JPH0620908A - 固体型アクチュエーターを利用したウェーハの精密駆動装置 - Google Patents
固体型アクチュエーターを利用したウェーハの精密駆動装置Info
- Publication number
- JPH0620908A JPH0620908A JP34484891A JP34484891A JPH0620908A JP H0620908 A JPH0620908 A JP H0620908A JP 34484891 A JP34484891 A JP 34484891A JP 34484891 A JP34484891 A JP 34484891A JP H0620908 A JPH0620908 A JP H0620908A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- displacement
- driving
- rotation
- tilt
- roller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 44
- 230000036316 preload Effects 0.000 claims description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 駆動装置の高さの増加により発生する干渉計
測定誤差の除去および開放型構造の清浄室の維持費用の
節減とウェーハに対する前整列精密度の維持ができる、
固体型アクチュエーターを利用した精密駆動装置の提
供。 【構成】 ムービングステージに付着されてウェーハを
駆動するための駆動装置における、ムービングステージ
に一側が結合された支持台と変位拡大片をヒンジスプリ
ングによって締結して駆動装置の回転中心になる回転中
心部と、前記回転中心部を中心点として入力電圧の大き
さにより膨張される固体アクチュエーター、例えば圧電
または電歪特性のアクチュエーターを包含する伸張部
と、前記伸張部の膨張変位によりその垂直方向に回転す
ることによって変位を垂直方向に転換させて変位を拡大
する変位拡大部と、前記変位拡大片に一側が締結されて
前記伸張部を支持し、前記変位拡大片の回転動作に連繋
されて駆動する駆動部を包含する上・下方向、ティルト
駆動器を具備する。
測定誤差の除去および開放型構造の清浄室の維持費用の
節減とウェーハに対する前整列精密度の維持ができる、
固体型アクチュエーターを利用した精密駆動装置の提
供。 【構成】 ムービングステージに付着されてウェーハを
駆動するための駆動装置における、ムービングステージ
に一側が結合された支持台と変位拡大片をヒンジスプリ
ングによって締結して駆動装置の回転中心になる回転中
心部と、前記回転中心部を中心点として入力電圧の大き
さにより膨張される固体アクチュエーター、例えば圧電
または電歪特性のアクチュエーターを包含する伸張部
と、前記伸張部の膨張変位によりその垂直方向に回転す
ることによって変位を垂直方向に転換させて変位を拡大
する変位拡大部と、前記変位拡大片に一側が締結されて
前記伸張部を支持し、前記変位拡大片の回転動作に連繋
されて駆動する駆動部を包含する上・下方向、ティルト
駆動器を具備する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装備に使用
されるもので、ウェーハの露光位置を決定するために固
体型駆動素子を利用したウェーハ精密駆動装置に関する
ものである。
されるもので、ウェーハの露光位置を決定するために固
体型駆動素子を利用したウェーハ精密駆動装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】一般的に半導体用の露光装備の主要構成
モジュールの中でウェーハの露光位置を決定する駆動装
置は半導体の最小線幅の1/5以下の位置の精密度をも
たなければならない。
モジュールの中でウェーハの露光位置を決定する駆動装
置は半導体の最小線幅の1/5以下の位置の精密度をも
たなければならない。
【0003】したがって、64メガビット以上のDRA
M(Dynamic RandomAccess Me
mory)素子を製造するためには水平方向(x,y)
および回転方向(τ)に対して0.1μm以下の精密度
を有する駆動系が必要である。
