JPH06199761A - ナフトール誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】一般式 【化１】 〔式中、Ｒ¹ およびＲ² は同一または相異なり、水素原
子、Ｃ1-Ｃ6 アルキル基等を表し、Ｒ³ およびＲ⁴ は同
一または相異なり、Ｃ1-Ｃ6 アルキル基、Ｃ1-Ｃ6 アル
コキシ基またはハロゲン原子を表し、ＸはＣＨまたはＮ
を表し、ＺはＣＨまたはＮを表し、Ｗは酸素原子または
硫黄原子を表し、Ｙ¹ 、Ｙ² 、Ｙ³ は水素原子、ハロゲ
ン原子等を表す。〕で示されるナフトール誘導体および
それを有効成分とする除草剤。 【効果】本発明化合物は、畑地の土壌処理および茎葉処
理、さらに水田の灌水処理において問題となる種々の雑
草に対して優れた除草効力示す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の目的】本発明は、新規ナフトール誘導体および
それを有効成分とする除草剤に関する。

【０００２】

【発明の構成】本発明者等は、一般式 化３で示される
ナフトール誘導体が優れた除草剤であることを見い出
し、本発明に至った。すなわち、本発明は、一般式 化
３

【０００３】

【化３】 〔式中、Ｒ¹ およびＲ² は同一または相異なり、水素原
子、Ｃ1-Ｃ6 アルキル基、Ｃ3-Ｃ6 シクロアルキル基、
Ｃ3-Ｃ6 アルケニル基、Ｃ3-Ｃ6 アルキニル基、ハロＣ
1-Ｃ6 アルキル基、Ｃ1-Ｃ6 アルコキシＣ1-Ｃ6 アルキ
ル基、フェニル基またはベンジル基を表すか、またはＲ
¹ およびＲ² は末端で結合してＣ4-Ｃ6 アルキレン基を
表わすか、またはＲ¹ およびＲ² は末端で結合して酸素
原子を含有するＣ4-Ｃ6 アルキレン基を表わす。( ここ
で、フェニル基およびベンジル基は、Ｃ1-Ｃ6 アルキル
基、ハロゲン原子、Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ基、ハロＣ1-Ｃ
6 アルキル基、ニトロ基、シアノ基またはＣ1-Ｃ6 アル
コキシカルボニル基で置換されていてもよい。) Ｒ³ お
よびＲ⁴ は同一または相異なり、Ｃ1-Ｃ6 アルキル基、
Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、Ｘは
ＣＨまたはＮを表し、ＺはＣＨまたはＮを表し、Ｗは酸
素原子または硫黄原子を表わす。Ｙ¹ 、Ｙ² およびＹ ³
は同一または相異なり、水素原子、Ｃ1-Ｃ6 アルキル
基、ハロゲン原子またはＣ1-Ｃ6 アルコキシ基を表わ
す。〕で示されるナフトール誘導体（以下、本発明化合
物と記す。）およびそれを有効成分とする除草剤を提供
する。

