JPH06159324A - 制御弁 - Google Patents
制御弁Info
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- JPH06159324A JPH06159324A JP31034592A JP31034592A JPH06159324A JP H06159324 A JPH06159324 A JP H06159324A JP 31034592 A JP31034592 A JP 31034592A JP 31034592 A JP31034592 A JP 31034592A JP H06159324 A JPH06159324 A JP H06159324A
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- valve
- fluid
- control
- control valve
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 流体の流量、圧力を制御する制御弁の制御性
の向上 【構成】 制御弁14に、弁本体1の弁体3の速度を加
振手段7の入力信号にポジティブにフィードバックする
制御装置13を持たせ、制御装置には入出力関係や流体
の温度に応じてゲインを調節する調節部16を持たせ、
さらに、弁体3の変位を加振手段7の入力信号にフィー
ドバックし入出力関係に応じてゲインを調節する制御装
置13aを持たせて構成した制御弁装置。 【効果】 制御弁の減衰係数を制御することができるの
で共振倍率の任意設定、及び外乱に対する補償ができ、
さらに、制御弁を常に共振点で駆動することができるの
で、高効率化、安定化を図れる効果がある。
の向上 【構成】 制御弁14に、弁本体1の弁体3の速度を加
振手段7の入力信号にポジティブにフィードバックする
制御装置13を持たせ、制御装置には入出力関係や流体
の温度に応じてゲインを調節する調節部16を持たせ、
さらに、弁体3の変位を加振手段7の入力信号にフィー
ドバックし入出力関係に応じてゲインを調節する制御装
置13aを持たせて構成した制御弁装置。 【効果】 制御弁の減衰係数を制御することができるの
で共振倍率の任意設定、及び外乱に対する補償ができ、
さらに、制御弁を常に共振点で駆動することができるの
で、高効率化、安定化を図れる効果がある。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は流体の流量、圧力を制御
する制御弁に関し、特に制御性の向上を図った制御弁に
関する。
する制御弁に関し、特に制御性の向上を図った制御弁に
関する。
【0002】
【従来の技術】弁体−ばね系の固有周波数で加振源によ
り加振して、入力信号の振幅を変えることで弁体の共振
振幅を制御して流体の圧力、流量を制御する制御弁は、
特開昭63-268952号公報に記載のように変位拡大の手段
として共振を利用していたが、各種の外乱やパラメータ
の変化とは無関係に弁をオープンループで制御していた
り加振して、入力信号の振幅を変えることで弁体の共振
振幅を制御して流体の圧力、流量を制御する制御弁は、
特開昭63-268952号公報に記載のように変位拡大の手段
として共振を利用していたが、各種の外乱やパラメータ
の変化とは無関係に弁をオープンループで制御していた
【0003】。
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、流体
の流れに起因して弁体に軸方向の力を及ぼす非定常流体
力や、弁体が摺動するときの粘性抵抗に対する対策がな
されておらず、このため何も制御を行わない状態では、
弁部の圧力差の変化による非定常流体力の変化や、流体
の温度変化による粘性抵抗の変化により弁体の共振倍率
が変化してしまい、弁体の振幅の制御が不充分という問
題があった。
の流れに起因して弁体に軸方向の力を及ぼす非定常流体
力や、弁体が摺動するときの粘性抵抗に対する対策がな
されておらず、このため何も制御を行わない状態では、
弁部の圧力差の変化による非定常流体力の変化や、流体
の温度変化による粘性抵抗の変化により弁体の共振倍率
が変化してしまい、弁体の振幅の制御が不充分という問
題があった。
【0004】本発明は、弁体の共振倍率の増大とその安
定化を図ることを目的としている。
定化を図ることを目的としている。
【0005】また、上記従来技術は、流体の流れに起因
して弁体に軸方向の力を及ぼす定常流体力のばね効果に
対する対策がなされておらず、このため何も制御を行わ
ない状態では、弁部の圧力差の変化による定常流体力の
変化の結果、ばね定数が変化し弁体駆動系の共振周波数
が変化してしまうという問題があった。
して弁体に軸方向の力を及ぼす定常流体力のばね効果に
対する対策がなされておらず、このため何も制御を行わ
ない状態では、弁部の圧力差の変化による定常流体力の
変化の結果、ばね定数が変化し弁体駆動系の共振周波数
が変化してしまうという問題があった。
【0006】本発明は、弁体の共振倍率の増大とその安
定化を図ることを第1の目的としている。
定化を図ることを第1の目的としている。
【0007】本発明はまた、制御弁を常に弁体駆動系の
共振周波数で駆動することを第2の目的としている。
共振周波数で駆動することを第2の目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の第1の目的を達成
するために、本発明に係る第1の発明の制御弁の構成
は、位置を変えることにより流体の流れを制御する弁体
と該弁体を入力信号に基づいて加振する加振手段とをば
ね要素を介して結合し、この系の固有周波数近傍の周波
数で加振して流体の流れを制御する方式の制御弁におい
て、前記弁体の可動部の速度を前記加振手段の入力信号
に正(ポジティブ)にフィードバックする制御装置を持
たせたものであり、さらにはこの制御装置に指令信号と
前記弁体の可動部の変位との比較結果や流体の温度に応
じて該制御装置のゲインを調節する調節部を持たせたも
のである。
するために、本発明に係る第1の発明の制御弁の構成
は、位置を変えることにより流体の流れを制御する弁体
と該弁体を入力信号に基づいて加振する加振手段とをば
ね要素を介して結合し、この系の固有周波数近傍の周波
数で加振して流体の流れを制御する方式の制御弁におい
て、前記弁体の可動部の速度を前記加振手段の入力信号
に正(ポジティブ)にフィードバックする制御装置を持
たせたものであり、さらにはこの制御装置に指令信号と
前記弁体の可動部の変位との比較結果や流体の温度に応
じて該制御装置のゲインを調節する調節部を持たせたも
のである。
【0009】また、上記の第1の目的を達成するため
に、本発明に係る第2の発明の制御弁の構成は、位置を
変えることにより流体の流れを制御する弁体と該弁体を
加振する加振手段とをばね要素を介して結合し、この系
の固有周波数近傍の周波数で加振して流体の流れを制御
する方式の制御弁において、前記弁体の可動部周囲に粘
度を制御できる流体を配置し、前記弁体の可動部の減衰
係数が一定になるよう流体の粘度を制御する手段を備え
たものである。
に、本発明に係る第2の発明の制御弁の構成は、位置を
変えることにより流体の流れを制御する弁体と該弁体を
加振する加振手段とをばね要素を介して結合し、この系
の固有周波数近傍の周波数で加振して流体の流れを制御
する方式の制御弁において、前記弁体の可動部周囲に粘
度を制御できる流体を配置し、前記弁体の可動部の減衰
係数が一定になるよう流体の粘度を制御する手段を備え
たものである。
【0010】また、上記第1の目的を達成するために、
本発明に係る第3の発明の制御弁の構成は、位置を変え
ることにより流体の流れを制御する弁体と該弁体を加振
する加振手段とをばね要素を介して結合し、この系の固
有周波数近傍の周波数で加振して流体の流れを制御する
方式の制御弁において、前記弁体の可動部の減衰係数が
所望量以下になるよう前記弁体の減衰長を設定し、動作
時には別の手段で正の減衰力を前記弁体の可動部に付与
し、その付与量を調節することにより前記弁体の可動部
の減衰係数を制御する構成としたものである。
本発明に係る第3の発明の制御弁の構成は、位置を変え
ることにより流体の流れを制御する弁体と該弁体を加振
する加振手段とをばね要素を介して結合し、この系の固
有周波数近傍の周波数で加振して流体の流れを制御する
方式の制御弁において、前記弁体の可動部の減衰係数が
所望量以下になるよう前記弁体の減衰長を設定し、動作
時には別の手段で正の減衰力を前記弁体の可動部に付与
し、その付与量を調節することにより前記弁体の可動部
の減衰係数を制御する構成としたものである。
【0011】また、上記第2の目的を達成するために、
本発明に係る第4の発明の制御弁の構成は、位置を変え
ることにより流体の流れを制御する弁体と該弁体を加振
する加振手段とをばね要素を介して結合し、この系の固
有周波数近傍の周波数で加振して流体の流れを制御する
方式の制御弁において、前記ばね要素のばね定数を流体
力によるばねのばね定数に比較して十分に大きくしたも
