JP 21810693A JP H0753670 A JPH0753670 A JP H0753670A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin
resin composition
inorganic filler
novolac type
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Application number
JP21810693A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Sawai
和弘 沢井
Tomonori Tajima
友徳 田嶋
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Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
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Publication of JPH0753670A publication Critical patent/JPH0753670A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject composition, containing a specific epoxy resin, a novolak type phenolic resin and an inorganic filler as essential components, excellent in moisture, solder heat resistances, thermomechanical characteristics, etc., and useful for sealing, coating, insulating, etc., semiconductor devices, etc. CONSTITUTION:This resin composition contains (A) an epoxy resin expressed by the formula [R1 is CnH2n+1; (n) is 0 or an integer of >=1], (B) a novolak type phenolic resin and (C) an inorganic filler (preferably silica powder having <=30mum average particle diameter) in an amount of 25-90wt.% based on the resin composition as essential components.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、耐湿性、半田耐熱性に
優れたエポキシ樹脂組成物および半導体封止装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition having excellent moisture resistance and solder heat resistance, and a semiconductor encapsulation device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体集積回路の分野において、
高集積化、高信頼性化の技術開発と同時に半導体装置の
実装工程の自動化が推進されている。例えばフラットパ
ッケージ型の半導体装置を回路基板に取り付ける場合
に、従来、リードピン毎に半田付けを行っていたが、最
近では半田浸漬方式や半田リフロー方式が採用されてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of semiconductor integrated circuits,
At the same time as technology development for high integration and high reliability, automation of the mounting process of semiconductor devices is being promoted. For example, when mounting a flat package type semiconductor device on a circuit board, conventionally, soldering is performed for each lead pin, but recently, a solder dipping method or a solder reflow method has been adopted.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来のノボラック型エ
ポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノール
樹脂およびシリカ粉末からなる樹脂組成物によって封止
した半導体装置は、装置全体の半田浴浸漬を行うと耐湿
性が低下するという欠点があった。特に吸湿した半導体
装置を浸漬すると、封止樹脂と半導体チップ、あるいは
封止樹脂とリードフレームとの間の剥がれや、内部樹脂
クラックが生じて著しい耐湿性劣化を起こし、電極の腐
蝕による断線や水分によるリーク電流を生じ、その結
果、半導体装置は、長期間の信頼性を保証することがで
きないという欠点があった。
A semiconductor device sealed with a conventional resin composition comprising an epoxy resin such as a novolac type epoxy resin, a novolac type phenolic resin and silica powder has a moisture resistance when the entire device is immersed in a solder bath. There was a drawback that the property deteriorated. In particular, when a semiconductor device that has absorbed moisture is immersed, peeling between the encapsulating resin and the semiconductor chip, or the encapsulating resin and the lead frame, and internal resin cracks cause significant deterioration in moisture resistance, causing wire breakage and moisture due to electrode corrosion. As a result, there is a drawback that a semiconductor device cannot guarantee long-term reliability.

【0004】本発明は、上記の欠点を解消するためにな
されたもので、吸湿の影響が少なく、特に半田浴浸漬後
の耐湿性、半田耐熱性に優れ、封止樹脂と半導体チップ
あるいは封止樹脂とリードフレームの間の剥がれや、内
部樹脂クラックの発生がなく、また電極の腐蝕による断
線や水分によるリーク電流の発生もなく、長期信頼性を
保証できるエポキシ樹脂組成物および半導体封止装置を
提供しようとするものである。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned drawbacks, has little influence of moisture absorption, is particularly excellent in moisture resistance and solder heat resistance after immersion in a solder bath, and has a sealing resin and a semiconductor chip or sealing. Epoxy resin composition and semiconductor encapsulation device capable of ensuring long-term reliability without peeling between resin and lead frame, generation of internal resin cracks, disconnection due to electrode corrosion and leakage current due to moisture. It is the one we are trying to provide.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、特定のエポキ
シ樹脂、硬化剤としてノボラック型フェノール樹脂を用
いることによって、耐湿性、半田耐熱性等に優れた樹脂
組成物が得られることを見いだし、本発明を完成したも
のである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned object, the present inventors have found that by using a specific epoxy resin and a novolac type phenol resin as a curing agent, moisture resistance, solder It was found that a resin composition having excellent heat resistance and the like can be obtained, and the present invention has been completed.

