JPH06175355A - 露光マスク等用の素材 - Google Patents
露光マスク等用の素材Info
- Publication number
- JPH06175355A JPH06175355A JP23200292A JP23200292A JPH06175355A JP H06175355 A JPH06175355 A JP H06175355A JP 23200292 A JP23200292 A JP 23200292A JP 23200292 A JP23200292 A JP 23200292A JP H06175355 A JPH06175355 A JP H06175355A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- mask
- exposure
- layers
- exposure mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000011161 development Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 20
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 15
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 6
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012946 outsourcing Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、露光マスク用の素材に関し、一度の
真空蒸着により複数の金属膜よりなる遮光層を蒸着、且
つパタ−ンの順序を正確に形成することができる露光マ
スク用の素材を提供することを目的とする。 【構成】そして、その構成上の要旨は、露光マスク用の
透明基盤(2) に金属膜よりなる遮光層が少なくとも２以
上積層し、且つ遮光層間には現像後のエッチングにより
該遮光層を防護する防護膜が設けられてなることにあ
る。
真空蒸着により複数の金属膜よりなる遮光層を蒸着、且
つパタ−ンの順序を正確に形成することができる露光マ
スク用の素材を提供することを目的とする。 【構成】そして、その構成上の要旨は、露光マスク用の
透明基盤(2) に金属膜よりなる遮光層が少なくとも２以
上積層し、且つ遮光層間には現像後のエッチングにより
該遮光層を防護する防護膜が設けられてなることにあ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、露光マスク等用の素材
に関し、例えば、光学濃度の相違する複数のパタ−ンを
有し、露光量を調べるステップタブレット等を製作する
のに使用される素材に関する。
に関し、例えば、光学濃度の相違する複数のパタ−ンを
有し、露光量を調べるステップタブレット等を製作する
のに使用される素材に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えばステップタブレットのよう
に光学濃度の相違する複数のパタ−ンを形成する場合
は、以下のように行われていた。
に光学濃度の相違する複数のパタ−ンを形成する場合
は、以下のように行われていた。
【０００３】即ち、図３（イ）に示すように先ず透明基
盤７の全面に感光性レジスト８を塗布し、リソグラフィ
工程により、同図（ロ）に示すように、光学濃度0.2 の
パタ−ン９に相当する部分のレジスト８を現像除去し、
同図（ハ）に示すように、金属層10を光学濃度0.2 とな
るように基盤７全面に蒸着する。その後、レジストを溶
解する溶液に浸すことにより、リフトオフを行い、同図
（ニ）に示すように、パタ−ン９に相当する部分のみを
基盤上に形成する。
盤７の全面に感光性レジスト８を塗布し、リソグラフィ
工程により、同図（ロ）に示すように、光学濃度0.2 の
パタ−ン９に相当する部分のレジスト８を現像除去し、
同図（ハ）に示すように、金属層10を光学濃度0.2 とな
るように基盤７全面に蒸着する。その後、レジストを溶
解する溶液に浸すことにより、リフトオフを行い、同図
（ニ）に示すように、パタ−ン９に相当する部分のみを
基盤上に形成する。
【０００４】次に同様に図４（イ）に示すように、光学
濃度0.3 のパタ−ン11に相当する部分のレジストを現像
除去し、同図（ロ）に示すように、金属層10a を光学濃
度0.3 になるように基盤７全面に蒸着し、その後レジス
ト８を溶解する溶液に浸すことにより、リフトオフを行
い、同図（ハ）に示すように、パタ−ン９，11に相当す
る部分のみの金属膜10，10a を基盤上に形成する。
濃度0.3 のパタ−ン11に相当する部分のレジストを現像
除去し、同図（ロ）に示すように、金属層10a を光学濃
度0.3 になるように基盤７全面に蒸着し、その後レジス
ト８を溶解する溶液に浸すことにより、リフトオフを行
い、同図（ハ）に示すように、パタ−ン９，11に相当す
る部分のみの金属膜10，10a を基盤上に形成する。
