JPH0618924A - Production of substrate of liquid crystal display device - Google Patents

Production of substrate of liquid crystal display device

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JPH0618924A
JPH0618924A JP17462092A JP17462092A JPH0618924A JP H0618924 A JPH0618924 A JP H0618924A JP 17462092 A JP17462092 A JP 17462092A JP 17462092 A JP17462092 A JP 17462092A JP H0618924 A JPH0618924 A JP H0618924A
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JP
Japan
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substrate
display device
liquid crystal
crystal display
manufacturing
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP17462092A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinya Kato
真也 加藤
Hidetoshi Ishiwari
秀敏 石割
Satoru Kawai
悟 川井
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Abstract

PURPOSE:To prevent the breakdown of thin film transistors due to the discharge of electric charges accumulated in a producing process when the substrate of a liq. crystal display device is produced. CONSTITUTION:At the time of producing the substrate of a liq. crystal display device with picture element electrodes 2 arranged on the substrate 1, thin film transistors 3 for intermitting voltage impressed on each of the electrodes 2, scanning bus lines 5 and data bus lines 6 with the inner ends separately connected to the transistors 3 and the outer ends parallel arranged at peripheral parts of the substrate 1 in the form of input terminals 4, the adjacent input terminals 4 are made close to each other so as to attain electric capacity coupling.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置の基板の製
造方法に係わり、TFTを設けた基板を製造する際に、
走査バスラインやデータバスラインのそれぞれの入力端
子を電気容量結合して同電位にし、かつ直流的には分離
されている液晶表示装置の基板の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a substrate of a liquid crystal display device, and when manufacturing a substrate provided with a TFT,
The present invention relates to a method for manufacturing a substrate of a liquid crystal display device in which input terminals of a scan bus line and a data bus line are capacitively coupled to each other to have the same potential and are separated in terms of direct current.

【0002】近年、半導体装置を中心とした電子デバイ
スの長足な進展によって、電子機器の小型化が促進され
ているが、機械と人間のインタフェースの要素デバイス
の1つである表示装置においても、液晶表示装置が、大
きくて重くて、特に可搬形には向かないCRT表示装置
に替わる新しい表示装置として注目されている。
In recent years, the miniaturization of electronic devices has been promoted by the long-term progress of electronic devices centering on semiconductor devices. However, even in a display device, which is one of the element devices for the interface between a machine and a human, the liquid crystal is used. The display device has been attracting attention as a new display device which is a large and heavy-duty and replaces the CRT display device which is not particularly suitable for a portable type.

【0003】液晶表示装置は、かつて、動作速度が遅く
コントラストも低くカラー化も難しく駆動回路も複雑
で、大型のパネル型表示装置としてはとても実用になら
ないと評価されていた。しかし、昨今の新しい液晶材料
と駆動方式の開発、液晶表示パネルの製造技術の改良な
どの革新的な進展によって、CRT表示装置に劣らない
表示性能をもった表示装置になりつつある。
The liquid crystal display device was once evaluated to be not very practical as a large panel type display device because of its slow operation speed, low contrast, difficult colorization, and complicated drive circuit. However, due to recent developments such as the development of new liquid crystal materials and driving methods, and the improvement of the manufacturing technology of liquid crystal display panels, the display device has a display performance comparable to that of the CRT display device.

【0004】しかし、大型で表示容量の大きな液晶表示
素子においては、表示欠陥を如何に少なくして歩留りを
向上させるかが大きな課題となっており、製造技術的に
まだまだ検討の余地がある。
However, in a liquid crystal display device having a large size and a large display capacity, how to reduce display defects to improve the yield is a major issue, and there is still room for consideration in manufacturing technology.

【0005】[0005]

【従来の技術】液晶表示パネルは、2枚のガラス板に挟
んだ粘稠な液晶の中で大きな分子を動かして、偏光など
の光学的効果を利用して表示装置を得ようとするもの
で、一般には応答が遅い。従って、液晶表示装置は、動
画のような動きの速い表示には向かないといわれてい
た。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display panel is one in which a large molecule is moved in a viscous liquid crystal sandwiched between two glass plates to obtain a display device by utilizing optical effects such as polarization. , Generally, the response is slow. Therefore, it has been said that the liquid crystal display device is not suitable for a fast-moving display such as a moving image.

