JPH06179897A - 洗浄用溶剤 - Google Patents

洗浄用溶剤

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JPH06179897A
JPH06179897A JP33421992A JP33421992A JPH06179897A JP H06179897 A JPH06179897 A JP H06179897A JP 33421992 A JP33421992 A JP 33421992A JP 33421992 A JP33421992 A JP 33421992A JP H06179897 A JPH06179897 A JP H06179897A
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JP
Japan
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cleaning solvent
acetate
cleaning
methyl
examples
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP33421992A
Other languages
English (en)
Inventor
Izumi Yamashita
泉 山下
Fumio Muranaka
文男 村中
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH06179897A publication Critical patent/JPH06179897A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 1,1,1,2,3,3,4−ヘプタフルオ
ロペンタンを有効成分とする洗浄用溶剤。 【効果】 本発明は、オゾン層破壊能の高いフロン11
3に代わる有用な洗浄用溶剤である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は精密機械部品、光学機械
部品等の加工時に使用される加工油類、電気電子部品の
はんだ付け時に使用されるフラックス及び衣類の汚れを
除去するのに好適な洗浄用溶剤に関するものである。
【0002】
【従来の技術】精密機械部品、光学機械部品等の加工時
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜
油、熱処理油、防錆油、ワックス、潤滑油、グリース等
が使われるが、これらの油脂類は最終的には除去される
必要があり、溶剤による除去が一般的に行なわれてい
る。
【0003】電子回路の接合方法としては、はんだ付け
が最も一般的に行なわれているが、はんだ付けすべき金
属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、はんだのぬ
れ性改良等の目的で、ロジンを主成分としたフラックス
ではんだ付け面を予め処理することが通常行なわれてい
る。はんだ付けの方法としては、溶液状のフラックス中
に基板をディップする等により、フラックスを基板面に
供給した後、溶融はんだを供給する方法や、予めフラッ
クスとはんだの粉末を混合してペースト状にしたものを
はんだ付けすべき場所に供給した後加熱する方法等があ
るが、いずれにしても、フラックス残渣は金属の腐食、
絶縁性の低下等の原因となるため、はんだ付け終了後、
十分に除去する必要がある。
【0004】又、衣類の洗浄にも、洗浄力が良く乾燥性
が優れている等の理由により、溶剤による洗浄(ドライ
クリーニング)が広く普及している。これらの用途に
は、不燃性で毒性が低く、化学的に安定で、油脂類やフ
ラックスに対する溶解性が優れ、且つ、ゴム、ブラスチ
ック、金属、衣類等の材質への影響が小さい等、多くの
特徴を有することから、1,1,2−トリクロロ−1,
2,2−トリフルオロエタン(以下R113という)が
広く使われている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記の如く、R113
は多くの優れた特徴を有しているが、化学的に安定で対
流圏内での寿命が長く、成層圏に達してはじめて強い紫
外線により分解され塩素を放出しオゾン層を破壊するた
め、地上に達する有害な紫外線を増加させる結果、人類
を含む地球上の生態系に深刻な影響を与えることが近年
指摘されている。このため、R113等オゾン破壊能の
高いフロンについて生産と消費を規制し、更に全廃する
という国際的な動きが活発になっている。本発明は、こ
れらの動きに対応して、オゾン破壊能がなく、しかもR
113の有する優れた特性を保持した新しい洗浄用溶剤
を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するための新しい洗浄用溶剤を提供するものであり、
1,1,1,2,3,3,4−ヘプタフルオロペンタン
を有効成分とするものである。本発明の洗浄用溶剤に
は、必要に応じて、炭化水素類、アルコール類、ケトン
類、エーテル類、エステル類、塩素化炭化水素等の有機
溶剤から選ばれる少なくとも1種を含有させることがで
きる。これら有機溶剤の添加量は50重量%以下が好ま
しいが、共沸組成が存在する時はその近辺で使用するこ
とが好ましい。
【0007】炭化水素類としては、炭素数5〜15の鎖
状又は環状の飽和又は不飽和炭化水素類が好ましく、例
えば、n−ペンタン、2−メチルブタン、n−ヘキサ
ン、2−メチルペンタン、2,2−ジメチルブタン、
2,3−ジメチルブタン、n−ヘプタン、2−メチルヘ
キサン、3−メチルヘキサン、2,3−ジメチルペンタ
ン、2,4−ジメチルペンタン、n−オクタン、2,
2,3−トリメチルペンタン、イソオクタン、n−ノナ
ン、2,2,5−トリメチルヘキサン、デカン、ドデカ
ン、1−ペンテン、2−ペンテン、1−ヘキセン、1−
ヘプテン、1−ノネン、1−デセン、シクロペンタン、
メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロ
ヘキサン、エチルシクロヘキサン、パラメンタン、シク
ロヘキセン、α−ピネン、ジペンテン、デカリン、石油
エーテル、石油ベンジン、リグロイン、ガソリン、灯油
等が挙げられる。
【0008】アルコール類としては、例えば、メタノー
ル、エタノール、1−プロパノール、イソプロパノー
ル、1−プタノール、2−ブタノール、イソブタノー