【０００４】一般式 化３において、好ましくは、Ｒ³
およびＲ⁴ は同一または相異なり、Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ
基を表わし、さらに好ましくは、Ｒ³ およびＲ⁴ が共に
メトキシ基を表わす。Ｗは酸素原子が好ましい。一般式
化３において、Ｃ1-Ｃ6 アルキル基としては、例え
ば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ
−ブチル、 sec−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ヘキシル
基等があげられる。Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ基としては、例
えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロ
ポキシ、ｎ−ブトキシ、ヘキシルオキシ基等があげられ
る。Ｃ3-Ｃ6 シクロアルキル基としては、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基
等が挙げられる。ハロゲン原子、またはハロＣ1-Ｃ6 ア
ルキルのハロゲン部分としては、フッ素、臭素、塩素原
子等が挙げられる。ハロＣ1-Ｃ6 アルキル基としては、
２−クロロエチル、２−ブロモエチル、３−フルオロプ
ロピル、２−クロロプロピル、４−クロロブチル、６−
クロロヘキシル基等が挙げられる。Ｃ3-Ｃ6 アルケニル
基としては、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、
3-ブテニル基、2-ペンテニル基、3-ペンテニル基、2-ヘ
キセニル基等が挙げられる。Ｃ3-Ｃ6 アルキニル基とし
ては、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、
2-ペンチニル基、3-ペンチニル基、2-ヘキシニル基等が
挙げられる。Ｃ1-Ｃ6 アルコキシＣ1-Ｃ6 アルキル基と
しては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、2-メト
キシエチル基、3-エトキシプロピル基、4-n-プロポキシ
ブチル基、4-n-ブトキシエチル基、6-ヘキシルオキシヘ
キシル基等が挙げられる。Ｃ1-Ｃ6 アルキル基、ハロゲ
ン原子、Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ基、ハロＣ1-Ｃ6 アルキル
基、ニトロ基、シアノ基またはＣ1-Ｃ6 アルコキシカル
ボニル基で置換されていてもよいフェニル基としては、
フェニル、２−メチルフェニル、３−エチルフェニル、
４−ヘキシルフェニル、２．６−ジメチルフェニル、2-
フルオロフェニル、２−クロロフェニル、３−ブロモフ
ェニル、２．４−ジクロロフェニル、２−クロロ−４−
メチルフェニル、３−メトキシフェニル、３−エトキシ
フェニル、４−ｉ−プロポキシフェニル、３−ヘキシル
オキシフェニル、３−メトキシカルボニルフェニル、３
−エトシカルボニルフェニル、４−ｉ−プロポキシカル
ボニルフェニル、 ３−ヘキシルオキシカルボニルフェ
ニル、３−ニトロフェニル、４−シアノフェニル、２−
クロロメチルフェニル、２−ブロモエチルフェニル、３
−フルオロプロピルフェニル、６−クロロヘキシルフェ
ニル、２−トリフルオロヘキシルフェニル、２−ジクロ
ロメチルフェニル基等が挙げられる。Ｃ1-Ｃ6 アルキル
基、ハロゲン原子、Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ基、ハロＣ1-Ｃ
6 アルキル基、ニトロ基、シアノ基またはＣ1-Ｃ6 アル
コキシカルボニル基で置換されていてもよいベンジル基
としては、ベンジル、２−メチルベンジル、３−エチル
ベンジル、４−ヘキシルベンジル、２．６−ジメチルベ
ンジル、2-フルオロベンジル、２−クロロベンジル、３
−ブロモベンジル、２．４−ジクロロベンジル、２−ク
ロロ−４−メチルベンジル、３−メトキシベンジル、３
−エトキシベンジル、４−ｉ−プロポキシベンジル、３
−ヘキシルオキシベンジル、３−メトキシカルボニルベ
ンジル、３−エトシカルボニルベンジル、４−ｉ−プロ
ポキシカルボニルベンジル、３−ヘキシルオキシカルボ
ニルベンジル、３−ニトロベンジル、４−シアノベンジ
ル、２−クロロメチルベンジル、２−ブロモエチルベン
ジル、３−フルオロプロピルベンジル、６−クロロフェ
キシルベンジル、２−トリフルオロヘキシルベンジル、
２−ジクロロメチルベンジル基等が挙げられる。Ｃ4-Ｃ
6 アルキレン基としては、テトラメチレン、ペンタメチ
レン、ヘキサメチレン等が挙げられる。酸素原子を含有
するＣ4-Ｃ6 アルキレンとしては−CH₂ CH₂ ＯCH₂ CH₂
−、−CH₂ CH₂ CH₂ ＯCH₂ CH₂ −、−CH₂ CH₂ CH₂ CH₂
ＯCH₂ CH₂ −基等が挙げられる。次にその製造法につい
て詳しく説明する。

【０００５】本発明化合物は、一般式 化４

【化４】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｚ、Ｗ、Ｙ¹ 、Ｙ² およびＹ ³は
前記と同じ意味を表わす。〕で示されるナフトール誘導
体と、一般式 化５

【０００６】

【化５】 〔式中、Ｒ³ およびＲ⁴ は前記と同じ意味を表わし、Ｗ
¹ はハロゲン原子、Ｃ1-Ｃ6 アルキルスルホニル基また
はベンジルスルホニル基を表わす。〕で示される化合物
とを反応させる（反応（Ａ））ことによって製造するこ
とができる。この反応は、通常、溶媒中、塩基の存在下
で行う。一般に、反応温度の範囲は室温〜溶媒の沸点で
あり、反応時間の範囲は通常、１〜２４時間であり、反
応に供される試剤の量は、化４で示されるナフトール誘
導体１当量に対して化５で示される化合物は１〜３当
量、塩基は１〜５当量である。溶媒を用いる場合、用い
うる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、
石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジ
エチル等のエステル類、ニトロエタン、ニトロベンゼン
等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリ
ル等のニトリル類、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジエチルアニリン、トリブチルアミン、Ｎ−メチル
モルホリン等の第三級アミン、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、アセトアミド等の酸アミド、ジ
メチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、水等
あるいは、それらの混合物があげられる。塩基を用いる
場合、用いうる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、水素化ナトリウム等の無機塩基等があげられ
る。反応終了後の反応液は、水を加え、有機溶媒抽出お
よび濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならば、クロマ
トグラフィー、蒸留、再結晶等の操作によって精製する
ことにより、目的の本発明化合物を得ることができる。

【０００７】また、本発明化合物は、一般式 化６

【化６】 〔式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｘ、Ｚ、Ｗ、Ｙ¹ 、Ｙ² およびＹ
³は前記と同じ意味を表わす。〕で示されるナフトール
誘導体と、酸ハロゲン化剤または活性エステル化剤とを
反応させ（反応（ｉ））た後、引き続き、該反応生成物
と一般式 化７

