JPH0620271A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁気記録媒体のエクストルージョン型塗布に
おいて、耳部の削れによる故障を解消し、かつ熱処理工
程での故障も支持体同士の接着を起こさない塗布方法。 【構成】 連続的に走行する可撓性支持体の幅方向の縁
部を残して該可撓性支持体の表面に塗布ヘッドのスロッ
ト先端に押し付けながら塗布液を塗布して磁性層２０を
形成するときに、該磁性層の形成まえに下塗層を設ける
ようにする磁気記録媒体の製造方法である。可撓性支持
体１の少なくとも前記縁部に対応する部分に予め磁性塗
布層２の幅よりも広くなるようにガラス転移点が熱処理
温度よりも高い高分子溶液による下塗層１３を形成する
磁気記録媒体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、プラスチックフイル
ム、紙、金属などを形成してなる可撓性支持体に、磁性
液、表面保護液などの塗布液を塗布する新規な磁気記録
媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、磁気記録媒体の製造方法にお
いて可撓性支持体（以下、ウエブという）に塗布液を塗
布する塗布方法として、ロール塗布方法、ビード塗布方
法、カーテン塗布方法およびエクストルージョン塗布方
法などが知られている。これら何れの塗布方法において
も、塗布液が塗布される塗布部分の幅は前記ウエブの有
限幅より狭く塗布され、通常、前記ウエブの幅方向の両
側の縁部に数ｍｍ乃至十数ｍｍの非塗布部を残してい
る。

【０００３】このため、例えば特開昭５７−８４７７１
号公報、同５８−１０４６６６号公報、同５８−１０９
１６２号公報、同５８−１８０６９号公報、同５８−１
８０７０号公報、同６０−７８６６４号公報、特願昭５
９−９４６５７号公報、同６１−２３０１７３号公報お
よび特公昭４９−１４５９号公報などに開示されている
エクストルージョン型塗布装置にみられるように、塗布
ヘッドが連続的に走行している前記ウエブに押し付けら
れながら塗布液を塗布する場合、テンションが掛かった
前記ウエブはその幅方向の縁部がヘッド側に反り返るよ
うに折れ曲がり、塗布ヘッドと接触していた。

【０００４】前記塗布ヘッドとの接触の結果、前記ウエ
ブは削り取られて粉末状の削れカスを発生し、主に、飛
散する削れカスが再生信号を欠落させる原因となり、
又、塗布ヘッドの接触部分などに堆積した削れカスが、
前記ウエブと塗布ヘッドとの距離を変化させることによ
り、前記縁部での塗布液の膜厚を不均一にしたり、塗布
できなくなる場合があった。なお、前記塗布ヘッドと同
様の作用は、例えば特開昭５１−１４０７０３号公報、
同５２−８４２４２号公報、同５４−８６４６号公報、
特公昭４８−１１３３６号公報、同６０−５３６７４号
公報などに開示されているドクターバーやスムーザーで
も生じることが知られている。

【０００５】そこで、既述の問題点を解消するため、例
えば特開昭６１−２５７２６８号公報、特開平１−１０
２７３６号公報に開示されるように、前記ウエブの塗布
液を塗布する前に、該ウエブの縁部に存在する塗布液の
非塗布部分に予め溶剤を塗り付けて潤滑することで、前
記塗布ヘッドとの間を液体潤滑する方法が提案されてい
る。また、一方では、例えば特開昭６１−２５７２６３
号公報などに開示されるように、前記縁部と対応する塗
布ヘッド等の部分を、前記ウエブからの距離を離すべく
切り欠いた方法が提案されていた。

【０００６】そして更に、少なくとも耳部にポリマー、
モノマー、ＵＶ樹脂やその他適当な潤滑性を有するもの
を塗布してエクストルージョン塗布方法における耳削れ
に対する解決法として、例えば特開平３−１１６５２４
号公報にみられる方法が提案された。即ち「ウエブの幅
方向の少なくとも耳部に」、フッ素系潤滑剤あるいはポ
リマー、モノマー、ＵＶ樹脂等を塗布し乾燥することに
よって、磁性液の塗布時におけるエクストルーダ刃先と
ウエブの接触力を減少させ、削れを防止することを狙っ
たものである。この方法により極めて効果的に削れの問
題を解消することができた。

