JPH06157004A - 接触式蒸気分解法による水素の製造装置 - Google Patents
接触式蒸気分解法による水素の製造装置Info
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- JPH06157004A JPH06157004A JP30676992A JP30676992A JPH06157004A JP H06157004 A JPH06157004 A JP H06157004A JP 30676992 A JP30676992 A JP 30676992A JP 30676992 A JP30676992 A JP 30676992A JP H06157004 A JPH06157004 A JP H06157004A
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- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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- C01B3/02—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen
- C01B3/32—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by reaction of gaseous or liquid organic compounds with gasifying agents, e.g. water, carbon dioxide, air
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 天然ガスと水蒸気との反応によって水素を製
造する装置に関する。 【構成】 多孔質セラミックス管、該管表面に密着被覆
された水素イオンと電子の混合導電体層及び該導電層表
面に密着被覆された天然ガスと水蒸気の反応用触媒層よ
りなり、多孔質セラミックス管側に不活性ガスを、反応
用触媒層側に天然ガスと水蒸気をそれぞれ流通させるよ
うにしてなる接触式蒸気分解法による水素の製造装置。
造する装置に関する。 【構成】 多孔質セラミックス管、該管表面に密着被覆
された水素イオンと電子の混合導電体層及び該導電層表
面に密着被覆された天然ガスと水蒸気の反応用触媒層よ
りなり、多孔質セラミックス管側に不活性ガスを、反応
用触媒層側に天然ガスと水蒸気をそれぞれ流通させるよ
うにしてなる接触式蒸気分解法による水素の製造装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は水素の製造装置に関し、
さらに詳しくは水素イオンと電子の混合導電体を使用し
て天然ガスと水蒸気との反応によって水素を製造する装
置に関する。
さらに詳しくは水素イオンと電子の混合導電体を使用し
て天然ガスと水蒸気との反応によって水素を製造する装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】水素は水素化分解、脱硫、アンモニア合
成、燃料電池などに用いられているが、水素ガス製造方
法には水電解法、部分酸化法、接触式蒸気分解法などが
ある。その中で接触式蒸気分解法は天然ガスを原料とし
て、Ｎｉ系触媒により７００℃〜８００℃の加圧状態下
で接触分解して製造される。一般に、天然ガスはメタン
を主成分とする炭化水素で、その成分から乾性ガスと湿
性ガスに分類される。乾性ガスはメタンを主成分とし、
加圧しても常温では液化しないガスであり、湿性ガスは
メタンのほかにエタン、プロパン及びブタン以上の成分
を含み、加圧すると常温で一部液化するガスをいう。接
触式蒸気分解法で得られるガス成分は水素以外に、一酸
化炭素、二酸化炭素、メタンなどが含まれている。Ａｌ
2 Ｏ3 やＭｇＯを担体とするＮｉ触媒の接触式蒸気分解
法によるメタンを改質したガスの成分は水素７７％、一
酸化炭素１６％、二酸化炭素７％である。ガス中に残存
する未転換一酸化炭素や二酸化炭素は水素を使用する触
媒に悪影響を及ぼすため、水素純度を高める必要があ
り、通常はこれらの合成ガスを３５０〜４５０℃に冷却
し、一酸化炭素をコンバータで水素に転換し、二酸化炭
素は洗浄溶解により除去されている。
成、燃料電池などに用いられているが、水素ガス製造方
法には水電解法、部分酸化法、接触式蒸気分解法などが
ある。その中で接触式蒸気分解法は天然ガスを原料とし
て、Ｎｉ系触媒により７００℃〜８００℃の加圧状態下
で接触分解して製造される。一般に、天然ガスはメタン