【化７】 〔式中、Ｒ¹ ，Ｒ² は前記と同じ意味を表わす。〕で示
されるヒドロキシルアミン誘導体とを反応させる（反応
（ii））ことによっても製造することができる。

【０００８】上記反応（ｉ）において、酸ハロゲン化剤
としては、塩化チオニル、臭化チオニル、三塩化リン、
三臭化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、ホスゲン、
シュウ酸ジクロリド等が挙げられる。また活性エステル
化剤としては、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド、１−
エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジ
イミド塩酸塩などのＮ，Ｎ’−ジ置換カルボジイミド、
塩化２、４、６、−トリメチルベンゼンスルニル、塩化
２、４、６、−トリイソプロピルベンゼンスルホニル等
の塩化アリールスルホニル、Ｎ，Ｎ’−カルボニルジイ
ミダゾール、ジフェニルホスホリルアジド、Ｎ−エトキ
シカルボニル−２−エトキシ−１，２−ジヒドロキノリ
ン、Ｎ−エチル−２’−ヒドロキシベンズイソキサソリ
ウムテトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−エチル−５−フェニ
ルイソキサソリウム−３’スルホン酸塩などが挙げられ
る。 かかる反応により、反応系中において、一般式
化８

【化８】 〔式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｘ、Ｚ、Ｗ、Ｙ¹ 、Ｙ² およびＹ
³は前記と同じ意味を表わす。〕で示されるナフトール
誘導体が生成する。

【０００９】上記反応において置換基Ｗ² は、酸ハロゲ
ン化剤を用いた場合にはハロゲン原子を表し、また活性
エステル化剤として、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ置換カルボ
ジイミドを用いた場合には、Ｎ，Ｎ’−ジ置換−２−イ
ソウレイド基を表し、塩化アリールスルホニルを用いた
場合には、アリールスルホニルオキシ基を表し、Ｎ，
Ｎ’−カルボニルジイミダゾールを用いた場合には、イ
ミダゾリル基を表し、ジフェニルホスホリルアジドを用
いた場合には、アジド基を表し、Ｎ−エトキシカルボニ
ル−２−エトキシ−１，２−ジヒドロキノリンを用いた
場合には、エトキシカルボニルオキシ基を表し、Ｎ−エ
チル−２’−ヒドロキシベンズイソキサゾリウムテトラ
フルオロホウ酸塩を用いた場合には、３−（Ｎ−エチル
アミノカルボニル）−２−ヒドロキシフェノキシ基を表
し、Ｎ−エチル−５−フェニルイソキサゾリウム−３’
−スルホン酸塩を用いた場合には、化９

【化９】 で示される基を表わす。

【００１０】また、反応系中においてＷ² は、化１０

【化１０】 〔式中、Ｘ、Ｚ、Ｗ、Ｙ¹ 、Ｙ² およびＹ ³、Ｒ³ およ
びＲ⁴ は前記と同じ意味を表わす。〕で示される酸無水
物の形をも取り得る。上記酸ハロゲン化剤または活性エ
ステル化剤の使用量は、通常、一般式 化６で示される
ナフトール誘導体１当量に対し、１〜１０当量である。
また、一般式 化７で示されるヒドロキシルアミン誘導
体の使用量は、通常、一般式 化６で示されるナフトー
ル誘導体１当量に対して、１〜５当量である。尚、反応
（ｉ）および（ii）は、必要に応じ塩基の存在下で行う
こともできる。かかる塩基としては、１−メチルイミダ
ゾール、３−ニトロ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾー
ル、１Ｈ−テトラゾール、１Ｈ−１，２，４−トリアゾ
ール、イミダゾール、ピリジン、トリエチルアミン等の
有機塩基、炭酸カリウム等の無機塩基が挙げられ、その
使用量は、一般式 化６で示されるナフトール誘導体１
当量に対し、１〜２０当量である。

【００１１】反応（ｉ）および（ii）は、通常、不活性
溶媒の存在下で行われ、そのような溶媒としては、ヘキ
サン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸
エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ニトロエタン、ニ
トロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソ
ブチロニトリル等のニトリル類、ピリジン、トリエチル
アミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリブチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジメチルスルホキ
シド、スルホラン等の硫黄化合物等もしくは、それらの
混合物が挙げられる。また、一般に、反応温度は反応
（ｉ）および（ii）ともに、０℃〜溶媒の沸点であり、
反応時間は反応（ｉ）および（ii）につき、各々１時間
〜２４時間であり、反応（ｉ）および（ii）を通して１
時間〜４８時間程度である。反応終了後は、水を加えて
有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要
に応じクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の操作にて
精製することにより目的の本発明化合物を得ることがで
きる。

【００１２】本発明化合物を製造する場合、原料化合物
である一般式 化４で示されるナフトール誘導体は、一
般式 化１１

【化１１】 〔式中、Ｙ¹ 、Ｙ² 、Ｙ ³、ＺおよびＷは前記と同じ意
味を表わす。〕で示されるヒドロキシナフトエ酸誘導体
と酸ハロゲン化剤又は活性エステル化剤とを反応させ
（反応（iii)）た後、引き続き、該反応生成物と一般式
化１２

