JPH0621959B2 - 露光スポットの調整および監視方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、スポットごとにフィルムを露光する複製技術
に関する。この複製技術では、ラスタ、中間調の像およ
び線分符号をスキャナで記録する。その際、露光スポッ
トの光強度（輝度）、露光スポットの大きさおよび焦点
と輝度分布は、均質でハイコントラストな露光が得られ
るように制御される。

従来の技術 印刷技術において写真材料に網目化された色分解版を作
製する際にはいわゆるスキャナが使用される。スキャナ
では網点がマルチトラック記録機構によって写真材料に
露光される。このような形式の記録では（例えば米国特
許第３７２５５７４明細書に記載されている）、相互に
隣接配置された複数の光ビームが使用され、これら個々
の部分ビームを正確に調整する必要がある。正確に調整
することにより、個々の部分ビーム間で走査線の連続性
が得られ、フィルム上に露光されない縞が発生しない。

現在の通常のスキャナ技術では、この部分ビームのスポ
ット特性の調整および維持はテスト露光により間接的に
制御される。焦点も間隔定規等により測定され調整され
る。従い使用者による常時の監視が必要である。とくに
個々の部分ビームの輝度分布を露光結果に基づいて判定
する場合には、フィルムの階調特性も関係しているた
め、近似的にしか補正を行うことができず、しかも材料
損失が大きく時間がかかる。

発明が解決しようとする課題 本発明の課題は、露光スポツトの光エネルギ、寸法、焦
点および輝度分布を完全に自動的に制御し監視すること
ができる方法を提供することである。

課題を解決するための手段 本発明によればこの課題は、特許請求の範囲第１項、お
よび第６項ないし第８項に記載の発明の構成によって解
決される。本発明の有利な実施態様は第２項ないし第５
項に記載されている。

本発明によれば、ガウス分布形状のプロフィルを有す
る、例えば１２個の異なった部分ビームの重なり合いに
よって１つの全体露光スポットが形成される。このスポ
ットの大きさはズームレンズの結像尺度により、またそ
の輝度分布は個々の部分ビームの光強度により光変調器
によって制御される。

実施例 以下、本発明を種々の機能に関連して説明する。なお、
これら種々の機能は同時に実行できるものである。これ
ら種々の機能とは、露光スポットの輝度分布測定および
補正（第２図、第１発明）、露光スポットの大きさの測
定および補正（第４図、第２発明）、露光スポットの焦
点測定および補正（第５図、第３発明、および第７図、
第４発明）である。原則的にはこれらすべての機能にお
いて露光スポットは、記録装置の送りにより狭幅のスリ
ット上を案内される。このスリットは第１の光電交換
器、例えばシリコンホトダイオードの前方のフィルム面
内に位置する。露光スポットの測定の際、第２の光電交
換器により露光スポット全体の全光エネルギが積分しな
がら測定される。第８図から第１１図に示されているよ
うに、第２の光電変換器は第１の光電変換器に並んで配
置されている。第２の光電変換器にはスリットを通らず
に露光スポットが入射する。

また、光電変換器をスリットと共に移動する装置によっ
て、固定した露光スポットを横切るように案内すること
もできる。さらに、偏光装置（例えば検流計ミラーまた
は多角形ミラー）により、スポットを光電変換器上に案
内することもできる。機械的または光学的に変位させる
代わりに、スポットを十分な分解能を有するＣＣＤに結
像させ、電子的に走査することもできる。

第１図には露光スポットＦが示されている。このスポッ
トは１２の部分ビーム（Ｔ１〜Ｔ１２）から構成され、
個々の部分ビームはガウス状の輝度分布を有している。
閉じた曲線（Ｊ１〜Ｊ４）は光エネルギ密度の等しい等
高線を表す。２つの平行な直線ＳＰは、露光スポット上
を案内される測定スリットを表す。