【0006】即ち、本発明は、(A)次の一般式で示さ
れるエポキシ樹脂、
That is, the present invention provides (A) an epoxy resin represented by the following general formula:

【0007】[0007]

【化3】 (但し、式中R1 はCn 2n+1基を、R1 中のn は 0又
は 1以上の整数を表す) (B)ノボラック型フェノール樹脂および (C)無機質充填剤 を必須成分とし、樹脂組成物に対して前記(C)の無機
質充填剤を25〜90重量%の割合で含有してなることを特
徴とするエポキシ樹脂組成物である。また、このエポキ
シ樹脂組成物の硬化物によって、半導体チップが封止さ
れてなることを特徴とする半導体封止装置である。
[Chemical 3] (However, in the formula, R 1 represents a C n H 2n + 1 group, and n in R 1 represents 0 or an integer of 1 or more.) (B) a novolac type phenol resin and (C) an inorganic filler as essential components An epoxy resin composition characterized in that the inorganic filler (C) is contained in a proportion of 25 to 90% by weight with respect to the resin composition. A semiconductor encapsulation device is obtained by encapsulating a semiconductor chip with a cured product of this epoxy resin composition.

【0008】以下、本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.

【0009】本発明に用いる(A)エポキシ樹脂は、前
記の一般式で示されるものが使用され、その分子量等に
制限されることなく使用することができる。具体的な化
合物として、例えば
As the (A) epoxy resin used in the present invention, the one represented by the above general formula is used, and the epoxy resin can be used without being restricted by its molecular weight and the like. As a specific compound, for example,

【0010】[0010]

【化4】 等が挙げられ、これらは単独又は混合して使用すること
ができる。また、このエポキシ樹脂には、ノボラック系
エポキシ樹脂やエピビス系エポキシ樹脂、その他一般に
公知のエポキシ樹脂を併用することができる。
[Chemical 4] Etc., and these can be used alone or in combination. In addition, a novolac-based epoxy resin, an epibis-based epoxy resin, and other generally known epoxy resins can be used in combination with this epoxy resin.

【0011】本発明に用いる(B)ノボラック型フェノ
ール樹脂しては、フェノール、アルキルフェノール等の
フェノール類とホルムアルデヒドあるいはパラホルムア
ルデヒドとを反応させて得られるノボラック型フェノー
ル樹脂およびこれらの変性樹脂、例えばエポキシ化、も
しくはブチル化ノボラック型フェノール樹脂等が挙げら
れ、これらは単独又は混合して使用することができる。
ノボラック型フェノール樹脂の配合割合は、前記(A)
のエポキシ基(a )と(B)のノボラック型不樹脂のフ
ェノール性水酸基(b )とのモル比[(a )/(b )]
が0.1 〜10の範囲内であることが望ましい。モル比が0.
1 未満もしくは10を超えると耐湿性、成形作業性および
硬化物の電気特性が悪くなり、いずれの場合も好ましく
ない。
The novolak type phenolic resin (B) used in the present invention includes novolak type phenolic resins obtained by reacting phenols such as phenol and alkylphenol with formaldehyde or paraformaldehyde, and modified resins thereof, for example, epoxidation. Or a butylated novolac type phenol resin, etc., and these can be used alone or in combination.
The compounding ratio of the novolac type phenol resin is the same as the above (A).
Molar ratio of the epoxy group (a) of (1) to the phenolic hydroxyl group (b) of (B) of the novolak type non-resin [(a) / (b)]
Is preferably in the range of 0.1 to 10. The molar ratio is 0.
If it is less than 1 or more than 10, the moisture resistance, the molding workability, and the electrical properties of the cured product deteriorate, and either case is not preferable.

【0012】本発明に用いる(C)無機質充填剤として
は、一般に使用されているものが広く使用されるが、そ
れらの中でも不純物濃度が低く、平均粒径30μm 以下の
シリカ粉末が好ましく使用される。平均粒径30μm を超
えると耐湿性および成形性が劣り好ましくない。無機質
充填剤の配合割合は、全体の樹脂組成物に対して25〜90
重量%含有するように配合することか好ましい。その割
合が25重量%未満では樹脂組成物の吸湿性が高く、半田
浸漬後の耐湿性に劣り、また90重量%を超えると極端に
流動性が悪くなり、成形性に劣り好ましくない。
As the inorganic filler (C) used in the present invention, generally used ones are widely used. Among them, silica powder having a low impurity concentration and an average particle diameter of 30 μm or less is preferably used. . If the average particle size exceeds 30 μm, the moisture resistance and moldability are poor, which is not preferable. The blending ratio of the inorganic filler is 25 to 90 with respect to the entire resin composition.
It is preferable to mix them so as to contain them by weight. When the proportion is less than 25% by weight, the hygroscopicity of the resin composition is high and the moisture resistance after solder immersion is poor, and when it exceeds 90% by weight, the fluidity is extremely deteriorated and the moldability is poor, which is not preferable.