【００１３】

【化１２】 〔式中、Ｒ¹ およびＲ² は前記と同じ意味を表わす。〕
で示されるヒドロキシルアミン誘導体とを反応させる
（反応（iv））ことによって製造することができる。上
記反応（iii)及び（iv）は、各々前記反応（ｉ）および
（ii）に準じて行われる。

【００１４】一般式 化１１で示されるヒドロキシナフ
トエ酸誘導体はOrganic Synthesis, Collective,Volume
5,p.635(1973) J.Am.Chem.Soc.,69,2341(1947),Sci.Pa
p.Inst.Phys.Chem.Res.Jpn.,56,101(1962)(CA58-4515f
(1963)), YAKUGAKU ZASSHI(Journal of Japan Pharmace
utical Science Association),82,1368(1961)(CA59-389
2(1963)),DE 2619641(Hoechst AG ,1977) , J.Org.Che
m.,38,3431(1973)Justus liebigs Ann.Chem.,388,9,(19
12) , Bull.Acad.Pol.Sci.Ser.Sci.Chim.A>1935,201,20
5 Bull.Inst.Chem.Res.,Kyoto Univ.,63(2),72-81J.O
rg.Chem.,36(13),1843(1971)等の記載を参照して製造で
きる。本発明化合物の原料化合物である一般式化６で示
される化合物は、一般式化１１で示される化合物と一般
式化５で示される化合物とを前記反応（Ａ）に準じて反
応させることにより製造することができる。

【００１５】本発明化合物は、優れた除草効力を有し、
また、あるものは作物・雑草間に優れた選択性を示す。
すなわち本発明化合物は、畑地（畦畔や休耕地等も含
む）の茎葉処理および土壌処理において、次にあげるよ
うな問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。 タデ科雑草 ソバカズラ(Polygonum convolvulus) 、サナエタデ(Pol
ygonum lapathifolium) 、アメリカサナエタデ(Polygon
um pensylvanicum) 、ハルタデ(Polygonum persicari
a)、ナガバギシギシ(Rumex crispus) 、エゾノギシギシ
(Rumex obtusifolius)、 スベリヒユ科雑草 スベリヒユ(Portulaca oleracea) ナデシコ科雑草 ハコベ(Stellaria media) アカザ科雑草 シロザ(Chenopodium album) 、ホウキギ(Kochia scopar
ia) ヒユ科雑草 アオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)、ホナガアオゲ
イトウ(Amaranthus hybridns)

【００１６】アブラナ科雑草 ワイルドラディッシュ(Raphanus raphanistrum) 、ノハ
ラガラシ(Brassica Kaber)、ナズナ(Capsella bursa-pa
storis) マメ科雑草 アメリカツノクサネム(Sesbania exaltata) 、エビスグ
サ(Cassia obtusifolia)、フロリダベガーウィード(Des
modium tortuosum) 、シロツメクサ(Trifoliumrepens) アオイ科雑草 イチビ(Abutilon theophrasti)、アメリカキンゴジカ(S
ida spinosa) スミレ科雑草 フィールドパンジー(Viola arvensis)、ワイルドパンジ
ー(Viola tricolor) アカネ科雑草 ヤエムグラ(Galium aparine) ヒルガオ科雑草 アメリカアサガオ(Ipomoea hederacea) 、マルバアサガ
オ(Ipomoea purpurea)、マルバアメリカアサガオ(Ipomo
ea hederacea var.integriuscula )、マメアサガオ(Ipo
moea lacunosa)、セイヨウヒルガオ(Convolvulus arven
sis) シソ科雑草 ヒメオドリコソウ(Lamium purpureum)、ホトケノザ(Lam
ium amplexicaure) ナス科雑草 シロバナチョウセンアサガオ(Datura stramonium) 、イ
ヌホオズキ(Solanum nigrum) ゴマノハグサ科雑草 オオイヌノフグリ(Veronica persica)、フラサバソウ(V
eronica hederaefolia) キク科雑草 オナモミ(Xanthium pensylvanicum)、野生ヒマワリ(Hel
ianthus annuus) 、イヌカミツレ(Matricaria inodor
a)、コーンマリーゴールド(Chrysanthemum segetum) 、
オロシャギク(Matricaria matricarioides) 、ブタクサ
(Ambrosia artemisiifolia) 、オオブタクサ(Ambrosia
trifida)、ヒメムカシヨモギ(Erigeron canadensis) ムラサキ科雑草 ワスレナグサ(Myosotis arvensis) ガガイモ科雑草 オオトウワタ(Asclepias syriaca) トウダイグサ科雑草 トウダイグサ(Euphorbia helioscopia) 、オオニシキソ
ウ(Euphorbia maculata)

