JPH06184026A - １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オ−ルの精製方法 - Google Patents
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オ−ルの精製方法Info
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- JPH06184026A JPH06184026A JP4339917A JP33991792A JPH06184026A JP H06184026 A JPH06184026 A JP H06184026A JP 4339917 A JP4339917 A JP 4339917A JP 33991792 A JP33991792 A JP 33991792A JP H06184026 A JPH06184026 A JP H06184026A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ヘキサフルオロアセトン水和物を水素で還元
して、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパ
ン−２−オールを製造する際に副生する蒸留困難な１，
１，１−トリフルオロプロパン−２−オールを除去する
方法を提供する。 【構成】 １，１，１−トリフルオロプロパン−２−オ
ールを含有する１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパン−２−オールにヒドラジン、ヒドロキシルア
ミンなどの有機アミン化合物を添加し、ついで蒸留する
ことからなる精製方法。
して、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパ
ン−２−オールを製造する際に副生する蒸留困難な１，
１，１−トリフルオロプロパン−２−オールを除去する
方法を提供する。 【構成】 １，１，１−トリフルオロプロパン−２−オ
ールを含有する１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパン−２−オールにヒドラジン、ヒドロキシルア
ミンなどの有機アミン化合物を添加し、ついで蒸留する
ことからなる精製方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は１，１，１，３，３，３
−ヘキサフルオロプロパン−２−オ−ル（以下、「ＨＦ
ＩＰ」という。）の精製法に関する。ＨＦＩＰはそれ自
体特異な溶解力を有する溶媒として有用であるばかりで
なくＵＳＰ３，６８９，５７１号明細書に記載の麻酔剤
をはじめ医農薬、化学製品の中間体としても有用な化合
物である。
−ヘキサフルオロプロパン−２−オ−ル（以下、「ＨＦ
ＩＰ」という。）の精製法に関する。ＨＦＩＰはそれ自
体特異な溶解力を有する溶媒として有用であるばかりで
なくＵＳＰ３，６８９，５７１号明細書に記載の麻酔剤
をはじめ医農薬、化学製品の中間体としても有用な化合
物である。
【０００２】
【従来の技術】ＨＦＩＰは麻酔剤の中間体をはじめ医農
薬の中間体等に利用されるため、その規格は極めて厳し
いのが現状である。ＨＦＩＰの製造方法としては特公昭
６１−２５６９４号、特開昭５７−８１４２４号の各明
細書に記載の方法などが知られている。しかし、これら
の方法においては、ＨＦＡの一部が分解し、Ｆイオンが
遊離するため、Ｆイオンの捕捉剤として特開昭６０−６
９０４７号明細書ではアルミニウム化合物などを添加す
ることが記載されている。
薬の中間体等に利用されるため、その規格は極めて厳し
いのが現状である。ＨＦＩＰの製造方法としては特公昭
６１−２５６９４号、特開昭５７−８１４２４号の各明
細書に記載の方法などが知られている。しかし、これら