第２図は本発明による、輝度分布測定および補正用の装
置を示す。ここでは輝度分布の目標曲線に対する例とし
て第３図に示された輝度分布特性経過が用いられる。こ
の特性経過は、第１図に示した露光スポットの形状に相
応する。個々のビームは４０μｍの半径値を有し、スリ
ット幅は１０μｍである。光は、模式的に示したスリッ
ト１を通って光電変換器２に入射し、増幅器４ａで増幅
され、アナログ／ディジタル変換器５ａでディジタル化
され、レジスタ６ａにロードされる。第２の光電変換器
３にはスリット１を通過せずに全光エネルギが入射し、
その出力は増幅器４ｂに供給される。増幅器４ｂは出力
をアナログ／ディジタル変換器５ｂに供給し、この変換
器はレジスタ６ｂにディジタル積分信号を記録のため供
給する。クロックにより制御されるクロック発生器７は
スイッチ８を作動し、第１の光電変換器２により測定さ
れた実測光強度値をクロック周波数でサンプリングして
周期的にメモリ９に書き込む。書き込まれた実測光強度
値は割算器１０で、レジスタ６ｂからの実測光強度積分
値により、正規化を行うため除算される。微分回路１
１、加算器１２およびシフトレジスタでは、デコンボル
ーション(deconvolution)が行われる。このデコンボル
ーションの数学的基礎概念に関しては追って説明する。
前記割算器１０の商は微分回路１１で時間微分され、シ
フトレジスタ１３からの所定の値が加算器１２で加算さ
れ、これに基づき再びシフトレジスタ１３にロードされ
る。このように割算器１０、微分回路１１、加算器１２
を通過して相応に処理された実測光強度値は比較器１６
に供給される。比較器はこの実測光強度値を、レジスタ
１７、１８に記憶されている、それまでに測定した光強
度値の最大値および最小値と比較する。比較する実測光
強度値がこれまでの最大値より大きいか、またはこれま
での最小値よりも小さい場合、この実測光強度値を最大
値ないし最小値として新たに記憶して、最大値ないし最
小値を更新する。クロック発生器７により増分される２
つの計数器１９ａ，１９ｂは、レジスタ１７および１８
に記憶されている最大値および最小値をスイッチ２０
ａ，２０ｂを介して交互にメモリ２１に記憶させる。光
強度設定のためのこれらの値は割算器２２において、メ
モリ２３に記憶されている目標分布値により除算され
る。得られた商は実測光強度値が目標分布値から偏差す
る割合を表す。この商は乗算器２４において、メモリ２
５から読み出された制御特性曲線の係数と乗算される。
この係数はメモリ２６内の瞬時の光強度制御値により選
択される。得られた積は補正された光強度制御値を含ん
でおり、レジスタ２７にロードされ、データ母線を介し
て光強度制御装置（例えば多重周波数−音響光学的変調
器）に供給される。

