JPH05214377A - 2h,4h−パーフルオロペンタン洗浄用溶剤 - Google Patents
2h,4h−パーフルオロペンタン洗浄用溶剤Info
- Publication number
- JPH05214377A JPH05214377A JP1974292A JP1974292A JPH05214377A JP H05214377 A JPH05214377 A JP H05214377A JP 1974292 A JP1974292 A JP 1974292A JP 1974292 A JP1974292 A JP 1974292A JP H05214377 A JPH05214377 A JP H05214377A
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- Japan
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- perfluoropentane
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- cleaning solvent
- acetate
- cleaning
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 2H,4H−パーフルオロペンタンを有効成
分とする洗浄用溶剤。 【効果】 本発明洗浄剤はオゾン層破壊能の高いフロン
113に代わる洗浄用溶剤として有用である。
分とする洗浄用溶剤。 【効果】 本発明洗浄剤はオゾン層破壊能の高いフロン
113に代わる洗浄用溶剤として有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は精密機械部品、光学機械
部品等の加工時に使用される加工油類、電気電子部品の
はんだ付け時に使用されるフラックス、及び衣類の汚れ
を除去するのに好適な洗浄用溶剤に関するものである。
部品等の加工時に使用される加工油類、電気電子部品の
はんだ付け時に使用されるフラックス、及び衣類の汚れ
を除去するのに好適な洗浄用溶剤に関するものである。
【0002】
【従来の技術】精密機械部品、光学機械部品等の加工時
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜
油、熱処理油、防錆油、ワックス、潤滑油、グリース等
が使われるが、これらの油脂類は最終的には除去される
必要があり、溶剤による除去が一般的に行なわれてい
る。 電子回路の接合方法としては、はんだ付けが最も
一般的に行なわれているが、はんだ付けすべき金属表面
の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、はんだのぬれ性改
良等の目的で、ロジンを主成分としたフラックスではん
だ付け面を予め処理することが通常行なわれている。は
んだ付けの方法としては、溶液状のフラックス中に基板
をディップする等により、フラックスを基板面に供給し
た後、溶融はんだを供給する方法や、予めフラックスと
はんだの粉末を混合してペースト状にしたものをはんだ
付けすべき場所に供給した後加熱する方法等があるが、
いずれにしても、フラックス残渣は金属の腐食、絶縁性
の低下等の原因となるため、はんだ付け終了後、十分に
除去する必要がある。
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜
油、熱処理油、防錆油、ワックス、潤滑油、グリース等
が使われるが、これらの油脂類は最終的には除去される
必要があり、溶剤による除去が一般的に行なわれてい
る。 電子回路の接合方法としては、はんだ付けが最も
一般的に行なわれているが、はんだ付けすべき金属表面
の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、はんだのぬれ性改
良等の目的で、ロジンを主成分としたフラックスではん
だ付け面を予め処理することが通常行なわれている。は
んだ付けの方法としては、溶液状のフラックス中に基板
をディップする等により、フラックスを基板面に供給し
た後、溶融はんだを供給する方法や、予めフラックスと
はんだの粉末を混合してペースト状にしたものをはんだ
付けすべき場所に供給した後加熱する方法等があるが、
いずれにしても、フラックス残渣は金属の腐食、絶縁性
の低下等の原因となるため、はんだ付け終了後、十分に
除去する必要がある。
【0003】又、衣類の洗浄にも、洗浄力が良く乾燥性
が優れている等の理由により、溶剤による洗浄(ドライ
クリーニング)が広く普及している。これらの用途に
は、不燃性で毒性が低く、化学的に安定で、油脂類やフ
ラックスに対する溶解性が優れ、かつ、ゴム、ブラスチ
ック、金属、衣類等の材質への影響が小さい等、多くの
特徴を有することから、1,1,2−トリクロロ−1,
2,2−トリフルオロエタン(以下R113という)が
広く使われている。
が優れている等の理由により、溶剤による洗浄(ドライ
クリーニング)が広く普及している。これらの用途に
は、不燃性で毒性が低く、化学的に安定で、油脂類やフ
ラックスに対する溶解性が優れ、かつ、ゴム、ブラスチ
ック、金属、衣類等の材質への影響が小さい等、多くの
特徴を有することから、1,1,2−トリクロロ−1,
2,2−トリフルオロエタン(以下R113という)が
広く使われている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の如く、R113
は多くの優れた特徴を有している。しかしながら、化学
的に非常に安定で対流圏内での寿命が長く、成層圏に達
してはじめて強い紫外線により分解され塩素を放出しオ
ゾン層を破壊するため、地上に達する有害な紫外線を増
加させる結果、人類を含む地球上の生態系に深刻な影響
を与えることが近年指摘されている。 このため、R1
13等オゾン破壊能の高いフロンについて生産と消費を
規制し、更に全廃するという国際的な動きが活発になっ
ている。本発明は、これらの動きに対応して、オゾン破
壊能がなく、しかもR113の有する優れた特性を保持