【０００７】しかし乍ら、この方法によると、耳部に塗
布されたポリマー等は、乾燥後には支持体表面に露出し
たまま残ることになる。このことが後工程において新た
に問題を発生してきた。磁気記録媒体は、塗布後にカレ
ンダー処理され、その後に塗膜の硬化とウエブの熱応力
除去のため、ロール状態のまま熱処理が施される。ここ
で前述の耳部に塗布され、ウエブ上において磁性層に縁
部外側に露出したポリマー等の被膜が軟化したり更に溶
けだし、ウエブ背面に接着してしまう。これによって、
ウエブ耳部近傍の塗布面が剥離する現象があった。この
剥離が大きくなってくるとドロップアウト増加のを引き
起こすことが判ったきた。また、特に近年においては磁
気記録媒体の薄層化に伴い、ウエブも薄くなっており、
ポリマー等が溶け出してウエブ背面に接着してしまうこ
とで、ウエブの切断故障も発生することが判明した。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、敍上の欠点
を解消せんとするもので、その目的とするところは、磁
気記録媒体のエクストルージョン型塗布において、耳部
の削れによる故障を解消し、かつ後工程での熱処理によ
っても接着等の故障も起こさない塗布方法を提供するこ
とにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、連
続的に走行する可撓性支持体の幅方向の縁部を残して該
可撓性支持体の表面に塗布ヘッドのスロット先端に押し
付けながら塗布液を塗布して磁性層を形成するときに、
該磁性層の形成まえに下塗層を設けるようにする磁気記
録媒体の製造方法において、前記可撓性支持体の少なく
とも前記縁部に対応する部分に予め磁性塗布層の幅より
も広くなるようにガラス転移点（Ｔｇ）が熱処理温度よ
りも高い高分子溶液を塗布し、これを乾燥して前記下塗
層の少なくとも一部を形成することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法によって達成することができる。

【００１０】

【実施態様】本発明方法による塗布装置の実施態様を図
を用いて説明する。図２は本発明の製造方法を適用した
磁気記録媒体の製造設備の概略構成図である。先ず図２
に示すように、連続走行されるウエブ１は送出しローラ
２から供給され、適宜設置されたテンションロール３を
介して適当なテンションに保たれた状態で下塗層用の塗
布部４へ送られ、下塗層５が前記ウエブ１の幅方向の両
縁部９（図３参照）を残して塗布され、この下塗層５の
幅は磁性層２０の幅よりも狭くし、後述する端部処理ゾ
ーン６にて前記縁部９にガラス転移点（Ｔｇ）が後工程
の熱処理（合成樹脂の硬化処理）の温度よりも高い高分
子溶液を塗布して保護下塗層１３を形成するが、該両保
護下塗層１３と前記下塗層５とを足した幅は磁性層の幅
よりも当然大きく構成されている。前記下塗層５を形成
する塗布液は例えがポリエステル樹脂またはポリウレタ
ン樹脂の有機溶剤溶液でよく、特に限定するものではな
い。また、前記保護下塗層１３を形成する高分子溶液と
しては、ポリエステル樹脂の溶液を用いることができ
る。このポリエステル樹脂はアルコール成分と二塩基酸
とから合成される。アルコール成分としては、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コールおよびテトラエチレングリコール等から選ばれ
る。二塩基酸としてはオルソテレフタル酸、イソフタル
酸およびテレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸と極性基
含有フタル酸の混合したものを用いることによって極性
基を含有させることができる。

【００１１】極性基としては、−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃
Ｍ、−ＣＯＯＭ、−ＯＰＯ₃ Ｍ₂ （ここでＭは水素原
子、アルカリ金属原子あるいはアンモニウム塩を示す。
Ｍが２つある時は互いに同じでも異なってもよい。）か
ら選ばれる少なくとも一種の極性基である。また本発明
に用いられる高分子溶液としては、その他に例えばポリ
ウレタン樹脂の溶液があり、このポリウレタン樹脂はポ
リイソシアネート化合物とポリオール成分との反応によ
り合成される。ポリオール成分として、ポリオールと多
塩基酸との反応により得られるポリエステルポリオール
が使用される。多塩基酸の一部もしくはポリオールの一
部として、極性基を有する多塩基酸もしくは極性基を有
するポリオールを使用して、ポリエステルポリオールに
極性基を導入し、このポリエステルポリオールとポリイ
ソシアネート化合物とを反応させることによりポリウレ
タン樹脂を得ることができる。

【００１２】極性基を有する多塩基酸および極性基を有
するポリオールの例としては、５−スルホイソフタル
酸、２−スルホイソフタル酸、４−スルホフタル酸、３
−スルホフタル酸、５−スルホイソフタル酸ジアルキ
ル、２−スルホフタル酸ジアルキル、４−スルホフタル
酸アルキル、３−スルホフタル酸アルキル、およびこれ
らのナトリウム塩あるいはカリウム塩並びにジメチロー
ルプロピオン酸およびこのナトリウム塩あるいはカリウ
ム塩を挙げることができる。ポリエステル樹脂、ポリウ
レタン樹脂いずれも好ましい極性基の量としては、０．
１meq/g 以上３meq/g 以下である。好ましい分子量は重
量平均分子量で１万〜１０万で更に好ましくは３〜６万
である。極性基量や分子量が高すぎると溶媒への溶解性
が劣化して好ましくない。またアルコール成分と二塩基
酸成分の比率によってガラス転移温度（Ｔｇ）をコント
ロールすることができ、ガラス転移温度（Ｔｇ）は４０
℃〜８０℃の範囲に調節することができる。