M(Dynamic RandomAccess Me
mory)素子を製造するためには水平方向(x,y)
および回転方向(τ)に対して0.1μm以下の精密度
を有する駆動系が必要である。
【0004】また、解像度改善のための投影光学系の開
口数の拡大とウェーハの大口径化による表面高さの不均
一によって焦点の余裕が漸々小さくなっている。
口数の拡大とウェーハの大口径化による表面高さの不均
一によって焦点の余裕が漸々小さくなっている。
【0005】このようにより厳格になった露光条件でウ
ェーハが焦点の深度内に入って願う回路パタンを得るた
めには次のような駆動系が必要である。
ェーハが焦点の深度内に入って願う回路パタンを得るた
めには次のような駆動系が必要である。
【0006】即ち、上・下方向(Z)およびティルト方
向に対しても0.1μm以下の精密度を有する駆動系が
必要である。
向に対しても0.1μm以下の精密度を有する駆動系が
必要である。
【0007】また、精密度以外にも重要な要求規格には
移動区間があり、水平方向(x,y)の移動区間は20
0mm程度の長い距離が必要であるが、残りの4方向に
対しては数百μmの短い距離が要求される。
移動区間があり、水平方向(x,y)の移動区間は20
0mm程度の長い距離が必要であるが、残りの4方向に
対しては数百μmの短い距離が要求される。
【0008】図1は露光装備に使用されているウェーハ
駆動装置の一般的な構造であり、水平方向(x,y)と
水平回転(τ)、上・下方向(Z)、ティルト方向
(α,β)の6自由度運動が可能な駆動装置を示してい
る。
駆動装置の一般的な構造であり、水平方向(x,y)と
水平回転(τ)、上・下方向(Z)、ティルト方向
(α,β)の6自由度運動が可能な駆動装置を示してい
る。
【0009】図1の駆動装置でティルト駆動器(2)は
駆動方向が上・下方向(Z)駆動と同様に上・下方向で
あるということを勘案して上・下方向駆動器と共通的な
構造に設計される。
駆動方向が上・下方向(Z)駆動と同様に上・下方向で
あるということを勘案して上・下方向駆動器と共通的な
構造に設計される。
【0010】即ち、図1のように3個のアクチュエータ
ー(1)がすべて同じ変位を起させると上・下方向に動
き、異なる変位にティルト方向に傾けられるというのを
利用している。
ー(1)がすべて同じ変位を起させると上・下方向に動
き、異なる変位にティルト方向に傾けられるというのを
利用している。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】ここで、上・下方向、
ティルト駆動器(2)を水平回転(τ)、水平方向
(x,y)の駆動器(3),(4),(5)上に組立す
ると真空チャック(6)上のウェーハ(7)と位置測定
のための真空チャック(6)上のウェーハ(7)と位置
測定のためのレーザー干渉計用鏡(8)との高さの差に
よってAbbe誤差が発生する。
ティルト駆動器(2)を水平回転(τ)、水平方向
(x,y)の駆動器(3),(4),(5)上に組立す
ると真空チャック(6)上のウェーハ(7)と位置測定
のための真空チャック(6)上のウェーハ(7)と位置
測定のためのレーザー干渉計用鏡(8)との高さの差に
よってAbbe誤差が発生する。
【0012】このAbbe誤差をなくすためにティルト
駆動器(2)に干渉計用鏡(8)を付着することができ
るが、ティルト駆動によって鏡(8)が傾けられて干渉
計の測定で誤差が誘発される問題点が発生した。
駆動器(2)に干渉計用鏡(8)を付着することができ
るが、ティルト駆動によって鏡(8)が傾けられて干渉
計の測定で誤差が誘発される問題点が発生した。
【0013】また、このように積層された駆動装置は慣
性モーメントが大きくなるので、露光位置で駆動装置が
停止するのに長時間を要する。
性モーメントが大きくなるので、露光位置で駆動装置が
停止するのに長時間を要する。
【0014】前記Abbe誤差が発生しない他の方法と
して水平方向駆動器(4),(5)の中央部に空間があ
る開放型構造を作った。
して水平方向駆動器(4),(5)の中央部に空間があ
る開放型構造を作った。
【0015】ここで、上・下方向、ティルト駆動器
(2)を具備することによって干渉計用鏡(8)の高さ
にウェーハ(7)を合うことができるようにした。
(2)を具備することによって干渉計用鏡(8)の高さ