次に、露光スポットの大きさの測定および補正の機能に
ついて、第１図に示した露光スポットの例を用いて、第
４図の回路図を参照して説明する。露光スポットの大き
さは、走査ラインを正しく連続的に掃引するために、ラ
イン毎の露光の際正確に設定されていなければならな
い。輝度分布の測定の際と同様に、スリット１を介して
入射する光は光電変換器２で測定され、増幅され４ａ、
ディジタル化され５ａ、レジスタ６ａにロードされ、ク
ロック発生器７によるスイッチング８によりサンプリン
グして、メモリ９に書き込まれる。この実測光強度値は
微分回路１１で時間微分され、微分した値が加算器１２
で、所定の値と加算され、シフトレジスタ１３にロード
される。このようにして、追って詳述するデコンボルー
ションが実行される。このようにして求められた光強度
値は微分回路２８と比較器２９に供給される。比較器２
９はレジスタ３０に記憶されているこれでの最大値を呼
出して比較する。光強度値はそのままメモリ４１に記憶
される。微分回路２８で求められた、光強度経過の勾配
は弁別器３１にて、符号の変化について検査され、符号
変化のたびに計数器３２を増分するのに用いられる。こ
の計数器の計数状態は、比較器３３にて、２つのレジス
タ３４ａ，３４ｂに記憶されている第１の部分ビームＴ
１の最大値および最後の部分ビームＴ１２の最大値と比
較され、スイッチ３５を作動する。この信号は遅延素子
３６を介してレジスタ３０を零にリセットする。レジス
タ３０から得られた第１の部分ビームＴ１および最後の
部分ビームＴ１２の最大光強度値から、加算器３７およ
び割算器３８により境界値が求められ、レジスタ３９に
ロードされ、比較器４０にて光強度値と比較される。こ
の境界値は、露光スポット内の２つの部分ビームの重な
り点を表す。その際、メモリ４１からの読出しにより計
数器４２は増分される。計数器４２の計数値は乗算器４
３にて、レジスタ４４に記憶されている、スリットと露
光装置との相対的送り速度値（１クロック毎の送り距
離）と乗算され、区間値に換算される。この区間値はレ
ジスタ４５に記憶される。比較器４０はスイッチ４６を
作動し、このスイッチを介して、前記境界値と等しい光
強度値の区間値がシフトレジスタ４７にロードされる。
減算器４８は第１の区間値と最後の区間値との差値を形
成し、この差値は割算器４９において、レジスタ５０に
記憶されている目標区間値により除算される。その結果
生じる商は乗算器５１で、メモリ５２から読み出された
制御特性曲線係数と乗算される。この係数は、制御素子
（例えばズームレンズ）の実際の状態を定める特性値に
よって選択される。この特性値は、レジスタ５３にロー
ドされている。このようにして得られた積、すなわち補
正された倍率値はレジスタ５４にロードされ、ディジタ
ル／アナログ変換器を介して倍率設定部の制御部に転送
される。

次に本発明の第１の実施例における、焦点の測定および
補正機能を第５図の回路図に基づき、第１図の露光スポ
ットで説明する。

この場合、第１図の重なり合わされたガウス分布からな
る露光スポットから出発する。焦点の測定は、第５図の
割算器１０で正規化が行われるまで輝度分布の測定の場
合（第２図）と同様に実行される。正規化された実測光
強度値は比較器５５において、レジスタ５６、５７に記
憶されているそれまでの実測光強度値の最大値および最
小値と比較される。正規化された実測光強度値が、最大
値を越えたり、最小値を下回る場合、レジスタ５６、５
７の内容は更新される。実測光強度値は同時に、微分回
路５８で時間微分され、後続の弁別器で符号反転が識別
される。符号が正から負に変化した際、スイッチ６０ａ
が作動され、それにより最大値がレジスタ５６から加算
器６２ａにロードされる。弁別器５９からのスイッチパ
ルスは遅延素子６１ａで遅延されて最大値のレジスタ５
６を零にリセットする。符号が負から正に変化した際に
も、最小値に対して同様の処理が行われる。このように
して実測光強度値を微分した値の符号が変化する毎に、
その都度の最大値と最小値が加算器６２ａ，６２ｂに供
給される。加算器６２ａで形成された最大値の和は、加
算器６２ｂで形成された最小値の和によって、割算器６
３で除算される。得られた商は割算器６４で目標値によ
り除算される。この目標値は、その時に使用される倍率
値に対応してメモリ６５に記憶されている。使用される
倍率値が異なれば目標値もそれに応じて異なるからであ
る。レジスタ６６にはその時に実際に使用される倍率値
がロードされており、これに依存して対応する目標値が
選択される。この商が焦点に対する尺度である。この商
から減算器６７にて、レジスタ６８に記憶されている焦
点補正の方向を表す値（＋１または−１）が減算され、
その差が補正に対する尺度となる。補正方向の値の符号
はその度毎に反転される。乗算器６９にて補正値は、メ
モリ７０にファイルされている制御特性曲線の値と乗算
される。制御特性曲線の値は、レジスタ７１に記憶され
ている瞬時の焦点制御値により選択される。加算器７２
において、補正値は、レジスタ７１の瞬時の焦点制御値
と加算されて新たな焦点制御値が形成され、レジスタ７
３にロードされる。次に、制御線路を介して焦点調整
（例えば電気機械的に対物レンズの焦点を調整する）が
レジスタ７３の出力により、ディジタル／アナログ変換
を介して実行される。どちらの方向に焦点を補正すべき
かは測定できないので、上記の焦点測定は補正方向を反
転させながら繰り返し、それにより正しい焦点調整を行
なう。