【００１３】前記下塗層５が塗布された後、前記ウエブ
１は、端部処理ゾーン６へ送られ、該端部処理ゾーン６
において、前記保護下塗層１３を形成する。前記保護下
塗層１３が形成された後に、更に下塗層乾燥ゾーン７へ
送られて前記下塗層５及び前記保護下塗層１３を乾燥さ
せた後、適当なテンションロール８等の搬送系を経て磁
性分散液を塗布する塗布工程へ送出される。

【００１４】図３は、前記端部処理ゾーン６を構成する
塗布装置１０の斜視図を示す。前記塗布装置１０は、磁
性分散液が塗布される側で前記ウエブ１の両側の縁部９
（磁性分散液がされない部分にほぼ相当した部分）に夫
々対応して配置された塗布液パン１２内に２本構造のリ
バースロール１１を備えた構成である。このような構成
によって、前記リバースロール１１が回転することによ
り、前記塗布液パン１２内にあるいは溜められたガラス
転移点（Ｔｇ）が熱処理温度よりも高い高分子溶液を前
記ウエブ１の縁部９に塗布することができる。なお、塗
布した前記高分子溶液を塗布するときは、該溶液がウエ
ブ裏面側に回り込まないようにするために、その塗布部
の最外端を前記ウエブ１の側縁よりも僅かに内側となる
ようにすることが望ましい。

【００１５】なお、ＶＴＲ用の磁気記録媒体に適用され
る前記ウエブ１として一般的なポリエチレンテレフタレ
ートフイルム（ＰＥＴベース）であるが、前記ウエブ１
においては、該磁気記録媒体が磁気記録再生装置にかけ
られて走行する際、記録再生装置のガイドポールなどの
接触部における接触抵抗を激減し、テープ走行の安定化
を計るようにウエブ裏面にごく僅かな凹凸を付けるため
にフィラーが添加されていることに起因して、塗布ヘッ
ドなどに付着した削れカスは、このフィラー（ＣａＣＯ
₃ 、ＴｉＯ₂ ）を主成分としている。

【００１６】上述のように前記高分子溶液がガラス転移
点（Ｔｇ）が熱処理温度よりも高いのものから構成され
ていると、前記磁性分散液の塗布後において塗膜の硬化
とウエブの熱応力除去のためにロール状に巻いた状態で
の熱処理（例えば、６５℃で２４時間、６０°C で２４
時間、５５℃で４８時間）が施されても、磁性層の縁部
外側に露出した前記保護層は溶けることがなく、ウエブ
同士の接着現象を回避することができる。また、本実施
態様により、前記ウエブ１の縁部９に前記保護下塗層１
３が形成されていると、該下塗層１３は摺動性が良く耐
久性にも優れているので、例えば磁性分散液を塗布する
エクストルージョン型の塗布ヘッドと前記縁部との接触
が避けられ、また、スムーザーと前記縁部９との不要な
接触が避けられ、該縁部９における削れカスの発生が効
果的に防止され、フィラーの脱落も回避されドロップア
ウトを低減することができる。また、前記保護下塗層１
３は潤滑性が高いので前記縁部９の摩擦抵抗が従来より
も小さくなり、ウエブ走行性の向上をも図ることができ
る。なお、前記保護下塗層１３は前記塗布部４において
前記ウエブ１のほぼ全幅に施しても良いし、本実施態様
のように後工程で塗布される塗布液の非塗布部を残して
塗布してもよい。さらに、前記下塗層５を省き前記下塗
層１３によって全ての機能を代替えしてもよい。本実施
態様における前記端部処理ゾーン６は、図２に示すよう
に前記下塗層用の塗布部４の後に位置させる必要はな
く、他の下塗層用の塗布部４の前であっても何ら差支え
なく、さらに前述のごとく前記塗布部４において所望の
幅に前記高分子溶液を塗布すれば、前記端部処理ゾーン
６は不必要となる。また、この下塗層の形成は、図２に
示すように磁性分散液の工程と連続でなくてもよく、該
磁性分散液の塗布工程以前の単独のウエブ製造工程にお
いて形成するようにしてもよい。本発明の製造方法を実
施する為の塗布装置としては、図２および図３に示す装
置に何ら限定されるものではなく、従来知られている種
々の塗布装置を使用することができることは勿論であ
る。