【０００５】このように、基盤７面上でパタ−ンの蒸着
を順次繰り返して行い、光学濃度の相違する複数のパタ
−ンを形成することで、ステップタブレットを製作して
いた。
を順次繰り返して行い、光学濃度の相違する複数のパタ
−ンを形成することで、ステップタブレットを製作して
いた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の金属層を基盤全面に蒸着する場合は、リフトオフを
行うごとに金属層を基盤全面に真空蒸着しなければなら
ず、しかもリソグラフィ作業は精密な位置合わせを必要
とするために、その作業が煩雑であるという問題があっ
た。
来の金属層を基盤全面に蒸着する場合は、リフトオフを
行うごとに金属層を基盤全面に真空蒸着しなければなら
ず、しかもリソグラフィ作業は精密な位置合わせを必要
とするために、その作業が煩雑であるという問題があっ
た。
【０００７】また、蒸着を行う蒸着装置は特殊な装置な
ので、マスクを製作するメ−カ−では、通常設置してな
く、蒸着のみ外注しているのが現状である。そのため、
複数の遮光層を蒸着する場合は、透明基盤が該メ−カ−
と外注先の間を行き来し、基盤の品質保全に関して問題
があった。
ので、マスクを製作するメ−カ−では、通常設置してな
く、蒸着のみ外注しているのが現状である。そのため、
複数の遮光層を蒸着する場合は、透明基盤が該メ−カ−
と外注先の間を行き来し、基盤の品質保全に関して問題
があった。
【０００８】さらに、ステップタブレットを上記の方法
で製作すると、そのパタ−ンの光学濃度の順が入れ代わ
る可能性があるという欠点があった。
で製作すると、そのパタ−ンの光学濃度の順が入れ代わ
る可能性があるという欠点があった。
【０００９】それ故に、本発明は以上のような問題点を
解消するためになされたもので、金属膜よりなる遮光層
を一度の真空蒸着で多層蒸着し、且つパタ−ンの順序を
正確に形成することができる露光マスク等用の素材を提
供することを課題とする。
解消するためになされたもので、金属膜よりなる遮光層
を一度の真空蒸着で多層蒸着し、且つパタ−ンの順序を
正確に形成することができる露光マスク等用の素材を提
供することを課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明が、上記課題を解
決するための露光マスク等用の素材としての特徴は、露
光マスク用の透明基盤２に金属膜よりなる遮光層が少な
くとも２以上積層し、且つ遮光層間には現像後のエッチ
ングにより該遮光層を防護する防護膜が設けられてなる
ことにある。
決するための露光マスク等用の素材としての特徴は、露
光マスク用の透明基盤２に金属膜よりなる遮光層が少な
くとも２以上積層し、且つ遮光層間には現像後のエッチ
ングにより該遮光層を防護する防護膜が設けられてなる
ことにある。
【００１１】
【作用】すなわち、本発明の露光マスク等用の素材は、
上記のような構成からなるために、複数の光学濃度の相
違するパタ−ンを透明基盤に形成する場合は、光学濃度
の低いパタ−ンより順にリソグラフィ−工程により積層
した金属膜の遮光層の相当する部分を現像，エッチング
後除去し、光学濃度の相違する複数のパタ−ンを形成す
る。
上記のような構成からなるために、複数の光学濃度の相
違するパタ−ンを透明基盤に形成する場合は、光学濃度
の低いパタ−ンより順にリソグラフィ−工程により積層
した金属膜の遮光層の相当する部分を現像，エッチング
後除去し、光学濃度の相違する複数のパタ−ンを形成す
る。
【００１２】このように、透明基盤に一度の真空蒸着で
多層の金属膜より構成された遮光層を蒸着することによ
り、該遮光層に複数のパタ−ンを形成することができる
のである。
多層の金属膜より構成された遮光層を蒸着することによ
り、該遮光層に複数のパタ−ンを形成することができる
のである。
【００１３】
【実施例】本発明の一実施例について説明する。図１に
おいて、１は略矩形の露光マスク等用の素材本体で、ガ
ラスの透明基板２に３層の積層したクロム層が蒸着され
ている。
おいて、１は略矩形の露光マスク等用の素材本体で、ガ
ラスの透明基板２に３層の積層したクロム層が蒸着され
ている。
【００１４】３は前記ガラス基盤２に蒸着した光学濃度
0.1 のクロム層を示し、その上面には酸化錫の防護膜４
が貼着している。５は該防護膜４の上面に積層した光学
濃度0.3 のクロム層を示し、該クロム層５の上面には前
記防護膜４と同様の防護膜4aが形成されている。６は該
防護膜4aの上面に積層した光学濃度0.5 のクロム層を示
す。
0.1 のクロム層を示し、その上面には酸化錫の防護膜４
が貼着している。５は該防護膜４の上面に積層した光学
濃度0.3 のクロム層を示し、該クロム層５の上面には前
記防護膜４と同様の防護膜4aが形成されている。６は該
防護膜4aの上面に積層した光学濃度0.5 のクロム層を示
す。
【００１５】次に、上記のような構成からなる露光マス
ク等用の素材を用いて、光学濃度の相違する３つのパタ
−ンを有するステップタブレットを製作する場合につい
て説明する。
ク等用の素材を用いて、光学濃度の相違する３つのパタ