のである。
本発明に係る第4の発明の制御弁の構成は、位置を変え
ることにより流体の流れを制御する弁体と該弁体を加振
する加振手段とをばね要素を介して結合し、この系の固
有周波数近傍の周波数で加振して流体の流れを制御する
方式の制御弁において、前記ばね要素のばね定数を流体
力によるばねのばね定数に比較して十分に大きくしたも
のである。
【0012】また、上記第2の目的を達成するために、
本発明に係る第5の発明の制御弁の構成は、位置を変え
ることにより流体の流れを制御する弁体と該弁体を入力
信号に基づいて加振する加振手段とをばね要素を介して
結合し、この系の固有周波数近傍の周波数で加振して流
体の流れを制御する方式の制御弁において、前記弁体の
可動部の変位を前記加振手段の入力信号にフィードバッ
クし、指令信号と前記弁体の可動部の変位との比較によ
りゲインを調節する手段を備えたものである。
本発明に係る第5の発明の制御弁の構成は、位置を変え
ることにより流体の流れを制御する弁体と該弁体を入力
信号に基づいて加振する加振手段とをばね要素を介して
結合し、この系の固有周波数近傍の周波数で加振して流
体の流れを制御する方式の制御弁において、前記弁体の
可動部の変位を前記加振手段の入力信号にフィードバッ
クし、指令信号と前記弁体の可動部の変位との比較によ
りゲインを調節する手段を備えたものである。
【0013】また、上記第2の目的を達成するために、
本発明に係る第6の発明の制御弁の構成は、位置を変え
ることにより流体の流れを制御する弁体と該弁体を入力
信号に基づいて加振する加振手段とをばね要素を介して
結合し、この系の固有周波数近傍の周波数で加振して流
体の流れを制御する方式の制御弁において、指令信号と
前記弁体の可動部の変位との比較により前記加振手段の
加振周波数を調節する構成としたものである。
本発明に係る第6の発明の制御弁の構成は、位置を変え
ることにより流体の流れを制御する弁体と該弁体を入力
信号に基づいて加振する加振手段とをばね要素を介して
結合し、この系の固有周波数近傍の周波数で加振して流
体の流れを制御する方式の制御弁において、指令信号と
前記弁体の可動部の変位との比較により前記加振手段の
加振周波数を調節する構成としたものである。
【0014】
【作用】上記技術的手段による作用を第1〜第6の発明
にそれぞれ分けて次に述べる。
にそれぞれ分けて次に述べる。
【0015】第1の発明において、弁体の共振倍率を制
御するには駆動される系の減衰係数を制御すればよいこ
とになる。流体外乱を考えなければ減衰係数は流体の粘
性抵抗で決まる。温度変化がなければこの値は一定なの
で減衰係数は制御できないが、減衰係数とは弁の速度に
比例した抵抗なので、制御装置において弁の速度を加振
手段への入力信号にフィードバックして、そのフィード
バックゲインを選ぶことにより等価的に減衰係数が操作
でき、これにより共振倍率の制御が可能となる。このと
き、速度信号を前記加振手段への入力信号に正(ポジテ
ィブ)にフィードバックすることによって系の減衰係数
が減少され共振倍率の増大が電気的制御手段によって図
られる。また、このとき制御装置への指令信号と弁の変
位を比較してフィードバックゲインを調節することによ
り、入力信号に対して安定した共振倍率が得られ、さら
に作動流体の温度に応じてフィードバックゲインを変え
ることにより、温度変化による粘性抵抗の影響を補償す
ることが可能となり、安定した弁体の共振倍率が得られ
る。
御するには駆動される系の減衰係数を制御すればよいこ
とになる。流体外乱を考えなければ減衰係数は流体の粘
性抵抗で決まる。温度変化がなければこの値は一定なの
で減衰係数は制御できないが、減衰係数とは弁の速度に
比例した抵抗なので、制御装置において弁の速度を加振
手段への入力信号にフィードバックして、そのフィード
バックゲインを選ぶことにより等価的に減衰係数が操作
でき、これにより共振倍率の制御が可能となる。このと
き、速度信号を前記加振手段への入力信号に正(ポジテ
ィブ)にフィードバックすることによって系の減衰係数
が減少され共振倍率の増大が電気的制御手段によって図
られる。また、このとき制御装置への指令信号と弁の変
位を比較してフィードバックゲインを調節することによ
り、入力信号に対して安定した共振倍率が得られ、さら
に作動流体の温度に応じてフィードバックゲインを変え
ることにより、温度変化による粘性抵抗の影響を補償す
ることが可能となり、安定した弁体の共振倍率が得られ
る。
【0016】第2の発明において、弁体の共振倍率を制
御するには駆動される系の減衰係数を制御する必要があ
り、制御弁、特にスプール弁の場合はスプールが摺動す
るときの粘性抵抗が減衰係数の支配要因となる。そこで
スプール摺動部に粘度が制御できる流体を配置し、その
粘度を制御することにより減衰係数の制御が可能とな
り、弁体の共振倍率を安定して増大させることができ
る。
御するには駆動される系の減衰係数を制御する必要があ
り、制御弁、特にスプール弁の場合はスプールが摺動す
るときの粘性抵抗が減衰係数の支配要因となる。そこで
スプール摺動部に粘度が制御できる流体を配置し、その
粘度を制御することにより減衰係数の制御が可能とな
り、弁体の共振倍率を安定して増大させることができ
る。
【0017】第3の発明において、弁体駆動系の減衰係
数は弁体摺動時の粘性抵抗力と流体の流れに起因して弁
体に軸方向の力を及ぼす非定常流体力との和で定まる。
通常の制御弁の場合この減衰係数を正の適当な値に設定
することにより弁の安定性を高めているが、本発明にお
ける制御弁は共振を利用して加振源の変位を拡大してい
るため減衰係数を減らして共振倍率を高める必要があ
る。そこで、弁部の減衰長を変えることにより非定常流
体力を調節し、減衰係数を減少させる方法が有効であ
る。このとき減衰長を、減衰係数が所望量より小さくな
るように設定しておく。そして駆動時には正の減衰力を
付与し、その付与量を制御することにより弁体の共振倍
率の増大と安定が同時に得られる。
数は弁体摺動時の粘性抵抗力と流体の流れに起因して弁
体に軸方向の力を及ぼす非定常流体力との和で定まる。
通常の制御弁の場合この減衰係数を正の適当な値に設定
することにより弁の安定性を高めているが、本発明にお
ける制御弁は共振を利用して加振源の変位を拡大してい
るため減衰係数を減らして共振倍率を高める必要があ
る。そこで、弁部の減衰長を変えることにより非定常流
体力を調節し、減衰係数を減少させる方法が有効であ
る。このとき減衰長を、減衰係数が所望量より小さくな
るように設定しておく。そして駆動時には正の減衰力を
付与し、その付与量を制御することにより弁体の共振倍
率の増大と安定が同時に得られる。
【0018】第4の発明において、流体の流れに起因し
て弁体に軸方向の力を及ぼす定常流体力は弁を開くとそ
れを閉じようとする方向に働く。すなわち定常流体力は
ばね力と等しい効果があり、制御弁のばね要素と定常流
体力によるばねとの和が弁体駆動系全体のばね要素とな
る。従って使用圧力(流体圧力)が変化すると定常流体
力によるばねのばね定数が変化し、弁体駆動系の共振周
波数が変化してしまう。しかし制御弁のばね要素のばね
定数を定常流体力によるばね定数に比して十分に大きく
することにより定常流体力による共振周波数の変化を無
視できる程度に相対的に小さくでき、制御弁を常に弁体
駆動系の共振周波数で駆動することができる。
て弁体に軸方向の力を及ぼす定常流体力は弁を開くとそ
れを閉じようとする方向に働く。すなわち定常流体力は
ばね力と等しい効果があり、制御弁のばね要素と定常流
体力によるばねとの和が弁体駆動系全体のばね要素とな
る。従って使用圧力(流体圧力)が変化すると定常流体
力によるばねのばね定数が変化し、弁体駆動系の共振周
波数が変化してしまう。しかし制御弁のばね要素のばね
定数を定常流体力によるばね定数に比して十分に大きく
することにより定常流体力による共振周波数の変化を無
視できる程度に相対的に小さくでき、制御弁を常に弁体
駆動系の共振周波数で駆動することができる。
【0019】第5の発明において、弁体駆動系に働くば
ね力とは弁体の変位に比例した力であるので、弁体の変
位を加振手段への入力信号にフィードバックして、その
フィードバックゲインを選ぶことにより等価的に弁体駆
動系のばね定数が操作できる。このとき、指令信号と弁
体の変位との比較によりフィードバックゲインを調節す
ることにより、制御弁を常に弁体駆動系の共振周波数で
駆動することができ、さらに共振倍率の安定化も図られ
る。
ね力とは弁体の変位に比例した力であるので、弁体の変
位を加振手段への入力信号にフィードバックして、その
フィードバックゲインを選ぶことにより等価的に弁体駆
動系のばね定数が操作できる。このとき、指令信号と弁
体の変位との比較によりフィードバックゲインを調節す
ることにより、制御弁を常に弁体駆動系の共振周波数で
駆動することができ、さらに共振倍率の安定化も図られ
る。
【0020】第6の発明において、制御弁を常に共振周
波数で駆動するための方法として、弁体駆動系の固有周
波数が変化したらそれに合わせて加振する周波数を追従