の方法においては、ＨＦＡの一部が分解し、Ｆイオンが
遊離するため、Ｆイオンの捕捉剤として特開昭６０−６
９０４７号明細書ではアルミニウム化合物などを添加す
ることが記載されている。
【０００３】従来、これらの反応によって得られたＨＦ
ＩＰを精製するには精密蒸留塔を用いて上述の分解によ
って生じた有機不純物を分離する手段が取られている。
しかしこの有機不純物は特定されておらず、その中には
目的のＨＦＩＰと共沸様挙動を示す成分が含まれるた
め、蒸留精製は高純度のＨＦＩＰを得るには回収率が低
く、したがって、生産性の悪い精製手段であった。
ＩＰを精製するには精密蒸留塔を用いて上述の分解によ
って生じた有機不純物を分離する手段が取られている。
しかしこの有機不純物は特定されておらず、その中には
目的のＨＦＩＰと共沸様挙動を示す成分が含まれるた
め、蒸留精製は高純度のＨＦＩＰを得るには回収率が低
く、したがって、生産性の悪い精製手段であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする問題点】この分解による有機
不純物でＨＦＩＰと共沸様挙動を示す成分を特定したと
ころ１，１，１−トリフルオロアセトン（以下、「ＴＦ
Ａ」という。）であることがわかった。従って、本発明
は微量ＴＦＡを含んだ粗ＨＦＩＰを蒸留操作のみに依存
しない精製法を提供するためになされた。
不純物でＨＦＩＰと共沸様挙動を示す成分を特定したと
ころ１，１，１−トリフルオロアセトン（以下、「ＴＦ
Ａ」という。）であることがわかった。従って、本発明
は微量ＴＦＡを含んだ粗ＨＦＩＰを蒸留操作のみに依存
しない精製法を提供するためになされた。
【０００５】
【問題点を解決するための具体的手段】本発明者ら、こ
の問題点を解決するためＨＦＩＰ中のＴＦＡの化学的挙
動について鋭意検討を加えたところ、粗ＨＦＩＰに特定
の有機アミン化合物を添加処理し、ついで蒸留すること
で事実上ＴＦＡを含有しないＨＦＩＰを得ることができ
ることを見出し本発明に到達した。
の問題点を解決するためＨＦＩＰ中のＴＦＡの化学的挙
動について鋭意検討を加えたところ、粗ＨＦＩＰに特定
の有機アミン化合物を添加処理し、ついで蒸留すること
で事実上ＴＦＡを含有しないＨＦＩＰを得ることができ
ることを見出し本発明に到達した。
【０００６】すなわち、本発明は、ヘキサフルオロアセ
トンまたはヘキサフルオロアセトン水和物を、触媒存在
下水素と接触せしめ製造したＴＦＡを含有するＨＦＩＰ
にヒドラジン類、ヒドロキシルアミン類、フェニルヒド
ラジン類およびセミカルバジド類などの有機アミン化合
物を添加処理し、ついで蒸留することを特徴とするＨＦ
ＩＰの精製方法である。
トンまたはヘキサフルオロアセトン水和物を、触媒存在
下水素と接触せしめ製造したＴＦＡを含有するＨＦＩＰ
にヒドラジン類、ヒドロキシルアミン類、フェニルヒド
ラジン類およびセミカルバジド類などの有機アミン化合
物を添加処理し、ついで蒸留することを特徴とするＨＦ
ＩＰの精製方法である。
【０００７】ＴＦＡはＨＦＩＰ中に存在する場合はＨＦ
ＩＰと錯体を形成し、また水と共存する場合は水和物の
形態をとり水溶液として存在するが、水とＴＦＡ以外の
不純物を含有しないＨＦＩＰ中においては、ＴＦＡは下
記の１式に示すように、通常のケトン同様有機アミン化
合物（例えば、ケトン類の定性反応等に使用される２，
３，４，５，６−ペンタフルオロベンジルオキシアミ
ン）と反応し高沸点のＴＦＡ誘導体を生成することが判
明した。そこで、ＴＦＡがその誘導体として存在する状
態で蒸留すると、ＨＦＩＰのみが蒸留液から留出するこ
とが考えられたが、実際には、留出液中のＴＦＡは殆ど
減少しなかった。
ＩＰと錯体を形成し、また水と共存する場合は水和物の
形態をとり水溶液として存在するが、水とＴＦＡ以外の
不純物を含有しないＨＦＩＰ中においては、ＴＦＡは下
記の１式に示すように、通常のケトン同様有機アミン化