第７図には、露光スポットの焦点測定および補正のため
の本発明の別の実施例が示されている。この場合の露光
スポットの輝度分布曲線は、第６図に示されたように顕
著な局所的最小値を有していないが、最大値を中心に対
称に分布しているものとする。この場合の実施例では焦
点測定にあたって輝度分布曲線の勾配が測定される。実
測光強度値の検出は、第４図に示した露光スポットの大
きさの測定の場合と同様に行われ、第７図の実施例では
微分回路７４で微分され、微分された値は比較器７５
で、レジスタ７６ａ，７６ｂにロードされているそれま
での測定値の最大値および最小値と比較される。これま
での最小値よりも小さかったり、最大値よりも大きい場
合にはこれらレジスタの内容は更新される。露光スポッ
トを走査した後に、クロック発生器７によって増分され
る計数器７８のパルスによりスイッチ７７ａ，７７ｂが
操作され、上昇経過および下降経過の勾配の最大値がレ
ジスタ７９ａ，７９ｂにロードされ、減算器８０に供給
される。減算器８０ではこれら２つの値が減算される。
割算器６４は減算器８０の出力を受け取り、メモリ８１
から供給された目標値で除算する。これにより焦点の尺
度となる値が得られる。割算器６４からのその後の処理
は第１の実施例（第５図）と同じである。

次に前に述べたデコルボーション計算の過程を説明す
る。

露光スポットの輝度領域を［ｘ_０，ｘ_１］×［ｙ_０，ｙ
_１］（境界条件）とする。ここで露光スポットの輝度分
布は上記の輝度領域内で関数Ｆ_０＝ｆ（ｘ，ｙ）により
与えられ、この関数Ｆ_０は常に微分可能であるとする。

スリットの幅方向（送り方向）をｘ、高さ方向をｙと
し、露光スポットの単位面積当りの輝度強度をパワー密
度と呼ぶとする。パワー密度Ｆ_１は、Ｆ_０をスリットの
高さ方向ｙについて積分すると求められる。

である。

上式中のＦ_１も、露光スポットの輝度領域［ｘ_０，
ｘ_１］×［ｙ_０，ｙ_１］内で常に微分可能であるとす
る。次式が成り立つ。

関数Ｆ_１（ｘ）を関数Ｆ_２（ｘ′）によりたたみ込むこ
とにより、 値 が得られる。これはパワー密度Ｆ_１を有する露光スポッ
トをそのスリットの透過特性Ｆ_２によりたたみ込むこと
を意味する。ここで＊はたたみ込み演算を表わす記号で
ある。

露光スポットの輝度分布は関数Ｆ_０により表すことがで
きる。スリットのｙ方向に積分された値は関数Ｆ
_１（ｘ）により与えられる。従い、関数Ｆ_０（ｘ，ｙ）
のｘ方向でのスリットにより測定された輝度値は、１次
関数 （上記式２）により表すことができる。幅ｓを有するそ
のようなスリットは次の矩形関数によって表すことがで
きる。

式（３）を式（２）に代入すると、 （ｘ−τ）は間隔（−ｓ／２）、（ｓ／２）での、ｘの
周囲の積分を表わす。τは積分変数であるから、ｘによ
り置換することができる。従って次式のように書き替え
ることができる。