【0006】ところが、TN(捻じれネマチック)液晶
とかSTN(超捻じれネマチック)液晶と呼ばれる新し
い液晶材料とその配向方式が開発されたり、TFT(薄
膜トランジスタ) を画素ごとに配列したいわゆるアクテ
ィブマトリックス方式が実現したりして、液晶表示装置
の機能がCRT表示装置に迫ってきている。
However, a new liquid crystal material called TN (twisted nematic) liquid crystal or STN (super twisted nematic) liquid crystal and its alignment method have been developed, or a so-called active matrix method in which TFTs (thin film transistors) are arranged in each pixel is developed. For example, the function of the liquid crystal display device is approaching that of the CRT display device.

【0007】ところで、液晶表示装置の基本構成は、二
枚の基板の間に液晶を挟んで電圧を断続し、液晶分子の
配向を変えて光を透過したり遮蔽したりするものであ
る。図3は液晶表示装置のTFTを設けた基板の一例の
平面図で、図中、1は基板、2は画素電極、3はTF
T、3aはソース、3bはゲート、3cはドレイン、4は入力
端子、4cは短絡部、5は走査バスライン、6はデータバ
スラインである。
By the way, the basic structure of a liquid crystal display device is that a liquid crystal is sandwiched between two substrates to interrupt a voltage and change the orientation of liquid crystal molecules to transmit or block light. FIG. 3 is a plan view of an example of a substrate provided with a TFT of a liquid crystal display device, in which 1 is a substrate, 2 is a pixel electrode, and 3 is a TF.
T and 3a are sources, 3b is a gate, 3c is a drain, 4 is an input terminal, 4c is a short-circuit portion, 5 is a scan bus line, and 6 is a data bus line.

【0008】TFTを用いたアクティブマトリックス方
式の液晶表示装置においては、一方の基板1には、ガラ
ス板の表面に透明なITO(Indium Tin Oxide)膜
で構成されたドット状の画素となる画素電極2を設けら
れ、その画素電極2をTFT3でスイッチングする構成
になっている。他方の基板は、こゝでは図示してない
が、ガラス板全面に透明電極を設けた共通電極の構成に
なっている。
In an active matrix type liquid crystal display device using a TFT, one substrate 1 has a pixel electrode which is a dot-like pixel formed of a transparent ITO (Indium Tin Oxide) film on the surface of a glass plate. 2 is provided and the pixel electrode 2 is switched by the TFT 3. Although not shown here, the other substrate has a structure of a common electrode in which a transparent electrode is provided on the entire surface of the glass plate.

【0009】TFT3は例えば画素に対応する格子状に
並設された数万〜数十万個の画素電極2のそれぞれに少
なくとも1個ずつ設けられており、画素電極2がソース
3aに接続され、ゲート3bが走査バスライン5に、ドレイ
ン3cがデータバスライン6にそれぞれ連なっている。液
晶の駆動方式によっては、ソース3aとドレイン3cが逆に
接続されている場合もある。
At least one TFT 3 is provided for each of tens of thousands to hundreds of thousands of pixel electrodes 2 arranged in a grid corresponding to a pixel, and the pixel electrode 2 is a source.
The gate 3b is connected to the scan bus line 5, and the drain 3c is connected to the data bus line 6, respectively. Depending on the driving method of the liquid crystal, the source 3a and the drain 3c may be connected in reverse.

【0010】走査バスライン5とデータバスライン6
は、それぞれの画素電極2の間を直交しながら基板1の
周縁部まで引き出され、図示してない駆動回路に接続す
るための入力端子4となっている。
Scan bus line 5 and data bus line 6
Are drawn out to the peripheral portion of the substrate 1 while being orthogonal to each other between the pixel electrodes 2 and serve as input terminals 4 for connecting to a drive circuit (not shown).