合物（例えば、ケトン類の定性反応等に使用される２，
３，４，５，６−ペンタフルオロベンジルオキシアミ
ン）と反応し高沸点のＴＦＡ誘導体を生成することが判
明した。そこで、ＴＦＡがその誘導体として存在する状
態で蒸留すると、ＨＦＩＰのみが蒸留液から留出するこ
とが考えられたが、実際には、留出液中のＴＦＡは殆ど
減少しなかった。
【０００８】さらに検討を加えたところ、ヘキサフルオ
ロアセトンまたはヘキサフルオロアセトン水和物を、触
媒存在下水素と接触せしめ製造したＨＦＩＰには少量の
ＨＦＡが残存しており、その結果、粗ＨＦＩＰは強酸性
を示すために１式のＴＦＡ誘導体の生成が進行しにく
く、あるいは一旦生成したＴＦＡ誘導体も蒸留操作にお
ける加熱により分解し、再度ＴＦＡを遊離することが判
明した。 ＣＦ3ＣＯＣＨ3 ＋ ＲＮＨ2 → ＣＨ3(ＣＦ3)Ｃ＝
ＮＲ ＋ Ｈ2Ｏ （１式） （Ｉ） ところが、本発明者らは、この強酸性の系中に存在する
ＴＦＡを特定の有機アミン化合物と反応させることによ
って蒸留精製でＨＦＩＰと共沸しないで且つ高沸点のＴ
ＦＡ誘導体（Ｉ）へと導くことができることを見い出し
た。
ロアセトンまたはヘキサフルオロアセトン水和物を、触
媒存在下水素と接触せしめ製造したＨＦＩＰには少量の
ＨＦＡが残存しており、その結果、粗ＨＦＩＰは強酸性
を示すために１式のＴＦＡ誘導体の生成が進行しにく
く、あるいは一旦生成したＴＦＡ誘導体も蒸留操作にお
ける加熱により分解し、再度ＴＦＡを遊離することが判
明した。 ＣＦ3ＣＯＣＨ3 ＋ ＲＮＨ2 → ＣＨ3(ＣＦ3)Ｃ＝
ＮＲ ＋ Ｈ2Ｏ （１式） （Ｉ） ところが、本発明者らは、この強酸性の系中に存在する
ＴＦＡを特定の有機アミン化合物と反応させることによ
って蒸留精製でＨＦＩＰと共沸しないで且つ高沸点のＴ
ＦＡ誘導体（Ｉ）へと導くことができることを見い出し
た。
【０００９】したがって、本発明によれば粗ＨＦＩＰに
有機アミン化合物を添加し、蒸留するだけで極めて高純
度のＨＦＩＰが高収率で回収できるという効果を奏す
る。本発明において使用できる有機アミン化合物として
はヒドラジン類、ヒドロキシルアミン類、フェニルヒド
ラジン類、セミカルバジド類などを挙げることができ
る。ヒドラジン類としては、抱水ヒドラジン、ヒドラジ
ンまたはそのモノ塩酸塩、ジ塩酸塩、硫酸塩、臭化水素
酸塩、酢酸塩もしくは酒石酸塩ならびに中性硫酸ヒドラ
ジン、メチルヒドラジンまたはその硫酸塩などが例示で
きる。ヒドロキシルアミン類としては、ヒドロキシルア
ミンまたはその塩酸塩、硫酸塩、蓚酸塩もしくは燐酸塩
ならびに硫酸−０−ヒドロキシルアミン、塩酸−０−メ
チルヒドロキシルアミンなどが例示できる。フェニルヒ
ドラジン類としては２−、３−または４−フェニルヒド
ラジンおよびそれらの塩酸塩、硫酸塩または蓚酸塩なら
びにフェニルヒドラジン−ｐ−スルホン酸、２，４−ジ
ニトロフェニルヒドラジンおよび２，３，４，５−テト
ラクロロ−６−ニトロフェニルヒドラジンなどを例示で
きる。また、セミカルバジド類としては、セミカルバジ
ドまたはその塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸性硫酸塩、蟻
酸塩、酸性シュウ酸塩、無水マレイン酸塩、マレイン酸
塩、ピクラートなどの塩ならびに１−アセチルセミカル
バジド、４−フェニル−１−アセチルセミカルバジド、
４−メチル−１−アセチルセミカルバジド、１−クロロ
アセチルセミカルバジド、１−ジクロロアセチルセミカ
ルバジド、１−トリクロロアセチルセミカルバジド、１
−クロロアセチル−１−フェニルセミカルバジド、１−
ジクロロアセチル−１−フェニルセミカルバジド、４−
（ｐ−ブロモフェニル）−１−ジクロロセミカルバジ
ド、１−（トリクロロメチル）スルホンセミカルバジド
およびチオセミカルバジドなどを例示することができ
る。
有機アミン化合物を添加し、蒸留するだけで極めて高純