これを微分すると、 そこでＦ_１（ｘ）を求める。

露光スポットが領域［ｘ_０，ｘ_１］×［ｙ_０，ｙ_１］に
制限されることは境界条件であるから、 が成り立つｘが存在しなければならない。Ｆ1(x-s/2)＝
０はパワー密度がゼロであるスリット部分があることを
意味するにすぎない。縁部から式（６）に従い連続的に
測定（走査）することにより、すべてのｘ∈［ｘ_０，ｘ
_１］に対して関数Ｆ_１（ｘ）を求めることができる。

上記式を実現する際には実際には、ｄｘの代わりにクロ
ックによるｘが用いられ、差が微分の代わりに形成され
る。また測定点間の中央の測定値を用いることが誤差を
少なくする点から有利であるので、ｘからΔｘ／２を減
算した式を用いる。この場合には式（６）の代わりに次
式を用いて計算が行われる。

ここで、Ｆ_１（ｘ）は露光スポット内の輝度分布の関
数、ｘは送り方向での座標位置、ｓはスリット幅、Δｘ
は測定点間の距離、 （ｘ）は測定された輝度値である。

要約すると、Ｆ_０は露光スポットの輝度分布、Ｆ_１はス
リットのｙ方向（高さ方向）に積分された輝度のパワー
密度、Ｆ_２はスリットの透過特性を表わす。本発明では
スリットの方向に積分された、露光スポットの輝度分布
を次のようにして求めるのである。すなわち、関数Ｆ_１
を関数Ｆ_２でたたみ込み（式４）、これを微分（式５）
して、Ｆ_１（ｘ）を求めるのである（式６）。

第８図から第１２図までには本発明を実施するための装
置の実施例が示されている。第８図には破線でスリット
１の後方に配置された第１の光電変換器２が示されてい
る。このことは図示されていないが第９図から第１１図
にもあてはまる。感光材料は、第２の光電変換器３と同
一の平面に配置されることとなる。

第８図には、矢印８８ａで示した光学的露光装置８３の
機械的送りにより、露光スポット９０とスリット１との
間に相対運動を発生するための装置が示してある。露光
装置８３全体がスリット１に対して相対的に移動され
る。光学的露光装置８３は、部分ビーム８９（図には３
つ部分ビームが示されている）の光強度設定装置８５、
ズームレンズ８４並びに倍率設定部（モータ）８６およ
びフォーカシング部８７を有する。ズームレンズ８４の
倍率は倍率設定部８６、例えばモータにより変化され
る。焦点はフォーカシング部８７の移動により調整され
る。

第９図には第８図に示した装置と同様の光学的露光装置
８３が示してある。第９図においては矢印８８ｂに示す
ように相対運動は測定装置の線形送りによって行われ
る。

第１０図も第８図に示したのと同様の光学的露光装置８
３を示す。第１０図の装置では付加的に、検流計ミラー
９３および光学系９２が設けられており、これらはスリ
ット１の平面に露光スポット９１の中間像を結像する。
露光スポットとスリットとの間の相対運動は、検流計ミ
ラーの振動により発生される。

第１１図には第１０図のものと類似の装置が示されてい
るが、検流計ミラー９３の代わりに多角形ミラー９４が
設けられている。

第１２図は、第８図に示したものと類似の光学的露光装
置８３を示す。この例においては、機械的な相対運動を
行なう代わりに、露光スポットは露光平面に設けられて
いる固定のホトダイオードアレイ９５に指向される。露
光スポットをスリットにより歩進的に走査する代わりに
この実施例ではホトダイオードが同じ区間幅で走査され
る。そのためにホトダイオードは、それに対して垂直方
向（他の装置ではスリットのある方向）に並列に接続さ
れ、ホトダイオードの出力は電子的スイッチングにより
シーケンシャルに走査される。