にウェーハ(7)を合うことができるようにした。
【0016】しかし、この方法は駆動装置の広さが中央
部の空間程もっと大きくなった。
部の空間程もっと大きくなった。
【0017】したがって、駆動装置の全体の大きさの拡
張による清浄室の維持費用が上昇されるという問題点が
発生した。
張による清浄室の維持費用が上昇されるという問題点が
発生した。
【0018】これとともにウェーハ(7)に対する前整
列精密度の劣化を甘受しなければならない等の問題点が
発生した。
列精密度の劣化を甘受しなければならない等の問題点が
発生した。
【0019】したがって、本発明は前記の問題点を解決
するために発明されたもので、ムービングステージに付
着された駆動装置のアクチュエーターを水平配置してそ
の厚さが薄いようにすることによって駆動装置の高さの
増加により発生する干渉計測定誤差の除去および開放型
構造の清浄室の維持費用の節減とウェーハに対する前整
列精密度の維持が行なえる、固体型アクチュエーターを
利用した精密駆動装置を提供するのにその目的がある。
するために発明されたもので、ムービングステージに付
着された駆動装置のアクチュエーターを水平配置してそ
の厚さが薄いようにすることによって駆動装置の高さの
増加により発生する干渉計測定誤差の除去および開放型
構造の清浄室の維持費用の節減とウェーハに対する前整
列精密度の維持が行なえる、固体型アクチュエーターを
利用した精密駆動装置を提供するのにその目的がある。
【0020】
【課題を解決するための手段】このような本発明の目的
を達成するためにムービングステージに付着されてウェ
ーハを駆動するための駆動装置における、ムービングス
テージに一側が結合された支持台と変位拡大片をヒンジ
スプリングによって締結して駆動装置の回転中心になる
回転中心部と、前記回転中心部を中心点として入力電圧
の大きさにより膨張される固体アクチュエーター、例え
ば圧電または電歪特性のアクチュエーターを包含する伸
張部と、前記伸張部の膨張変位によりその垂直方向に回
転することによって変位を垂直方向に転換させて変位を
拡大する変位拡大部と、前記変位拡大片に一側が締結さ
れて前記伸張部を支持し、前記変位拡大片の回転動作に
連繋されて駆動する駆動部を包含する上・下方向、ティ
ルト駆動器を具備したことを特徴とする。
を達成するためにムービングステージに付着されてウェ
ーハを駆動するための駆動装置における、ムービングス
テージに一側が結合された支持台と変位拡大片をヒンジ
スプリングによって締結して駆動装置の回転中心になる
回転中心部と、前記回転中心部を中心点として入力電圧
の大きさにより膨張される固体アクチュエーター、例え
ば圧電または電歪特性のアクチュエーターを包含する伸
張部と、前記伸張部の膨張変位によりその垂直方向に回
転することによって変位を垂直方向に転換させて変位を
拡大する変位拡大部と、前記変位拡大片に一側が締結さ
れて前記伸張部を支持し、前記変位拡大片の回転動作に
連繋されて駆動する駆動部を包含する上・下方向、ティ
ルト駆動器を具備したことを特徴とする。
【0021】また他の本発明の特徴と前記上・下方向、
ティルト駆動器の間に前記上・下方向、ティルト駆動器
と同一の構成をもっており、90°回転された状態に水
平回転するようにする水平回転駆動器を具備する。
ティルト駆動器の間に前記上・下方向、ティルト駆動器
と同一の構成をもっており、90°回転された状態に水
平回転するようにする水平回転駆動器を具備する。
【0022】
【実施例】以下、本発明の技術的な構成および望ましい
実施例を添附の図面を参照して詳細に記述する。
実施例を添附の図面を参照して詳細に記述する。
【0023】図2は本発明の変位拡大片に対する原理を
示したものである。
示したものである。
【0024】図3は本発明の上・下方向、ティルト駆動
器の構成状態を示した平面図および側面図である。
器の構成状態を示した平面図および側面図である。
【0025】図4は本発明の上・下方向、ティルト駆動
器の回転中心部の構成状態図である。
器の回転中心部の構成状態図である。
【0026】図5は本発明の上・下方向、ティルト駆動
器の伸張部に対する構成状態図である。
器の伸張部に対する構成状態図である。
【0027】図6は本発明の上・下方向、ティルト駆動
器の駆動部に対する状態図である。