させることが考えられる。このとき、指令信号と弁体の
変位との比較により加振周波数を調節することにより制
御弁を常に弁体駆動系の共振周波数で駆動することがで
きる。
波数で駆動するための方法として、弁体駆動系の固有周
波数が変化したらそれに合わせて加振する周波数を追従
させることが考えられる。このとき、指令信号と弁体の
変位との比較により加振周波数を調節することにより制
御弁を常に弁体駆動系の共振周波数で駆動することがで
きる。
【0021】
【実施例】以下、本発明の実施例を図1から図12を参
照して説明する。
照して説明する。
【0022】図1は、本発明の一実施例である制御弁の
断面図、図2は、本発明の各実施例に共通した制御シス
テムの基本構成を示すブロック図、図3は、本発明のそ
の他の実施例である制御弁の断面図、図4は、本発明の
一実施例に係る制御弁と弁の速度フィードバックを行う
制御装置との関係を説明するブロック線図、図5は作動
流体の温度が変化したときの共振倍率の変化を説明する
図、図6は、粘度制御用流体使用時の制御弁の構成を説
明する図、図7は、粘度制御用流体及び非定常流体力の
効果を説明する図、図8は、弁部における流体の流れ方
向と減衰長を説明する図、図9は、固有周波数が変化し
たときの共振倍率の変化を説明する図、図10は、本発
明の一実施例に係る制御弁と弁の変位フィードバックを
行う制御装置との関係を説明するブロック線図、図11
は、本発明の一実施例に係る制御弁と弁の加振周波数の
調節を行う制御装置との関係を説明するブロック線図、
図12は、本発明の一実施例である制御弁を使用した流
体圧サーボシステムの実施例を説明する図である。
断面図、図2は、本発明の各実施例に共通した制御シス
テムの基本構成を示すブロック図、図3は、本発明のそ
の他の実施例である制御弁の断面図、図4は、本発明の
一実施例に係る制御弁と弁の速度フィードバックを行う
制御装置との関係を説明するブロック線図、図5は作動
流体の温度が変化したときの共振倍率の変化を説明する
図、図6は、粘度制御用流体使用時の制御弁の構成を説
明する図、図7は、粘度制御用流体及び非定常流体力の
効果を説明する図、図8は、弁部における流体の流れ方
向と減衰長を説明する図、図9は、固有周波数が変化し
たときの共振倍率の変化を説明する図、図10は、本発
明の一実施例に係る制御弁と弁の変位フィードバックを
行う制御装置との関係を説明するブロック線図、図11
は、本発明の一実施例に係る制御弁と弁の加振周波数の
調節を行う制御装置との関係を説明するブロック線図、
図12は、本発明の一実施例である制御弁を使用した流
体圧サーボシステムの実施例を説明する図である。
【0023】図1に示す制御弁は、内部軸線上に全通す
る空洞部を備えた弁本体1と、該弁本体1の空洞部の長
手方向ほぼ中央部に同心状に内装され中心軸線上に全通
する空洞部を備えたスリーブ2と、該スリーブ2と弁本
体1の図上むかって右側端の間の空洞部に軸線と同心状
をなして内装されたフレーム5と、断面がほぼT字形を
なす該フレーム5の弁本体1の右端に向かって延びるT
字形の足の部分を前記弁本体1に軸線と同心状に支持す
る転がり軸受6と、弁本体1の空洞部に前記フレーム5
のT字形の足の端部に接して配置された圧電素子7と、
該圧電素子7の端部に接して配置された中立点調整ねじ
8と、前記スリーブ2と弁本体1の図上むかって左側端
の間の空洞部に軸線と同心状をなして内装された断面が
ほぼT字形をなすフレーム5’と、前記スリーブ2の中
心軸線の空洞部に軸線方向に移動可能に内装された弁体
3と、前記フレーム5,5’のT字形の横棒部分の上に
該横棒部分に支持されて配置された板ばね4,4’と、
前記弁体3と板ばね4,4’の間に配置されて弁体3を
板ばね4,4’の間に支持する延長ステム9,9’と、
板ばね4,4’と延長ステム9,9’の間に介装された
硬球10,10’と、前記フレーム5’の足の部分に形
成された中空部に嵌挿され前記板ばね4’軸方向の変位
を検出する変位センサ17と、フレーム5’の軸方向位
置を調整する中立点調整ねじ8’とを含んで構成されて
いる。
る空洞部を備えた弁本体1と、該弁本体1の空洞部の長
手方向ほぼ中央部に同心状に内装され中心軸線上に全通
する空洞部を備えたスリーブ2と、該スリーブ2と弁本
体1の図上むかって右側端の間の空洞部に軸線と同心状
をなして内装されたフレーム5と、断面がほぼT字形を
なす該フレーム5の弁本体1の右端に向かって延びるT
字形の足の部分を前記弁本体1に軸線と同心状に支持す
る転がり軸受6と、弁本体1の空洞部に前記フレーム5
のT字形の足の端部に接して配置された圧電素子7と、
該圧電素子7の端部に接して配置された中立点調整ねじ
8と、前記スリーブ2と弁本体1の図上むかって左側端
の間の空洞部に軸線と同心状をなして内装された断面が
ほぼT字形をなすフレーム5’と、前記スリーブ2の中
心軸線の空洞部に軸線方向に移動可能に内装された弁体
3と、前記フレーム5,5’のT字形の横棒部分の上に
該横棒部分に支持されて配置された板ばね4,4’と、
前記弁体3と板ばね4,4’の間に配置されて弁体3を
板ばね4,4’の間に支持する延長ステム9,9’と、
板ばね4,4’と延長ステム9,9’の間に介装された
硬球10,10’と、前記フレーム5’の足の部分に形
成された中空部に嵌挿され前記板ばね4’軸方向の変位
を検出する変位センサ17と、フレーム5’の軸方向位
置を調整する中立点調整ねじ8’とを含んで構成されて
いる。
【0024】弁体3は、スリーブ2の空洞部の内径とほ
ぼ同じ径のランド3a、3bと、該ランド3a、3bを
連結するランド3a、3bよりも小さい径のステム3c
よりなっている。また弁本体1の、ランド3a,3bが
配置された空洞部には高圧である供給ポートPsが、ス
テム3cが配置された空洞部には低圧である制御ポート
Pcが、フレーム5,5’が配置された空洞部にはドレ
ンポートTが、それぞれ空洞部と弁本体外面を連通する
ように設けられている。二つの供給ポートPsが前記空
洞部に開口する部分は、それぞれ空洞部内壁面に沿って
円周上に形成された環状の溝をなしており、該ふたつの
溝の制御ポートPcに近い側の壁面の間隔は、前記ラン
ド3a、3bを連結するステム3cの長さとほぼ同じに
してある。そして、ランド3a、3bのステム3c側端
面と前記環状の溝のステム3c側端面との間の環状の隙
間を、それぞれ制御オリフィス2a,2bと呼ぶ。
ぼ同じ径のランド3a、3bと、該ランド3a、3bを
連結するランド3a、3bよりも小さい径のステム3c
よりなっている。また弁本体1の、ランド3a,3bが
配置された空洞部には高圧である供給ポートPsが、ス
テム3cが配置された空洞部には低圧である制御ポート
Pcが、フレーム5,5’が配置された空洞部にはドレ
ンポートTが、それぞれ空洞部と弁本体外面を連通する
ように設けられている。二つの供給ポートPsが前記空
洞部に開口する部分は、それぞれ空洞部内壁面に沿って
円周上に形成された環状の溝をなしており、該ふたつの
溝の制御ポートPcに近い側の壁面の間隔は、前記ラン
ド3a、3bを連結するステム3cの長さとほぼ同じに
してある。そして、ランド3a、3bのステム3c側端
面と前記環状の溝のステム3c側端面との間の環状の隙
間を、それぞれ制御オリフィス2a,2bと呼ぶ。
【0025】圧電素子7は、フレーム5,板ばね4,延
長ステム9を介して弁体3を軸線方向に駆動する。
長ステム9を介して弁体3を軸線方向に駆動する。
【0026】図2に本発明に係る制御弁が適用される制
御システムの基本構成を示す。図示の制御システムは、
一定圧力源11と、該圧力源11により駆動される負荷
15と、圧力源11と負荷15を結ぶ管路に介装された
2方向の制御弁14と、該制御弁14と圧力源11の間
の管路に接続されたアキュムレータ12と、流量を指定
する指令信号を受けて制御弁14への入力信号を発生す
る制御装置13とを含んで構成されている。2方向の制
御弁14は制御装置13からの入力信号に応じて開閉動
作する。
御システムの基本構成を示す。図示の制御システムは、
一定圧力源11と、該圧力源11により駆動される負荷
15と、圧力源11と負荷15を結ぶ管路に介装された
2方向の制御弁14と、該制御弁14と圧力源11の間
の管路に接続されたアキュムレータ12と、流量を指定
する指令信号を受けて制御弁14への入力信号を発生す
る制御装置13とを含んで構成されている。2方向の制
御弁14は制御装置13からの入力信号に応じて開閉動
作する。
【0027】図4は制御弁14と該制御弁の速度フィー
ドバックを行う制御装置13の関係を示す制御ブロック
線図である。制御装置13は、該制御弁14で流れるべ
き流量を指定する指令信号Vinを受け、これを共振周波
数の入力信号に変換する掛算器18と、指令信号Vinと
弁体変位xとの比較により、または作動流体の温度に応
じてフィードバックゲインKvを調節する調節部16を
備えて成っている。図6において、延長ステム9,9’
の周囲には粘度制御用流体貯蔵部20,20’が形成さ
れ、該粘度制御用流体貯蔵部20,20’とランド3