ル、t−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノ
ール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノー
ル、イソペンチルアルコール、t−ペンチルアルコー
ル、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコ
ール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペンタノー
ル、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−1−
ブタノール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3
−ヘプタノール、1−オクタノール、2−オクタノー
ル、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノール、
1−デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデカノー
ル、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、
エチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げら
れる。
【0009】ケトン類としては、例えば、アセトン、メ
チルエチルケトン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、
メチルイソプチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタ
ノン、ジイソプチルケトン、ホロン、イソホロン、シク
ロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等が挙げられ
る。エーテル類としては、例えばジエチルエーテル、ジ
プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチル
エーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
【0010】エステル類としては、例えば、ギ酸メチ
ル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸ペン
チル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イ
ソプロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペン
チル、3−メトキシブチルアセテート、酢酸sec−ヘ
キシル、2−エチルブチルアセテート、2−エチルヘキ
シルアセテート、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸メ
チル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロ
ピオン酸イソペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、イソ
吉草酸エチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。
【0011】塩素化炭化水素類としては、例えば、塩化
メチレン、1,1−ジクロルエタン、1,2−ジクロル
エタン、1,1−ジクロルエチレン、1,2−ジクロル
エチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン
等が挙げられる。本発明の洗浄剤には、必要に応じて各
種助剤、例えば、界面活性剤、静電気防止剤、防錆剤等
を添加することができる。
【0012】
【実施例】次に、本発明の実施例を示す。
【0013】
【実施例1】染料で着色した切削油(日本石油株式会社
製、ユニカットGH35)を塗布したステンレス製金網
(30メッシュ)を洗浄剤に5分間浸漬した後取り出
し、金網への切削油の残存状態を目視観察した。結果を
表1に示す。
【0014】
【実施例2】ガラスエポキシ製プリント基板をフラック
ス(タムラ化研製、F−320V)に浸し風乾した後、
250℃ではんだ付けして作成した試験片を洗浄剤に5
分間浸し超音波洗浄した後取り出し、フラックスの残存
状態を目視により観察した。結果を表2に示す。
【0015】
【実施例3】上島製作所製洗浄テスト機を用い、テスト
ファブリック社のカーボン汚染布(ウール)を23℃
下、10分間洗浄し、洗浄効果の目視検査を行い、判定
結果を表3に示す。
【0016】
【表1】
【0017】
【表2】
【0018】
【表3】
【0019】
【発明の効果】実施例から明らかなように、本発明の洗
浄用溶剤は、オゾン層破壊能の高いR113に代わる洗
浄用溶剤として有用である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 1,1,1,2,3,3,4−ヘプタフ
    ルオロペンタンを有効成分として含む洗浄用溶剤。
JP33421992A 1992-12-15 1992-12-15 洗浄用溶剤 Withdrawn JPH06179897A (ja)

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JP33421992A JPH06179897A (ja) 1992-12-15 1992-12-15 洗浄用溶剤

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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US8021490B2 (en) 2007-01-04 2011-09-20 Eastman Chemical Company Substrate cleaning processes through the use of solvents and systems
CN108085178A (zh) * 2017-12-27 2018-05-29 山东泰丰清洗科技有限公司 一种绿色环保型带电清洗剂及其制备工艺

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