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところで、基板1は膜
形成やホトリソグラフィなどのいろいろな製造プロセス
を経て形成されるが、それぞれのプロセスが施される際
の後には、基板1が常に清浄に保たれている。そのた
め、基板1は高い絶縁性をもっており、いろいろな製造
プロセスを経る際に例えば、摩擦、接触、剥離といった
いろいろな作用を受けて、帯電することが避けられな
い。
The substrate 1 is formed through various manufacturing processes such as film formation and photolithography. After each process, the substrate 1 is always cleaned. It is kept. Therefore, the substrate 1 has a high insulating property, and is inevitably charged by various actions such as friction, contact, and peeling during various manufacturing processes.

【0012】この帯電は、絶縁性の基板1の上に電気的
に浮いた状態で形成されている画素電極2や走査バスラ
イン5、データバスライン6などに静電荷として蓄積さ
れて帯電電位が上昇していく。そして、特に隣接部分の
パターンが長い走査バスライン5やデータバスライン6
同士間の帯電電位の電位差が放電破壊電圧に達すると、
バスライン5、6同士間で放電が起こる。その結果、T
FT3が破壊されたりバスライン5、6が断線したりし
てまうことが間々生じる。
This charge is accumulated as static charge on the pixel electrode 2, the scanning bus line 5, the data bus line 6 and the like which are formed on the insulating substrate 1 in an electrically floating state, and the charging potential is changed. Going up. The scanning bus line 5 and the data bus line 6 having particularly long patterns in the adjacent portions
When the potential difference between the charged potentials reaches the discharge breakdown voltage,
Electric discharge occurs between the bus lines 5 and 6. As a result, T
Occasionally, the FT3 is destroyed or the bus lines 5 and 6 are broken.

【0013】そこで、走査バスライン5とデータバスラ
イン6が同電位になるように入力端子4の先端を短絡部
4cで共通に接続し、このような不具合な放電が起こるこ
とを防いでいる。そして、基板1を作る一連の製造プロ
セスが終了した時点で短絡部4cを切断して、バスライン
5、6を個々に分離している。
Therefore, the tip of the input terminal 4 is short-circuited so that the scanning bus line 5 and the data bus line 6 have the same potential.
4c is connected in common to prevent such a defective discharge. Then, when a series of manufacturing processes for producing the substrate 1 is completed, the short circuit portion 4c is cut to separate the bus lines 5 and 6 individually.

【0014】ところが、このように走査バスライン5と
データバスライン6が共通に接続さていると、基板1の
製造プロセスの途中で、バスライン5、6の断線検査と
かTFT3の特性検査などができないという問題があっ
た。
However, when the scan bus line 5 and the data bus line 6 are commonly connected in this way, it is not possible to perform a disconnection inspection of the bus lines 5 and 6 or a characteristic inspection of the TFT 3 during the manufacturing process of the substrate 1. There was a problem.

【0015】そこで本発明は、基板を製造する際に、走
査バスラインやデータバスラインのそれぞれの入力端子
を電気容量結合し、TFTが破壊しない程度の低い放電
を起こしてバスライン間を同電位にし、かつ直流的には
分離されている液晶表示装置の基板の製造方法を提供す
ることを目的としている。
Therefore, according to the present invention, when the substrate is manufactured, the input terminals of the scan bus line and the data bus line are capacitively coupled to generate a low discharge that does not destroy the TFT, and the bus lines have the same potential. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a substrate of a liquid crystal display device which is separated in terms of direct current.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上で述べた課題は、基板
に配設された画素電極と、該画素電極のそれぞれに印加
する電圧を断続させるTFT(薄膜トランジスタ)と、
一端部が該TFTのそれぞれに接続され、他端部が入力
端子をなして該基板の周縁部に並設された走査バスライ
ンとデータバスラインを有する液晶表示装置の基板の製
造方法において、前記入力端子の隣接同士を近接して電
気容量結合させるように構成された液晶表示装置の基板
の製造方法によって解決される。
Means for Solving the Problems The above-mentioned problems include a pixel electrode provided on a substrate, a TFT (thin film transistor) for intermittently applying a voltage applied to each pixel electrode,
In the method for manufacturing a substrate of a liquid crystal display device having one end connected to each of the TFTs and the other end forming an input terminal and having a scanning bus line and a data bus line juxtaposed in the peripheral portion of the substrate, This is solved by a method of manufacturing a substrate of a liquid crystal display device configured to capacitively couple adjacent input terminals close to each other.

【0017】[0017]

【作用】TFTを用いたアクティブマトリックス型の液
晶表示装置のTFTを形成する基板において、従来の製
造方法においてはバスライン同士が共通に接続されてい
たが、本発明においては、それぞれのバスラインが絶縁
されているようにしている。
In the substrate for forming the TFT of the active matrix type liquid crystal display device using the TFT, the bus lines are commonly connected in the conventional manufacturing method. However, in the present invention, each bus line is connected in common. I try to be insulated.

【0018】すなわち、隣接するそれぞれのバスライン
の入力端子同士が、先端部に数μmの隙間を介して近接
するようにしている。そして、その隙間が電気容量とな
って隣接する入力端子同士が電気容量結合しているよう
にしている。この近接した部分は基板の製造後切除す
る。
That is, the input terminals of the adjacent bus lines are arranged close to each other with a gap of several μm between them. Then, the gap serves as an electric capacity so that adjacent input terminals are electrically capacity-coupled. This adjacent portion is cut off after manufacturing the substrate.

【0019】そうすると、基板を製造するプロセスの中
で、基板が帯電を起こしたときTFTが破壊しない程度
の低電圧で放電してバスライン間が同電位となる。そし
て、TFTが破壊するような強い放電を防ぐことができ
る。
Then, in the process of manufacturing the substrate, when the substrate is charged, the TFTs are discharged at such a low voltage that the TFTs are not destroyed and the bus lines have the same potential. Then, it is possible to prevent a strong discharge that would destroy the TFT.

【0020】[0020]

【実施例】図1は本発明の一実施例の主要部の斜視図、
図2は本発明の他の実施例の主要部の斜視図である。図
において、1は基板、2は画素電極、3はTFT、4は
入力端子、4aは拡幅部、4bは電極隙間、5は走査バスラ
イン、6はデータバスライン、7は結合電極、7aは結合
部、8は切断線である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a perspective view of a main part of an embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a perspective view of the main part of another embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a substrate, 2 is a pixel electrode, 3 is a TFT, 4 is an input terminal, 4a is a widened portion, 4b is an electrode gap, 5 is a scanning bus line, 6 is a data bus line, 7 is a coupling electrode, and 7a is The connecting portion, 8 is a cutting line.

【0021】基板1はガラス板からなり、その上にIT
O膜からなる透明な画素電極2が格子状に配設されてい
る。それぞれの画素電極2にはTFT3が設けられてお
り、画素電極2に印加される電圧を断続するようになっ
ている。
The substrate 1 is made of a glass plate on which IT
Transparent pixel electrodes 2 made of an O film are arranged in a grid pattern. A TFT 3 is provided on each pixel electrode 2, and the voltage applied to the pixel electrode 2 is interrupted.

【0022】TFT3には直交する走査バスライン5と
データバスライン6の一端部が接続されて駆動されるよ
うになっている。また、2種類のバスライン5、6の他
端部は入力端子4になっており、基板1の周縁部に拡開
して並設されている。
One end of a scanning bus line 5 and one end of a data bus line 6 which are orthogonal to each other are connected to the TFT 3 so as to be driven. Further, the other ends of the two types of bus lines 5 and 6 serve as input terminals 4, which are spread and arranged side by side on the peripheral portion of the substrate 1.

【0023】実施例:1 図1において、走査バスライン5とデータバスライン6
のそれぞれの入力端子4の先端部が幅広くなって拡幅部
4aを形成している。そして、隣接同士が例えば2〜10μ
mの微小な電極隙間4bをもって近接している。
Embodiment 1: In FIG. 1, scan bus line 5 and data bus line 6
Widen the tip of each input terminal 4
Forming 4a. And, for example, 2 to 10μ
They are close to each other with a minute electrode gap 4b of m.

【0024】この電極隙間4bが電気容量(静電容量)と
なって、それぞれの入力端子4を容量結合させるように
なっている。そして、バスライン5、6のそれぞれのラ
イン間で絶縁破壊を起こす程度に電位差が生じると、こ
の電極隙間4bで起こる放電によってライン間が同電位と
なる。
The electrode gap 4b serves as an electric capacity (electrostatic capacity) so that the respective input terminals 4 are capacitively coupled. Then, when a potential difference is generated between the bus lines 5 and 6 to such an extent that dielectric breakdown occurs, the lines are brought to the same potential by the discharge occurring in the electrode gap 4b.

【0025】こうして、電極隙間4bは、TFT3が破壊
するような強い放電を起こさない程度の低電圧において
は直流的に遮断されており、それぞれのバスライン5、
6は絶縁状態にある。従って、基板1の製造プロセスの
途中で、それぞれのバスライン5、6を駆動しながら、
それぞれのラインの断線検査やTFT3の特性検査など
を行うことができる。なお、拡幅部4aから先方は、基板
1の製造プロセスが終了したあと、切断線8に沿って切
り落とす。
In this way, the electrode gap 4b is blocked in terms of direct current at a low voltage that does not cause a strong discharge such as destruction of the TFT 3, and the respective bus lines 5,
6 is in an insulated state. Therefore, during the manufacturing process of the substrate 1, while driving the respective bus lines 5 and 6,
A disconnection inspection of each line and a characteristic inspection of the TFT 3 can be performed. The portion from the widened portion 4a is cut off along the cutting line 8 after the manufacturing process of the substrate 1 is completed.

【0026】実施例:2 図2において、走査バスライン5とデータバスライン6
のそれぞれの入力端子4の先端部に、結合電極7が設け
られている。この結合電極7は、結合部7aが櫛形状に突
き出た構成になっており、この結合部7aがそれぞれの入
力端子4の隙間に入り込んで、入力端子4との間に電極
隙間4bが形成され、この電極隙間4bが電気容量となって
いる。
Embodiment 2 In FIG. 2, the scan bus line 5 and the data bus line 6 are shown.
A coupling electrode 7 is provided at the tip of each of the input terminals 4. The coupling electrode 7 has a configuration in which the coupling portion 7a projects in a comb shape, and the coupling portion 7a enters into the gaps of the respective input terminals 4 to form an electrode gap 4b between the input terminals 4. The electrode gap 4b serves as an electric capacity.

【0027】こうして、実施例1と同様に、入力端子4
の隣接同士は、TFT3が破壊するような強い放電が起
こらないうちに放電が起って同電位になるように容量結
合している。従って、基板1の製造プロセスの途中で、
それぞれのバスライン5、6を駆動しながら、それぞれ
のラインの断線検査やTFT3の特性検査などを行うこ
とができる。なお、結合電極7は、基板1の製造プロセ
スが終了したあと、切断線8に沿って切り落とす。
Thus, as in the first embodiment, the input terminal 4
The adjacent ones are capacitively coupled so that a discharge is generated and the same potential is generated before a strong discharge that destroys the TFT 3 is generated. Therefore, during the manufacturing process of the substrate 1,
While driving the respective bus lines 5 and 6, it is possible to perform a disconnection inspection of each line and a characteristic inspection of the TFT 3. The coupling electrode 7 is cut off along the cutting line 8 after the manufacturing process of the substrate 1 is completed.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明においては、TFTを駆動するそ
れぞれのバスライン間を容量結合させ、TFTが破壊し
ない程度の弱い放電でバスライン間を同電位にする。そ
して、蓄積した静電荷による強い放電によってTFTが
破壊することを防いでいる。しかも、それぞれのバスラ
イン間は直流的に絶縁されているので、プロセスの途中
で電気的な検査を行うことができる。
According to the present invention, the bus lines that drive the TFTs are capacitively coupled, and the bus lines are set to the same potential by a weak discharge that does not damage the TFTs. Then, the TFT is prevented from being destroyed by the strong discharge due to the accumulated electrostatic charge. Moreover, since the respective bus lines are galvanically isolated, electrical inspection can be performed during the process.