a,3bが内装された空洞部の間には絶縁材21、21
´が配置されている。22、22´は粘度制御用流体用
モジュールを示す。また、粘度制御用流体貯蔵部20,
20’には粘度制御用流体供給ポートPnが設けられて
いる。
ドバックを行う制御装置13の関係を示す制御ブロック
線図である。制御装置13は、該制御弁14で流れるべ
き流量を指定する指令信号Vinを受け、これを共振周波
数の入力信号に変換する掛算器18と、指令信号Vinと
弁体変位xとの比較により、または作動流体の温度に応
じてフィードバックゲインKvを調節する調節部16を
備えて成っている。図6において、延長ステム9,9’
の周囲には粘度制御用流体貯蔵部20,20’が形成さ
れ、該粘度制御用流体貯蔵部20,20’とランド3
a,3bが内装された空洞部の間には絶縁材21、21
´が配置されている。22、22´は粘度制御用流体用
モジュールを示す。また、粘度制御用流体貯蔵部20,
20’には粘度制御用流体供給ポートPnが設けられて
いる。
【0028】図12において、11´は一定圧力源、1
4´は制御弁、13cは制御装置、40は4方弁、41
は弁本体、42は弁体、43、43´は圧力制御室、4
4、44´はオリフィス、45はアクチュエータ、46
は負荷、47はタンク、48、48´は変位センサであ
る。
4´は制御弁、13cは制御装置、40は4方弁、41
は弁本体、42は弁体、43、43´は圧力制御室、4
4、44´はオリフィス、45はアクチュエータ、46
は負荷、47はタンク、48、48´は変位センサであ
る。
【0029】以下に、本発明に係る制御弁の構成及び動
作を図1及び図2を参照して説明する。本実施例では図
2に示すように、制御弁の上流側(圧力源11側)管路
にアキュムレータを設けて定圧力源とし、制御弁を流量
制御弁として使用する場合について説明する。図1に示
す第1の実施例では、加振手段として圧電素子7を用い
る。図示の状態は中立状態を示しており、制御オリフィ
ス2a、2bは閉じられている。弁体3は、ばね、質量
で定まる固有振動を持つ振動系となっており、このた
め、共振周波数fnによって圧電素子7を振幅xoで駆動
するように、振幅Voの電圧を圧電素子に印加すれば、
弁体3は共振倍率をαとするときαxoの振幅で振動す
る。これは、圧電素子7の変位が小さい欠点をカバーす
るために設けた変位拡大機構の一つである。
作を図1及び図2を参照して説明する。本実施例では図
2に示すように、制御弁の上流側(圧力源11側)管路
にアキュムレータを設けて定圧力源とし、制御弁を流量
制御弁として使用する場合について説明する。図1に示
す第1の実施例では、加振手段として圧電素子7を用い
る。図示の状態は中立状態を示しており、制御オリフィ
ス2a、2bは閉じられている。弁体3は、ばね、質量
で定まる固有振動を持つ振動系となっており、このた
め、共振周波数fnによって圧電素子7を振幅xoで駆動
するように、振幅Voの電圧を圧電素子に印加すれば、
弁体3は共振倍率をαとするときαxoの振幅で振動す
る。これは、圧電素子7の変位が小さい欠点をカバーす
るために設けた変位拡大機構の一つである。
【0030】弁体3がαxoの振幅で振動していると
き、制御ポートPcからは間欠的に高圧流体が流出する
ことになる。このとき、出力流量qは、弁体振幅αxo
に比例する。従って、圧電素子7に印加する電圧の振幅
Voを変えることにより、出力流量qを制御できる。ま
た、弁体3の駆動周波数が高い程、弁体振幅がαxoに
至るまでの立上り時間が短縮され、制御弁としての応答
性の向上が図られる。尚、板ばね4、4´及びフレーム
5は高周波で振動するためフレームが内装してある室
(空洞部)内に作動流体が満たされていたり、空気が密
閉されていると駆動に際してかなりの抵抗となるため、
これを防ぐ目的で弁本体1にはドレンポートTが設けら
れている。尚、弁体3の変位は変位センサ17で計測さ
れ、これを微分することにより速度信号が算出される。
き、制御ポートPcからは間欠的に高圧流体が流出する
ことになる。このとき、出力流量qは、弁体振幅αxo
に比例する。従って、圧電素子7に印加する電圧の振幅
Voを変えることにより、出力流量qを制御できる。ま
た、弁体3の駆動周波数が高い程、弁体振幅がαxoに
至るまでの立上り時間が短縮され、制御弁としての応答
性の向上が図られる。尚、板ばね4、4´及びフレーム
5は高周波で振動するためフレームが内装してある室
(空洞部)内に作動流体が満たされていたり、空気が密
閉されていると駆動に際してかなりの抵抗となるため、
これを防ぐ目的で弁本体1にはドレンポートTが設けら
れている。尚、弁体3の変位は変位センサ17で計測さ
れ、これを微分することにより速度信号が算出される。
【0031】図13に、圧電素子への入力信号(振幅V
c,共振周波数の正弦波)と、この入力信号による圧電
素子の変位Xoと、圧電素子により駆動される弁体(ス
プール)の変位αXoと、弁体(スプール)の変位αXo
によって生ずる出力流量q及び実効流量を対比してして
同一時間軸上に示す。
c,共振周波数の正弦波)と、この入力信号による圧電
素子の変位Xoと、圧電素子により駆動される弁体(ス
プール)の変位αXoと、弁体(スプール)の変位αXo
によって生ずる出力流量q及び実効流量を対比してして
同一時間軸上に示す。
【0032】図1における実施例では、弁体3は板ばね
4及び4´で両側から延長ステム9,9’を押し付けて
支持する方法を取っているが、これは図3に示す本発明
のその他の実施例の制御弁のようにばねを片側のみとす
ることも可能である。この方法は両側をばねで支持した
場合に比べ単純に2倍の弁体の変位量が得られるという
長所があるが、反面短所も多い。短所の1つとして弁体
の支持方法、具体的には延長ステム9と板ばね4との接
続方法が挙げられ、図1の両側ばねの場合のように硬球
10を介して支持する方法をとれないので、ねじや接着
などの方法で固定する必要がある。固定により弁体3は
半径方向の拘束を受けるため、弁体3の中心と接続点と
フレーム5の軸中心の全てを一致させる必要がある。仮
にわずかでも偏心が生じると、弁体3がスリーブ2に押
し付けられ摩擦が増大し弁体3の動きが妨げられるとい
う問題が起こる。また、接続部におけるガタも微小な圧
電素子7の変位量を考えた場合問題である。従って、こ
の接続部の構成が片側ばねの場合のポイントとなる。
4及び4´で両側から延長ステム9,9’を押し付けて
支持する方法を取っているが、これは図3に示す本発明
のその他の実施例の制御弁のようにばねを片側のみとす
ることも可能である。この方法は両側をばねで支持した
場合に比べ単純に2倍の弁体の変位量が得られるという
長所があるが、反面短所も多い。短所の1つとして弁体
の支持方法、具体的には延長ステム9と板ばね4との接
続方法が挙げられ、図1の両側ばねの場合のように硬球
10を介して支持する方法をとれないので、ねじや接着
などの方法で固定する必要がある。固定により弁体3は
半径方向の拘束を受けるため、弁体3の中心と接続点と
フレーム5の軸中心の全てを一致させる必要がある。仮
にわずかでも偏心が生じると、弁体3がスリーブ2に押
し付けられ摩擦が増大し弁体3の動きが妨げられるとい
う問題が起こる。また、接続部におけるガタも微小な圧
電素子7の変位量を考えた場合問題である。従って、こ
の接続部の構成が片側ばねの場合のポイントとなる。
【0033】次に、制御装置における構成を図4を用い
て説明する。図4において、流体力や摩擦などの外乱を
無視すれば、制御弁は機械振動系として図中のようなブ
ロック線図で表される。但し、図中のmは弁体質量、C
fは粘性抵抗係数、kmは機械式ばねのばね定数、xは弁
体変位、sはラプラス演算子、tは時間、Vinは指令信
号、Tflowは流体の温度、fnは共振周波数である。
て説明する。図4において、流体力や摩擦などの外乱を
無視すれば、制御弁は機械振動系として図中のようなブ
ロック線図で表される。但し、図中のmは弁体質量、C
fは粘性抵抗係数、kmは機械式ばねのばね定数、xは弁
体変位、sはラプラス演算子、tは時間、Vinは指令信
号、Tflowは流体の温度、fnは共振周波数である。
【0034】弁体の共振倍率αは、制御弁全体のばね定
数をk、制御弁全体の減衰係数をcとするとα=(√
(mk))/2cで表される。ここで、制御弁全体のば
ね定数kは、機械式ばねのばね定数kmと後述する定常
流体力によるばね定数keと変位フィードバックゲイン
Kdの和で表され、制御弁全体の減衰係数cは、粘性抵
抗係数Cfと後述する非定常流体力による粘性抵抗係数
Clと速度フィードバックゲインKvの和で表される。上
式より共振倍率αを制御するには制御弁全体の減衰係数
cの制御が求められる(mを変えるのは不可能、kにつ
いてはその平方根によりαが変化するので効果が小さく
また制御もしづらい。)。減衰係数cは流体外乱がなけ
れば粘性抵抗係数Cfと等しく、流体の温度が一定であ
ればこの値は一定なので減衰係数cは制御できないが、
減衰係数とはすなわち弁体の移動速度dx/dtに比例した