【００１７】イネ科雑草 イヌビエ(Echinochloa crus-galli)、エノコログサ(Set
aria viridis) 、アキノエノコログサ(Setaria faber
i)、メヒシバ(Digitaria sanquinalis) 、オヒシバ(Ele
usine indica) 、スズメノカタビラ(Poa annua) 、ブラ
ックグラス(Alopecurus myosuroides)、カラスムギ(Ave
na fatua) 、セイバンモロコシ(Sorghum halepense) 、
シバムギ(Agropyron repens)、ウマノチャヒキ(Bromus
tectorum)、ギョウギシバ(Cynodon dactylon)、オオク
サキビ(Panicum dichotomiflorum)、テキサスパニカム
(Panicum texanum) 、シャターケーン(Sorghum vulgar
e) ツユクサ科雑草 ツユクサ(Commelina communis) トクサ科雑草 スギナ(Equisetum arvense) カヤツリグサ科雑草 コゴメガヤツリ(Cyperus iria)、ハマスゲ(Cyperus rot
undus)、キハマスゲ(Cyperus esculentus) しかも、本発明化合物中のあるものは、トウモロコシ(Z
ea mays)、コムギ(Triticum aestivum) 、オオムギ(Hor
deum vulgare) 、イネ(Oryza sativa)、ダイズ(Glycine
max) 、ワタ(Gossypium spp.)、テンサイ(Beta vulgar
is) 、ピーナッツ(Arachis hypogaea)、ヒマワリ(Helia
nthus annuus) 、ナタネ(Brassica napus)等の主要作
物、花卉・蔬菜等の園芸作物に対して問題となるような
薬害を示さない。また、本発明化合物は、ダイズ、ピー
ナッツ、トウモロコシ等の不耕起栽培において、問題と
なる種々の雑草を効果的に除草することができる。しか
も、本発明化合物中のあるものは、これらの作物に対し
ては問題となるような薬害を示さない。また、本発明化
合物は、水田の湛水処理において、次に挙げられる問題
となる種々の雑草に対して除草効力を有する。 イネ科雑草 タイヌビエ(Echinochloa oryzicola) ゴマノハグサ科雑草 アゼナ(Lindernia procumbens) ミソハギ科雑草 キカシグサ(Rotala indica) 、ヒメミソハギ(Ammannia
multiflora) ミゾハコベ科雑草 ミゾハコベ(Elatine triandra) カヤツリグサ科雑草 タマガヤツリ(Cyperus difformis) 、ホタルイ(Scirpus
juncoides) 、マツバイ(Eleocharis acicularis) 、ミ
ズガヤツリ(Cyperus serotinus) 、クログワイ(Eleocha
ris kuroguwai) ミズアオイ科雑草 コナギ(Monochoria vaginalis) オモダカ科雑草 ウリカワ(Sagittaria pygmaea)、オモダカ(Sagittaria
trifolia) 、ヘラオモダカ(Alisma canaliculatum) ヒルムシロ科雑草 ヒルムシロ(Potamogeton distinctus) セリ科雑草セリ(Oenanthe javanica) しかも、本発明化合物中のあるものは、移植水稲または
直播水稲に対して問題となるような薬害を示さない。さ
らに、本発明化合物は、樹園地、牧草地、芝生地、林業
地または水路、運河あるいはその他の非農耕地に発生す
る広範囲の雑草を除草できる。

【００１８】本発明化合物を除草剤の有効成分として用
いる場合は、通常、固体担体、液体担体、界面活性剤そ
の他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁
剤、粒剤、顆粒水和剤等に製剤し除草剤の有効成分とし
て用いる。 これらの製剤には有効成分として本発明化
合物を、重量比で０．００３〜９０％、好ましくは０．
０１〜８０％含有する。固体担体としては、カオリンク
レー、アタパルジャイトクレー、ベントナイト、酸性白
土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱
物質微粉末、クルミ殻粉等の有機物微粉末、尿素等の水
溶性有機物微粉末、硫酸アンモニウム等の無機塩微粉末
および合成含水酸化珪素等の微粉末等が挙げられ、液体
担体としては、メチルナフタレン、フェニルキシリルエ
タン、キシレン等のアルキルベンゼン等の芳香族炭化水
素類、イソプロパノール、エチレングリコール、２−エ
トキシエタノール等のアルコール類、フタル酸ジアルキ
ルエステル等のエステル類、アセトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン等のケトン類、マシン油等の鉱物油、大
豆油、棉実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、Ｎ−メチ
ルピロリドン、水等が挙げられる。乳化、分散、湿展等
のために用いられる界面活性剤としては、アルキル硫酸
エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリール
スルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキ
シエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩
等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテ
ル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロック
コポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性
剤等が挙げられる。その他の製剤用補助剤としては、リ
グニンスルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコ
ール、アラビアガム、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ
ース）、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）等が挙げら
れる。本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出芽前ま
たは出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理する。
土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があり、
茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作物に
付着しないよう雑草に限って処理する局部処理等があ
る。また、他の除草剤と混合して用いることにより、除
草効力の増強が認められる場合がある。さらに、殺虫
剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥
料、土壌改良剤等と混合して用いることもできる。本発
明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、その処
理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、方法、場所、
対象雑草、対象作物等によっても異なるが、通常１ヘク
タールあたり１ｇ〜10000g、好ましくは、３ｇ〜５００
０ｇであり、乳剤、水和剤、懸濁剤、水和粒剤等は、通
常その所定量を１ヘクタール当たり１０リットル〜１０
００リットルの（必要ならば、展着剤等の補助剤を添加
した）水で希釈して処理し、粒剤等は、通常なんら希釈
することなくそのまま処理する。補助剤としては、前記
の界面活性剤の他、ポリオキシエチレン樹脂酸（エステ
ル）、リグニンスルホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフ
チルメタンジスルホン酸塩、クロップオイルコンセント
レイト(crop oil concentrate)、大豆油、コーン油、綿
実油、ヒマワリ油等の植物油等が挙げられる。