−ンを有するステップタブレットを製作する場合につい
て説明する。
【００１６】先ず、光学濃度0.9 のパタ−ンを形成する
場合は，図２（イ）に示すようにリソグラフィ−工程に
より、クロム層６の相当する部分以外を現像処理し、そ
の後エッチング除去して光学濃度0.9 の層を形成する。
この場合、クロム層５の上面には酸化錫の防護膜４が貼
着しているので、エッチングによりクロム層５まで除去
されることがない。
場合は，図２（イ）に示すようにリソグラフィ−工程に
より、クロム層６の相当する部分以外を現像処理し、そ
の後エッチング除去して光学濃度0.9 の層を形成する。
この場合、クロム層５の上面には酸化錫の防護膜４が貼
着しているので、エッチングによりクロム層５まで除去
されることがない。
【００１７】次に、光学濃度0.4 のパタ−ンを形成する
場合は，図２（ロ）に示すようにリソグラフィ−工程に
より、クロム層５及びクロム層６以外を現像処理し、そ
の後防護膜及びクロム層をエッチング除去して光学濃度
0.4 の層を形成する。この場合も、クロム層３の上面に
は酸化錫の防護膜4aが貼着しているので、エッチングに
よりクロム層３まで除去されることがない。
場合は，図２（ロ）に示すようにリソグラフィ−工程に
より、クロム層５及びクロム層６以外を現像処理し、そ
の後防護膜及びクロム層をエッチング除去して光学濃度
0.4 の層を形成する。この場合も、クロム層３の上面に
は酸化錫の防護膜4aが貼着しているので、エッチングに
よりクロム層３まで除去されることがない。
【００１８】次に、光学濃度0.1 のパタ−ンを形成する
場合は，図２（ハ）に示すようにリソグラフィ−工程に
より、クロム層３の相当する部分及びクロム層５，クロ
ム層６以外を現像処理し、その後防護膜及びクロム層を
エッチング除去して光学濃度0.1 の層を形成する。この
場合、残りのガラス面は光学濃度０に形成される。
場合は，図２（ハ）に示すようにリソグラフィ−工程に
より、クロム層３の相当する部分及びクロム層５，クロ
ム層６以外を現像処理し、その後防護膜及びクロム層を
エッチング除去して光学濃度0.1 の層を形成する。この
場合、残りのガラス面は光学濃度０に形成される。
【００１９】このようにして、ガラス基盤２上に光学濃
度０，0.1 ，0.4 ，0.9 のパタ−ンを有するステップタ
ブレットが製作されることとなる。
度０，0.1 ，0.4 ，0.9 のパタ−ンを有するステップタ
ブレットが製作されることとなる。
【００２０】尚、上記実施例では、遮光層を３層積層し
て形成したが、、本発明の遮光層３の積層の数はこれに
限定されるものでなく、例えば２層で形成してもよく、
要は、遮光層を２以上積層して形成していれば遮光層の
積層する数は問うものでない。
て形成したが、、本発明の遮光層３の積層の数はこれに
限定されるものでなく、例えば２層で形成してもよく、
要は、遮光層を２以上積層して形成していれば遮光層の
積層する数は問うものでない。
【００２１】叉、上記実施例では、３層の積層した遮光
層の光学濃度0.1 ，0.3 ，0.5 に構成したが、本発明の
遮光層の光学濃度はこれに限定されるものでなく、例え
ば0.2, 0.2, 0.2 の同一の光学濃度の遮光層を用いて構
成してもよい。
層の光学濃度0.1 ，0.3 ，0.5 に構成したが、本発明の
遮光層の光学濃度はこれに限定されるものでなく、例え
ば0.2, 0.2, 0.2 の同一の光学濃度の遮光層を用いて構
成してもよい。
【００２２】尚、上記実施例では、金属膜をクロムで形
成し、該クロムに酸化錫の防護膜を蒸着したが、本発明
の遮光層の材質及び防護膜の材質はこれに限定されるも
のでなく、例えば金属膜をニッケル又は酸化鉄，インコ
ネルで形成し、防護膜を二酸化ケイ素又は酸化アルミの
皮膜で被覆してもよく、その材質は特に問うものでな
い。
成し、該クロムに酸化錫の防護膜を蒸着したが、本発明
の遮光層の材質及び防護膜の材質はこれに限定されるも
のでなく、例えば金属膜をニッケル又は酸化鉄，インコ
ネルで形成し、防護膜を二酸化ケイ素又は酸化アルミの
皮膜で被覆してもよく、その材質は特に問うものでな
い。
【００２３】更に、上記実施例では、透明基板２をガラ
スで形成したが、本発明の透明基板２の材質はこれに限
定されるものでなく、例えば透明のプラスチックで形成
されていてもよい。
スで形成したが、本発明の透明基板２の材質はこれに限
定されるものでなく、例えば透明のプラスチックで形成
されていてもよい。
【００２４】更に、上記実施例では、露光マスク用の素
材本体１をステップタブレットに製作用に使用したが、
本発明の露光マスク等用の素材本体１の使用これに限定
されるものでなく、例えば透過光量を変えて透過率の相
違する露光マスクとしても使用することができる。
材本体１をステップタブレットに製作用に使用したが、
本発明の露光マスク等用の素材本体１の使用これに限定
されるものでなく、例えば透過光量を変えて透過率の相
違する露光マスクとしても使用することができる。
【００２５】
【発明の効果】叙上の様に、本発明の露光マスク等用の
素材本体は、透明基盤に少なくとも２以上の金属膜より