度のＨＦＩＰが高収率で回収できるという効果を奏す
る。本発明において使用できる有機アミン化合物として
はヒドラジン類、ヒドロキシルアミン類、フェニルヒド
ラジン類、セミカルバジド類などを挙げることができ
る。ヒドラジン類としては、抱水ヒドラジン、ヒドラジ
ンまたはそのモノ塩酸塩、ジ塩酸塩、硫酸塩、臭化水素
酸塩、酢酸塩もしくは酒石酸塩ならびに中性硫酸ヒドラ
ジン、メチルヒドラジンまたはその硫酸塩などが例示で
きる。ヒドロキシルアミン類としては、ヒドロキシルア
ミンまたはその塩酸塩、硫酸塩、蓚酸塩もしくは燐酸塩
ならびに硫酸−０−ヒドロキシルアミン、塩酸−０−メ
チルヒドロキシルアミンなどが例示できる。フェニルヒ
ドラジン類としては２−、３−または４−フェニルヒド
ラジンおよびそれらの塩酸塩、硫酸塩または蓚酸塩なら
びにフェニルヒドラジン−ｐ−スルホン酸、２，４−ジ
ニトロフェニルヒドラジンおよび２，３，４，５−テト
ラクロロ−６−ニトロフェニルヒドラジンなどを例示で
きる。また、セミカルバジド類としては、セミカルバジ
ドまたはその塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸性硫酸塩、蟻
酸塩、酸性シュウ酸塩、無水マレイン酸塩、マレイン酸
塩、ピクラートなどの塩ならびに１−アセチルセミカル
バジド、４−フェニル−１−アセチルセミカルバジド、
４−メチル−１−アセチルセミカルバジド、１−クロロ
アセチルセミカルバジド、１−ジクロロアセチルセミカ
ルバジド、１−トリクロロアセチルセミカルバジド、１
−クロロアセチル−１−フェニルセミカルバジド、１−
ジクロロアセチル−１−フェニルセミカルバジド、４−
（ｐ−ブロモフェニル）−１−ジクロロセミカルバジ
ド、１−（トリクロロメチル）スルホンセミカルバジド
およびチオセミカルバジドなどを例示することができ
る。
【００１０】これらの有機アミン化合物の使用量は含有
ＴＦＡ量に対して当モルから３モル当量でよく、当モル
から１．５モル等量の範囲が好ましい。有機アミン化合
物が過剰であることは不必要であるばかりでなく、場合
によっては精製ＨＦＩＰに着臭することがあり好ましく
ない。また、必要に応じて塩酸ヒドロキシルアミン、硫
酸ヒドロキシルアミン、セミカルバジド塩酸塩などの塩
から有機アミンを遊離させるために酢酸ナトリウム等の
塩基を当量添加する。
ＴＦＡ量に対して当モルから３モル当量でよく、当モル
から１．５モル等量の範囲が好ましい。有機アミン化合
物が過剰であることは不必要であるばかりでなく、場合
によっては精製ＨＦＩＰに着臭することがあり好ましく
ない。また、必要に応じて塩酸ヒドロキシルアミン、硫
酸ヒドロキシルアミン、セミカルバジド塩酸塩などの塩
から有機アミンを遊離させるために酢酸ナトリウム等の
塩基を当量添加する。
【００１１】本発明の精製方法を適用する粗ＨＦＩＰ
は、ヘキサフルオロアセトンなどを還元反応に付して得
られたなんら精製処理を施していない粗生成物であって
もよく、またはあらかじめ蒸留などの他の精製手段によ
って実質上ＴＦＡ以外の有機不純物を除去したものであ
ってもよい。なお、処理温度はＴＦＡと有機アミン化合
物が粗ＨＦＩＰ中で反応するためには１０℃以上、１０
０℃以下が望ましいが通常のＨＦＩＰの蒸留温度で十分
である。
は、ヘキサフルオロアセトンなどを還元反応に付して得
られたなんら精製処理を施していない粗生成物であって
もよく、またはあらかじめ蒸留などの他の精製手段によ
って実質上ＴＦＡ以外の有機不純物を除去したものであ
ってもよい。なお、処理温度はＴＦＡと有機アミン化合
物が粗ＨＦＩＰ中で反応するためには１０℃以上、１０
０℃以下が望ましいが通常のＨＦＩＰの蒸留温度で十分
である。
【００１２】以下、実施例により本発明を具体的に説明
する。
する。
【００１３】
【実施例】分析はいずれもガスクロマトグラフィ−によ