した新しい洗浄用溶剤を提供するものである。
は多くの優れた特徴を有している。しかしながら、化学
的に非常に安定で対流圏内での寿命が長く、成層圏に達
してはじめて強い紫外線により分解され塩素を放出しオ
ゾン層を破壊するため、地上に達する有害な紫外線を増
加させる結果、人類を含む地球上の生態系に深刻な影響
を与えることが近年指摘されている。 このため、R1
13等オゾン破壊能の高いフロンについて生産と消費を
規制し、更に全廃するという国際的な動きが活発になっ
ている。本発明は、これらの動きに対応して、オゾン破
壊能がなく、しかもR113の有する優れた特性を保持
した新しい洗浄用溶剤を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するための新しい洗浄用溶剤を提供するものである。
すなわち、本発明は2H,4H−パーフルオロペンタン
を有効成分として含むことを特徴とする洗浄用溶剤であ
る。以下、本発明を説明する。
成するための新しい洗浄用溶剤を提供するものである。
すなわち、本発明は2H,4H−パーフルオロペンタン
を有効成分として含むことを特徴とする洗浄用溶剤であ
る。以下、本発明を説明する。
【0006】本発明の洗浄用溶剤には有効成分として5
0重量%以上の2H,4H−パーフルオロペンタンを含
むことが好ましい。さらに好ましくは70重量%以上で
ある。本発明の洗浄用溶剤には、必要に応じて、炭化水
素類、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル
類、塩素化炭化水素等の有機溶剤から選ばれる少なくと
も1種を含有させることができる。これらの有機溶剤の
添加量は50重量%未満が好ましいが、共沸組成が存在
する時はその近辺で使用することが好ましい。
0重量%以上の2H,4H−パーフルオロペンタンを含
むことが好ましい。さらに好ましくは70重量%以上で
ある。本発明の洗浄用溶剤には、必要に応じて、炭化水
素類、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル
類、塩素化炭化水素等の有機溶剤から選ばれる少なくと
も1種を含有させることができる。これらの有機溶剤の
添加量は50重量%未満が好ましいが、共沸組成が存在
する時はその近辺で使用することが好ましい。
【0007】炭化水素類としては、炭素数5〜15の鎖
状又は環状の飽和又は不飽和炭化水素類が好ましく、例
えば、n−ペンタン、2−メチルブタン、n−ヘキサ
ン、2−メチルペンタン、2,2−ジメチルブタン、
2,3−ジメチルブタン、n−ヘプタン、2−メチルヘ
キサン、3−メチルヘキサン、2,3−ジメチルペンタ
ン、2,4−ジメチルペンタン、n−オクタン、2,
2,3−トリメチルペンタン、イソオクタン、n−ノナ
ン、2,2,5−トリメチルヘキサン、デカン、ドデカ
ン、1−ペンテン、2−ペンテン、1−ヘキセン、1−
ヘプテン、1−ノネン、1−デセン、シクロペンタン、
メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロ
ヘキサン、エチルシクロヘキサン、パラメンタン、シク
ロヘキセン、α−ピネン、ジペンテン、デカリン、石油
エーテル、石油ベンジン、リグロイン、ガソリン、灯油
等が挙げられる。
状又は環状の飽和又は不飽和炭化水素類が好ましく、例
えば、n−ペンタン、2−メチルブタン、n−ヘキサ
ン、2−メチルペンタン、2,2−ジメチルブタン、
2,3−ジメチルブタン、n−ヘプタン、2−メチルヘ
キサン、3−メチルヘキサン、2,3−ジメチルペンタ
ン、2,4−ジメチルペンタン、n−オクタン、2,
2,3−トリメチルペンタン、イソオクタン、n−ノナ
ン、2,2,5−トリメチルヘキサン、デカン、ドデカ
ン、1−ペンテン、2−ペンテン、1−ヘキセン、1−
ヘプテン、1−ノネン、1−デセン、シクロペンタン、
メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロ
ヘキサン、エチルシクロヘキサン、パラメンタン、シク
ロヘキセン、α−ピネン、ジペンテン、デカリン、石油
エーテル、石油ベンジン、リグロイン、ガソリン、灯油
等が挙げられる。
【0008】アルコール類としては、例えば、メタノー
ル、エタノール、1−プロパノール、イソプロパノー
ル、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブタノー
ル、t−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノ
ール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノー
ル、イソペンチルアルコール、t−ペンチルアルコー
ル、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコ
ール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペンタノー
ル、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−1−
ブタノール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3
−ヘプタノール、1−オクタノール、2−オクタノー
ル、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノール、
1−デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデカノー
ル、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、
エチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げら
れる。
ル、エタノール、1−プロパノール、イソプロパノー
ル、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブタノー
ル、t−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノ
ール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノー
ル、イソペンチルアルコール、t−ペンチルアルコー
ル、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコ
ール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペンタノー
ル、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−1−
ブタノール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3
−ヘプタノール、1−オクタノール、2−オクタノー
ル、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノール、
1−デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデカノー
ル、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、
エチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げら
れる。
【0009】ケトン類としては、例えば、アセトン、メ
チルエチルケトン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、
メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタ
ノン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シク
ロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等が挙げられ
る。エーテル類としては、例えば、ジエチルエーテル、
ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
チルエチルケトン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、
メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタ
ノン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シク
ロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等が挙げられ
る。エーテル類としては、例えば、ジエチルエーテル、
ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
【0010】エステル類としては、例えば、ギ酸メチ
ル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸ペン
チル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イ
ソプロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペン
チル、3−メトキシブチルアセテート、酢酸sec−ヘ
キシル、2−エチルブチルアセテート、2−エチルヘキ
シルアセテート、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸メ
チル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロ
ピオン酸イソペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、イソ
吉草酸エチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。
ル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸ペン
チル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イ
ソプロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペン
チル、3−メトキシブチルアセテート、酢酸sec−ヘ
キシル、2−エチルブチルアセテート、2−エチルヘキ
シルアセテート、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸メ
チル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロ
ピオン酸イソペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、イソ
吉草酸エチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。
【0011】塩素化炭化水素類としては、例えば、塩化
メチレン、1,1−ジクロルエタン、1,2−ジクロル
エタン、1,1−ジクロルエチレン、1,2−ジクロル
エチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン
等が挙げられる。本発明の洗浄剤には、必要に応じて各
種助剤、例えば、界面活性剤、静電気防止剤、防錆剤等
を添加することができる。
メチレン、1,1−ジクロルエタン、1,2−ジクロル
エタン、1,1−ジクロルエチレン、1,2−ジクロル
エチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン
等が挙げられる。本発明の洗浄剤には、必要に応じて各
種助剤、例えば、界面活性剤、静電気防止剤、防錆剤等
を添加することができる。
【0012】本発明の2H,4H−パーフルオロペンタ
ンは、例えば、米国特許3927129号記載の方法に
したがってヘキサフルオロプロペンと1,1,1,2,