【００１９】

【発明の効果】本発明化合物は、畑地の土壌処理および
茎葉処理、さらに水田の湛水処理において問題となる種
々の雑草に対して優れた除草効力を有し、除草剤の有効
成分として種々の用途に用いることができる。

【００２０】

【実施例】以下、本発明を製造例、製剤例および試験例
により、さらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。まず、本発明化合物の
製造例を示す。 製造例１ 0.42ｇの６０％油性水素化ナトリウムをＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド１５mlに懸濁させ、反応系を０〜５℃に
冷却した。この温度で2.33ｇの２−ヒドロキシ−１−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノオキシカルボニル）ナフタレ
ンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５mlに溶解したもの
を滴下した。０〜５℃で３０分間攪拌した後、２−クロ
ロ−４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン1.92
ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５mlに溶解したもの
を加えた。反応系の温度を室温にもどし、室温で３時間
攪拌した。反応液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有
機層を飽和食塩水で５回洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣を薄
層クロマトグラフィー（シリカゲル，ヘキサン／酢酸エ
チル ２：１(v/v))に付し、2.10ｇの２−｛（４，６−
ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）オキ
シ｝−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノオキシカルボニ
ル）ナフタレン（本発明化合物（２））を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ） δ：2.77(s,6H)、3.90(s,6H)、7.13〜8.05(m,6H)

【００２１】製造例２ ２−｛（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ｝−１−（ナフトエ酸1.30ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド１５mlに溶解し、これに塩化２，４，６−ト
リイソプロピルベンゼンスルホニル1.82ｇ及び１−メチ
ルイミダゾール0.98ｇを加え、室温で２０分間攪拌し
た。Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミンのＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド溶液（Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドロキシ
ルアミン塩酸塩0.47ｇ及びトリエチルアミン0.58ｇを
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５mlに溶解した液）を加
え、室温で１時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エ
チルで抽出した。有機層を飽和食塩水で５回洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去
し、得られた残渣を薄層クロマトグラフィー（シリカゲ
ル，ヘキサン／酢酸エチル ２：１(v/v))に付し、1.20
ｇの２−｛（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）オキシ｝−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノオキシカ
ルボニル）ナフタレン（本発明化合物（１））を得た。 樹脂状¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ） δ：2.76(s,6H)、3.75(s,6H)、5.74(s,1H)、7.24〜8.15
(m,6H) 製造例３ 製造例１において、２−ヒドロキシ−１−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノオキシカルボニル）ナフタレンの代わり
に、７−ヒドロキシ−８−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノオ
キシカルボニル）キノリンを用いることにより、７−
｛（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２
−イル）オキシ｝−８−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノオキ
シカルボニル）キノリンが得られる。次に上記の製造法
に準じて製造できる本発明化合物の例を表１−１２に示
す。なお、本発明化合物に光学異性体が存在する場合、
活性な光学異性体もすべて本発明に含まれることはもち
ろんである。

【００２２】

【表１】

【００２３】

【表２】

【００２４】

【表３】

【００２５】

【表４】

【００２６】

【表５】

【００２７】

【表６】

【００２８】

【表７】

【００２９】

【表８】

【００３０】

【表９】

【００３１】

【表１０】

【００３２】

【表１１】

【００３３】

【表１２】 次に原料化合物である一般式 化４で示されるナフトー
ル誘導体の製造例を参考例として示す。 参考例１ ２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸3.76ｇをテトラヒドロ
フラン４０mlに溶解し、Ｎ，Ｎ’−カルボニルジイミダ
ゾール3.89ｇを加え、室温で３０分間攪拌した。これに
Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩2.34ｇ及び
トリエチルアミン2.91ｇを加え、室温で３時間攪拌し
た。反応液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を
飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧下に溶媒を留去し、２−ヒドロキシ−１−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノオキシカルボニル）ナフタレ
ンを得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ） δ：3.02(s,6H)、7.00〜7.88(m,6H)、10.95(bs,1H) 次に上記の参考例に準じて製造できる一般式化４で示さ
れる化合物の例を表１３−１８に示す。