器の駆動部に対する状態図である。
【0028】図7は本発明の水平方向駆動器に対する平
面図および側面図である。
面図および側面図である。
【0029】駆動装置の高さを低めるためにウェーハを
駆動するアクチュエーターを水平配置し、動方向を変換
させることができるようにする。
駆動するアクチュエーターを水平配置し、動方向を変換
させることができるようにする。
【0030】アクチュエーターは入力電圧の大きさによ
り収縮または膨張される固体アクチュエーターを使用す
る。
り収縮または膨張される固体アクチュエーターを使用す
る。
【0031】移動物体の駆動のために固体型アクチュエ
ーターに、直接、力を加えるときには高い精密度(0.
01μm以下)と速い応答特性(数十μsec)を得る
ことができる。
ーターに、直接、力を加えるときには高い精密度(0.
01μm以下)と速い応答特性(数十μsec)を得る
ことができる。
【0032】しかし数百μmの移動区間が必要な場合に
一般的に駆動素子の長さが数百mmに大きくなるという
短所がある。
一般的に駆動素子の長さが数百mmに大きくなるという
短所がある。
【0033】したがって、固体型アクチュエーターの長
さを短くするために変位を拡大する器具を使用すること
ができ、拡大比率は精密度と応答特性の要求規格を満足
する範囲内で決定されなければならない。
さを短くするために変位を拡大する器具を使用すること
ができ、拡大比率は精密度と応答特性の要求規格を満足
する範囲内で決定されなければならない。
【0034】図2はこのような要求により露光装備用の
精密駆動系に使用されることができる変位拡大片(9)
の原理を示しており、このときの移動区間はアクチュエ
ーター(10)自体の変位に対して拡大比率b/aの値
をもつ。
精密駆動系に使用されることができる変位拡大片(9)
の原理を示しており、このときの移動区間はアクチュエ
ーター(10)自体の変位に対して拡大比率b/aの値
をもつ。
【0035】この変位拡大片の一方には図4のように支
持台(12)と変位拡大片(9)の両方を固定して作ら
れたヒンジスプリング(11)を連結し、その連結点は
変位拡大片(9)が支持台(12)に対して回転(1
3)するときに回転中心になる。
持台(12)と変位拡大片(9)の両方を固定して作ら
れたヒンジスプリング(11)を連結し、その連結点は
変位拡大片(9)が支持台(12)に対して回転(1
3)するときに回転中心になる。
【0036】また、アクチュエーター(10)の両端は
図4のように支持台(12)と変位拡大片(9)に各々
連結され、図5に示したアクチュエーター(10)の連
結部はアクチュエーター(10)の膨張または収縮によ
って回転される方向(14)を除外した残りの二つの方
向(15),(16)に剛性が大きくないとならない。
図4のように支持台(12)と変位拡大片(9)に各々
連結され、図5に示したアクチュエーター(10)の連
結部はアクチュエーター(10)の膨張または収縮によ
って回転される方向(14)を除外した残りの二つの方
向(15),(16)に剛性が大きくないとならない。
【0037】この二つの方向(15),(16)に剛性
を強化するために半球のシリンダー(17)をアクチュ
エーター(10)の両端に付着した後に直線型のV−溝
(18)の構造に水平方向に安着させており、この構造
はアクチュエーター(10)の回転方向(14)には運
動が可能な構造であることがわかる。
を強化するために半球のシリンダー(17)をアクチュ
エーター(10)の両端に付着した後に直線型のV−溝
(18)の構造に水平方向に安着させており、この構造
はアクチュエーター(10)の回転方向(14)には運
動が可能な構造であることがわかる。
【0038】以上の設計概念は半導体用の露光装備のよ
うに数百μmの変位と0.1μm以下の精密度を要求す
る精密駆動装置に適合するので次の上・下方向、ティル
ト駆動器(A)および水平回転方向駆動器(B)にすべ
て利用される。
うに数百μmの変位と0.1μm以下の精密度を要求す
る精密駆動装置に適合するので次の上・下方向、ティル
ト駆動器(A)および水平回転方向駆動器(B)にすべ
て利用される。
【0039】図3の上・下方向、ティルト駆動器(A)
においては3個のアクチュエーター(19)を水平方向
に配置し、この水平方向の駆動を垂直方向に変換する変
