JPH06157045A - ルチル型チタニア−シリカガラスの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高温を必要とせず、シリカガラス中にルチル
型チタニアがほぼ均一に分散したガラス組成物が得ら
れ、しかも単体粉末やコーティング膜ばかりでなく繊維
状、板状又は線材としても製造可能なルチル型チタニア
−シリカガラスの製造法を提供する。 【構成】 シリコンアルコキシドと有機チタン化合物と
水混和性有機溶媒とを混合した溶液に、無機酸水溶液を
添加して加水分解を行い、さらに、６０℃を越えない温
度、相対湿度６０％以上の条件で熟成を行い、得られる
ゲルを乾燥、焼成してルチル型チタニア−シリカガラス
を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ルチル型チタニア−シ
リカゲル及びルチル型チタニア−シリカガラスの製造法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】チタニア−シリカガラスは、熱膨張係数
がほぼゼロに近い耐熱衝撃性材料として広範囲に利用さ
れている。又、紫外線遮蔽効果や高屈折率などの光学的
特性、あるいは絶縁性や高誘電率といった電気的特性に
も優れていることが知られている。

【０００３】又、従来、Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系、ＴｉＯ₂
−ＳｉＯ₂系のような無機酸化物は、生体内の塩基性毒
素の除去、あるいはカナマイシン、カプレオマイシンな
どの塩基性抗生物質の分離精製に用いる吸着剤としても
知られている。

【０００４】ところで、通常、非晶質のＴｉＯ₂は、３
００℃でアナターゼ型、６００℃でルチル型の結晶とな
ることが知られているが、上記電気的特性に関しては、
高温で安定なルチル相が低温で生成し易いアナターゼ相
よりも優れており、屈折率もルチル相の方が高いことが
知られている。

【０００５】チタニア−シリカガラスの製造法として
は、従来、（１）二酸化ケイ素と二酸化チタンを混合
し、１７５０℃で溶融した後急冷する方法、（２）ケイ
酸アルカリ水溶液にチタン酸性水溶液を混合加熱し、沈
澱を得る方法（例えば特開昭６２−１９７３０９号）、
（３）ハロゲン化ケイ素とハロゲン化チタン混合蒸気
を、酸化性ガスと８５０℃以上で反応させる方法（例え
ば特開昭５０−１２３０９７号、特開昭５０−１１５１
９０号）、（４）金属アルコキシドから得られるガラス
を１２００℃で加熱処理して得る方法（例えば特開昭６
０−９０８３５号）等が提案されている。

【０００６】しかしながら、（１）の方法は１７５０℃
という高温を必要とする上、溶融物の取扱いが困難であ
り、しかも最終生成物は非晶質であるという問題があ
る。また、（２）及び（３）の方法は、粉末状チタニア
−シリカガラスを得る方法であり、例えば板状、膜状、
繊維状といった成形品は得られないという問題がある。
さらに、（４）の方法は１２００〜１３００℃の高温を
必要とし、しかも生成する結晶中のチタニアはルチル型
に限定されない等の問題がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な問題を解消するために、従来法のような高温を必要と
せず、シリカガラス中にルチル型チタニアがほぼ均一に
分散したガラス組成物が得られ、しかも単体粉末やコー
ティング膜ばかりでなく繊維状、板状又は線材としても
製造可能なルチル型チタニア−シリカガラスの製造法を
提供することを課題とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するために鋭意研究した結果、シリカ化合物として
アルコキシドを用い、好ましくはゲル合成の初期に二酸
化チタン超微粒子を添加し、得られたゲルを温和な条件
で長時間乾燥させることにより、シリカゲル中にほぼ均
一にルチル型チタニアが分散したチタニア−シリカゲル
が得られ、これを乾燥、焼成することにより、ルチル型
チタニア−シリカガラスを従来よりも簡便に且つ低温で
製造することができることを見出し、本発明に至った。

【０００９】すなわち本発明は、シリコンアルコキシド
と有機チタン化合物と水混和性有機溶媒とを混合した溶
液に、無機酸水溶液を添加して加水分解を行い、さら
に、６０℃を越えない温度、相対湿度６０％以上の条件
で熟成を行うことを特徴とするルチル型チタニア−シリ
カゲルの製造法である。さらに本発明は、シリコンアル
コキシドと有機チタン化合物と水混和性有機溶媒とを混
合した溶液に、無機酸水溶液を添加して加水分解を行
い、さらに、６０℃を越えない温度、相対湿度６０％以
上の条件で熟成を行い、得られるゲルを乾燥、焼成する
ことを特徴とするルチル型チタニア−シリカガラスの製
造法を提供する。