を主成分とする炭化水素で、その成分から乾性ガスと湿
性ガスに分類される。乾性ガスはメタンを主成分とし、
加圧しても常温では液化しないガスであり、湿性ガスは
メタンのほかにエタン、プロパン及びブタン以上の成分
を含み、加圧すると常温で一部液化するガスをいう。接
触式蒸気分解法で得られるガス成分は水素以外に、一酸
化炭素、二酸化炭素、メタンなどが含まれている。Ａｌ
2 Ｏ3 やＭｇＯを担体とするＮｉ触媒の接触式蒸気分解
法によるメタンを改質したガスの成分は水素７７％、一
酸化炭素１６％、二酸化炭素７％である。ガス中に残存
する未転換一酸化炭素や二酸化炭素は水素を使用する触
媒に悪影響を及ぼすため、水素純度を高める必要があ
り、通常はこれらの合成ガスを３５０〜４５０℃に冷却
し、一酸化炭素をコンバータで水素に転換し、二酸化炭
素は洗浄溶解により除去されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】接触式蒸気分解法の特
徴は上述した通りであるが、合成ガスから高純度の水素
を得るためには一酸化炭素と水蒸気から水素に転換する
コンバータや、二酸化炭素を洗浄溶解により除去するた
めの装置などを必要とすることから、それに伴なって装
置の大型化は免れない。
徴は上述した通りであるが、合成ガスから高純度の水素
を得るためには一酸化炭素と水蒸気から水素に転換する
コンバータや、二酸化炭素を洗浄溶解により除去するた
めの装置などを必要とすることから、それに伴なって装
置の大型化は免れない。
【０００４】本発明は上記技術水準に鑑み、一酸化炭素
や二酸化炭素などのガス除去装置を設けることなく、接
触式蒸気分解反応装置だけによって水素のみを選択的に
抽出することができる装置を提供しようとするものであ
る。
や二酸化炭素などのガス除去装置を設けることなく、接
触式蒸気分解反応装置だけによって水素のみを選択的に
抽出することができる装置を提供しようとするものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は多孔質セラミッ
クス管、該管表面に密着被覆された水素イオンと電子の
混合導電体層及び該導電層表面に密着被覆された天然ガ
スと水蒸気の反応用触媒層よりなり、多孔質セラミック
ス管側に不活性ガスを、反応用触媒層側に天然ガスと水
蒸気をそれぞれ流通させるようにしてなることを特徴と
する接触式蒸気分解法による水素の製造装置である。
クス管、該管表面に密着被覆された水素イオンと電子の
混合導電体層及び該導電層表面に密着被覆された天然ガ
スと水蒸気の反応用触媒層よりなり、多孔質セラミック
ス管側に不活性ガスを、反応用触媒層側に天然ガスと水
蒸気をそれぞれ流通させるようにしてなることを特徴と
する接触式蒸気分解法による水素の製造装置である。
【０００６】
【作用】本発明の接触式蒸気分解法による水素の製造装
置は上述の如く構成されているので、接触式蒸気分解反
応装置だけによって水素のみを選択的に抽出することが
可能となる。
置は上述の如く構成されているので、接触式蒸気分解反
応装置だけによって水素のみを選択的に抽出することが
可能となる。
【０００７】さらに、本発明の一実施態様を図１〜図３
によって説明し、本発明の作用をより一層明らかにす
る。図１において、１は混合導電体に改質触媒を備えた
改質反応管、２は水蒸気発生装置、３は熱交換装置であ
る。熱交換器３で予熱された原料の天然ガス（メタンガ
ス）と水蒸気は混合導電体に改質触媒を備えた改質反応
器１の内部に供給され、反応温度８００℃〜９００℃、
圧力５ｋｇ／ｃｍ2 〜１０ｋｇ／ｃｍ2 で改質が行なわ
れるようになっている。
によって説明し、本発明の作用をより一層明らかにす
る。図１において、１は混合導電体に改質触媒を備えた
改質反応管、２は水蒸気発生装置、３は熱交換装置であ
る。熱交換器３で予熱された原料の天然ガス（メタンガ
ス）と水蒸気は混合導電体に改質触媒を備えた改質反応
器１の内部に供給され、反応温度８００℃〜９００℃、
圧力５ｋｇ／ｃｍ2 〜１０ｋｇ／ｃｍ2 で改質が行なわ
れるようになっている。
【０００８】図２は改質反応器１内部に設置した水素製
造用セラミックス管の断面を示したものであり、直径１
０ｍｍ〜１５ｍｍ、長さ６００ｍｍの多孔質セラミック
ス管６の表面に厚さ２０μｍ〜３０μｍの水素、電子混
合導電体の酸化物膜５を成膜し、さらに水素、電子混合
導電体の酸化物膜５上に厚さ１０μｍの多孔質Ｎｉ／Ｚ
ｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 触媒複合物４を成膜してなるものであ
る。
造用セラミックス管の断面を示したものであり、直径１
