JPH06163553A - 光素子用基板の製造方法 - Google Patents

光素子用基板の製造方法

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JPH06163553A
JPH06163553A JP4311842A JP31184292A JPH06163553A JP H06163553 A JPH06163553 A JP H06163553A JP 4311842 A JP4311842 A JP 4311842A JP 31184292 A JP31184292 A JP 31184292A JP H06163553 A JPH06163553 A JP H06163553A
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JP
Japan
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punch
micro
substrate
bonding
minute
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JP4311842A
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English (en)
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Hiroshi Honmo
宏 本望
Masataka Ito
正隆 伊藤
Junichi Sasaki
純一 佐々木
Yoshinobu Kanayama
義信 金山
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/11Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 形状、重量ともに同等な微小接合バンプを再
現性良く形成する。 【構成】 厚さ50μmのリボン状のAuSn箔3を外
径50μmの超鋼製微小ポンチ11と穴径60μmのス
テンレス製微小ダイス2の間に挿入し、AuSn箔3を
微小ポンチ11で打ち抜くことにより、第1番目の微小
接合バンプ13をSi基板4上の直径60μmのAuパ
ット16表面に形成する。次に、基板4とポンチを次の
Auパット17と新たなポンチ12がダイス2の穴を通
して向かい合う位置まで移動させる(この時、AuSn
箔3も同時に移動する)。次に微小ポンチ12を用いて
第2番目の微小接合バンプ14を打ち抜く。ここで、ポ
ンチ12を使用している間に、使用済みのポンチ11に
付着したAuSnカスを窒素の噴射ガスを用いて吹き飛
ばす。次に、AuSnカスを取り除いたポンチ11を用
いて第3の微小接合バンプ15を打ち抜く。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光通信用光モジュール
などに用いられる光素子を固定する基板の作製方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】光通信は、半導体レーザ(LD)、発光
ダイオード(LED)、ファトダイオード(PD)、光
変調器を始めとして、光ファイバ、光スイッチ、光アイ
ソレータ、光導波路等の能動、受動素子の高性能、高機
能化により応用範囲が拡大さるつつある。近年、この応
用範囲の一つとして一般加入者系への適用が考えられて
おり、これに伴い、光素子を搭載したモジュールの低価
格化が要求される。モジュール低価格化の有効な手段と
して、複数個の微小接合バンプを介して光素子を無調整
で基板上に実装する無調整光実装が注目されている。
【0003】微小接合バンプを形成する方法は、微小ポ
ンチと微小ダイスとを用いてリボン状の接合金属を打ち
抜き、基板上に微小接合バンプを形成するもので、微小
接合バンプとして信頼性の高いAuSnバンプを用いた
ものが特開平4−152682号公報、「アレイ状光素
子用サブ基板の作製方法」に詳細に記されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】微小ポンチと微小ダイ
スとを用いてリボン状の接合金属を打ち抜く場合、打ち
抜いた微小ポンチには、打ち抜き時に発生するカス状の
接合金属が付着する。この接合金属カスが付着した微小
ポンチで次の接合金属を打ち抜くと、打ち抜かれた微小
接合バンプは、先に打ち抜いた微小接合バンプと形状、
重量共に異なる異形のものとなる。これにより、打ち抜
きごと微小接合バンプの高さが異なり、複数個の微小接
合バンプを介して接合された光素子は、傾き、接合不良
などの欠陥を生じ、実装歩留まりが低下するという大き
な問題があった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の光素子用基板の
製造方法は、微小ポインチと微小ダイスを用いてリボン
状の接合金属を打ち抜き、基板上に微小接合バンプを形
成する光素子用基板の製造方法において、前記微小ポン
チに付着した接合金属カスを除去する工程を設けたこと
を特徴とする。除去する工程として、噴射ガスにより前
記接合金属カスを除去する工程、または前記接合金属カ
スが付着した前記微小ポンチを、前記微小ポンチが密着
する穴を有する弾性を持つ部材に挿入し、前記接合金属
カスを除去する工程を設けた。
【0006】また、微小ポンチと微小ダイスを用いてリ
ボン状の接合金属を打ち抜き、基板状に微小接合バンプ
を形成する光素子用基板の製造方法において、前記微小
ポンチを回転させながら前記リボン状の接合金属を打ち
抜き、前記微小接合バンプを形成することによって前記
接合金属カスを除去することを特徴とする。
【0007】
【作用】微小ポンチに付着した接合金属カスは、金属材
料であるため粘着力を持たない。このため、容易に噴射
ガスで吹き飛ばす事が可能である。
【0008】また、微小ポンチを弾性を有する部材に挿
入する場合には、微小ポンチの側面に弾性を有する部材
が密着するため、付着した接合金属カスは容易に除去可
能である。
【0009】また、微小ポンチを回転させながらリボン
状の接合金属を打ち抜く事により、ポンチに付着する接
合金属カスを飛び散らし、除去できる。
【0010】
【実施例】以下、本発明似ついて、図面を参照して説明
する。図1は、本発明の第1の実施例を示す概要図であ
る。本構成では、厚さ50μmのリボン状のAuSn箔
3が外径50μmの超鋼製微小ポンチ11と穴径60μ