【0013】本発明のエポキシ樹脂組成物は、前述した
特定のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノール樹脂およ
び無機質充填剤を必須成分とするが、本発明の目的に反
しない限度において、また必要に応じて、例えば天然ワ
ックス類、合成ワックス類、直鎖脂肪酸の金属塩、酸ア
ミド類、エステル類、パラフィン類等の離型剤、三酸化
アンチモン等の難燃剤、カーボンブラック等の着色剤、
シランカップリング剤、種々の硬化促進剤、ゴム系やシ
リコーン系の低応力付与剤等を適宜添加配合することが
できる。
The epoxy resin composition of the present invention contains the above-mentioned specific epoxy resin, novolac type phenolic resin and inorganic filler as essential components, but within the range not deviating from the object of the present invention, and if necessary, For example, natural waxes, synthetic waxes, metal salts of straight chain fatty acids, acid amides, esters, paraffins and other release agents, antimony trioxide and other flame retardants, carbon black and other colorants,
A silane coupling agent, various curing accelerators, rubber-based or silicone-based low stress imparting agents, and the like can be appropriately added and blended.

【0014】本発明のエポキシ樹脂組成物を成形材料と
して調製する場合の一般的方法は、前述した特定のエポ
キシ樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、無機質充填剤
およびその他の成分を配合し、ミキサー等によって十分
均一に混合した後、さらに熱ロールによる溶融混合処理
またはニーダ等による混合処理を行い、次いで冷却固化
させ適当な大きさに粉砕して成形材料とすることができ
る。こうして得られた成形材料は、半導体装置をはじめ
とする電子部品或いは電気部品の封止・被覆・絶縁等に
適用すれば優れた特性と信頼性を付与させることができ
る。
A general method for preparing the epoxy resin composition of the present invention as a molding material is to mix the above-mentioned specific epoxy resin, novolac type phenol resin, inorganic filler and other components, and mix well with a mixer or the like. After uniformly mixing, a melt mixing process using a hot roll or a mixing process using a kneader or the like is further performed, and then the mixture is cooled and solidified and pulverized to an appropriate size to obtain a molding material. When the molding material thus obtained is applied to sealing, coating, insulation, etc. of electronic parts or electric parts such as semiconductor devices, excellent properties and reliability can be imparted.

【0015】また、本発明の半導体封止装置は、上述の
成形材料を用いて半導体チップを封止することにより容
易に製造することができる。封止を行う半導体装置とし
ては、例えば集積回路、大規模集積回路、トランジス
タ、サイリスタ、ダイオード等で特に限定されるもので
はない。封止の最も一般的な方法としては、低圧トラン
スファー成形法があるが、射出成形、圧縮成形、注形等
による封止も可能である。成形材料で封止後加熱して硬
化させ、最終的にはこの硬化物によって封止された半導
体封止装置が得られる。加熱による硬化は、150 ℃以上
に加熱して硬化させることが望ましい。
The semiconductor encapsulation device of the present invention can be easily manufactured by encapsulating a semiconductor chip using the above molding material. The semiconductor device to be sealed is not particularly limited to, for example, an integrated circuit, a large scale integrated circuit, a transistor, a thyristor, a diode and the like. The most common method of sealing is a low-pressure transfer molding method, but sealing by injection molding, compression molding, casting or the like is also possible. After sealing with a molding material, it is heated and cured, and finally a semiconductor sealing device sealed with this cured product is obtained. For curing by heating, it is desirable to heat and cure at 150 ° C or higher.

【0016】[0016]

【作用】本発明のエポキシ樹脂組成物および半導体封止
装置は、特定のエポキシ樹脂とノボラック型フェノール
樹脂を用いることによって、樹脂組成物のガラス転移温
度が上昇し、熱機械的特性と低応力性が向上し、半田浸
漬、半田リフロー後の樹脂クラックの発生がなくなり、
耐湿性劣化が少なくなるものである。
In the epoxy resin composition and semiconductor encapsulation device of the present invention, the glass transition temperature of the resin composition is increased by using the specific epoxy resin and the novolac type phenol resin, and the thermomechanical characteristics and the low stress property are obtained. And the occurrence of resin cracks after solder dipping and solder reflow,
The moisture resistance is less deteriorated.

【0017】[0017]

【実施例】次に本発明を実施例によって説明するが、本
発明はこれらの実施例によって限定されるものではな
い。以下の実施例および比較例において「%」とは「重
量%」を意味する。
EXAMPLES Next, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following examples and comparative examples, “%” means “% by weight”.