り、下記の条件で行なった。 ガスクロマトグラフィ−条件 カラム ： ＨＰ−ＦＦＡＰ ５０ｍ−０．２ｍ
ｍ−０．３３μｍ オ−ブン温度 ： ５０℃〜２００℃ 検出器 ： ＴＣＤ（熱伝導度検出器） ［実施例１］ヘキサフルオロアセトン水和物（ＨＦＡ・
３Ｗ）４００ｇを5%Ｐｄ／Ａｌ2Ｏ3 触媒２ｇの存在下、
水素圧５ｋｇ／ｃｍ2、９７〜９９℃で８時間反応を行
なった後、固形分を濾過により除去した反応生成液（粗
ＨＦＩＰ）の主な組成は以下の通りであった。
り、下記の条件で行なった。 ガスクロマトグラフィ−条件 カラム ： ＨＰ−ＦＦＡＰ ５０ｍ−０．２ｍ
ｍ−０．３３μｍ オ−ブン温度 ： ５０℃〜２００℃ 検出器 ： ＴＣＤ（熱伝導度検出器） ［実施例１］ヘキサフルオロアセトン水和物（ＨＦＡ・
３Ｗ）４００ｇを5%Ｐｄ／Ａｌ2Ｏ3 触媒２ｇの存在下、
水素圧５ｋｇ／ｃｍ2、９７〜９９℃で８時間反応を行
なった後、固形分を濾過により除去した反応生成液（粗
ＨＦＩＰ）の主な組成は以下の通りであった。
【００１４】 ＴＦＡ ０．１３％ ＨＦＩＰ ７６．１５％ ＨＦＡ・３Ｗ ０．１５％ Ｈ2Ｏ ２０．９８％ このうち１００ｇに粗ＨＦＩＰ中のＴＦＡ含有量の１．
１モル当量に相当する抱水ヒドラジン０．０８ｇを添加
して加熱還流下１時間攪拌したところＴＦＡは完全に消
失したのでこの抱水ヒドラジン処理後の反応液を塔高３
０ｃｍの充填塔の付いた蒸留装置で３時間全還流したの
ち還流比４で留出させたところＴＦＡを含んだ初留分は
全くなく、始めから主留を得ることができ純度９９．９
９９％のＨＦＩＰを７１ｇ得た。（蒸留収率９３％） ［実施例２］ヘキサフルオロアセトン水和物（ＨＦＡ・
３Ｗ）４００ｇを5%Ｐｄ／Ｃ触媒２ｇの存在下、Ｆイオ
ン捕捉剤としてＡｌ（ＯＨ）3を０．０５ｗｔ％添加し
水素圧５ｋｇ／ｃｍ2、９７〜９９℃で８時間反応を行
なった後、固形分を濾過により除去した粗ＨＦＩＰの主
な組成は以下の通りであった。
１モル当量に相当する抱水ヒドラジン０．０８ｇを添加
して加熱還流下１時間攪拌したところＴＦＡは完全に消
失したのでこの抱水ヒドラジン処理後の反応液を塔高３
０ｃｍの充填塔の付いた蒸留装置で３時間全還流したの
ち還流比４で留出させたところＴＦＡを含んだ初留分は
全くなく、始めから主留を得ることができ純度９９．９
９９％のＨＦＩＰを７１ｇ得た。（蒸留収率９３％） ［実施例２］ヘキサフルオロアセトン水和物（ＨＦＡ・
３Ｗ）４００ｇを5%Ｐｄ／Ｃ触媒２ｇの存在下、Ｆイオ
ン捕捉剤としてＡｌ（ＯＨ）3を０．０５ｗｔ％添加し
水素圧５ｋｇ／ｃｍ2、９７〜９９℃で８時間反応を行
なった後、固形分を濾過により除去した粗ＨＦＩＰの主
な組成は以下の通りであった。
【００１５】 ＴＦＡ ０．０２％ ＨＦＩＰ ７８．１３％ ＨＦＡ・３Ｗ ｔｒａｃｅ Ｈ2Ｏ ２０．６２％ このうち１００ｇに粗ＨＦＩＰ中のＴＦＡ含有量の１．
１モル当量に相当する抱水ヒドラジン０．０１ｇを添加
後、直ちに３０ｃｍの充填塔の付いた蒸留装置で３時間
全還流したのち還流比４で留出させたところＴＦＡを含
んだ初留分は全くなく、始めから主留を得ることができ
純度９９．９９９％のＨＦＩＰを６９ｇ得た。（蒸留収
率８８％） ［実施例３］実施例１の粗ＨＦＩＰの１００ｇにＴＦＡ
含有量の１．１モル等量に相当する塩酸ヒドロキシルア
ミン０．０９ｇを添加して加熱還流下１時間攪拌したと
ころＴＦＡは完全に消失したのでこの塩酸ヒドロキシル
アミン処理後の粗ＨＦＩＰを塔高３０ｃｍの充填塔の付
いた蒸留装置で３時間全還流したのち還流比４で留出さ
せたところＴＦＡを含んだ初留分は全くなく、初めから
主留をえることができ純度９９．９９９％のＨＦＩＰを
６９ｇ得た。（蒸留収率９０％） ［実施例４］実施例２の粗ＨＦＩＰの１００ｇにＴＦＡ
含有量の１．１モル等量に相当するセミカルバジド塩酸
塩０．０２ｇおよび酢酸ナトリウム０．０３ｇを添加し
て加熱還流下１時間攪拌したところＴＦＡは完全に消失