０ｍｍ〜１５ｍｍ、長さ６００ｍｍの多孔質セラミック
ス管６の表面に厚さ２０μｍ〜３０μｍの水素、電子混
合導電体の酸化物膜５を成膜し、さらに水素、電子混合
導電体の酸化物膜５上に厚さ１０μｍの多孔質Ｎｉ／Ｚ
ｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 触媒複合物４を成膜してなるものであ
る。
【０００９】原料であるメタンと水蒸気を水素製造用セ
ラミックス管６の外側に管軸方向に導入し、多孔質Ｎｉ
／ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 触媒複合物４により、（１）式で
示される改質反応によって水素、一酸化炭素などの混合
ガスとする。 ＣＨ4 ＋Ｈ2 Ｏ ＝ ＣＯ＋３Ｈ2 ・・・・（１）
ラミックス管６の外側に管軸方向に導入し、多孔質Ｎｉ
／ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 触媒複合物４により、（１）式で
示される改質反応によって水素、一酸化炭素などの混合
ガスとする。 ＣＨ4 ＋Ｈ2 Ｏ ＝ ＣＯ＋３Ｈ2 ・・・・（１）
【００１０】本発明では、混合ガス中より水素を選択的
に透過する酸化物膜５を利用して水素を製造するが、そ
の原理を図３に示す。改質反応（１）式により多孔質Ｎ
ｉ／ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 触媒複合物４で生成した水素は
水素、電子混合導電体の酸化物膜５の表面で電子を放出
し、水素イオンの形で水素、電子混合導電体の酸化物膜
５中を管内方向へ拡散して、多孔質セラミックス管６内
を流通する不活性ガス中へ拡散する。放出された電子は
水素、電子混合導電体の酸化物膜５中を管内方向へ拡散
して水素イオンに電子を供給し水素ガスとなる。水素、
電子混合導電体の酸化物膜５の外表面では酸化反応が、
内表面では還元反応が同時に進行するが、この酸化還元
反応は水素、電子混合導電体の酸化物膜５の内外におけ
る水素濃度差が駆動力となる。
に透過する酸化物膜５を利用して水素を製造するが、そ
の原理を図３に示す。改質反応（１）式により多孔質Ｎ
ｉ／ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 触媒複合物４で生成した水素は
水素、電子混合導電体の酸化物膜５の表面で電子を放出
し、水素イオンの形で水素、電子混合導電体の酸化物膜
５中を管内方向へ拡散して、多孔質セラミックス管６内
を流通する不活性ガス中へ拡散する。放出された電子は
水素、電子混合導電体の酸化物膜５中を管内方向へ拡散
して水素イオンに電子を供給し水素ガスとなる。水素、
電子混合導電体の酸化物膜５の外表面では酸化反応が、
内表面では還元反応が同時に進行するが、この酸化還元
反応は水素、電子混合導電体の酸化物膜５の内外におけ
る水素濃度差が駆動力となる。
【００１１】
【実施例】（実施例１）以下、本発明の一実施例を前記
図２を参照して説明する。多孔質セラミックス管６は次
の方法により製造する。ＺｒＯ2 酸化物とＣａＯ酸化物
を重量分率にして８６：１４の割合で混合し、１５００
℃、空気中で１０時間焼成して平均粒子径が１００μｍ
と５０μｍのＺｒＯ2 −ＣａＯの複合酸化物とし、これ
ら２種の粒子を重量分率で７０：５０の割合で混合した
もの８０部に対して水２０部を混合したものを押し出し
形成器により長さ約１０００ｍｍ、直径１０ｍｍ〜１５
ｍｍ、厚さ２〜３ｍｍの管を成形する。成形した管は１
５００℃、空気中で１０時間焼成することにより、多孔
質セラミックス管６が得られる。
図２を参照して説明する。多孔質セラミックス管６は次
の方法により製造する。ＺｒＯ2 酸化物とＣａＯ酸化物
を重量分率にして８６：１４の割合で混合し、１５００
℃、空気中で１０時間焼成して平均粒子径が１００μｍ
と５０μｍのＺｒＯ2 −ＣａＯの複合酸化物とし、これ
ら２種の粒子を重量分率で７０：５０の割合で混合した
もの８０部に対して水２０部を混合したものを押し出し
形成器により長さ約１０００ｍｍ、直径１０ｍｍ〜１５
ｍｍ、厚さ２〜３ｍｍの管を成形する。成形した管は１
５００℃、空気中で１０時間焼成することにより、多孔
質セラミックス管６が得られる。
【００１２】水素、電子混合導電体膜５はＢａ0.6 Ｃｅ
0.2 Ｔｉ0.1 Ｙ0.1 Ｏ3 の組成式で示される複合酸化物
膜であるが、次の方法により製造される。炭酸バリウ
ム、酸化セリウム、酸化チタン及び酸化イットリウムを
Ｂａ0.6 Ｃｅ0.2 Ｔｉ0.1 Ｙ0. 1 Ｏ3 の組成となるよう