−テトラフルオロエタンを反応させることにより合成す
ることができる。
ンは、例えば、米国特許3927129号記載の方法に
したがってヘキサフルオロプロペンと1,1,1,2,
−テトラフルオロエタンを反応させることにより合成す
ることができる。
【0013】
【実施例】次に、本発明の実施例を示す。
【0014】
【実施例1】染料で着色した切削油(日本石油株式会社
製、商品名:ユニカットGH35)を塗布したステンレ
ス製金網(30メッシュ)を洗浄剤に5分間浸漬した後
取り出し、金網への切削油の残存状態を目視観察した。
結果を表1に示す。
製、商品名:ユニカットGH35)を塗布したステンレ
ス製金網(30メッシュ)を洗浄剤に5分間浸漬した後
取り出し、金網への切削油の残存状態を目視観察した。
結果を表1に示す。
【0015】
【表1】
【0016】
【実施例2】ガラスエポキシ製プリント基板をフラック
ス(タムラ化研製、商品名:F−320V)に浸し風乾
した後、250℃ではんだ付けして作成した試験片を洗
浄剤に5分間浸し超音波洗浄した後取り出し、フラック
スの残存状態を目視により観察した。結果を表2に示
す。
ス(タムラ化研製、商品名:F−320V)に浸し風乾
した後、250℃ではんだ付けして作成した試験片を洗
浄剤に5分間浸し超音波洗浄した後取り出し、フラック
スの残存状態を目視により観察した。結果を表2に示
す。
【0017】
【表2】
【0018】
【実施例3】上島製作所製洗浄テスト機を用い、テスト
ファブリック社製のカーボン汚染布(ウール)を23℃
下、10分間洗浄し、洗浄効果を目視判定した結果を表
3に示す。
ファブリック社製のカーボン汚染布(ウール)を23℃
下、10分間洗浄し、洗浄効果を目視判定した結果を表
3に示す。
【0019】
【表3】
【0020】
【発明の効果】実施例から明らかなように、本発明の洗
浄用溶剤は、オゾン層破壊能の高いR113に代わる洗
浄用溶剤として有用である。
浄用溶剤は、オゾン層破壊能の高いR113に代わる洗
浄用溶剤として有用である。
Claims (1)
- 【請求項1】 2H,4H−パーフルオロペンタンを有
効成分として含むことを特徴とする洗浄用溶剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1974292A JPH05214377A (ja) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | 2h,4h−パーフルオロペンタン洗浄用溶剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1974292A JPH05214377A (ja) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | 2h,4h−パーフルオロペンタン洗浄用溶剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05214377A true JPH05214377A (ja) | 1993-08-24 |
Family
ID=12007791
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1974292A Withdrawn JPH05214377A (ja) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | 2h,4h−パーフルオロペンタン洗浄用溶剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05214377A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0856578A1 (fr) * | 1997-02-04 | 1998-08-05 | Elf Atochem S.A. | Compositions de nettoyage ou de séchage à base de 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5- décafluoropentane |
-
1992
- 1992-02-05 JP JP1974292A patent/JPH05214377A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0856578A1 (fr) * | 1997-02-04 | 1998-08-05 | Elf Atochem S.A. | Compositions de nettoyage ou de séchage à base de 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5- décafluoropentane |
FR2759090A1 (fr) * | 1997-02-04 | 1998-08-07 | Atochem Elf Sa | Compositions de nettoyage ou de sechage a base de 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-decafluoropentane |
US5965511A (en) * | 1997-02-04 | 1999-10-12 | Elf Atochem S. A. | Cleaning or drying compositions based on 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-decafluoropentane |
KR100502756B1 (ko) * | 1997-02-04 | 2005-10-21 | 아토피나 | 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-데카플루오로펜탄에기초한세정또는건조용조성물 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990518 |