したのでこのセミカルバジド塩酸塩処理後の粗ＨＦＩＰ
を塔高３０ｃｍの充填塔の付いた蒸留装置で３時間全還
流したのち還流比４で留出させたところＴＦＡを含んだ
初留分は全くなく、初めから主留をえることができ純度
９９．９９９％のＨＦＩＰを６９ｇ得た。（蒸留収率８
３％） ［比較例１］ＨＦＡ・３Ｗ ２００ｇを5%Ｐｄ／Ａｌ2
Ｏ3 触媒１ｇの存在下水素圧５ｋｇ／ｃｍ2、９７〜９
９℃で８時間反応を行なった後、固形分を濾過により除
去した粗ＨＦＩＰの主な組成は以下の通りであった。
１モル当量に相当する抱水ヒドラジン０．０１ｇを添加
後、直ちに３０ｃｍの充填塔の付いた蒸留装置で３時間
全還流したのち還流比４で留出させたところＴＦＡを含
んだ初留分は全くなく、始めから主留を得ることができ
純度９９．９９９％のＨＦＩＰを６９ｇ得た。（蒸留収
率８８％） ［実施例３］実施例１の粗ＨＦＩＰの１００ｇにＴＦＡ
含有量の１．１モル等量に相当する塩酸ヒドロキシルア
ミン０．０９ｇを添加して加熱還流下１時間攪拌したと
ころＴＦＡは完全に消失したのでこの塩酸ヒドロキシル
アミン処理後の粗ＨＦＩＰを塔高３０ｃｍの充填塔の付
いた蒸留装置で３時間全還流したのち還流比４で留出さ
せたところＴＦＡを含んだ初留分は全くなく、初めから
主留をえることができ純度９９．９９９％のＨＦＩＰを
６９ｇ得た。（蒸留収率９０％） ［実施例４］実施例２の粗ＨＦＩＰの１００ｇにＴＦＡ
含有量の１．１モル等量に相当するセミカルバジド塩酸
塩０．０２ｇおよび酢酸ナトリウム０．０３ｇを添加し
て加熱還流下１時間攪拌したところＴＦＡは完全に消失
したのでこのセミカルバジド塩酸塩処理後の粗ＨＦＩＰ
を塔高３０ｃｍの充填塔の付いた蒸留装置で３時間全還
流したのち還流比４で留出させたところＴＦＡを含んだ
初留分は全くなく、初めから主留をえることができ純度
９９．９９９％のＨＦＩＰを６９ｇ得た。（蒸留収率８
３％） ［比較例１］ＨＦＡ・３Ｗ ２００ｇを5%Ｐｄ／Ａｌ2
Ｏ3 触媒１ｇの存在下水素圧５ｋｇ／ｃｍ2、９７〜９
９℃で８時間反応を行なった後、固形分を濾過により除
去した粗ＨＦＩＰの主な組成は以下の通りであった。
【００１６】 ＴＦＡ ０．１５％ ＨＦＩＰ ７９．３２％ ＨＦＡ・３Ｗ ｔｒａｃｅ Ｈ2Ｏ １９．４６％ この粗ＨＦＩＰの１７０ｇをそのまま塔高１ｍの充填塔
の付いた精密蒸留装置で３時間全還流したのち還流比４
で留出させたにもかかわらず、留分にはＴＦＡが混入し
ており（０．０３〜０．６８％）、純度９９．９９％以
上のＨＦＩＰ留分を得ることができなかった。
の付いた精密蒸留装置で３時間全還流したのち還流比４
で留出させたにもかかわらず、留分にはＴＦＡが混入し
ており（０．０３〜０．６８％）、純度９９．９９％以
上のＨＦＩＰ留分を得ることができなかった。
【００１７】また、この粗ＨＦＩＰの８０ｇにＴＦＡ含
有量の１．１モルに相当する塩酸２，３，４，５，６−
ペンタフルオロベンジルオキシアミン０．２９ｇを添加
して加熱還流下１時間攪拌したところＴＦＡは完全に消
失したにも拘わらず、この塩酸２，３，４，５，６−ペ
ンタフルオロベンジルオキシアミン処理後の粗ＨＦＩＰ
を塔高３０ｃｍの充填塔の付いた蒸留装置で３時間全還
流したのち還流比４で留出させたところ留分にはＴＦＡ
が混入しており（０．０５〜０．２０％）純度９９．９
９％以上のＨＦＩＰ留分を得ることができなかった。
有量の１．１モルに相当する塩酸２，３，４，５，６−
ペンタフルオロベンジルオキシアミン０．２９ｇを添加
して加熱還流下１時間攪拌したところＴＦＡは完全に消
失したにも拘わらず、この塩酸２，３，４，５，６−ペ
ンタフルオロベンジルオキシアミン処理後の粗ＨＦＩＰ
を塔高３０ｃｍの充填塔の付いた蒸留装置で３時間全還
流したのち還流比４で留出させたところ留分にはＴＦＡ
が混入しており（０．０５〜０．２０％）純度９９．９
９％以上のＨＦＩＰ留分を得ることができなかった。