に混合し、１５００℃、空気中で１０時間焼成して平均
粒子径が１０μｍとなるような複合酸化物を合成する。
合成した複合酸化物は溶射法により多孔質セラミックス
管６上に成膜する。
0.2 Ｔｉ0.1 Ｙ0.1 Ｏ3 の組成式で示される複合酸化物
膜であるが、次の方法により製造される。炭酸バリウ
ム、酸化セリウム、酸化チタン及び酸化イットリウムを
Ｂａ0.6 Ｃｅ0.2 Ｔｉ0.1 Ｙ0. 1 Ｏ3 の組成となるよう
に混合し、１５００℃、空気中で１０時間焼成して平均
粒子径が１０μｍとなるような複合酸化物を合成する。
合成した複合酸化物は溶射法により多孔質セラミックス
管６上に成膜する。
【００１３】多孔質Ｎｉ／ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 触媒４は
ＺｒＯ2 酸化物とＹ2 Ｏ3 酸化物を重量分率にして８
６：１４の割合で混合し、１５００℃、空気中で１０時
間焼成してＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 複合酸化物を合成し、さ
らに合成したＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ 3 複合酸化物とＮｉＯを
重量分率にして８０：２０の割合で混合し、混合物８０
に対して蒸留水２０の割合で湿式混合を５０時間行い、
その後蒸留水を蒸発させたＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 複合酸化
物とＮｉＯの混合物を１０００℃で１０時間、空気中で
焼成することにより合成した。合成した混合物を平均粒
子径を約１０μｍにしたあと、溶射法により水素、電子
混合導電体膜５上に成膜した。成膜直後はＮｉＯ／Ｚｒ
Ｏ2 −Ｙ2 Ｏ3 であるが、水素製造の運転状態によりメ
タンにより還元されてＮｉ／ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 にな
る。
ＺｒＯ2 酸化物とＹ2 Ｏ3 酸化物を重量分率にして８
６：１４の割合で混合し、１５００℃、空気中で１０時
間焼成してＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 複合酸化物を合成し、さ
らに合成したＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ 3 複合酸化物とＮｉＯを
重量分率にして８０：２０の割合で混合し、混合物８０
に対して蒸留水２０の割合で湿式混合を５０時間行い、
その後蒸留水を蒸発させたＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 複合酸化
物とＮｉＯの混合物を１０００℃で１０時間、空気中で
焼成することにより合成した。合成した混合物を平均粒
子径を約１０μｍにしたあと、溶射法により水素、電子
混合導電体膜５上に成膜した。成膜直後はＮｉＯ／Ｚｒ
Ｏ2 −Ｙ2 Ｏ3 であるが、水素製造の運転状態によりメ
タンにより還元されてＮｉ／ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 にな
る。
【００１４】上述したようにして製作した改質反応器
に、ＣＨ4 ：Ｈ2 Ｏ＝１：１の混合ガスを圧力：５ｋｇ
／ｃｍ2 〜１０ｋｇ／ｃｍ2 、温度：８００℃〜９００
℃の状態にして供給し、接触時間：約１秒で連続的に反
応を行なった。その結果、混合ガスを供給した水素製造
用セラミックス管の外側でのガス成分はＣＯ：６６％、
ＣＯ2 ：３２％、ＣＨ4 ：１．０％、Ｈ2 ：１％である
が、該管の内側ではＨ2：９８％（Ｎ2 バランス）であ
った。
に、ＣＨ4 ：Ｈ2 Ｏ＝１：１の混合ガスを圧力：５ｋｇ
／ｃｍ2 〜１０ｋｇ／ｃｍ2 、温度：８００℃〜９００
℃の状態にして供給し、接触時間：約１秒で連続的に反
応を行なった。その結果、混合ガスを供給した水素製造
用セラミックス管の外側でのガス成分はＣＯ：６６％、
ＣＯ2 ：３２％、ＣＨ4 ：１．０％、Ｈ2 ：１％である
が、該管の内側ではＨ2：９８％（Ｎ2 バランス）であ
った。
【００１５】（実施例２）多孔質セラミックス管６は実
施例１と同様の方法で製造する。水素、電子混合導電体
膜５はＢａ0.6 Ｃｅ0.2 Ｔｉ0.1 Ｙ0.1 Ｏ3 の組成式で
示される複合酸化物膜であるが、次の方法により製造す
る。炭酸バリウム、酸化セリウム、酸化チタン及び酸化
イットリウムをＢａ0.6 Ｃｅ0.2 Ｔｉ0.1 Ｙ0.1Ｏ3 の
組成となるように混合し、１５００℃、空気中で１０時
間焼成して、平均粒子径が１０μｍ及び１μｍとなるよ