【００１０】尚、本発明のルチル型チタニア−シリカガ
ラスは、完全な非晶質ではないが、ガラス構造中に部分
結晶を含むという意味で「ガラス」ということとする。
以下、本発明を詳細に説明する。

【００１１】＜１＞本発明に用いる材料 （１）シリコンアルコキシド シリコンアルコキシドとしては、化１の一般式で表され
る化合物、例えば、シリコンメトキシド、シリコンエト
キシド、シリコンノルマルプロポキシド、シリコンイソ
プロポメトキシド、シリコンノルマルブトキシド、シリ
コンイソブトキシド、シリコンセカンダリブトキシド、
シリコンターシャリブトキシド等が挙げられ、単独ある
いは任意の２種以上の混合物として使用される。また、
これらの縮合物であってもよい。

【００１２】

【化１】Ｓｉ（ＯＲ）₄ （但し、Ｒは短鎖アルキル基）

【００１３】（２）有機チタン化合物 有機チタン化合物としては、例えば、化２の一般式で表
されるチタンメトキシド、チタンエトキシド、チタンノ
ルマルプロポキシド、チタンイソプロポメトキシド、チ
タンノルマルブトキシド、チタンイソブトキシド、チタ
ンセカンダリブトキシド、チタンターシャリブトキシド
等のチタンテトラアルコキシド、あるいはテトラオクチ
レングリコールチタネート、テトラキス（２−エチルヘ
キシル）チタネート、ジイソプロポキシチタンビスアセ
チルアセトネート等が挙げられ、単独でも任意の２種以
上の混合物であってもよい。

【００１４】

【化２】Ｔｉ（ＯＲ）₄ （但し、Ｒは短鎖アルキル基）

【００１５】（３）ルチル型チタニア超微粒子 ルチル型チタニア超微粒子としては、Ｘ線回折による結
晶型がルチル型であり、かつ、粒子径が５０〜１０００
オングストローム程度の酸化チタン超微粒子が好まし
い。このような酸化チタン超微粒子は、タイペークＣＲ
−５０（石原産業（株）社製）、チタンＭＴ−１００Ｔ
（テイカ社製）等が市販されており、これを使用するこ
とができる。

【００１６】＜２＞本発明の製造法 次に、上記材料を用いた本発明のルチル型チタニア−シ
リカガラスの製造法を説明する。

【００１７】（１）シリコンアルコキシドと有機チタン
化合物との混合 まず、上記シリコンアルコキシドと有機チタン化合物と
を水混和性有機溶媒中で混合する。この混合溶液の不混
和を防止し、さらに後述の加水分解反応を緩やかに進行
させるために、水と相溶する有機溶媒を用いるのが好ま
しい。このような有機溶媒としては、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、ブタノール、イソアミルアルコ
ール等のアルコール類や、グリセリン、アセトン、メチ
ルエチルケトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げら
れ、単独あるいは相互不混和を起こさない２種以上の混
合物として用いられる。

【００１８】シリコンアルコキシドと有機チタン化合物
及び有機溶媒との混合順序は特に限定されないが、有機
チタン化合物と有機溶媒の混合溶液にシリコンアルコキ
シドを添加する事が好ましい。又、有機チタン化合物は
大気中の水分と反応する事があるので、有機チタン化合
物と有機溶媒の混合過程は窒素ガス気流中で行う事が望
ましい。

【００１９】有機チタン化合物とシリコンアルコキシド
との量比は、各々ＴｉＯ₂とＳｉＯ₂に換算した値で、８
０〜１：２０〜９９が好ましく、６０〜１：４０〜９９
がさらに好ましい。また、本発明のルチル型チタニア−
シリカゲルあるいはルチル型チタニア−シリカガラスを
高屈折率コーティング膜として使用する場合は、上記量
比は１〜２０：９９〜８０、好ましくは１〜１０：９９
〜９０が適当である。

【００２０】上記のシリコンアルコキシド、有機チタン
化合物及び水混和性有機溶媒との混合に際し、必要に応
じてルチル型チタニア超微粒子を分散させる。これは、
ルチル型チタニアの結晶を生成しやすくするためであ
る。このルチル型チタニア超微粒子の添加順序及び添加
方法は、特に限定されない。添加量は、通常、前記混合
溶液に対し０．０１〜５重量％、好ましくは０．１〜１
重量％の範囲が適当である。