【００１８】
【発明の効果】本発明の方法によると、ＴＦＡを含有す
るＨＦＩＰに有機アミン化合物を添加し蒸留するという
簡単な処理を行うことで、容易に医農薬等の原料として
有用な高純度のＨＦＩＰを効率よく回収することができ
る。
るＨＦＩＰに有機アミン化合物を添加し蒸留するという
簡単な処理を行うことで、容易に医農薬等の原料として
有用な高純度のＨＦＩＰを効率よく回収することができ
る。
Claims (4)
- 【請求項１】 ヘキサフルオロアセトンまたはヘキサフ
ルオロアセトン水和物を、触媒存在下水素と接触させて
製造した少なくとも１，１，１−トリフルオロアセトン
を含有する粗１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ
プロパン−２−オ−ルを有機アミン化合物で処理し、つ
いで蒸留することを特徴とする１，１，１，３，３，３
−ヘキサフルオロプロパン−２−オ−ルの精製方法 - 【請求項２】 有機アミン化合物が、ヒドラジン類、ヒ
ドロキシルアミン類、フェニルヒドラジン類およびセミ
カルバジド類から選ばれた１種以上の有機アミン化合物
である請求項１記載の１，１，１，３，３，３−ヘキサ
フルオロプロパン−２−オ−ルの精製方法 - 【請求項３】 粗１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロプロパン−２−オ−ルに有機アミン化合物を添加し
て加熱し、ついで蒸留することを特徴とする請求項１記
載の１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン
−２−オ−ルの精製方法 - 【請求項４】 粗１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロプロパン−２−オ−ルが、あらかじめ精製され実質
上１，１，１−トリフルオロアセトン以外の有機不純物
を含有しない粗１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパン−２−オ−ルである請求項１記載の１，１，
１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オ−ル
の精製方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4339917A JPH06184026A (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オ−ルの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4339917A JPH06184026A (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オ−ルの精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06184026A true JPH06184026A (ja) | 1994-07-05 |
Family
ID=18331991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4339917A Pending JPH06184026A (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オ−ルの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06184026A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005077873A1 (en) | 2004-02-04 | 2005-08-25 | Halocarbon Products Corporation | Purification of 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropanol |
| WO2015146553A1 (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-01 | セントラル硝子株式会社 | １，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－ｔｅｒｔ－ブタノールの製造方法 |
| US9637435B1 (en) | 2016-11-16 | 2017-05-02 | Central Glass Company, Limited | Method for producing hexafluoroisopropanol and fluoromethyl hexafluoroisopropyl ether (sevoflurane) |
-
1992
- 1992-12-21 JP JP4339917A patent/JPH06184026A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005077873A1 (en) | 2004-02-04 | 2005-08-25 | Halocarbon Products Corporation | Purification of 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropanol |
| JP2007520561A (ja) * | 2004-02-04 | 2007-07-26 | ヘイロウカーボン プロダクツ コーポレイション | １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロパノールの精製 |
| EP1711449A4 (en) * | 2004-02-04 | 2008-02-20 | Halocarbon Prod Corp | PURIFICATION OF 1,1,1,3,3,3-HEXAFLUOROISOPROPANOL |
| EP2275396A3 (en) * | 2004-02-04 | 2011-03-02 | Halocarbon Products Corporation | Purification of 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropanol |
| WO2015146553A1 (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-01 | セントラル硝子株式会社 | １，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－ｔｅｒｔ－ブタノールの製造方法 |
| US9637435B1 (en) | 2016-11-16 | 2017-05-02 | Central Glass Company, Limited | Method for producing hexafluoroisopropanol and fluoromethyl hexafluoroisopropyl ether (sevoflurane) |
| EP3323798A1 (en) | 2016-11-16 | 2018-05-23 | Central Glass Company, Limited | Method for producing hexafluoroisopropanol and fluoromethyl hexafluoroisopropyl ether (sevoflurane) |
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