mのステンレス製微小ダイス2の間に挿入されており
(図1(a)に示す)、AuSn箔3を微小ポンチ(以
下、ポンチと略す)11により打ち抜くことにより、第
1番目の微小整合バンプ13をSi基板4上に直径60
μmのAuパット16表面に形成する(図1(b)に示
す)。次に、Si基板4とポンチを次のAuパット17
と新たなポンチ12が微小ダイス2の穴を通して向かい
合う位置まで移動させる(この時、AuSn箔3も同時
に移動する)。次に微小ポンチ12を用いて第2番目の
微小接合バンプ14を打ち抜く。ここで、ポンチ12を
使用している間に、使用済みのポンチ11に付着したA
uSnカスを窒素の噴射ガスを用いて吹き飛ばす(図1
(c)に示す)。次に、AuSnカスを取り除いたポン
チ11を用いて第3の微小接合バンプ15を打ち抜く
(図1(d)に示す)。ポンチ12のAuSnカスの清
掃は、ポンチ11使用時に行う。このように、ポンチを
随時清掃してAuSnカスを除去し、常にきれいなポン
チで打ち抜くため、形状、重量ともに同等な微小接合バ
ノプを再現性良く形成することができる。
【0011】第1の実施例では窒素ガスを用いたが、こ
れに限らず、アルゴンガスや空気でもよい。
【0012】図2は、本発明の第2の実施例を示す概要
図である。本構成は、第1の実施例の噴射ガスの代わり
にリング状のゴム製部材6を備えたことが異なる他は上
述の場合と同様である。すなわち、ポンチ12を使用し
ている間に、使用済みのポンチ11に付着した接合金属
カスを取り除くために内径40μmのリンク状のゴム製
部材6の穴にポンチ11を挿入し、そのAuSnカスを
取り除く(図2(c)に示す)。これにより、形状、重
量ともに同等な微小接合バンプを再現性良く形成するこ
とができる。
【0013】第2の実施例で接合金属カスを除去するた
めにリング状のゴム製部材を用いたが、リンク状ではな
くても部材微小ポンチが密着できる穴があいていればい
いし、ゴムに限らずシリコン樹脂やウレタン樹脂でもよ
い。
【0014】また、実施例の微小ポンチは外形が丸形の
ポンチであったが四角形や多角形のポンチを使用した時
も同じである。
【0015】図3は、本発明の第3の実施例を示す概要
図である。本構成は、AuSn箔3を微小ポンチ1と微
小ダイス2の間に挿入する。(図3(a)に示す)。次
に、ポンチ1を回転させながらAuSn箔3に打付け、
微小接合バンプ3−1をSi基板4上のAuパット5表
面に打ち抜く(図3(b)に示す)。ポンチを回転させ
る事により、打ち抜き時にポンチに付着するAuSnカ
スを飛び散らし、除去できる。これにより、常にきれい
なポンチで打ち抜けるため、形状、重量ともに同等な微
小接合バンプを再現性良く形成することができる。ま
た、ポンチが回転しているため、小さい力でAuSn箔
3を打ち抜くことが可能であり、回転させない場合に比
べポンチの寿命が長くなる。
【0016】以上、3つの実施例では微小ポンチの数を
2以下としたが、これに限定されず、更に多数個の微小
ポンチを用いても良い。
【0017】また、接合金属材料としてAuSnを用い
たがこれにより限定されず、例えばPbSn、AuSi
等でも良い。
【0018】
【発明の効果】以上述べた通り、形状、重量ともに同等
な微小接合バンプを再現性良く形成することができるた
め、実装歩留まりを向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す概略図である。
【図2】本発明の第2の実施例を示す概略図である。
【図3】本発明の第3の実施例を示す概略図である。
【符号の説明】
1 微小ポンチ 2 微小ダイス 3 AuSn箔 4 シリコン基板 5 Auパット 6 ゴム製部材 7 微小接合バンプ 11 微小ポンチ 12 微小ポンチ 13 微小接合バンプ 14 微小接合バンプ 15 微小接合バンプ 16 Auパット 17 Auパット 18 Auパット 19 Auパット
フロントページの続き (72)発明者 金山 義信 東京都港区芝五丁目7番1号日本電気株式 会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 微小ポンチと微小ダイスを用いてリボン
    状の接合金属を打ち抜き、基板状に微小接合バンプを形
    成する光素子用基板の製造方法において、前記微小ポン
    チに付着した接合金属カスを除去する工程を設けたこと
    を特徴とする光素子用基板の製造方法。
  2. 【請求項2】 噴射ガスにより前記接合金属カスを除去
    する工程を設けたことを特徴とする請求項1記載の光素
    子用基板の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記接合金属カスが付着した前記微小ポ
    ンチを、前記微小ポンチが密着する穴を有する弾性を持
    つ部材に挿入し、前記接合金属カスを除去する工程を設
    けたことを特徴とする請求項1記載の光素子用基板の製
    造方法。
  4. 【請求項4】 微小ポンチと微小ダイスを用いてリボン
    状の接合金属を打ち抜き、基板状に微小接合バンプを形
    成する光素子用基板の製造方法において、前記微小ポン
    チを回転させながら前記リボン状の接合金属を打ち抜
    き、前記微小接合バンプを転写することによって前記接
    合金属カスを除去することを特徴とする光素子用基板の
    製造方法。
JP4311842A 1992-11-20 1992-11-20 光素子用基板の製造方法 Pending JPH06163553A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01289521A (ja) * 1988-05-17 1989-11-21 Ricoh Co Ltd 打抜き金型のクリーニング方法
JPH04152682A (ja) * 1990-10-17 1992-05-26 Nec Corp アレイ状光素子用サブ基板の作製方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01289521A (ja) * 1988-05-17 1989-11-21 Ricoh Co Ltd 打抜き金型のクリーニング方法
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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19951107