【００２１】（２）加熱還流 上記混合溶液を還流下で加熱撹拌する。この工程は必須
ではないが、シリコンアルコキシドと有機チタン化合物
あるいは酸化チタン超微粒子との反応を効率的に進行さ
せるために、行うことが好ましい。例えば冷却管を取り
付けた三つ口フラスコのような反応器中において、用い
た水混和性有機溶媒の沸点以上の温度で行うことが望ま
しい。

【００２２】反応の時間は特に限定されないが、一定時
間以上反応を行っても反応効率は頭打ちになるので、６
〜９２時間が適当であるが、望ましくは１２〜２４時間
が適当である。

【００２３】尚、加熱還流を行った場合は、次に行う加
水分解反応を行う前に、室温まで冷却することが好まし
い。

【００２４】（３）加水分解 次に、シリコンアルコキシドと有機チタン化合物の加水
分解を行う。これは、アルコキシ基の脱水重合反応を行
うためであり、反応するに従って透明ゲルが生成する。

【００２５】加水分解反応の触媒としては、ＨＣｌ、Ｈ
₂ＳＯ₄、ＨＮＯ₃等の無機酸の水溶液が挙げられ、これ
らを上記シリコンアルコキシドと有機チタン化合物との
混合液、あるいは加熱還流した混合液に徐々に滴下し、
ゆっくり混合するのが好ましい。シリコンアルコキシド
と有機チタン化合物の混合溶液と無機酸との混合割合は
モル比で１：０．５〜２の範囲が適当である。又、無機
酸水溶液中の無機酸濃度は１０〜７０重量％が適当であ
る。

【００２６】（４）熟成 次に、上記反応液を温和な条件で長時間かけて乾燥させ
ることにより、熟成させる。この過程では、主として珪
素原子の重合反応が進行し、これに伴って透明ゲルが半
透明ないし乳白色ゲルに変化し、ルチル型チタニア−シ
リカゲルが生成する。ただし、系中のＴｉＯ₂とＳｉＯ₂
との比が２０〜１：８０：９９である場合には、湿度に
よってはゲルが半透明又は乳白色に変化せず、透明ゲル
のままとなる。

【００２７】熟成は、６０℃を越えない温度、好ましく
は４０℃以下、相対湿度６０％以上、好ましくは７０％
以上の条件下で、２４〜６００時間乾燥させるのが適当
である。このように温和な条件で長時間かけて乾燥させ
ることにより、ルチル型チタニアの結晶が分散されたシ
リカゲルが得られる。

【００２８】上記のようにして得られたゲルを乾燥、焼
成すると透明、半透明あるいは乳白色のルチル型チタニ
ア−シリカガラスが得られる。系中のＴｉＯ₂とＳｉＯ₂
との比及び熟成中の相対湿度と、得られるゲルあるいは
ガラスの結晶型等との関係を図１に示す。系中のＳｉＯ
₂に対するＴｉＯ₂の割合が小さくなるにしたがって、成
形性を有し、透明性が高くなるので、用途により反応条
件を設定すればよい。

【００２９】本発明のルチル型チタニア−シリカゲル
は、紫外線遮蔽コーティング膜、高屈折率コーティング
膜等に、また、ルチル型チタニア−シリカガラスは、紫
外線遮蔽ガラス、高屈折率ガラス等として有用である
他、チタニア−シリカガラスに共通する低熱膨張性を有
するガラス、あるいは塩基性物質の吸着剤としても有用
である。

【００３０】さらに、板状、繊維状等のルチル型チタニ
ア−シリカガラスを製造することができるので、光ファ
イバーなどに有用である。

【００３１】

【作用】熟成の条件を変化させ、生成するチタニア−シ
リカゲルの結晶型の違いを検討した。

【００３２】後述実施例１で得られたテトライソプロピ
ルチタネートとシリコンテトラエトキシドの均一透明反
応液を、ポリプロピレン製の容器に静かに注ぎ蓋をせず
に、恒温恒湿器内に静置し、温度あるいは湿度を変化さ
せて熟成を行った。溶液は１日後にゲル化して流動性を
失い、５日後には乾燥ゲルが得られた。温度を40℃に固
定して相対湿度を変化させた場合、及び相対湿度を80%
に固定して温度を変化させた場合に得られた結晶型の確
認と屈折率の測定を行った。