【0018】実施例1 前記化4に示したエポキシ樹脂16%、ノボラック型フェ
ノール樹脂(融点78℃)8 %、シリカ粉末75%、硬化促
進剤 0.3%、エステルワックス類 0.3%およびシランカ
ップリング剤 0.4%を常温で混合し、さらに90〜95℃で
混練冷却した後、粉砕して成形材料(A)を製造した。
Example 1 16% of the epoxy resin shown in the above chemical formula 4, 8% of novolac type phenol resin (melting point 78 ° C.), 75% of silica powder, 0.3% of curing accelerator, 0.3% of ester waxes and silane coupling agent. 0.4% was mixed at room temperature, further kneaded and cooled at 90 to 95 ° C., and then pulverized to produce a molding material (A).

【0019】実施例2 前記化4に示したエポキシ樹脂8 %、o-クレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂8 %、ノボラック型フェノール樹
脂8 %、シリカ粉末74%、硬化促進剤 0.3%、エステル
ワックス類 0.3%およびシランカップリング剤 0.4%を
常温で混合し、さらに90〜95℃で混練冷却した後、粉砕
して成形材料(B)を製造した。
Example 2 Epoxy resin 8%, o-cresol novolac type epoxy resin 8%, novolac type phenolic resin 8%, silica powder 74%, curing accelerator 0.3%, ester waxes 0.3% And 0.4% of a silane coupling agent were mixed at room temperature, further kneaded and cooled at 90 to 95 ° C., and then pulverized to produce a molding material (B).

【0020】比較例1 o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂17%、ノボラッ
ク型フェノール樹脂 8%、シリカ粉末74%、硬化促進剤
0.3%、エステルワックス類 0.3%およびシランカップ
リング剤 0.4%を常温で混合し、さらに90〜95℃で混練
冷却した後、粉砕して成形材料(C)を製造した。
Comparative Example 1 o-Cresol Novolac type epoxy resin 17%, novolac type phenolic resin 8%, silica powder 74%, curing accelerator
0.3%, ester waxes 0.3%, and silane coupling agent 0.4% were mixed at room temperature, further kneaded and cooled at 90 to 95 ° C., and then pulverized to produce a molding material (C).

【0021】比較例2 エピビス型エポキシ樹脂(エポキシ当量 450)20%、ノ
ボラック型フェノール樹脂 5%、シリカ粉末74%、硬化
促進剤 0.3%、エステルワックス類 0.3%およびシラン
カップリング剤 0.4%を常温で混合し、さらに90〜95℃
で混練冷却した後、粉砕して成形材料(D)を製造し
た。
Comparative Example 2 20% epibis type epoxy resin (epoxy equivalent 450), 5% novolac type phenol resin, 74% silica powder, 0.3% curing accelerator, 0.3% ester waxes and 0.4% silane coupling agent at room temperature. And mix at 90-95 ℃
After kneading and cooling with, the mixture was pulverized to produce a molding material (D).

【0022】こうして製造した成形材料(A)〜(D)
を用いて 170℃に加熱した金型内にトランスファー注
入、半導体チップを封止し硬化させて半導体封止装置を
製造した。これらの半導体封止装置について、諸試験を
行ったのでその結果を表1に示したが、本発明のエポキ
シ樹脂組成物および半導体封止装置は、耐湿性、半田耐
熱性に優れており、本発明の顕著な効果を確認すること
ができた。
Molding materials (A) to (D) thus produced
Was used to transfer transfer into a mold heated to 170 ° C., and the semiconductor chip was sealed and cured to manufacture a semiconductor sealing device. Various tests were conducted on these semiconductor encapsulation devices, and the results are shown in Table 1. The epoxy resin composition and the semiconductor encapsulation device of the present invention are excellent in moisture resistance and solder heat resistance. The remarkable effect of the invention could be confirmed.

【0023】[0023]