なる遮光層を設けることで、該遮光層に光学濃度の相違
するパタ−ンを透明基盤に順次形成することができるの
で、従来のように金属膜の蒸着を何度も繰り返すことな
く、一度の交互蒸着で多数の遮光層を構成することがで
きるという特別顕著な効果がある。また、複数のパタ−
ンを形成する場合に、遮光層の透過率の順序が入れ代わ
るようなことがなく正確に行えるという利点がある。更
に、蒸着装置のないマスクメ−カ−でも、従来のように
蒸着を１つの金属膜の形成ごとに外注する無駄がないと
いう利点がある。
素材本体は、透明基盤に少なくとも２以上の金属膜より
なる遮光層を設けることで、該遮光層に光学濃度の相違
するパタ−ンを透明基盤に順次形成することができるの
で、従来のように金属膜の蒸着を何度も繰り返すことな
く、一度の交互蒸着で多数の遮光層を構成することがで
きるという特別顕著な効果がある。また、複数のパタ−
ンを形成する場合に、遮光層の透過率の順序が入れ代わ
るようなことがなく正確に行えるという利点がある。更
に、蒸着装置のないマスクメ−カ−でも、従来のように
蒸着を１つの金属膜の形成ごとに外注する無駄がないと
いう利点がある。
【図１】本発明の一例としての露光マスク等用の素材を
示す断面図。
示す断面図。
【図２】露光マスク等用の素材の使用状態を示し、
（イ），（ロ），（ハ）は断面図。
（イ），（ロ），（ハ）は断面図。
【図３】従来例を示す（イ），（ロ），（ハ），（ニ)
は断面図。
は断面図。
【図４】従来例を示す（イ），（ロ），（ハ）は断面
図。
図。
２…透明基盤
【手続補正書】
【提出日】平成５年６月３０日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２４】更に、上記実施例では、露光マスク用の素
材本体１をステップタブレットの製作用に使用したが、
本発明の露光マスク等用の素材本体１の使用はこれに限
定されるものでなく、例えば少なくとも３段階に異なる
パタ−ン部分（光学濃度0.9,0.4, 0.1)を有する階調マ
スクとしても使用することができる。即ち、階調マスク
を用いて感光性レジストを塗布した基盤を露光して、該
階調マスクの光透過率が異なるバタ−ン部分に対応して
電送液に対する溶解性が異なるパタ−ンを感光性レジス
トに形成するとともに、該パタ−ンに着色塗料を入れた
電着浴で電着を順次行うことで、複数のパタ−ンを有す
るカラ−フィルタ−を得るのに使用することができる。
材本体１をステップタブレットの製作用に使用したが、
本発明の露光マスク等用の素材本体１の使用はこれに限
定されるものでなく、例えば少なくとも３段階に異なる
パタ−ン部分（光学濃度0.9,0.4, 0.1)を有する階調マ
スクとしても使用することができる。即ち、階調マスク
を用いて感光性レジストを塗布した基盤を露光して、該
階調マスクの光透過率が異なるバタ−ン部分に対応して
電送液に対する溶解性が異なるパタ−ンを感光性レジス
トに形成するとともに、該パタ−ンに着色塗料を入れた
電着浴で電着を順次行うことで、複数のパタ−ンを有す
るカラ−フィルタ−を得るのに使用することができる。
Claims (4)
- 【請求項１】 露光マスク等用の透明基盤(2) に金属膜
よりなる遮光層が少なくとも２以上積層し、且つ遮光層
間には現像後のエッチングにより該遮光層を防護する防
護膜が設けられてなることを特徴とする露光マスク等用
の素材。 - 【請求項２】 前記金属膜が光学濃度の同一なクロム層
である請求項１記載の露光マスク等用の素材。 - 【請求項３】 前記金属膜が光学濃度の相違するクロム
層で形成されてなる請求項１記載の露光マスク等用の素
材。 - 【請求項４】 前記防護膜が酸化錫よりなる請求項１記
載の露光マスク等用の素材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23200292A JP2794253B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 露光マスク用の素材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23200292A JP2794253B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 露光マスク用の素材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06175355A true JPH06175355A (ja) | 1994-06-24 |
| JP2794253B2 JP2794253B2 (ja) | 1998-09-03 |
Family