位拡大片(20)に連結することによって駆動装置の高
さが低くなることがわかる。
においては3個のアクチュエーター(19)を水平方向
に配置し、この水平方向の駆動を垂直方向に変換する変
位拡大片(20)に連結することによって駆動装置の高
さが低くなることがわかる。
【0040】上・下方向、ティルト駆動器(A)の内方
に位置した各アクチュエーター(19)は一つのムービ
ングステージ(18)の支持台(12)に共通に連結さ
れ、本発明の精密駆動装置が既存の水平方向(x,y)
駆動器に付着されて使用される場合にはこの支持台(1
2)の連結捻子(21)を利用して組立てる。
に位置した各アクチュエーター(19)は一つのムービ
ングステージ(18)の支持台(12)に共通に連結さ
れ、本発明の精密駆動装置が既存の水平方向(x,y)
駆動器に付着されて使用される場合にはこの支持台(1
2)の連結捻子(21)を利用して組立てる。
【0041】図6はローラー(22)の水平位置を予圧
調節捻子(23)に圧着した後に側面の固定捻子(2
5)を利用して上・下方向、ティルト用のローラー支持
台(24)に固定する構造を示している。
調節捻子(23)に圧着した後に側面の固定捻子(2
5)を利用して上・下方向、ティルト用のローラー支持
台(24)に固定する構造を示している。
【0042】このようにすることによって変位拡大片
(20)と真空チャック(6)との間に予圧が発生し、
この圧着によってアクチュエーターの長さの方向に対す
る剛性も同時に強化される。
(20)と真空チャック(6)との間に予圧が発生し、
この圧着によってアクチュエーターの長さの方向に対す
る剛性も同時に強化される。
【0043】上・下方向、ティルト駆動用のローラー
(22)はアクチュエーターの拡大変位を真空チャック
(6)に垂直方向(26)に伝達するので、上・下方
向、ティルト駆動器(A)に対しては駆動点になると同
時に上・下方向、ティルト駆動用のローラーの回転方向
(27)に対しては案内要素として利用されてローラー
支持台(24)は円形のV−溝(28)の構造に沿って
回転運動が起こることができる。
(22)はアクチュエーターの拡大変位を真空チャック
(6)に垂直方向(26)に伝達するので、上・下方
向、ティルト駆動器(A)に対しては駆動点になると同
時に上・下方向、ティルト駆動用のローラーの回転方向
(27)に対しては案内要素として利用されてローラー
支持台(24)は円形のV−溝(28)の構造に沿って
回転運動が起こることができる。
【0044】図7は水平回転を示しているもので、アク
チュエーター(29)の駆動方向が変位拡大片(30)
によって接線方向(31)に変換される。
チュエーター(29)の駆動方向が変位拡大片(30)
によって接線方向(31)に変換される。
【0045】これにより水平回転駆動用のローラー支持
台(32)に連結された真空チャック(6)は水平回転
(7)方向に回転され、その案内要素としては上・下方
向、ティルト駆動器(A)のローラー(22)3個が利
用される。
台(32)に連結された真空チャック(6)は水平回転
(7)方向に回転され、その案内要素としては上・下方
向、ティルト駆動器(A)のローラー(22)3個が利
用される。
【0046】即ち、図6のように水平回転方向に形成さ
れた円形のV−溝(28)の構造に沿って上・下方向、
ティルト用のローラー(22)が回転され、上・下方
向、ティルトの変位が発生せずともV−溝(28)の構
造とローラー支持台(24)との間に水平回転方向の回
転が可能になる。
れた円形のV−溝(28)の構造に沿って上・下方向、
ティルト用のローラー(22)が回転され、上・下方
向、ティルトの変位が発生せずともV−溝(28)の構
造とローラー支持台(24)との間に水平回転方向の回
転が可能になる。
【0047】水平回転駆動変位を真空チャック(6)に
伝達する方法は上・下方向、ティルト駆動器の場合と類
似であり、V−溝(33)の構造の方向のみ垂直に立て
ることによって水平回転駆動器のローラー(34)を上
・下方向、ティルト駆動の案内要素に使用することがで
きる。
伝達する方法は上・下方向、ティルト駆動器の場合と類
似であり、V−溝(33)の構造の方向のみ垂直に立て
ることによって水平回転駆動器のローラー(34)を上
・下方向、ティルト駆動の案内要素に使用することがで
きる。