【表1】 *1 :トランスファー成形によって直径50mm、厚さ3mm
の成形品を作り、これを127 ℃, 2.5気圧の飽和水蒸気
中に24時間放置し、増加した重量によって測定した。 *2 :吸水率の場合と同様な成形品を作り、175 ℃,8
時間の後硬化を行い、適当な大きさの試験片とし、熱機
械分析装置を用いて測定した。 *3 :JIS−K−6911に準じて試験した。 *4 :成形材料を用いて、2 本以上のアルミニウム配線
を有するシリコン製チップを、通常の42アロイフレーム
に接着し、175 ℃,2 分間トランスファー成形した後、
175 ℃,8 時間の後硬化を行った。こうして得た成形品
を、予め40℃,95%RH,100 時間の吸湿処理した後、
250 ℃の半田浴に10秒間浸漬した。その後、127 ℃,
2.5気圧の飽和水蒸気中でPCTを行い、アルミニウム
の腐蝕による50%断線を不良として評価した。 *5 :8 ×8mm ダミーチップをQFP(14×14× 1.4m
m)パッケージに納め、成形材料を用いて175 ℃,2 分
間トランスファー成形した後、175 ℃,8 時間の後硬化
を行った。こうして得た半導体封止装置を85℃,85%,
24時間の吸湿処理した後、240 ℃の半田浴に 1分間浸漬
した。その後、実体顕微鏡でパッケージ表面を観察し、
外部樹脂クラックの発生の有無を評価した。
[Table 1] * 1: Diameter 50 mm, thickness 3 mm by transfer molding
A molded article of the above was prepared, and the molded article was allowed to stand in saturated steam at 127 ° C. and 2.5 atm for 24 hours and measured by the increased weight. * 2: Make a molded product similar to the case of water absorption, 175 ℃, 8
After post-curing for a certain time, a test piece of an appropriate size was prepared and measured using a thermomechanical analyzer. * 3: Tested according to JIS-K-6911. * 4: Using a molding material, a silicon chip with two or more aluminum wires is bonded to a normal 42 alloy frame and transfer molded at 175 ° C for 2 minutes.
Post-curing was performed at 175 ° C for 8 hours. The molded product thus obtained is subjected to moisture absorption treatment at 40 ° C., 95% RH for 100 hours in advance, and then
It was immersed in a solder bath at 250 ° C for 10 seconds. After that, 127 ℃,
PCT was performed in saturated steam of 2.5 atm and 50% disconnection due to corrosion of aluminum was evaluated as defective. * 5: QFP (14 × 14 × 1.4m) with 8 × 8mm dummy chip
m) It was placed in a package, transfer molding was performed for 2 minutes at 175 ° C using the molding material, and then post-curing was performed at 175 ° C for 8 hours. The semiconductor encapsulation device obtained in this way is 85 ℃, 85%,
After absorbing moisture for 24 hours, it was immersed in a solder bath at 240 ° C for 1 minute. After that, observe the package surface with a stereomicroscope,
The occurrence of external resin cracks was evaluated.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明のエポキシ樹脂組成物および半導体封止装置
は、耐湿性、半田耐熱性に優れ、吸湿による影響が少な
く、電極の腐蝕による断線や水分によるリーク電流の発
生等を著しく低減することができ、しかも長期間にわた
って信頼性を保証することができる。
As is clear from the above description and Table 1, the epoxy resin composition and the semiconductor encapsulation device of the present invention have excellent moisture resistance and solder heat resistance, are less affected by moisture absorption, and are not affected by electrode corrosion. It is possible to remarkably reduce the generation of leakage current due to disconnection and moisture, and it is possible to guarantee the reliability for a long period of time.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)次の一般式に示されるエポキシ樹
脂、 【化1】 (但し、式中R1 はCn 2n+1基を、R1 中のn は 0又
は 1以上の整数を表す) (B)ノボラック型フェノール樹脂および (C)無機質充填剤 を必須成分とし、樹脂組成物に対して前記(C)の無機
質充填剤を25〜90重量%の割合で含有してなることを特
徴とするエポキシ樹脂組成物。
1. An epoxy resin represented by the following general formula (A): (However, in the formula, R 1 represents a C n H 2n + 1 group, and n in R 1 represents 0 or an integer of 1 or more.) (B) a novolac type phenol resin and (C) an inorganic filler as essential components An epoxy resin composition containing the inorganic filler (C) in a proportion of 25 to 90% by weight with respect to the resin composition.
【請求項2】 (A)次の一般式で示されるエポキシ樹
脂、 【化2】 (但し、式中R1 はCn 2n+1基を、R1 中のn は 0又
は 1以上の整数を表す) (B)ノボラック型フェノール樹脂および (C)無機質充填剤 を必須成分とし、樹脂組成物に対して前記(C)の無機
質充填剤を25〜90重量%の割合で含有したエポキシ樹脂
組成物の硬化物によって、半導体チップが封止されてな
ることを特徴とする半導体封止装置。
2. An epoxy resin represented by the following general formula (A): (However, in the formula, R 1 represents a C n H 2n + 1 group, and n in R 1 represents 0 or an integer of 1 or more.) (B) a novolac type phenol resin and (C) an inorganic filler as essential components A semiconductor chip is sealed with a cured product of an epoxy resin composition containing the inorganic filler of (C) in a proportion of 25 to 90% by weight with respect to the resin composition. Stop device.
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