抵抗であるので、制御装置13において、弁体速度dx/d
tを変位センサ17により取り出し、これにゲインKvを
乗じて入力信号にフィードバックすることにより等価的
に減衰係数cの操作ができる。このとき、速度信号を入
力信号にポジティブにフィードバックすることによって
減衰係数cが(Cf−Kv)に減少され共振倍率の増幅を
図ることができる。
数をk、制御弁全体の減衰係数をcとするとα=(√
(mk))/2cで表される。ここで、制御弁全体のば
ね定数kは、機械式ばねのばね定数kmと後述する定常
流体力によるばね定数keと変位フィードバックゲイン
Kdの和で表され、制御弁全体の減衰係数cは、粘性抵
抗係数Cfと後述する非定常流体力による粘性抵抗係数
Clと速度フィードバックゲインKvの和で表される。上
式より共振倍率αを制御するには制御弁全体の減衰係数
cの制御が求められる(mを変えるのは不可能、kにつ
いてはその平方根によりαが変化するので効果が小さく
また制御もしづらい。)。減衰係数cは流体外乱がなけ
れば粘性抵抗係数Cfと等しく、流体の温度が一定であ
ればこの値は一定なので減衰係数cは制御できないが、
減衰係数とはすなわち弁体の移動速度dx/dtに比例した
抵抗であるので、制御装置13において、弁体速度dx/d
tを変位センサ17により取り出し、これにゲインKvを
乗じて入力信号にフィードバックすることにより等価的
に減衰係数cの操作ができる。このとき、速度信号を入
力信号にポジティブにフィードバックすることによって
減衰係数cが(Cf−Kv)に減少され共振倍率の増幅を
図ることができる。
【0035】しかしながら、減衰係数cが減少して共振
倍率αが大きくなると、共振周波数fnのわずかなずれで
弁体振幅が大きく変動し、同じ入力電圧振幅Voに対し
ての弁体振幅αxoが変化しやすいという問題が起こる
が、調節部16において、指令信号と弁体変位(例えば
弁体振幅αxo)とを比較して弁体振幅αxoの変化に応
じてフィードバックゲインKvを調節することによりこ
れを補償することが可能となり、圧電素子に印加する電
圧振幅Voに対し常に安定した共振倍率αが得られる。
倍率αが大きくなると、共振周波数fnのわずかなずれで
弁体振幅が大きく変動し、同じ入力電圧振幅Voに対し
ての弁体振幅αxoが変化しやすいという問題が起こる
が、調節部16において、指令信号と弁体変位(例えば
弁体振幅αxo)とを比較して弁体振幅αxoの変化に応
じてフィードバックゲインKvを調節することによりこ
れを補償することが可能となり、圧電素子に印加する電
圧振幅Voに対し常に安定した共振倍率αが得られる。
【0036】図5は、制御弁の弁体振幅の周波数応答を
示すものであり、図示のように作動流体の温度が高いと
きは粘性抵抗係数Cfが減少するため共振点における弁
体振幅は大きくなり、逆に温度が低いときは粘性抵抗係
数Cfが増大するため弁体振幅は小さくなる。このた
め、温度変化によってもやはり同じ入力電圧振幅Voに
対しての弁体振幅αxoが使用条件によって変化すると
いう問題が起こるが、調節部16において、作動流体の
温度Tflowに応じてフィードバックゲインKvを調節す
ることにより、温度変化の影響を補償することが可能と
なり、圧電素子に印加する電圧振幅Voに対し常に安定
した共振倍率αが得られる。尚、実施例ではフィードバ
ックゲインを調節することにより制御を行う構成として
いるが、フィードバックゲインの代わりにループゲイン
を調節しても同様の効果がある。
示すものであり、図示のように作動流体の温度が高いと
きは粘性抵抗係数Cfが減少するため共振点における弁
体振幅は大きくなり、逆に温度が低いときは粘性抵抗係
数Cfが増大するため弁体振幅は小さくなる。このた
め、温度変化によってもやはり同じ入力電圧振幅Voに
対しての弁体振幅αxoが使用条件によって変化すると
いう問題が起こるが、調節部16において、作動流体の
温度Tflowに応じてフィードバックゲインKvを調節す
ることにより、温度変化の影響を補償することが可能と
なり、圧電素子に印加する電圧振幅Voに対し常に安定
した共振倍率αが得られる。尚、実施例ではフィードバ
ックゲインを調節することにより制御を行う構成として
いるが、フィードバックゲインの代わりにループゲイン
を調節しても同様の効果がある。
【0037】前記のように作動流体は温度変化により粘
性抵抗係数Cfが変化するため共振倍率が安定しないと
いう問題が起こるが、もし流体の粘性抵抗を積極的に制
御できる粘度制御用流体を使用したならば粘性抵抗係数
Cfを一定に制御して共振倍率の安定化を図ることが可
能となる。このときの制御弁の構成の実施例を図6を用
いて説明する。
性抵抗係数Cfが変化するため共振倍率が安定しないと
いう問題が起こるが、もし流体の粘性抵抗を積極的に制
御できる粘度制御用流体を使用したならば粘性抵抗係数
Cfを一定に制御して共振倍率の安定化を図ることが可
能となる。このときの制御弁の構成の実施例を図6を用
いて説明する。
【0038】図6において、粘度制御用流体として電界
流体を用いた場合の例を示す。図では延長ステム9、9
´部に粘度制御用流体用モジュール22、22´を組み
込んだ場合を示しており、延長ステム9、9´部で粘度
制御用流体の粘性抵抗を受ける構成としてある。粘度制
御用流体用モジュール22、22´は、絶縁材21、2
1´を介してスリーブ1及び弁体3に組み付けられてい
る。これは粘度制御用流体に印加すべき電圧Voが短絡
しないように金属同志の接触を避けるためのものであ
る。尚、金属接触による摩擦を防止するため延長ステム
と粘度制御用流体用モジュールの間には半径方向に隙間
を設けてある。従ってこの部分の加工精度はランド−ス
リーブ部と同程度にする必要がある。この隙間からの粘
度制御用流体の漏れに対する対策として、粘度制御用流
体貯蔵部20、20´には粘度制御用流体供給ポートP
nが接続されている。
流体を用いた場合の例を示す。図では延長ステム9、9
´部に粘度制御用流体用モジュール22、22´を組み
込んだ場合を示しており、延長ステム9、9´部で粘度
制御用流体の粘性抵抗を受ける構成としてある。粘度制
御用流体用モジュール22、22´は、絶縁材21、2
1´を介してスリーブ1及び弁体3に組み付けられてい
る。これは粘度制御用流体に印加すべき電圧Voが短絡
しないように金属同志の接触を避けるためのものであ
る。尚、金属接触による摩擦を防止するため延長ステム
と粘度制御用流体用モジュールの間には半径方向に隙間
を設けてある。従ってこの部分の加工精度はランド−ス
リーブ部と同程度にする必要がある。この隙間からの粘
度制御用流体の漏れに対する対策として、粘度制御用流
体貯蔵部20、20´には粘度制御用流体供給ポートP
nが接続されている。
【0039】以上のような構成によれば、延長ステム部
の粘度制御用流体による粘性抵抗とランド−スリーブ間
の作動流体による粘性抵抗との和が弁体に働く粘性抵抗
となる。そして、弁体3と粘度制御用流体用モジュール
22,22’に電極を取り付け、電圧Voを印加する
と、電圧Voの大きさに応じて粘度制御用流体貯蔵部内
の粘性が変化し弁体の粘性抵抗係数Cfを制御すること
ができる。このときの制御方法及びその効果について図
7を用いて説明する。
の粘度制御用流体による粘性抵抗とランド−スリーブ間
の作動流体による粘性抵抗との和が弁体に働く粘性抵抗
となる。そして、弁体3と粘度制御用流体用モジュール
22,22’に電極を取り付け、電圧Voを印加する
と、電圧Voの大きさに応じて粘度制御用流体貯蔵部内
の粘性が変化し弁体の粘性抵抗係数Cfを制御すること
ができる。このときの制御方法及びその効果について図
7を用いて説明する。
【0040】図7は流体の温度変化と弁体に働く減衰係
数との関係を示したもので、何も制御を行わない状態で
はIのように温度の上昇と共に減衰係数が低下する。こ
こで粘度制御用流体によりIIのように減衰係数を与えれ
ば、IとIIの和で表される弁体の減衰係数はIIIのよう
に使用温度範囲において一定に保つことができる。尚、
粘度制御用流体により与えられる最小の減衰係数をCo
とするならば、弁体に働く減衰係数は、C1+Co以上の
範囲で一定に制御することができる。
数との関係を示したもので、何も制御を行わない状態で
はIのように温度の上昇と共に減衰係数が低下する。こ
こで粘度制御用流体によりIIのように減衰係数を与えれ
ば、IとIIの和で表される弁体の減衰係数はIIIのよう
に使用温度範囲において一定に保つことができる。尚、
粘度制御用流体により与えられる最小の減衰係数をCo
とするならば、弁体に働く減衰係数は、C1+Co以上の
範囲で一定に制御することができる。
【0041】次に、流体が弁体振動へ及ぼす影響につい
て、図8を参照して説明する。弁体に流体が流入出する
とき弁体には流体力と呼ばれる抵抗力が軸方向に加わ
る。流体質量の慣性力を無視したとき、ρを流体の密
度、Qを弁体に流入出する流量、uを流れの速度、φを
流れの軸方向に対する角度、Lを減衰長(図8中に記
載)とすると流体力Fflowは次式で表される。
て、図8を参照して説明する。弁体に流体が流入出する