【図面の簡単な説明】

第１図は１２の部分ビームからなる露光スポットの像の
略図、第２図は露光スポットの輝度分布を測定するため
の装置を示すブロック図、第３図は露光スポットの輝度
分布を示す図、第４図は露光スポットの大きさの測定お
よび補正を行なう装置の構成を示すブロック図、第５図
は露光スポットの焦点を測定および補正を行なう装置の
構成を示すブロック図、第６図は局所的最小値を有しな
い露光スポットの輝度分布を示す線図、第７図は露光ス
ポットの焦点を測定および補正を行なう別の装置の構成
を示すブロック図、第８図と第９図は光学的露光装置の
機械的送りにより、露光スポットとスリットとの間で相
対運動を発生するための装置を示す斜視図、第１０図は
検流計ミラーを用いて相対運動を発生するための装置を
示す斜視図、第１１図は回転多角形ミラーを用いて相対
運動を発生するための装置を示す斜視図、第１２図はホ
トダイオードアレイを備えた測定装置を示す斜視図であ
る。 １…スリット、２、３…光電変換器、４ａ，４ｂ…増幅
器、５ａ，５ｂ…アナログ／ディジタル変換器、８３…
光学的露光装置、８４…ズームレンズ、８５…光強度設
定装置、８６…倍率設定部、８７…フォーカシング部