うな２種の粒子径を有する複合酸化物を合成する。これ
ら２種の複合酸化物を重量分率で２０：８０の割合で混
合し、混合物重量８５部に対して、エチルアルコール１
０部、エチレングリコール５部を混合し湿式で２４時間
混合粉砕を行う。その後、焼成後の多孔質セラミックス
管６を混合粉砕溶液中に浸し、５分から１０分間多孔質
セラミックス管外表面細孔部分に浸透させる。この時、
多孔質セラミックス管の両端にキャップをつけ、管内へ
の溶液付着を防ぐ。このように水素、電子混合導電体が
浸透した多孔質セラミックス管を空気中１０００℃で１
０時間焼成することで、多孔質セラミックス管上に緻密
な水素、電子混合導電体膜を構成する。
施例１と同様の方法で製造する。水素、電子混合導電体
膜５はＢａ0.6 Ｃｅ0.2 Ｔｉ0.1 Ｙ0.1 Ｏ3 の組成式で
示される複合酸化物膜であるが、次の方法により製造す
る。炭酸バリウム、酸化セリウム、酸化チタン及び酸化
イットリウムをＢａ0.6 Ｃｅ0.2 Ｔｉ0.1 Ｙ0.1Ｏ3 の
組成となるように混合し、１５００℃、空気中で１０時
間焼成して、平均粒子径が１０μｍ及び１μｍとなるよ
うな２種の粒子径を有する複合酸化物を合成する。これ
ら２種の複合酸化物を重量分率で２０：８０の割合で混
合し、混合物重量８５部に対して、エチルアルコール１
０部、エチレングリコール５部を混合し湿式で２４時間
混合粉砕を行う。その後、焼成後の多孔質セラミックス
管６を混合粉砕溶液中に浸し、５分から１０分間多孔質
セラミックス管外表面細孔部分に浸透させる。この時、
多孔質セラミックス管の両端にキャップをつけ、管内へ
の溶液付着を防ぐ。このように水素、電子混合導電体が
浸透した多孔質セラミックス管を空気中１０００℃で１
０時間焼成することで、多孔質セラミックス管上に緻密
な水素、電子混合導電体膜を構成する。
【００１６】多孔質Ｎｉ／ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 触媒４は
ＺｒＯ2 酸化物とＹ2 Ｏ3 酸化物を重量分率にして８
６：１４の割合で混合し、１５００℃、空気中で１０時
間焼成してＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 複合酸化物を合成し、さ
らに合成したＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ 3 複合酸化物とＮｉＯを
重量分率にして８０：２０の割合で混合し、混合物８０
に対して蒸留水２０の割合で湿式混合を５０時間行い、
その後蒸留水を蒸発させたＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 複合酸化
物とＮｉＯの混合物を１０００℃で１０時間、空気中で
焼成することにより合成した。合成した混合物を平均粒
子径を約５０μｍ及び１０μｍとなるような２種の粒子
径を有する複合酸化物を合成する。これら２種の複合酸
化物を重量分率で２０：８０の割合で混合し、混合物重
量８５部に対して、エチルアルコール１０部、エチレン
グリコール５部を混合し湿式で２４時間混合粉砕を行
う。混合粉砕を行った溶液中に、水素、電子混合導電体
膜を成膜した多孔質セラミックス管を５分から１０分間
浸し、水素、電子混合導電体膜上にＮｉＯ／ＺｒＯ2 −
Ｙ2 Ｏ3 触媒膜を設ける。成膜直後は、ＮｉＯ／ＺｒＯ
2 −Ｙ2 Ｏ3 であるが、水素製造の運転状態によりメタ
ンにより還元されてＮｉ／ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 になる。
ＺｒＯ2 酸化物とＹ2 Ｏ3 酸化物を重量分率にして８
６：１４の割合で混合し、１５００℃、空気中で１０時
間焼成してＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 複合酸化物を合成し、さ
らに合成したＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ 3 複合酸化物とＮｉＯを
重量分率にして８０：２０の割合で混合し、混合物８０
に対して蒸留水２０の割合で湿式混合を５０時間行い、
その後蒸留水を蒸発させたＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 複合酸化
物とＮｉＯの混合物を１０００℃で１０時間、空気中で
焼成することにより合成した。合成した混合物を平均粒
子径を約５０μｍ及び１０μｍとなるような２種の粒子
径を有する複合酸化物を合成する。これら２種の複合酸
化物を重量分率で２０：８０の割合で混合し、混合物重