【００３３】結晶型は、次のようにして確認した。遊星
ボールミルを用い公転回転速度200rpmにて20分間微粉砕
したサンプルを、ガラス製のサンプルホルダーに詰め、
表面をできるだけ平滑にした後、X線回析装置（日本電
子製JDX-3500）を用い、Niフィルターで単色化されたCu
Kα線によって、管電圧40KV、管電流300mAの条件で2θ=
10〜80°の範囲を測定する事によって結晶型の確認を行
った。

【００３４】屈折率は次のようにして測定した。粉末試
料１〜２ｇを試験管へ入れ、１ブロムナフタリン溶液を
5〜10ml添加し、スラリー化する。次に試験管へ温度計
を入れ、軽く撹拌した後、温度を5〜50℃まで変化さ
せ、溶液が赤色に変色したときの温度を測定した。この
温度より屈折率を算出した（測定範囲 _nD=1.350〜1.66
5）。対照として、市販のシリカチタニアガラス（コー
ニングジャパン製CGW7971）の屈折率を同様の方法で測
定した。結果を、各々表１、表２に示す。

【００３５】

【表１】

【００３６】

【表２】

【００３７】この結果から、熟成の条件は、６０℃を越
えない温度、相対湿度６０％以上が適当であることがわ
かる。

【００３８】

【実施例】以下に、本発明の実施例を説明する。尚、各
実施例及び比較例の生成物の結晶型は、上述の方法によ
り確認した。

【００３９】

【実施例１】テトライソプロピルチタネート37.90gを、
窒素雰囲気中で無水エタノール23.0gに溶解して得た溶
液に、シリコンテトラエトキシド13.89gを添加し、冷却
管を取り付けた三ツ口フラスコ中で80℃に加熱して24時
間撹拌した。そこに、無水エタノール23.0gに35%塩酸水溶
液10.42gと蒸留水9.0gを溶解して得た酸性溶液を、ガラ
ス製滴下ロートを用いて30分かけて添加し、さらに室温
にて30分撹拌して加水分解を完全に行った。

【００４０】得られた均一透明溶液を、ポリプロピレン
製の容器に静かに注ぎ蓋をせずに40℃、RH80%に設定し
た恒温恒湿器内に静置して熟成を行った。溶液は１日後
にゲル化して流動性を失い、５日後には白色不透明な乾
燥ゲルが得られた。

【００４１】この乾燥ゲルはＸ線回析による解析の結
果、アモルファスシリカとルチル型チタニアの混合相で
あった。

【００４２】

【実施例２】ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセ
トネート48.41gを窒素雰囲気中でテトラヒドロフラン3
5.25gに溶解して得た溶液に、シリコンテトラメトキシ
ド20.22gを添加し、冷却管を取り付けた三ツ口フラスコ
中で90℃に加熱して24時間撹拌した。そこに、テトラヒ
ドロフラン35.25gに35%塩酸水溶液10.42gと蒸留水9.0g
を溶解して得た酸性溶液を、ガラス製滴下ロートを用い
て30分かけて添加し、さらに室温にて３０分撹拌して加
水分解を完全に行った。

【００４３】得られた溶液を200ml容トールビーカーに
静かに注ぎ、市販の電磁式モーターを用いて自作したデ
ィップコーターに速やかに設置し、装置ごと40℃、RH80
%に設定した恒温恒湿器に静置した。基板に表面をアセ
トン洗浄した20×70×1mmの石英ガラスを用い、ナイロ
ン糸を用いてこの基板を静置した前記溶液の真上に位置
するように装置のヘッドに取り付け、10mm/秒の速度で
静かに溶液に漬け、次いで5mm/秒の速度で基板を引き上
げことによって透明酸化物膜を得た。得られた膜は40
℃、RH80%の雰囲気で5日間熟成し、乳白濁の半透明乾燥
ゲル膜になった。

【００４４】得られた乾燥ゲル膜は、Ｘ線回析による解
析の結果、アモルファスシリカとルチル型チタニアの混
合相であった。

【００４５】

【実施例３】テトラエトキシチタネート22.74gを窒素雰
囲気中でメチルセロソルプ33.73gに溶解して得た溶液
に、シリコンテトラノルマルプロポキシド37.88gを添加
し、さらにルチル型超微粒子酸化チタン（テイカMT-100
T）0.01gをメチルセロソルブ10.0g中に超音波分散した
分散液を添加し、冷却管を取り付けた三ツ口フラスコ中
で80℃に加熱して24時間撹拌した。そこに、メチルセロ
ソルブ33.73gに35%塩酸水溶液13.55gと蒸留水9.0gを溶
解して得た酸性溶液をガラス製滴下ロートを用いて30分
かけて添加し、さらに室温にて30分撹拌し加水分解を完
全に行った。

【００４６】得られた均一透明溶液をポリプロピレン製
の容器に静かに注ぎ蓋をせずに40℃、RH80%に設定した
恒温恒湿器に静置した。溶液は１日後にゲル化して流動
性を失い、５日後には白色不透明の乾燥ゲルが得られ
た。

【００４７】この乾燥ゲルは、Ｘ線回析による解析の結
果、アモルファスシリカとルチル型チタニアの混合相で
あった。

【００４８】

【実施例４】テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート
37.51gを窒素雰囲気中で無水イソプロピルアルコール3
0.0gに溶解して得た溶液に、シリコンテトラノルマルブ
トキシド42.68gを添加し、さらに超微粒子酸化チタン
（出光IT-S）を1200℃の大気中で１２時間焼成した超微
粒子中の200mesh全通粒子0.01gを無水イソプロピルアル
コール10.0g中に超音波分散した分散液を添加し、冷却
管を取り付けた三ツ口フラスコ中で90℃に加熱して24時
間撹拌した。そこに、無水イソプロピルアルコール30.0
gに35%塩酸水溶液10.42gと蒸留水9.0gを溶解して得た酸
性溶液を、ガラス製滴下ロートを用いて30分かけて添加
し、さらに室温にて30分撹拌して加水分解を完全に行っ
た。

【００４９】得られた溶液を200ml容トールビーカーに
静かに注ぎ、市販の電磁式モーターを用いて自作したデ
ィップコーターに速やかに設置し、装置ごと40℃、RH80
%に設定した恒温恒湿器に静置した。基板に表面をアセ
ント洗浄した20×70×1mmのPMMAポリメチルメタアクリ
レート）を用い、ナイロン糸を用いてこの基板を静置し
た前記溶液の真上に位置するように装置のヘッドに取り
付け、10mm/秒の速度で静かに溶液に漬け、次いで5mm/
秒の速度で基板を引き上げることによって透明酸化物膜
を得た。得られた膜は40℃、RH80%の雰囲気で５日間熟
成し、乳白濁の半透明乾燥ゲル膜になった。

【００５０】得られた乾燥ゲル膜は、Ｘ線回析による解
析の結果、アモルファスシリカとルチル型チタニアの混
合相であった。

【００５１】

【実施例５】実施例１で得られた乾燥ゲルを、汎用型電
気炉（ケイ化モリブデン発熱体）の炉内の磁性坩堝に入
れた後静置し、10℃/分の昇温速度で600℃まで加熱し、
その温度でさらに１時間熱処理し、半透明のガラス状組
成物を得た。

【００５２】得られたガラス状組成物は、Ｘ線回析によ
る解析の結果、アモルファスシリカとルチル型チタニア
の混合相であった。

【００５３】

【実施例６】実施例３で得ちれた乾燥ゲルを、汎用型電
気炉（ケイ化モリブデン発熱体）の炉内の磁性坩堝に入
れた後静置し、10℃/分の昇温速度で400℃まで加熱し、
その温度でさらに１時間熱処理し、半透明のガラス状組
成物を得た。

【００５４】得られたガラス状組成物は、Ｘ線回析によ
る解析の結果、アモルファスシリカとルチル型チタニア
の混合相であった。

【００５５】

【実施例７】テトライソプロピルチタネート6.40gを窒
素雰囲気中で無水エタノール23.0gに溶解して得た溶液
に、シリコンテトラエトキシド42.19gを添加し、冷却管
を取り付けた三ツ口フラスコ中で80℃に加熱して24時間
撹拌した。そこに、無水エタノール23.0gに35%塩酸水溶
液10.42gと蒸留水9.0gを溶解して得た酸性溶液を、ガラ
ス製滴下ロートを用いて30分かけて添加し、さらに室温
にて30分撹拌して加水分解を完全に行った。

【００５６】得られた均一透明溶液を、ポリプロピレン
製の容器に静かに注ぎ蓋をせずに40℃、RH70%に設定し
た恒温恒湿器内に静置して熟成を行った。溶液は１日後
にゲル化して流動性を失い、５日後には無色透明な乾燥
ゲルが得られた。