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】感光材料を露光するための露光スポット
   （Ｆ）の調整および監視方法であって、前記露光スポッ
   トは相互に並置された制御可能な複数の部分ビーム（Ｔ
   １〜Ｔ１２）からなる、調整および監視方法において、 ａ）前記露光スポット（Ｆ）を所定幅の（Ｓｐ）スリッ
   ト（１）を用いて、該スリット（１）と露光スポット
   （Ｆ）との相対運動によって走査し、スリット（１）を
   通過した光エネルギを第１の光電変換器（２）により測
   定し、 ここで、前記スリット（１）は露光平面内にあって、前
   記の並置された部分ビーム（Ｔ１〜Ｔ１２）の方向に対
   して交差するように配列されており、前記第１の光電変
   換器（２）はスリットの後方に配置されており、 ｂ）露光スポット（Ｆ）全体を別の第２の光電変換器
   （３）に結像し、該露光スポット（Ｆ）の全光エネルギ
   を積分測定し、 ｃ）前記２つの光電変換器（２、３）により得られた光
   強度信号をディジタル信号に変換して中間記憶し、 ｄ）前記中間記憶した光強度信号のうちから、露光スポ
   ット内に等間隔で存在する測定点に所属する光強度信号
   を選択し、 ｅ）露光スポットの輝度分布を調整および監視するため
   に、前記選択した第１の光電変換器（２）の光強度信号
   を、第２の光電変換器（３）の積分した光強度信号によ
   り正規化し、 ｆ）前記正規化した信号から、スリット（Ｓｐ）の方向
   に積分された露光スポットの輝度分布を次式に従い、ス
   リット幅だけずらした値を連続的に差分形成および加算
   することにより求め、 ここで、 Ｆ_１（ｘ）は露光スポット内の輝度分布の関数、 ｘは送り方向での座標位置、 ｓはスリット幅、 Δｘは測定点間の距離、 は測定された輝度値であり、 ｇ）求められた露光スポット（Ｆ）の輝度分布の振幅を
   比較することにより、局所的な最大値および最小値を求
   め、 ｈ）求められた最大値および最小値を目標分布値で除算
   し、制御特性曲線の係数で乗算し、 ｉ）得られた値を用いて前記部分ビーム（Ｔ１〜Ｔ１
   ２）の輝度分布を追従制御することを特徴とする、露光
   スポットの調整および監視方法。
2. 【請求項２】前記露光スポットは相対運動を発生するた
   めに、露光スポットを形成する光学装置の送り運動によ
   りスリット上を移動せしめられる特許請求の範囲第１項
   記載の露光スポットの調整および監視方法。
3. 【請求項３】前記スリットは相対運動を発生するため
   に、回転円板または直線送り装置により露光スポット上
   を移動せしめられる特許請求の範囲第１項記載の露光ス
   ポットの調整および監視方法。
4. 【請求項４】前記露光スポットは相対運動を発生するた
   めに、光学的偏向装置、検流計ミラーまたは多角形ミラ
   ーにより光電変換器上を移動せしめられる特許請求の範
   囲第１項記載の露光スポットの調整および監視方法。
5. 【請求項５】第１および第２の光電変換器の代わりに、
   光電変換器列、光電変換器アレイ、ＣＣＤ列またはフォ
   トダイオードアレイを用いてその上に露光スポットを結
   像し、信号を順次ディジタルで記憶する特許請求の範囲
   第１項記載の露光スポットの調整および監視方法。
6. 【請求項６】感光材料を露光するための露光スポット
   （Ｆ）の調整および監視方法であって、前記露光スポッ
   トは相互に並置された制御可能な複数の部分ビーム（Ｔ
   １〜Ｔ１２）からなる、調整および監視方法において、 ａ）前記露光スポット（Ｆ）を所定幅の（Ｓｐ）スリッ
   ト（１）を用いて、該スリット（１）と露光スポット
   （Ｆ）との相対運動によって走査し、スリット（１）を
   通過した光エネルギを光電変換器（２）により測定し、 ここで、前記スリット（１）は露光平面内にあって、前
   記の並置された部分ビーム（Ｔ１〜Ｔ１２）の方向に対
   して交差するように配列されており、前記光電変換器
   （２）はスリットの後方に配置されており、 ｂ）光電変換器（２）により得られた光強度信号をディ
   ジタル信号に変換し、中間記憶し、 ｃ）前記中間記憶した光強度信号のうちから、露光スポ
   ット内に等間隔で存在する測定点に所属する光強度信号
   を選択し、 ｄ）露光スポットの輝度分布を調整および監視するため
   に、前記選択した光電変換器（２）の光強度信号を、微
   分器（１１）で微分し、 ｅ）前記微分した信号を、スリット幅（Ｓｐ）だけずら
   した値を連続的に加算することにより、積分された露光
   スポットの輝度分布を次式に従い求め、 ここで、 Ｆ_１（ｘ）は露光スポット内の輝度分布の関数、 ｘは送り方向での座標位置、 ｓはスリット幅、 Δｘは測定点間の距離、 は測定された輝度値であり、 ｆ）露光スポット（Ｆ）の輝度分布信号から最大値を求