とき弁体には流体力と呼ばれる抵抗力が軸方向に加わ
る。流体質量の慣性力を無視したとき、ρを流体の密
度、Qを弁体に流入出する流量、uを流れの速度、φを
流れの軸方向に対する角度、Lを減衰長(図8中に記
載)とすると流体力Fflowは次式で表される。
【0042】
【数1】
【0043】この式の第1項目は定常項で流量Qに比
例、すなわち弁体変位に比例して力を及ぼし、第2項目
は非定常項で流量Qの時間変化に比例、すなわち弁体速
度に比例して力を及ぼす。第2項目の符号が±となって
いるのは流体の流れの向きにより力のかかる方向が逆に
なることを示す。例えば図8のように、流体の流れ方向
を弁体3のランド部3a、3bの制御オリフィス2a、
2bから弁体3のステム部3cの方向に内向きに流れる
ように流路を構成した場合、上式の第2項目の符号が負
となり、非定常流体力を弁体の移動と同方向へ作用させ
ることができる。このことをもう少し詳しく説明するた
めに、流体力の定常項と非定常項の効果を以下に説明す
る。
例、すなわち弁体変位に比例して力を及ぼし、第2項目
は非定常項で流量Qの時間変化に比例、すなわち弁体速
度に比例して力を及ぼす。第2項目の符号が±となって
いるのは流体の流れの向きにより力のかかる方向が逆に
なることを示す。例えば図8のように、流体の流れ方向
を弁体3のランド部3a、3bの制御オリフィス2a、
2bから弁体3のステム部3cの方向に内向きに流れる
ように流路を構成した場合、上式の第2項目の符号が負
となり、非定常流体力を弁体の移動と同方向へ作用させ
ることができる。このことをもう少し詳しく説明するた
めに、流体力の定常項と非定常項の効果を以下に説明す
る。
【0044】流体が流入出しているときの弁体振動系を
単純なばね質量系+流体力とみなした場合、Fを加振力
とすると弁体の運動方程式は次式で表される。
単純なばね質量系+流体力とみなした場合、Fを加振力
とすると弁体の運動方程式は次式で表される。
【0045】
【数2】
【0046】流量係数をCs、速度係数をCv、弁体径を
d、弁差圧をΔpとすると上式は次式のようになる。
d、弁差圧をΔpとすると上式は次式のようになる。
【0047】
【数3】
【0048】但し、
【0049】
【数4】
【0050】
【数5】
【0051】すなわち定常流体力はばね力と同じ働きが
あり、系全体のばね定数の増加となって表れる。尚、定
常流体力によるばね力は弁差圧Δpをパラメータにして
そのばね定数keを変化させる。また、非定常流体力は
粘性抵抗力と同じ働きがあり、上記のような内向きに流
体が流れる流路構成とした場合には系全体の減衰係数c
を減少させる効果があり、流れの向きを反対にした場合
は減衰係数cを増加させる効果がある。尚、非定常流体
力による粘性抵抗力は弁差圧Δpが一定である場合、減
衰長Lをパラメータにしてその粘性抵抗係数Clを変化
させる。
あり、系全体のばね定数の増加となって表れる。尚、定
常流体力によるばね力は弁差圧Δpをパラメータにして
そのばね定数keを変化させる。また、非定常流体力は
粘性抵抗力と同じ働きがあり、上記のような内向きに流
体が流れる流路構成とした場合には系全体の減衰係数c
を減少させる効果があり、流れの向きを反対にした場合
は減衰係数cを増加させる効果がある。尚、非定常流体
力による粘性抵抗力は弁差圧Δpが一定である場合、減
衰長Lをパラメータにしてその粘性抵抗係数Clを変化
させる。
【0052】前述の粘度制御用流体を用いた減衰係数一
定化制御では減衰係数を低減することができず、減衰係
数を制御できる範囲が限られてしまうという制約があっ
たが、この非定常流体力をうまく利用することでこの問
題が解決できる。すなわち、流体の流れ方向を内向きに
することにより弁体の減衰係数cを(c−Cl)に低減
することができ、減衰長Lにより低減量を調節できる。
このとき、この減衰長Lの設定により弁体の減衰係数c
を所望の値(弁体の共振倍率αが所望の値になる減衰係
数c)よりも少し小さくなるようにしておく。そして動
作時には弁体が所望の減衰係数となるように正の減衰力
をなんらかの方法で与えてやる。例えば弁体速度を入力
信号にネガティブにフィードバックしたり、弁体の周囲
に電磁流体や電界流体などの粘度制御用流体を満たしそ
の粘度を制御するなどである。
定化制御では減衰係数を低減することができず、減衰係
数を制御できる範囲が限られてしまうという制約があっ
たが、この非定常流体力をうまく利用することでこの問
題が解決できる。すなわち、流体の流れ方向を内向きに
することにより弁体の減衰係数cを(c−Cl)に低減
することができ、減衰長Lにより低減量を調節できる。
このとき、この減衰長Lの設定により弁体の減衰係数c
を所望の値(弁体の共振倍率αが所望の値になる減衰係
数c)よりも少し小さくなるようにしておく。そして動
作時には弁体が所望の減衰係数となるように正の減衰力
をなんらかの方法で与えてやる。例えば弁体速度を入力
信号にネガティブにフィードバックしたり、弁体の周囲
に電磁流体や電界流体などの粘度制御用流体を満たしそ
の粘度を制御するなどである。
【0053】一例として粘度制御用流体を使用した場合
の効果を図7を用いて説明する。非定常流体力が作用し
ない場合の一定化制御し得る最小の減衰係数はIIIのよ
うに(C1+Co)であったが、仮に所望する減衰係数が
Cαである場合、内向き流れの非定常流体力を使用して
温度T1における減衰係数が(Cα−Co)以下になるよ
うに減衰長Lにより調節する。これにより無制御のとき
の減衰係数IはI’のようになる。ここで前述の場合と
同様に粘度制御用流体によりIIのような減衰係数をI’
に加えてやる。これによりIII’に示すように使用温度
範囲において所望の減衰係数Cαを得ることができる。
の効果を図7を用いて説明する。非定常流体力が作用し
ない場合の一定化制御し得る最小の減衰係数はIIIのよ
うに(C1+Co)であったが、仮に所望する減衰係数が
Cαである場合、内向き流れの非定常流体力を使用して
温度T1における減衰係数が(Cα−Co)以下になるよ
うに減衰長Lにより調節する。これにより無制御のとき
の減衰係数IはI’のようになる。ここで前述の場合と
同様に粘度制御用流体によりIIのような減衰係数をI’
に加えてやる。これによりIII’に示すように使用温度
範囲において所望の減衰係数Cαを得ることができる。
【0054】以上のように非定常流体力と減衰力付与手
段をうまく組み合わせることにより、共振倍率αを任意
に増大でき、なおかつその安定化を図ることができる。
段をうまく組み合わせることにより、共振倍率αを任意
に増大でき、なおかつその安定化を図ることができる。
【0055】さて、上述のように定常流体力はばね力と
等しい作用があり、弁差圧Δpをパラメータにしてばね
定数が変化する。従って使用圧力を変更したり、動作中
に圧力が変動したりすると弁体駆動系の固有周波数の変
化が起こる。このときの弁体振動に及ぼす影響を図9を
用いて説明する。図9は弁体駆動系の周波数応答を示し
たもので、Iのように固有周波数fnにおいてゲインgn
を得る2次の振動系とする。本制御弁は共振を利用して
いるので弁体駆動系に与える加振周波数frは固有周波
数fnと等しくしてある。ここで、仮に固有周波数がII
のようにfn1にずれたとすると、加振周波数frはfnの
ままなのでゲインはgn1に低下する。このことは同じ入
力信号に対しての弁体の変位拡大率が変化することを意
味する。従って定常流体力による固有周波数の変動をな
んらかの方法で補償する必要がある。
等しい作用があり、弁差圧Δpをパラメータにしてばね
定数が変化する。従って使用圧力を変更したり、動作中
に圧力が変動したりすると弁体駆動系の固有周波数の変
化が起こる。このときの弁体振動に及ぼす影響を図9を
用いて説明する。図9は弁体駆動系の周波数応答を示し
たもので、Iのように固有周波数fnにおいてゲインgn
を得る2次の振動系とする。本制御弁は共振を利用して
いるので弁体駆動系に与える加振周波数frは固有周波
数fnと等しくしてある。ここで、仮に固有周波数がII
のようにfn1にずれたとすると、加振周波数frはfnの
ままなのでゲインはgn1に低下する。このことは同じ入
力信号に対しての弁体の変位拡大率が変化することを意
味する。従って定常流体力による固有周波数の変動をな
んらかの方法で補償する必要がある。
【0056】そこで、制御弁のばね要素(実施例では板
ばね)のばね定数kを定常流体力によるばね定数keに対
して十分に大きくしておけば、両者のばね定数の和で表
される系全体のばね定数の変化は微小となるため固有周
波数fnの変化は無視できる程度に小さくできる。従っ
て同一の入力信号に対して常に一定の共振倍率αを保つ
ことができる。
ばね)のばね定数kを定常流体力によるばね定数keに対
して十分に大きくしておけば、両者のばね定数の和で表
される系全体のばね定数の変化は微小となるため固有周
波数fnの変化は無視できる程度に小さくできる。従っ
て同一の入力信号に対して常に一定の共振倍率αを保つ
ことができる。
【0057】しかし、固有周波数fnと加振周波数frを