【００１７】

【発明の効果】敍上のように、本発明の方法によれば、
例えば磁性分散液がウエブに塗布される前に、該分散液
が塗布されない前記ウエブの端部に磁性分散液の塗布時
には既に乾燥した高分子溶液の保護層を形成するので、
磁性分散液を塗布する例えばエクストルージョン型の塗
布ヘッドと前記端部との接触が避けられ、磁性分散液の
滲み出しもなく、また、スムーザーと前記端部との不要
の接触が避けられ、前記端部における削れカスの発生が
効果的に防止されるだけでなく、この効果に加えて、前
記高分子溶液がガラス転移点（Ｔｇ）が熱処理温度より
も高いのものから構成されているので、前記磁性分散液
の塗布後において塗膜の硬化とウエブの熱応力除去のた
めにロール状に巻いた状態での熱処理が施されても、磁
性層の縁部外側に露出した前記保護層は溶けることがな
く、ウエブ同士の接着現象を回避することができる。

【００１８】

【実施例】以下、本発明の磁気記録媒体の製造方法にお
ける効果を実施例によりさらに明確にすることができ
る。次に、本実施例においては、組成の各成分をボール
ミルに入れて充分混合分散させた後、エポキシ樹脂（エ
ポキシ当量５００）を３０重量部加えて均一に混合した
ものを磁性分散液とした。以下、組成について述べる。

【００１９】

【表１】

【００２０】更に、本発明方法に用いられる塗布装置お
よび塗布条件を以下に示す。 ウエブ材質 ： ポリエチレンテレフタレート 厚さ ： ９μｍ 塗布速度 ： ６００ｍ／分 テンション ： ２０Ｋｇ／ｍ 塗布厚み ： 乾燥膜厚３．０μｍ（塗布量１５
ｃｃ／ｍ² 相当） エクストルーダ（エクストルージョン型塗布ヘッド）：
下記※に諸元を示す ※ 塗布幅 ： ５００ｍｍ スリット間隙 ： ０．３ｍｍ スリット長さ ： 給液側 ８０ｍｍ 反給液側 ７７ｍｍ 液溜り内径 ： １５ｍｍ

【００２１】上記の磁性分散液の塗布に先立って、下塗
液を図１に塗布部４の所にてウエブの略全幅にわたって
塗布し乾燥させた。下塗液の特性を表２に示す

【００２２】

【表２】

【００２３】なお、Ｔｇの測定には、オリエンテック
（株式会社）製のレオバイブロンを用いて測定する。分
子量や官能基を変えることによってＴｇを変える。な
お、この測定器は、周波数１１０Ｈｚとし損失弾性率の
温度依存性を測定して、最大の温度をＴｇとしている。
塗布の結果の評価には、下塗層の厚みを変更し、上述の
条件にて１０分間（６０００ｍ）塗布し、目視観察にて
評価した。また、塗布後の熱処理条件としては恒温室に
て６５℃で２４時間処理し、耳接着を評価を行った（表
３）。また、後工程の出荷待ちを想定した常温（２５
℃）で４８時間での接着評価（表４）を行なった。さら
に、恒温室にて６０℃で２４時間処理し、耳接着評価を
行い（表５）、また、恒温室にて５５℃で４８時間処理
し、耳接着評価を行った（表６）。なお、露出した下塗
層の幅は、３ｍｍである。この結果を表３、表４、表５
及び表６に示す。

【００２４】

【表３】

【００２５】

【表４】

【００２６】

【表５】

【００２７】

【表６】

【００２８】表３、表４、表５及び表６によれば、Ｔｇ
を熱処理温度以上に規定することで、後工程における剥
がれ故障を熱処理時のみならず常温時においても同時に
解決することが可能となることが判る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の製造方法ににより製造
した磁気記録媒体の横断面図である。

【図２】本発明の磁気記録媒体の製造方法を適用した製
造設備の概略構成図である。

【図３】本発明の製造方法における高分子溶液の塗布工
程を示すための要部斜視図である。

【符号の説明】

１ ウエブ ２ 送出しローラ ３ テンションロール ４ 下塗層用の塗布部 ５ 下塗層 ６ 端部処理ゾーン ７ 下塗層乾燥ゾーン ８ テンションロール ９ 縁部 １０ 塗布装置 １１ リバースロール １２ 塗布液パン １３ 保護下塗層 ２０ 磁性層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 連続的に走行する可撓性支持体の幅方向
   の縁部を残して該可撓性支持体の表面に塗布ヘッドのス
   ロット先端に押し付けながら塗布液を塗布して磁性層を
   形成するときに、該磁性層の形成まえに下塗層を設ける
   ようにする磁気記録媒体の製造方法において、前記可撓
   性支持体の少なくとも前記縁部に対応する部分に予め磁
   性塗布層の幅よりも広くなるようにガラス転移点（Ｔ
   ｇ）が熱処理温度よりも高い高分子溶液を塗布し、これ
   を乾燥して前記下塗層の少なくとも一部を形成すること
   を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。