ID=16932406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23200292A Expired - Fee Related JP2794253B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 露光マスク用の素材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2794253B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102654730A (zh) * | 2005-07-21 | 2012-09-05 | 信越化学工业株式会社 | 光掩模坯、光掩模及其制作方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63173053A (ja) * | 1987-01-02 | 1988-07-16 | インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン | 多層構造体とその製造方法 |
| JPH02144536A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-04 | Nec Corp | 露光用レチクル |
-
1992
- 1992-08-31 JP JP23200292A patent/JP2794253B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63173053A (ja) * | 1987-01-02 | 1988-07-16 | インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン | 多層構造体とその製造方法 |
| JPH02144536A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-04 | Nec Corp | 露光用レチクル |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102654730A (zh) * | 2005-07-21 | 2012-09-05 | 信越化学工业株式会社 | 光掩模坯、光掩模及其制作方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2794253B2 (ja) | 1998-09-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102073211B (zh) | 半色调掩模、用于制造它的方法及使用它的平板显示器 | |
| CN101075086B (zh) | 光掩模和曝光方法 | |
| JPH0690505B2 (ja) | ホトマスク | |
| US5591550A (en) | Phase shift mask and method for forming phase shift mask | |
| US20060099521A1 (en) | Half tone mask, method for fabricating the same, and flat panel display using the same | |
| KR20100127718A (ko) | 다계조 포토마스크, 다계조 포토마스크의 제조 방법, 및 패턴 전사 방법 | |
| KR100706731B1 (ko) | 위상 시프트 마스크 | |
| JPH06175355A (ja) | 露光マスク等用の素材 | |
| US3673018A (en) | Method of fabrication of photomasks | |
| US3507592A (en) | Method of fabricating photomasks | |
| KR950019780A (ko) | 컬러필터의 제조방법 | |
| JPH10282331A (ja) | カラーフィルターおよびその製造方法 | |
| JPS6161694B2 (ja) | ||
| JPH08106153A (ja) | 識別マーク付ガラス基板 | |
| GB2067784A (en) | Preparation of interference filters | |
| KR980010602A (ko) | 투과율조절 마스크 및 그 제조방법 | |
| JPS633301B2 (ja) | ||
| KR930002920B1 (ko) | 액정 표시장치용 컬러필터 | |
| JPS59187343A (ja) | フオトマスク | |
| JPH0440456A (ja) | フォトマスクの製造方法 | |
| KR950009322A (ko) | 기능성 도막을 형성하는 방법 | |
| JPH06160620A (ja) | カラーフィルタと遮光膜の形成方法 | |
| JPS62187349A (ja) | フオトマスクの製造方法 | |
| JPS5893052A (ja) | ホトマスク | |
| JPS6267549A (ja) | マスクおよびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080626 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |