JPH06188210A - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

Info

Publication number
JPH06188210A
JPH06188210A JP33705792A JP33705792A JPH06188210A JP H06188210 A JPH06188210 A JP H06188210A JP 33705792 A JP33705792 A JP 33705792A JP 33705792 A JP33705792 A JP 33705792A JP H06188210 A JPH06188210 A JP H06188210A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
quartz tube
heat treatment
load
high temperature
treatment apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33705792A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuichi Nakamura
秀一 中村
Ryuji Chiba
竜二 千葉
Hisaaki Nagahama
寿明 長浜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Priority to JP33705792A priority Critical patent/JPH06188210A/ja
Publication of JPH06188210A publication Critical patent/JPH06188210A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】 試料を収納するホルダの外側に設けられる石
英管を高温で使用した際、その高熱に起因する石英管上
部の変形を防止できるようにする。 【構成】 半導体ウェハ12を収納するホルダ1を覆蓋
するようにして熱処理のための閉塞空間を形成する石英
管8を配設し、この外側から熱を付与する熱処理装置で
あって、石英管8の上部に支持治具9を係着し、この支
持治具9を荷重調節器10により、石英管8の高温領域
の自重に相当する荷重を重力方向とは逆向きに付与す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の熱処理技
術、特に、半導体製造プロセスの高温熱処理工程で用い
て効果のある技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図4は従来の熱処理装置の一例を示す断
面図である(ここでは、縦型の拡散装置を例にしてい
る)。
【0003】ホルダ1は昇降可能に配設され、このホル
ダ1には多数枚の半導体ウェハ(以下、ウェハという)
を水平にした状態で垂直方向に一定間隔に積み重ねられ
ている。このホルダ1がセット位置にあるとき、このホ
ルダ1を取り囲むように石英管2(拡散チューブともい
う)が配設され、この外側には、石英管2のサイズを大
きくした形状で同様に石英を材料にした均熱管3が石英
管2に対し同軸に配設されている。
【0004】なお、石英管2内は、外部から供給される
処理ガスが循環できるように構成されると共に、真空排
気系に連結できるように構成されている。さらに、均熱
管3の外側には、この均熱管3を覆うように円筒状で上
部が閉塞された形状のヒータブロック4が配設されてい
る。このヒータブロック4の内側には、ヒータ5が螺旋
状に埋設されている。
【0005】この装置においては、ウェハを処理する場
合、ヒータ5に通電して石英管2内を高温(例えば、約
1200℃)に加熱する。そして、不図示の駆動手段に
よってホルダ1を降下させ、その各段にウェハをセット
し、この後ホルダ1を定位置まで上昇させる。さらに、
真空排気系を稼働させて石英管2内(処理室に相当)を
真空にし、ついで所定の処理ガスを導入する。処理済み
のガスは装置外へ排出される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明者の検討によれ
ば、拡散チューブなどに石英管を用いた従来の熱処理装
置は、高温(1100℃以上)で長時間稼働させると、
比較的短い時間で図4に点線で図示したように変形した
石英管6が生じ、ホルダに搭載されたウェハに接触する
という問題がある。石英管の変形速度は、高温領域(石
英管2の上部で、図4の鎖線位置より上側)に加わる自
重による荷重Mに依存し、この荷重Mが大きくなるにつ
れて変形速度は大きくなる。
【0007】この問題は、石英管2の肉厚を大きくする
ことにより改善することができるが、熱を均一にするこ
とが難しくなるほか、コストアップを招くという新たな
問題がある。また、石英管2の高さを低くすることによ
っても改善されるが、この場合には処理枚数が少なくな
るという不具合がある。
【0008】そこで、本発明の目的は、高温での使用に
よる石英管の変形を防止することのできる技術を提供す
ることにある。
【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。
【0010】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下の通りである。
【0011】すなわち、試料に対する熱処理のための閉
塞空間を形成する釣鐘状の石英管を用いた熱処理装置で
あって、重力方向に対し逆向きの荷重を前記石英管の上
部に付与する手段を設けるようにしている。
【0012】
【作用】上記した手段によれば、石英管の高温領域にお
ける自重相当の力に対し、これを中和する逆向きの力を
外部から加え、高温領域に加わる荷重を軽減する。これ
により、石英管の高温領域の変形を防止することが可能
になる。
【0013】
【実施例1】図1は本発明による熱処理装置の一実施例
を示す断面図である。なお、図1においては、図4と同
一または同一機能を有するものには同一引用数字を用い
たので重複する説明は省略する。
【0014】図1に示すように、各部材の配置関係は図
4の構成と同一であるが、本実施例は図4の石英管2に
代えて、頂部に半円形の把手7が設けられた石英管8
(その形状及び肉厚は石英管2と同一)を用い、把手7
に別途用意した“T”字形の支持治具9(例えば、Si
C、石英などを用いて製作する)を係着して石英管8を
吊り下げる形態にしたところに特徴がある。
【0015】支持治具9は、その垂直部が棒状に加工さ
れ、この部分が均熱管3の頂部及びヒータブロック4の
天井部を貫通するように取り付けられる。そして、支持
治具9の水平部(棒状、円板状などに加工)はヒータブ
ロック4の上面より露出しており、その下面とヒータブ
ロック4の表面との間に荷重調節器10が設けられてい