【0029】その結果、TFTを設けた基板の製造方法
の効率化を図ることが可能となり、今後ますます用途の
拡大が期待されるアクティブマトリックス型の液晶表示
装置の進展に対して、本発明は寄与するところが大であ
る。
As a result, it becomes possible to improve the efficiency of the manufacturing method of the substrate provided with the TFT, and the present invention is applied to the progress of the active matrix type liquid crystal display device, which is expected to be further expanded in the future. It has a great contribution.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例の主要部の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a main part of an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の他の実施例の主要部の斜視図であ
る。
FIG. 2 is a perspective view of a main part of another embodiment of the present invention.

【図3】 液晶表示装置のTFTを設けた基板の一例の
平面図である。
FIG. 3 is a plan view of an example of a substrate provided with a TFT of a liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 画素電極 3 TFT 4 入力端子 4a 拡幅部 4b
電極隙間 5 走査バスライン 6 データバスライン 7 結合電極 7a 結合部 8 切断線
1 substrate 2 pixel electrode 3 TFT 4 input terminal 4a widened portion 4b
Electrode gap 5 Scanning bus line 6 Data bus line 7 Coupling electrode 7a Coupling part 8 Cutting line

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板(1) に配設された画素電極(2) と、
該画素電極(2) のそれぞれに印加する電圧を断続させる
TFT(薄膜トランジスタ)(3) と、一端部が該TFT
(3) のそれぞれに接続され、他端部が入力端子(4) をな
して該基板(1) の周縁部に並設された走査バスライン
(5) とデータバスライン(6) を有する液晶表示装置の基
板の製造方法において、 前記入力端子(4) の隣接同士を近接して電気容量結合さ
せることを特徴とする液晶表示装置の基板の製造方法。
1. A pixel electrode (2) disposed on a substrate (1),
A TFT (thin film transistor) (3) for connecting and disconnecting the voltage applied to each of the pixel electrodes (2), and one end of the TFT
(3) Scan bus lines connected to each of the (3) and the other ends of which form input terminals (4) and are arranged in parallel on the peripheral edge of the substrate (1).
In a method of manufacturing a substrate of a liquid crystal display device having (5) and a data bus line (6), adjacent input terminals (4) are closely capacitively coupled to each other. Production method.
【請求項2】 前記入力端子(4) の先端部に拡幅部(4a)
を設けて、該拡幅部(4a)の隣接同士を近接して電気容量
結合させ、 次いで、前記拡幅部(4a)を前記基板(1) の製造後に切除
する請求項1記載の液晶表示装置の基板の製造方法。
2. A widened portion (4a) is provided at a tip portion of the input terminal (4).
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the widened portion (4a) is adjacently adjacent to each other to capacitively couple them, and then the widened portion (4a) is cut off after the substrate (1) is manufactured. Substrate manufacturing method.
【請求項3】 結合電極(7) を有する請求項1記載の液
晶表示装置の製造方法において、 前記結合電極(7) が有する櫛歯状に突き出した結合部(7
a)を前記入力端子(4)のそれぞれの間隙に設けて、該入
力端子(4) の隣接同士を電気容量結合させ、 次いで、前記結合電極(7) を前記基板(1) の製造後に切
除する請求項1記載の液晶表示装置の基板の製造方法。
3. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a coupling electrode (7), wherein the coupling electrode (7) has a comb-shaped protruding portion (7).
a) is provided in each gap of the input terminals (4) to capacitively couple the input terminals (4) adjacent to each other, and then the coupling electrode (7) is cut off after manufacturing the substrate (1). The method for manufacturing a substrate of a liquid crystal display device according to claim 1.
JP17462092A 1992-07-02 1992-07-02 Production of substrate of liquid crystal display device Withdrawn JPH0618924A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5677745A (en) * 1994-12-21 1997-10-14 Kabushiki Kaisha Toshiba LCD with electrostatic discharge projections
US6812528B2 (en) 2000-06-07 2004-11-02 Nec Corporation Surge protection circuit for semiconductor devices

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