【0048】このとき、水平回転駆動器(B)に対する
予圧は側面にある捻子(35)で調節する。
予圧は側面にある捻子(35)で調節する。
【0049】このように本発明は水平回転駆動器(B)
が上・下方向、ティルト駆動器(A)と構造的に共有さ
れるようにしてτ(回転)、z(高さ)、ティルト
(α,β)の4自由度運動を可能にしながらも全体駆動
装置の高さが大きくならない効果をもっている。
が上・下方向、ティルト駆動器(A)と構造的に共有さ
れるようにしてτ(回転)、z(高さ)、ティルト
(α,β)の4自由度運動を可能にしながらも全体駆動
装置の高さが大きくならない効果をもっている。
【0050】即ち、本発明の精密駆動装置は既存のムー
ビングステージに付着されて半導体製造用の露光装備の
ウェーハ駆動装置に使用されうる。
ビングステージに付着されて半導体製造用の露光装備の
ウェーハ駆動装置に使用されうる。
【0051】また、光ディスク製造装置等の情報機器お
よび対象物体の精密な位置制御が必要な測定装置等にお
いても使用が可能な利点がある。
よび対象物体の精密な位置制御が必要な測定装置等にお
いても使用が可能な利点がある。
【0052】
【発明の効果】本発明は、ムービングステージに付着さ
れた駆動装置の高さの増加により発生する干渉計測定誤
差の除去および開放型構造の清浄室の維持費用の節減が
図れ、かつ、ウェーハに対する前整列精密度が維持でき
る効果がある。
れた駆動装置の高さの増加により発生する干渉計測定誤
差の除去および開放型構造の清浄室の維持費用の節減が
図れ、かつ、ウェーハに対する前整列精密度が維持でき
る効果がある。
【図1】既存ウェーハ駆動装置の一般的な構成状態図。
【図2】本発明の変位拡大に対する原理図。
【図3】本発明の上・下方向、ティルト駆動器の構成状
態を示した平面図および側面図。
態を示した平面図および側面図。
【図4】本発明の上・下方向、ティルト駆動器の回転中
心部に対する構成状態図。
心部に対する構成状態図。
【図5】本発明の上・下方向、ティルト駆動器の伸張部
に対する構成状態図。
に対する構成状態図。
【図6】本発明の上・下方向、ティルト駆動器の駆動部
に対する状態図。
に対する状態図。
【図7】本発明の水平方向駆動器に対する平面図および
側面図。
側面図。
1 アクチュエーター 2 上・下方向、ティルト駆動器 3 水平回転駆動器 4 水平方向(y)駆動器 5 水平方向(x)駆動器 6 真空チャック 7 ウェーハ 8 干渉計用鏡 9 変位拡大片 10 アクチュエーター 11 ヒンジスプリング 12 支持台 13 ヒンジスプリングの回転方向 14 駆動素子のピッチング方向 15 駆動素子のローリング方向 16 駆動素子のヨーイング方向 17 半球シリンダー 18 V−溝 19 アクチュエーター 20 変位拡大片 21 連結捻子 22 ローラー 23 予圧調節捻子 24 ローラー支持台 25 固定捻子 26 ローラーの垂直方向 27 上・下方向 28 V−溝 29 アクチュエーター 30 変位拡大片 31 駆動方向 32 ローラー支持台 33 V−溝 34 ローラー 35 予圧調節捻子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/22 9122−2H H01L 21/68 K 8418−4M 41/09 // B23Q 5/22 B 8107−3C 9274−4M H01L 41/08 C
Claims (5)
- 【請求項1】 ムービングステージに付着されてウェー
ハを駆動するための駆動装置において、 前記ムービングステージに一側が結合された支持台と変
位拡大片をヒンジスプリングで締結して駆動装置の回転
中心になる回転中心部と、 前記回転中心部を中心点として入力電圧の大きさにより
膨張される圧電または電歪特性を有する伸張部と、 前記伸張部の膨張によりその垂直方向に回転することに
よって変位を垂直方向に転換させて変位を拡大する変位
拡大部と、 前記変位拡大部に一側が締結されて前記伸張部を支持
し、 前記変位拡大部の回転動作に連繋されて駆動する駆動部
を包含する上・下方向、ティルト駆動器を具備すること
と、 前記上・下方向、ティルト駆動器の間に前記上・下方
向、ティルト駆動器と同一の構成をもっており、90°
回転された状態に水平回転するようにする水平回転駆動