【００３４】

【表１３】

【００３５】

【表１４】

【００３６】

【表１５】

【００３７】

【表１６】

【００３８】

【表１７】

【００３９】

【表１８】 次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は表１−１２の
化合物番号で示す。部は重量部である。 製剤例１ 本発明化合物 (1)〜(122) ５０部、リグニンスルホン酸
カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および合
成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合して水和剤を得
る。 製剤例２ 本発明化合物 (1)〜(122) １０部、ポリオキシエチレン
スチリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンス
ルホン酸カルシウム６部、キシレン３５部およびシクロ
ヘキサノン３５部をよく混合して乳剤を得る。 製剤例３ 本発明化合物 (1)〜(122) ２部、合成含水酸化珪素１
部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト
３０部およびカオリンクレー６５部をよく粉砕混合し、
水を加えてよく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得
る。 製剤例４ 本発明化合物 (2)(15)２５部、ポリビニルアルコール(1
0%）５０部、水２５部を混合し、粒度が５ミクロン以下
になるまで湿式粉砕して懸濁剤を得る。 製剤例５ 本発明化合物 (1)(3)(81)(82) ５部、ポリビニルアルコ
ール(10%）４０部を混合し、粒度が１０ミクロン以下に
なるまで湿式粉砕し、水５５部を加え、懸濁剤を得る。
次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であ
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、表１−
１２の化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は表
１９の化合物記号で示す。

【表１９】 また、除草効力および薬害の評価は、調査時の供試植物
（雑草および作物）の出芽および生育の状態が無処理の
それと比較して全くないしほとんど違いがないものを
「０」とし、供試植物が完全枯死または出芽若しくは生
育が完全に抑制されているものを「１０」として、０〜
１０の１１段階に区分し、０、１、２、３、４、５、
６、７、８、９、１０で示す。

【００４０】試験例１ 畑地茎葉処理試験 直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに
畑地土壌を詰め、ダイコン、マルバアサガオを播種し、
温室内で１０日間育成した。その後、製剤例２に準じて
供試化合物を乳剤にし、その所定量を１ヘクタールあた
り１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、小
型噴霧器で植物体の上方から茎葉処理した。処理後１９
日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を
表２０に示す。

【表２０】

【００４１】試験例２ 畑地土壌表面処理試験 直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに
畑地土壌を詰め、ヒエ、マルバアサガオ、イチビを播種
し、覆土した。製剤例２に準じて供試化合物を乳剤に
し、その所定量を１ヘクタールあたり１０００リットル
相当の水で希釈し、小型噴霧器で土壌表面に処理した。
処理後１９日間温室内で育成し、除草効力を調査した。
その結果を表２１に示す。

【表２１】

【００４２】試験例３ 畑地土壌処理試験 面積３３×２３cm² 、深さ１１cmのバットに畑地土壌を
詰め、コムギ、オオムギ、オオイヌノフグリ、ソバカズ
ラ、スミレを播種し、１〜２cmの厚さに覆土した。製剤
例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１ヘ
クタールあたり１０００リットル相当の水で希釈し、自
動散布機で土壌表面に処理した。処理後１８日間温室内
で育成し、除草効力を調査した。その結果を表２２に示
す。

【表２２】

【００４３】試験例４ 畑地茎葉処理試験 面積３３×２３cm² 、深さ１１cmのバットに畑地土壌を
詰め、コムギ、オオムギ、オオイヌノフグリ、スミレ、
ソバカズラを播種し、３０日間育成した。その後、製剤
例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を展着
剤を含む１ヘクタールあたり１０００リットル相当の水
で希釈し、自動散布機で植物体の上方から茎葉部全面に
均一に処理した。このとき雑草および作物の生育状況は
草種により異なるが、１〜４葉期で、草丈は２〜１２cm
であった。処理１８日後に除草効力を調査した。その結
果を表２３に示す。なお、本試験は、全期間を通じて温
室内で行った。

【表２３】

【００４４】試験例５ 畑地茎葉処理試験 面積３３×２３cm² 、深さ１１cmのバットに畑地土壌を
詰め、トウモロコシ、イヌビエ、セイバンモロコシを播
種し、１６日間育成した。製剤例２に準じて供試化合物
を乳剤にし、その所定量を展着剤を含む１ヘクタールあ
たり1000リットル相当の水で希釈し、自動散布機で植物
体の上方から茎葉部全面に均一に処理した。このとき雑
草および作物の生育状況は草種により異なるが１〜４葉
期で、草丈は２〜１５cmであった。処理後１８日後に除
草効力を調査した。その結果を表２４に示す。なお、本
試験は、全期間を通して温室内で行った。