【００５７】この乾燥ゲルは、Ｘ線回析による解析の結
果、アモルファスシリカとルチル型チタニアの混合相で
あった。

【００５８】

【実施例８】実施例７で得られた均一透明溶液を200ml
容トールビーカーに静かに注ぎ、市販の電磁式モータを
用いて自作したディップコーターに速やかに設置し、装
置ごと50℃、RH70%に設定した恒温恒湿器内に静置し
た。基板に表面をアセトン洗浄した20×70×1mmの石英
ガラスを用い、ナイロン糸を用いてこの基板を静置した
溶液の真上に位置するように装置のヘッドを取付け、10
mm／秒の速度で静かに溶液に漬け、次いで5mm／秒の速
度で基板を引き上げることによって透明酸化物膜を得
た。得られた膜は、50℃、RH70%の雰囲気で５日間熟成
し、無色透明の乾燥ゲル膜がとなった。

【００５９】得られた乾燥ゲル膜は、Ｘ線回折による解
析の結果、アモルファスシリカとルチル型チタニア混合
相であった。

【００６０】

【比較例１】実施例１で得られた均一透明溶液をポロプ
ロピレン製の容器に静かに注ぎ蓋をせずに、40℃、RH40
%に設定した恒温恒湿器内に静置した。溶液は１日後に
流動性を失い、５日後には無色透明の乾燥ゲルが得られ
た。

【００６１】この乾燥ゲルは、Ｘ線回析による解析の結
果、アモルファスシリカとアナターゼ型チタニアの混合
相であった。

【００６２】

【比較例２】実施例４で得たPMMA基板状に製膜した透明
酸化物を、80℃、RH70%に設定した恒温恒湿器内に静置
した。５日後には半透明の乾燥ゲルが得られた。

【００６３】この乾燥ゲルは、Ｘ線回析による解析の結
果、アモルファスシリカとアナターゼ型チタニアの混合
相であった。

【００６４】＜屈折率の測定＞上記の各実施例及び比較
例で得られたチタニア−シリカゲルの屈折率を上記と同
様にして測定した。結果を、結晶型と併せて表３に示
す。

【００６５】

【表３】

【００６６】この結果から明らかなように、本発明によ
り、ルチル型シリカチタニアゲル及びガラスを、従来の
ように高温を必要とせずに製造することができる。ま
た、このようにして得られたゲル及びガラスは、きわめ
て高い屈折率を有する。

【００６７】

【発明の効果】本発明により、ルチル型チタニア−シリ
カゲル及びルチル型チタニア−シリカガラスを、従来法
のような高温を必要とせずに製造することがでる。本発
明のルチル型チタニア−シリカゲル及びルチル型チタニ
ア−シリカガラスは、シリカゲルあるいはシリカガラス
中にルチル型チタニアがほぼ均一に分散した組成物とし
て得られるので、コーティング膜等として有用である。

【００６８】しかも、これらは、単体粉末やコーティン
グ膜ばかりでなく繊維状、板状又は線材としても製造可
能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】ＴｉＯ₂とＳｉＯ₂との比と相対湿度に対する生
成物の物性の変化を示す図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 シリコンアルコキシドと有機チタン化合
   物と水混和性有機溶媒とを混合した溶液に、無機酸水溶
   液を添加して加水分解を行い、さらに、６０℃を越えな
   い温度、相対湿度６０％以上の条件で熟成を行うことを
   特徴とするルチル型チタニア−シリカゲルの製造法。
2. 【請求項２】 請求項１において、シリコンアルコキシ
   ドと有機チタン化合物と水混和性有機溶媒とを混合する
   際に、ルチル型チタニア超微粒子を添加することを特徴
   とするルチル型チタニア−シリカゲルの製造法。
3. 【請求項３】 シリコンアルコキシドと有機チタン化合
   物と水混和性有機溶媒とを混合した溶液に、無機酸水溶
   液を添加して加水分解を行い、さらに、６０℃を越えな
   い温度、相対湿度６０％以上の条件で熟成を行い、得ら
   れるゲルを乾燥、焼成することを特徴とするルチル型チ
   タニア−シリカガラスの製造法。
4. 【請求項４】 請求項３において、シリコンアルコキシ
   ドと有機チタン化合物と水混和性有機溶媒とを混合する
   際に、ルチル型チタニア超微粒子を添加することを特徴
   とするルチル型チタニア−シリカガラスの製造法。