器を具備することによって上・下方向、ティルト駆動器
と駆動点、案内要素が共有される特徴をもっている固体
型アクチュエーターを利用した精密駆動装置。 - 【請求項2】 前記回転中心部は一側が連結捻子(2
1)によってムービングステージ(21a)に締結さ
れ、他側にV溝(18)構造を有する支持体(12)と
これに接する変位拡大片(9)をヒンジスプリング(1
1)と固定捻子(11a)を締結して回転中心になるよ
うにすることを特徴とする請求項1に記載の固体型アク
チュエーターを利用した精密駆動装置。 - 【請求項3】 前記伸張部は前記回転中心部を中心点と
して入力電圧により収縮または膨張される圧電、電歪特
性をもっており、両側に半球のシリンダー(17)を具
備したアクチュエーター(19)を包含することを特徴
とする請求項1に記載の固体型アクチュエーターを利用
した精密駆動装置。 - 【請求項4】 前記変位拡大部は前記伸張部の上側に位
置してこれの動作に連繋されて回転することによって変
位をその垂直方向に転換させて変位を拡大する変位拡大
片(20)をもつことを特徴とする請求項1に記載の固
体型アクチュエーターを利用した精密駆動装置。 - 【請求項5】 前記駆動部は変位拡大片(20)の一側
が固定捻子(36a)によって締結され、他側にV溝
(28)の構造を有する中間支持台(36)と、フ字形
態に上側が真空チャック(6)に締結され、前記中間支
持台(36)のV溝(28)にかみ合う回転軸(22
a)を中心として上・下部が一部切開されたローラー
(22)と、このローラー(22)を予圧調節捻子(2
3)に圧着するローラー支持台(24)を包含すること
を特徴とする請求項1に記載の固体型アクチュエーター
を利用した精密駆動装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR90-21805 | 1990-12-26 | ||
KR1019900021805A KR940002734B1 (ko) | 1990-12-26 | 1990-12-26 | 고체형 엑취에이터(Actuator)를 이용한 웨이퍼의 정밀구동장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0620908A true JPH0620908A (ja) | 1994-01-28 |
JP2539124B2 JP2539124B2 (ja) | 1996-10-02 |
Family
ID=19308466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34484891A Expired - Lifetime JP2539124B2 (ja) | 1990-12-26 | 1991-12-26 | 固体型アクチュエ―タ―を利用したウェ―ハの精密駆動装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2539124B2 (ja) |
KR (1) | KR940002734B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140072656A (ko) * | 2012-12-05 | 2014-06-13 | 한미반도체 주식회사 | 도킹블럭유닛 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103522294B (zh) * | 2012-07-05 | 2015-12-09 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 一种设有限位器的前线机械手的末端执行器 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4926477A (ja) * | 1972-07-07 | 1974-03-08 | ||
JPS4970072A (ja) * | 1972-11-07 | 1974-07-06 | ||
JPH0252286A (ja) * | 1988-08-17 | 1990-02-21 | Canon Inc | 微動ステージ装置 |
-
1990