   め、 ｇ）該最大値から露光スポット（Ｆ）の外縁部の位置識
   別のための境界値を求め、 ｈ）記憶されている輝度分布信号を読出し、 ｉ）相応する輝度値に所属する区間値を記憶し、前記境
   界値と比較し、 ｊ）読出しと共に計数器（４２）を増分計数し、 ｋ）当該計数状態を連続的に等間隔信号の間隔（Δｘ）
   と乗算し、これにより各読み出された値に所属の区間値
   が含まれ、 ｌ）露光スポットの外縁部にて境界値を上回るかまたは
   下回るときに前記計数状態を保持し、 ｍ）２つの区間値の差を求めて、目標値および当該差値
   を用いて、露光スポットの大きさを、露光スポットの大
   きさを変更する装置により調整することを特徴とする露
   光スポットの調整および監視方法。
7. 【請求項７】感光材料を露光するための露光スポット
   （Ｆ）の調整および監視方法であって、前記露光スポッ
   トは相互に並置された制御可能な複数の部分ビーム（Ｔ
   １〜Ｔ１２）からなる、調整および監視方法において、 ａ）前記露光スポット（Ｆ）を所定幅の（Ｓｐ）スリッ
   ト（１）を用いて、該スリット（１）と露光スポット
   （Ｆ）との相対運動によって走査し、スリット（１）を
   通過した光エネルギを第１の光電変換器（２）により測
   定し、 ここで、前記スリット（１）は露光平面内にあって、前
   記の並置された部分ビーム（Ｔ１〜Ｔ１２）の方向に対
   して交差するように配列されており、前記第１の光電変
   換器（２）はスリットの後方に配置されており、 ｂ）露光スポット（Ｆ）全体を別の第２の光電変換器
   （３）に結像し、該露光スポット（Ｆ）の全光エネルギ
   を積分測定し、 ｃ）前記２つの光電変換器（２、３）により得られた光
   強度信号をディジタル信号に変換して中間記憶し、 ｄ）前記中間記憶した光強度信号のうちから、露光スポ
   ット内に等間隔で存在する測定点に所属する光強度信号
   を選択し、 ｅ）露光スポットの輝度分布を調整および監視するため
   に、前記選択した第１の光電変換器（２）の光強度信号
   を、第２の光電変換器（３）の積分した光強度信号によ
   り正規化し、 ｆ）前記正規化した信号から、スリット（Ｓｐ）の方向
   に積分された露光スポットの輝度分布を次式に従い、ス
   リット幅だけずらした値を連続的に差分形成および加算
   することにより求め、 ここで、 Ｆ_１（ｘ）は露光スポット内の輝度分布の関数、 ｘは送り方向での座標位置、 ｓはスリット幅、 Δｘは測定点間の距離、 は測定された輝度値であり、 ｇ）求められた露光スポット（Ｆ）の輝度分布の振幅を
   比較することにより、局所的な最大値および最小値を求
   め、 ｈ）求められた局所的な最大値および最小値の合計から
   変調度を求め、該変調度は最大値の合計を最小値の合計
   で除算し、当該除算の商を変調度に対する目標値で再び
   除算することによって求め、 ｉ）当該目標値による除算の商を制御特性曲線の係数と
   乗算し、 ｊ）得られた値を用いて焦点調整を追従制御することを
   特徴とする、露光スポットの調整および監視方法。
8. 【請求項８】感光材料を露光するための露光スポット
   （Ｆ）の調整および監視方法であって、前記露光スポッ
   トは相互に並置された制御可能な複数の部分ビーム（Ｔ
   １〜Ｔ１２）からなる、調整および監視方法において、 ａ）前記露光スポット（Ｆ）を所定幅の（Ｓｐ）スリッ
   ト（１）を用いて、該スリット（１）と露光スポット
   （Ｆ）との相対運動によって走査し、スリット（１）を
   通過した光エネルギを光電変換器（２）により測定し、 ここで、前記スリット（１）は露光平面内にあって、前
   記の並置された部分ビーム（Ｔ１〜Ｔ１２）の方向に対
   して交差するように配列されており、前記光電変換器
   （２）はスリットの後方に配置されており、 ｂ）露光スポット（Ｆ）全体を前記光電変換器（２）に
   結像し、該露光スポット（Ｆ）の全光エネルギを積分測
   定し、 ｃ）前記光電変換器（２）により得られた光強度信号を
   ディジタル信号に変換して中間記憶し、 ｄ）前記中間記憶した光強度信号のうちから、露光スポ
   ット内に等間隔で存在する測定点に所属する光強度信号
   を選択し、 ｅ）露光スポットの輝度分布を、前記光強度信号の微分
   値を形成することによって調整および監視するために、
   光強度信号の上昇経過および下降経過の勾配値を求め、
   該勾配値をレジスタに記憶されているそれまでの勾配値
   の最大値および最小値と比較し、 ｆ）信号の上昇経過および下降経過の最大勾配値を記憶
   し、引き続き減算し、 ｇ）減算結果を記憶されている目標値で除算することに
   より、焦点調整に対する制御信号を形成することを特徴
   とする、露光スポットの調整および監視方法。