一致できるならばより正確に共振倍率αを一定に保つこ
とができる。これには固有周波数fnを変化させて加振
周波数frに一致させる方法、あるいは加振周波数frを
変化させて固有周波数fnに一致させる方法の2通りが
考えられる。まず、前者の実施例を図10を用いて説明
する。弁体駆動系の固有周波数fnの変動を補償するに
はばね定数を変化させることが考えられ、ばね定数の変
更は瞬時に行う必要がある。しかし、通常用いられるコ
イルばねや板ばねなどの機械式ばねの場合、動作途中に
そのばね定数を変化させるのは困難である。従って、こ
こではばね定数を電気的に制御する方法が有効である。
すなわちばね定数は弁体変位xに比例した抵抗力である
ので、制御装置13aにおいて、弁体変位xを取り出
し、これにゲインKdを乗じて入力信号にフィードバッ
クすることにより等価的にばね定数の操作ができる。こ
のとき調節部16aにおいて指令信号と弁体変位(例え
ば弁体振幅αxo)とを比較して、例えば、予め調べた
共振時における弁体振幅と時々刻々変化する弁体振幅α
xoとの差を取ってその値に応じてフィードバックゲイ
ンKdを調節することにより、弁体駆動系のばね定数を
制御して固有周波数fnを一定に保つことができる。従
って加振周波数frと固有周波数fnが一致され、制御弁
を常に共振点で駆動することができる。
一致できるならばより正確に共振倍率αを一定に保つこ
とができる。これには固有周波数fnを変化させて加振
周波数frに一致させる方法、あるいは加振周波数frを
変化させて固有周波数fnに一致させる方法の2通りが
考えられる。まず、前者の実施例を図10を用いて説明
する。弁体駆動系の固有周波数fnの変動を補償するに
はばね定数を変化させることが考えられ、ばね定数の変
更は瞬時に行う必要がある。しかし、通常用いられるコ
イルばねや板ばねなどの機械式ばねの場合、動作途中に
そのばね定数を変化させるのは困難である。従って、こ
こではばね定数を電気的に制御する方法が有効である。
すなわちばね定数は弁体変位xに比例した抵抗力である
ので、制御装置13aにおいて、弁体変位xを取り出
し、これにゲインKdを乗じて入力信号にフィードバッ
クすることにより等価的にばね定数の操作ができる。こ
のとき調節部16aにおいて指令信号と弁体変位(例え
ば弁体振幅αxo)とを比較して、例えば、予め調べた
共振時における弁体振幅と時々刻々変化する弁体振幅α
xoとの差を取ってその値に応じてフィードバックゲイ
ンKdを調節することにより、弁体駆動系のばね定数を
制御して固有周波数fnを一定に保つことができる。従
って加振周波数frと固有周波数fnが一致され、制御弁
を常に共振点で駆動することができる。
【0058】次に、後者の実施例を図11を用いて説明
する。この場合は固有周波数fnの変動はそのままにし
て加振源側の加振周波数frを制御する。すなわち、制
御装置13bにおける調節部16bにおいて、指令信号
と弁体変位(例えば弁体振幅αxo)とを比較して、例
えば予め調べた共振時における弁体振幅と時々刻々変化
する弁体振幅αxoとの差を取ってその値に応じて加振
周波数frを調節することにより弁体駆動系の固有周波
数fnに一致させることができる。従って前者の場合と
同様、制御弁を常に共振点で駆動することができる。
する。この場合は固有周波数fnの変動はそのままにし
て加振源側の加振周波数frを制御する。すなわち、制
御装置13bにおける調節部16bにおいて、指令信号
と弁体変位(例えば弁体振幅αxo)とを比較して、例
えば予め調べた共振時における弁体振幅と時々刻々変化
する弁体振幅αxoとの差を取ってその値に応じて加振
周波数frを調節することにより弁体駆動系の固有周波
数fnに一致させることができる。従って前者の場合と
同様、制御弁を常に共振点で駆動することができる。
【0059】最後に、実際にこの制御弁を用いて流体圧
サーボシステムを構成した時の実施例を図12を用いて
説明する。制御弁14は加振源である圧電素子7の変位
が微小であるため変位を拡大しているが大流量を扱うに
はやはり不向きで、大流量化を図るために弁体3を大き
くするなどした場合、固有周波数の減少によりその高速
性が損なわれる。そこで、制御弁14の高速性を損なう
ことなく大流量を制御するための方法として、図12に
示すように2個の制御弁14、14’を使用し、これを
圧力源11’と負荷であるアクチュエータ45を結ぶ管
路に介装された4方弁40を駆動するパイロット段とす
る方法がある。制御弁14、14’からの流量は制御圧
力室43、43’を通ってタンク47へ抜ける。このと
き流路の途中にオリフィス44、44’が設けられてい
るので制御弁14、14’からの流量の変化により制御
圧力室43、43’内の圧力が変化する。従って、制御
弁14、14’の弁開度の制御により制御圧力室43、
43’内の圧力を制御できるので、4方弁の弁体42を
両室内の圧力差により駆動することができる。以上のよ
うな流体圧系の構成によれば弁体42の移動量は任意な
ので、制御弁14の高速性をはそのままに大流量を制御
することができる。この4方弁にアクチュエータ45を
接続し負荷46を駆動するような流体圧サーボシステム
を構成する場合、制御系の構成例としては次のようにな
る。
サーボシステムを構成した時の実施例を図12を用いて
説明する。制御弁14は加振源である圧電素子7の変位
が微小であるため変位を拡大しているが大流量を扱うに
はやはり不向きで、大流量化を図るために弁体3を大き
くするなどした場合、固有周波数の減少によりその高速
性が損なわれる。そこで、制御弁14の高速性を損なう
ことなく大流量を制御するための方法として、図12に
示すように2個の制御弁14、14’を使用し、これを
圧力源11’と負荷であるアクチュエータ45を結ぶ管
路に介装された4方弁40を駆動するパイロット段とす
る方法がある。制御弁14、14’からの流量は制御圧
力室43、43’を通ってタンク47へ抜ける。このと
き流路の途中にオリフィス44、44’が設けられてい
るので制御弁14、14’からの流量の変化により制御
圧力室43、43’内の圧力が変化する。従って、制御
弁14、14’の弁開度の制御により制御圧力室43、
43’内の圧力を制御できるので、4方弁の弁体42を
両室内の圧力差により駆動することができる。以上のよ
うな流体圧系の構成によれば弁体42の移動量は任意な
ので、制御弁14の高速性をはそのままに大流量を制御
することができる。この4方弁にアクチュエータ45を
接続し負荷46を駆動するような流体圧サーボシステム
を構成する場合、制御系の構成例としては次のようにな
る。
【0060】アクチュエータ45の変位を制御する場合
を例にとると、制御装置13cには制御弁14、14’
からの変位信号のほかに、制御情報として弁体42及び
アクチュエータ45の変位をそれぞれ変位センサ48、
48’によりフィードバック信号として取り込む。弁体
42の変位は弁体42の定位を保つために取り込んでお
り、制御弁14、14’と4方弁40との間でマイナー
ループ系を構成している。制御弁14、14’への信号
の割り振り方には種々の方法があるが、最も単純には弁
体42を図中右の方向へ移動したい場合は制御弁14’
を駆動し14は閉じておく。また左方向の場合はこの逆
を行う。すなわち制御装置内で信号の正負により駆動す
る制御弁を選択するようにする。制御系の構成に際して
は、まずマイナーループ系において弁体42の制御が安
定して行えるようにマイナーループ系のフィードバック
ゲインを設定する。次に、このマイナーループ系にアク
チュエータ45を接続し、その変位を制御装置13cに
フィードバックしてメインループ系を構成する。そし
て、アクチュエータ45の制御が安定して行えるように
メインループ系のフィードバックゲインを設定すれば制
御系が完成する。以上によりアクチュエータ45の位置
制御が可能となる。
を例にとると、制御装置13cには制御弁14、14’
からの変位信号のほかに、制御情報として弁体42及び
アクチュエータ45の変位をそれぞれ変位センサ48、
48’によりフィードバック信号として取り込む。弁体
42の変位は弁体42の定位を保つために取り込んでお
り、制御弁14、14’と4方弁40との間でマイナー
ループ系を構成している。制御弁14、14’への信号
の割り振り方には種々の方法があるが、最も単純には弁
体42を図中右の方向へ移動したい場合は制御弁14’
を駆動し14は閉じておく。また左方向の場合はこの逆
を行う。すなわち制御装置内で信号の正負により駆動す
る制御弁を選択するようにする。制御系の構成に際して
は、まずマイナーループ系において弁体42の制御が安
定して行えるようにマイナーループ系のフィードバック
ゲインを設定する。次に、このマイナーループ系にアク
チュエータ45を接続し、その変位を制御装置13cに
フィードバックしてメインループ系を構成する。そし
て、アクチュエータ45の制御が安定して行えるように
メインループ系のフィードバックゲインを設定すれば制
御系が完成する。以上によりアクチュエータ45の位置
制御が可能となる。