る。なお、石英管2は、支持台11に載置された状態で
固定される。また、12はホルダ1にセットされた試料
としての半導体ウェハである。
【0016】図2は荷重調節器10の模式的構成を示す
部分断面図である。
【0017】荷重調節器10は、調整棒13、その調整
棒13の下端に形成された雄ねじ14、該雄ねじ14に
噛合する雌ねじが中心部に設けられた調整ねじ15、該
調整ねじ15を自動的に回転させるためのモータユニッ
ト16、前記調整棒13の上端に設けられた荷重測定用
のロードセル17、モータ回転を自動制御する制御回路
系18の各々から構成される。
【0018】本発明においては、ホルダ1が石英管8内
にセットされた後、ホルダ1の底部を固定している。こ
の状態で把手7を上方向に引っ張ることにより、高温領
域に加わる荷重を軽減でき、石英管8の変形速度が小さ
くなり、石英管8の上部が変形するのを防止することが
できる。本発明では、荷重調節器10によって把手7に
対する引っ張り力を可変している。
【0019】ホルダ1をセットした後、モータ駆動によ
り調整ねじ15を回転させると、その回転方向に応じて
調整棒13が上昇または下降する。調整棒13はロード
セル17を介して上端が支持治具9の水平部を支えてい
るため、調整棒13と一体に支持治具9が昇降し、把手
7を介して石英管8の吊り上げ荷重を調整(すなわち荷
重Mを調整)することができる。具体的には、荷重調節
器10にかかる荷重が調節器がない時に高温領域にかか
る荷重Mに等しくなるようにすればよい。
【0020】温度昇降温時に石英が伸縮するのに対応し
て荷重は変化するので、ロードセル17の信号を常時モ
ニタし、設定値Mとの差をモニタにフィードバックして
調整棒13を自動調節することにより、ロードセル17
に加わる荷重を常に設定値Mに制御することができる。
荷重調節方式として、油圧制御方式、エア制御方式を用
いても同様な効果が得られる以上のように、石英管8を
上下2箇所で支持し、高温領域に加わる荷重を最小にな
るように制御することで、石英管8の変形を防止するこ
とができる。本発明者らは、1200℃の高温下で実装
評価を行った結果、従来は400時間程度で変形が生じ
て使用不能になっていたのに対し、本発明によれば、4
00時間を経過しても石英管の変形は認められなかっ
た。
【0021】
【実施例2】図3は本発明の他の実施例の主要部の構成
を示す断面図である。なお、図3においては、石英管の
みを示し、前記各実施例と同一であるものには同一引用
数字を用いている。
【0022】本実施例における石英管21は、前記した
石英管2などと同一の形状及びサイズを有するものであ
るが、上部にストッパ22を設け、このストッパ22よ
り下側の石英管21に筒形の治具23(例えば、SiC
を用いて加工)を外嵌し、この治具23を荷重調節器2
4で押し上げるようにしたものである。なお、前記実施
例と同様に、石英管21の底部は支持台11によって固
定する。
【0023】この実施例によれば、前記実施例と同様
に、石英管21の高温領域の自重に相当する荷重を治具
23によって石英管21の上部に付与することができ、
石英管21に変形を生じないようにすることができる。
【0024】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
【0025】また、以上の説明では、主として本発明者
によってなされた発明をその利用分野である拡散装置に
適用した場合について説明したが、これに限定されるも
のではなく、例えば、1000℃を越える高温度で稼働
させる酸化装置、アニール装置などに対しても本発明を
適用可能である。
【0026】さらに、以上の説明では処理対象として半
導体ウェハを例にしたが、これに限定されるものではな
い。
【0027】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
【0028】すなわち、試料に対する熱処理のための閉
塞空間を形成する釣鐘状の石英管を用いた熱処理装置で
あって、重力方向に対し逆向きの荷重を前記石英管の上
部に付与する手段を設けるようにしたので、石英管の高
温領域の変形を防止することが可能になる。また、コス
トダウンを図ることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による熱処理装置の一実施例を示す断面
図である。
【図2】図1の荷重調節器の模式的構成を示す部分断面
図である。
【図3】本発明の他の実施例主要部の構成を示す断面図
である。
【図4】従来の熱処理装置の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 ホルダ 2 石英管 3 均熱管 4 ヒータブロック 5 ヒータ 6 変形した石英管 7 把手 8 石英管 9 支持治具 10 荷重調節器 11 支持台 12 半導体ウェハ 13 調整棒 14 雄ねじ 15 調整ねじ 16 モータユニット 17 ロードセル 18 制御回路系 21 石英管 22 ストッパ 23 治具 24 荷重調節器
フロントページの続き (72)発明者 長浜 寿明 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試料に対する熱処理のための閉塞空間を
    形成する釣鐘状の石英管を用いた熱処理装置であって、
    重力方向に対し逆向きの荷重を前記石英管の上部に付与
    する手段を設けたことを特徴とする熱処理装置。
  2. 【請求項2】 前記手段は、前記石英管の上部に対し下
    側から荷重を付与するものであることを特徴とする請求
    項1記載の熱処理装置。
  3. 【請求項3】 前記手段は、前記石英管の底部を固定す
    ると共に、頂部を重力方向に対し逆向きに牽引するもの
    であることを特徴とする請求項1記載の熱処理装置。
  4. 【請求項4】 前記牽引は、前記石英管の頂部を支持す
    る支持治具と熱処理装置の外郭を成す部材との間の間隔
    を可変可能な荷重調節器によって行うことを特徴とする
    請求項3記載の熱処理装置。
JP33705792A 1992-12-17 1992-12-17 熱処理装置 Pending JPH06188210A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33705792A JPH06188210A (ja) 1992-12-17 1992-12-17 熱処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33705792A JPH06188210A (ja) 1992-12-17 1992-12-17 熱処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06188210A true JPH06188210A (ja) 1994-07-08