【表２４】

【００４５】試験例６ 水田湛水処理試験 １／5000ａワグネルポットに水田土壌を詰め、広葉雑草
（アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ）、ミズカヤツリ魂
茎を１〜２cmの深さに混ぜ込んだ。湛水して水田状態に
した後、ウリカワの塊茎を１〜２cmの深さに埋め込み、
更に３葉期のイネを移植し、温室内で育成した。５日後
に、製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定
量を１０ミリリットルの水で希釈し水面に処理し、その
水深を４cmとした。処理後２０日間温室内で育成し、除
草効力および薬害を調査した。その結果を表２５に示
す。なお、処理の翌日から２日間は、１日あたり３cmの
水深に相当する量の漏水を行った。

【表２５】

【００４６】試験例７ 畑地茎葉処理試験 面積３３×２３cm² 、深さ１１cmのバットに畑地土壌を
詰め、表２４に記載の植物の種子を播種し、３０日間育
成した。製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その
所定量を展着剤を含む１ヘクタールあたり1000リットル
相当の水で希釈し、自動散布器で植物体の上方から茎葉
部全面に均一に処理した。このとき雑草および作物の生
育状況は草種により異なるが1 〜4 葉期であり、草丈は
2 〜12cmであった。処理後、18日後に除草効力を調査し
た。その結果を表２６に示す。なお、本試験は全期間を
通して温室内で行った。

【表２６】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 239/52 8615−4Ｃ 239/60 8615−4Ｃ 251/30 401/12 ２３９ 7602−4Ｃ (72)発明者 斉藤 一雄 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 用貝 広幸 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 化１ 【化１】 〔式中、Ｒ¹ およびＲ² は同一または相異なり、水素原
   子、Ｃ1-Ｃ6 アルキル基、Ｃ3-Ｃ6 シクロアルキル基、
   Ｃ3-Ｃ6 アルケニル基、Ｃ3-Ｃ6 アルキニル基、ハロＣ
   1-Ｃ6 アルキル基、Ｃ1-Ｃ6 アルコキシＣ1-Ｃ6 アルキ
   ル基、フェニル基またはベンジル基を表すか、またはＲ
   ¹ およびＲ² は末端で結合してＣ4-Ｃ6 アルキレン基を
   表わすか、またはＲ¹ およびＲ² は末端で結合して酸素
   原子を含有するＣ4-Ｃ6 アルキレン基を表わす。( ここ
   で、フェニル基およびベンジル基は、Ｃ1-Ｃ6 アルキル
   基、ハロゲン原子、Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ基、ハロＣ1-Ｃ
   6 アルキル基、ニトロ基、シアノ基またはＣ1-Ｃ6 アル
   コキシカルボニル基で置換されていてもよい。) Ｒ³ お
   よびＲ⁴ は同一または相異なり、Ｃ1-Ｃ6 アルキル基、
   Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、Ｘは
   ＣＨまたはＮを表し、ＺはＣＨまたはＮを表し、Ｗは酸
   素原子または硫黄原子を表わす。Ｙ¹ 、Ｙ² およびＹ ³
   は同一または相異なり、水素原子、Ｃ1-Ｃ6 アルキル
   基、ハロゲン原子またはＣ1-Ｃ6 アルコキシ基を表わ
   す。〕で示されるナフトール誘導体。
2. 【請求項２】一般式 化２ 【化２】 〔式中、Ｒ¹ およびＲ² は同一または相異なり、水素原
   子、Ｃ1-Ｃ6 アルキル基、Ｃ3-Ｃ6 シクロアルキル基、
   Ｃ3-Ｃ6 アルケニル基、Ｃ3-Ｃ6 アルキニル基、ハロＣ
   1-Ｃ6 アルキル基、Ｃ1-Ｃ6 アルコキシＣ1-Ｃ6 アルキ
   ル基、フェニル基またはベンジル基を表すか、またはＲ
   ¹ およびＲ² は末端で結合してＣ4-Ｃ6 アルキレン基を
   表わすか、またはＲ¹ およびＲ² は末端で結合して酸素
   原子を含有するＣ4-Ｃ6 アルキレン基を表わす。( ここ
   で、フェニル基およびベンジル基は、Ｃ1-Ｃ6 アルキル
   基、ハロゲン原子、Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ基、ハロＣ1-Ｃ
   6 アルキル基、ニトロ基、シアノ基またはＣ1-Ｃ6 アル
   コキシカルボニル基で置換されていてもよい。) Ｒ³ お
   よびＲ⁴ は同一または相異なり、Ｃ1-Ｃ6 アルキル基、
   Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、Ｘは
   ＣＨまたはＮを表し、ＺはＣＨまたはＮを表し、Ｗは酸
   素原子または硫黄原子を表わす。Ｙ¹ 、Ｙ² およびＹ ³
   は同一または相異なり、水素原子、Ｃ1-Ｃ6 アルキル
   基、ハロゲン原子またはＣ1-Ｃ6 アルコキシ基を表わ
   す。〕で示されるナフトール誘導体。
3. 【請求項３】請求項１記載のナフトール誘導体を有効成
   分として含有することを特徴とする除草剤。