【0061】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、制
御弁の減衰係数を制御することができるので共振倍率の
任意設定、及び外乱に対する補償ができ、さらに、制御
弁を常に共振点で駆動することができるので、制御弁の
高効率化、安定化を図れる効果がある。
御弁の減衰係数を制御することができるので共振倍率の
任意設定、及び外乱に対する補償ができ、さらに、制御
弁を常に共振点で駆動することができるので、制御弁の
高効率化、安定化を図れる効果がある。
【図1】本発明の一実施例である制御弁の断面図であ
る。
る。
【図2】本発明の各実施例に共通した、制御弁が適用さ
れる系統の基本構成を示すブロック図である。
れる系統の基本構成を示すブロック図である。
【図3】本発明の他の実施例である制御弁の断面図であ
る。
る。
【図4】本発明の一実施例に係る制御弁と弁の速度フィ
ードバックを行う制御装置との関係を説明する制御系統
図である。
ードバックを行う制御装置との関係を説明する制御系統
図である。
【図5】作動流体の温度と共振倍率の関係を説明する概
念図である。
念図である。
【図6】本発明の実施例である粘度制御用流体を使用す
る制御弁の構成を説明する断面図である。
る制御弁の構成を説明する断面図である。
【図7】粘度制御用流体を用いたときの粘度制御用流体
の温度と粘度制御用流体及び非定常流体力の効果を説明
する概念図である。
の温度と粘度制御用流体及び非定常流体力の効果を説明
する概念図である。
【図8】弁部における流体の流れ方向と減衰長を説明す
る部分断面図である。
る部分断面図である。
【図9】弁体及び該弁体とともに振動する系の固有周波
数が変化したときの共振倍率の変化を説明する概念図で
ある。
数が変化したときの共振倍率の変化を説明する概念図で
ある。
【図10】本発明の一実施例に係る制御弁と弁の変位フ
ィードバックを行う制御装置との関係を説明する制御系
統図である。
ィードバックを行う制御装置との関係を説明する制御系
統図である。
【図11】本発明の一実施例に係る制御弁と弁の加振周
波数の調節を行う制御装置との関係を説明する制御系統
図である。
波数の調節を行う制御装置との関係を説明する制御系統
図である。
【図12】本発明の一実施例である制御弁を使用した流
体圧サーボシステムの実施例を説明する部分断面ブロッ
ク図である。
体圧サーボシステムの実施例を説明する部分断面ブロッ
ク図である。
【図13】入力信号と加振手段の変位と弁体の変位と出
力流量及び実効流量の関連を示す概念図である。
力流量及び実効流量の関連を示す概念図である。
1 弁本体 2 スリーブ 2a,2b 制御オリフィス 3 弁体 3a、3b ランド 3c ステム 4,4’ 板ばね 5,5’ フレーム 6 転がり軸受 7 加振手段(圧電素子) 8,8’ 中立点調整ねじ 9、9´ 延長ステム 10,10’ 硬球 11 一定圧力源 12 アキュムレータ 13、13a、13b 制御装置 14 制御弁 15 負荷 16、16a、16b 調節部 17 変位センサ 18 掛算器 20、20´ 粘度制御用流体用モジュール 21、21´ 絶縁材 22、22´ 粘度制御用流体貯蔵部 40 四方弁 41 弁本体 42 弁体 43,43’ 圧力制御室 44,44’ オリフィス 45 アクチュエータ 46 負荷 47 タンク 48,48’ 変位センサ
Claims (8)
- 【請求項1】 位置を変えることにより流体の流れを制
御する弁体と該弁体を入力信号に基づいて加振する加振
手段とをばね要素を介して結合し、この系の固有周波数
近傍の周波数で加振して流体の流れを制御する方式の制
御弁において、前記弁体の可動部の速度を前記加振手段
の入力信号に正にフィードバックする制御装置を含んで
なることを特徴とする制御弁。 - 【請求項2】 請求項1に記載の制御弁において、指令
信号と前記弁体の可動部の変位との比較により前記制御
装置のゲインを調節する調節部を含んでなることを特徴
とする制御弁。 - 【請求項3】 請求項1に記載の制御弁において、流体
の温度に応じて前記制御装置のゲインを調節する調節部
を含んでなることを特徴とする制御弁。 - 【請求項4】 位置を変えることにより流体の流れを制
御する弁体と該弁体を加振する加振手段とをばね要素を
介して結合し、この系の固有周波数近傍の周波数で加振
して流体の流れを制御する方式の制御弁において、前記
弁体の可動部周囲に粘度を制御できる流体を配置し、該
流体の粘度を制御する手段を備えたことを特徴とする制
御弁。 - 【請求項5】 位置を変えることにより流体の流れを制
御する弁体と該弁体を加振する加振手段とをばね要素を
介して結合し、この系の固有周波数近傍の周波数で加振
して流体の流れを制御する方式の制御弁において、前記
弁体の可動部の減衰係数が所望量以下になるよう前記弁
体の減衰長を設定し、動作時に前記弁体の可動部に付与
する正の減衰力の付与量を調節する手段を備えたことを
特徴とする制御弁。 - 【請求項6】 位置を変えることにより流体の流れを制
御する弁体と該弁体を加振する加振手段とをばね要素を
介して結合し、この系の固有周波数近傍の周波数で加振
して流体の流れを制御する方式の制御弁において、前記
ばね要素のばね定数を流体力によるばねのばね定数に比
較して十分に大きくしたことを特徴とする制御弁。 - 【請求項7】 位置を変えることにより流体の流れを制
御する弁体と該弁体を入力信号に基づいて加振する加振
手段とをばね要素を介して結合し、この系の固有周波数
近傍の周波数で加振して流体の流れを制御する方式の制
御弁において、前記弁体の可動部の変位を前記加振手段
の入力信号にフィードバックし、指令信号と前記弁体の
可動部の変位との比較によりゲインを調節する手段を備
えたことを特徴とする制御弁。 - 【請求項8】 位置を変えることにより流体の流れを制
御する弁体と該弁体を入力信号に基づいて加振する加振
手段とをばね要素を介して結合し、この系の固有周波数
近傍の周波数で加振して流体の流れを制御する方式の制
御弁において、指令信号と前記弁体の可動部の変位との
比較により前記加振手段の加振周波数を調節する手段を
備えたことを特徴とする制御弁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31034592A JPH06159324A (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 制御弁 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31034592A JPH06159324A (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 制御弁 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06159324A true JPH06159324A (ja) | 1994-06-07 |
Family
ID=18004117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31034592A Pending JPH06159324A (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 制御弁 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06159324A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009299767A (ja) * | 2008-06-12 | 2009-12-24 | Komatsu Ltd | 油圧サーボ駆動装置 |
JPWO2017154139A1 (ja) * | 2016-03-09 | 2018-07-26 | 三菱電機株式会社 | バルブ装置 |
KR102392647B1 (ko) * | 2021-12-23 | 2022-04-29 | 주식회사 스페이스솔루션 | 미세한 온도 조절이 가능한 온도제어 피드백 밸브 |
-
1992
- 1992-11-19 JP JP31034592A patent/JPH06159324A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009299767A (ja) * | 2008-06-12 | 2009-12-24 | Komatsu Ltd | 油圧サーボ駆動装置 |
JPWO2017154139A1 (ja) * | 2016-03-09 | 2018-07-26 | 三菱電機株式会社 | バルブ装置 |
KR102392647B1 (ko) * | 2021-12-23 | 2022-04-29 | 주식회사 스페이스솔루션 | 미세한 온도 조절이 가능한 온도제어 피드백 밸브 |
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