Family

ID=18305029

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33705792A Pending JPH06188210A (ja) 1992-12-17 1992-12-17 熱処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06188210A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009272332A (ja) * 2008-04-30 2009-11-19 Shin Etsu Handotai Co Ltd 縦型熱処理装置
JP2010027632A (ja) * 2008-07-15 2010-02-04 Shin Etsu Handotai Co Ltd 縦型熱処理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009272332A (ja) * 2008-04-30 2009-11-19 Shin Etsu Handotai Co Ltd 縦型熱処理装置
JP2010027632A (ja) * 2008-07-15 2010-02-04 Shin Etsu Handotai Co Ltd 縦型熱処理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3125199B2 (ja) 縦型熱処理装置
EP1156518B1 (en) Heat treating device and heat treating method
US6497767B1 (en) Thermal processing unit for single substrate
KR100907598B1 (ko) 종형 열처리 장치 및 그 제어 방법
JP3504784B2 (ja) 熱処理方法
JP4174837B2 (ja) 縦型熱処理炉
KR100886177B1 (ko) 기판들의 열처리방법 및 장치
KR100788056B1 (ko) 클램프의 가열 방법
JPH0214514A (ja) 半導体処理の為の急熱炉
JPH06188210A (ja) 熱処理装置
JP3074312B2 (ja) 気相成長方法
JPH10242067A (ja) 熱処理用基板支持具
JP3497317B2 (ja) 半導体熱処理方法およびそれに用いる装置
JPH0729843A (ja) 熱処理装置
JP4453257B2 (ja) ウエーハの熱処理方法及び熱処理装置並びに熱処理用ボート
JP3126455B2 (ja) 熱処理装置
JP2640269B2 (ja) 処理方法及び処理装置
JP3174397B2 (ja) 半導体製造方法及び半導体製造装置
JPH07321059A (ja) 熱処理装置及び熱処理方法
JP3534518B2 (ja) 半導体熱処理方法およびそれに用いる装置
JP2727090B2 (ja) 縦型熱処理装置
JPH08330245A (ja) 半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置
JPH0917739A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2986739B2 (ja) 縦型加熱処理装置における加熱処理方法
JP3313789B2 (ja) 基板処理方法及び半導体製造装置及び半導体装置の製造方法