- 1990-12-26 KR KR1019900021805A patent/KR940002734B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1991
- 1991-12-26 JP JP34484891A patent/JP2539124B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4926477A (ja) * | 1972-07-07 | 1974-03-08 | ||
JPS4970072A (ja) * | 1972-11-07 | 1974-07-06 | ||
JPH0252286A (ja) * | 1988-08-17 | 1990-02-21 | Canon Inc | 微動ステージ装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140072656A (ko) * | 2012-12-05 | 2014-06-13 | 한미반도체 주식회사 | 도킹블럭유닛 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR920013658A (ko) | 1992-07-29 |
KR940002734B1 (ko) | 1994-03-31 |
JP2539124B2 (ja) | 1996-10-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3291310B2 (ja) | 支持装置 | |
US7218032B2 (en) | Micro position-control system | |
CN102203929B (zh) | 可进行x-y调整的光学装配件 | |
US8085482B2 (en) | X-Y adjustable optical mount with Z rotation | |
EP1751602B1 (en) | Microscope system comprising arrangement for positioning of a platform | |
US7573022B2 (en) | Method for fabricating vertically-offset interdigitated comb actuator device | |
JP2007528125A (ja) | 少なくとも一つの光学部品で構成される機器 | |
JP3938655B2 (ja) | アライメント装置 | |
WO2005085125A1 (ja) | マイクロアクチュエータ、およびマイクロアクチュエータを備えた装置 | |
JPH0620908A (ja) | 固体型アクチュエーターを利用したウェーハの精密駆動装置 | |
JPS63244205A (ja) | 位置決め装置 | |
JP2773777B2 (ja) | アクチュエータユニットおよびそれを用いたレベル調整のできるステージ装置 | |
US7894140B2 (en) | Compensation techniques for fluid and magnetic bearings | |
US5438419A (en) | Precision wafer driving device by utilizing solid type actuator | |
JP2803440B2 (ja) | Xy微動ステージ | |
JPH11251409A (ja) | 位置決め装置、及び露光装置 | |
JP2000009867A (ja) | ステージ移動装置 | |
US6735005B2 (en) | Cartesian scanning system | |
JP2761300B2 (ja) | 光ディスク装置のトラッキングアクチュエータ | |
JP7550828B2 (ja) | 変形装置、露光装置、および物品の製造方法 | |
JP4106477B2 (ja) | ステージ装置 | |
JPH0449675B2 (ja) | ||
JP2002228415A (ja) | 配列精度測定装置 | |
JPS615317A (ja) | 自動焦点合わせ装置 | |
JPH0327890A (ja) | レーザ加工装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960521 |