量８５部に対して、エチルアルコール１０部、エチレン
グリコール５部を混合し湿式で２４時間混合粉砕を行
う。混合粉砕を行った溶液中に、水素、電子混合導電体
膜を成膜した多孔質セラミックス管を５分から１０分間
浸し、水素、電子混合導電体膜上にＮｉＯ／ＺｒＯ2 −
Ｙ2 Ｏ3 触媒膜を設ける。成膜直後は、ＮｉＯ／ＺｒＯ
2 −Ｙ2 Ｏ3 であるが、水素製造の運転状態によりメタ
ンにより還元されてＮｉ／ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 になる。
【００１７】上述のように製作した改質反応器を用い、
実施例１で述べた条件で操業した結果、実施例１とほゞ
同様の結果が得られた。
実施例１で述べた条件で操業した結果、実施例１とほゞ
同様の結果が得られた。
【００１８】
【発明の効果】上述したように、本発明によれば接触式
蒸気分解法による水素製造装置において、接触式蒸気分
解反応を水素と電子の混合導電体を隔壁とした装置で行
うことにより、一酸化炭素や二酸化炭素などのガス除去
装置を設けることなく、接触式蒸気分解反応装置だけに
よって水素のみを選択的に抽出することが可能となる。
蒸気分解法による水素製造装置において、接触式蒸気分
解反応を水素と電子の混合導電体を隔壁とした装置で行
うことにより、一酸化炭素や二酸化炭素などのガス除去
装置を設けることなく、接触式蒸気分解反応装置だけに
よって水素のみを選択的に抽出することが可能となる。
【図１】本発明の装置を用いて水素を製造する一実施例
の説明図。
の説明図。
【図２】本発明の装置の要部の説明図。
【図３】本発明の装置の水素製造の原理の説明図。
Claims (1)
- 【請求項１】 多孔質セラミックス管、該管表面に密着
被覆された水素イオンと電子の混合導電体層及び該導電
層表面に密着被覆された天然ガスと水蒸気の反応用触媒
層よりなり、多孔質セラミックス管側に不活性ガスを、
反応用触媒層側に天然ガスと水蒸気をそれぞれ流通させ
るようにしてなることを特徴とする接触式蒸気分解法に
よる水素の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30676992A JPH06157004A (ja) | 1992-11-17 | 1992-11-17 | 接触式蒸気分解法による水素の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30676992A JPH06157004A (ja) | 1992-11-17 | 1992-11-17 | 接触式蒸気分解法による水素の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06157004A true JPH06157004A (ja) | 1994-06-03 |
Family
ID=17961068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30676992A Withdrawn JPH06157004A (ja) | 1992-11-17 | 1992-11-17 | 接触式蒸気分解法による水素の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06157004A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004074175A1 (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-02 | National University Corporation Nagoya University | 水素ガス分離装置 |
| JP2004283826A (ja) * | 2003-03-21 | 2004-10-14 | Air Products & Chemicals Inc | 平面セラミック膜アセンブリ |
| JP2009173539A (ja) * | 1998-07-27 | 2009-08-06 | Battelle Memorial Inst | 熱化学反応の反応速度を高める方法及び装置 |
| US7749465B2 (en) | 2003-07-26 | 2010-07-06 | Rolls-Royce Plc | Reformer module |
-
1992
- 1992-11-17 JP JP30676992A patent/JPH06157004A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009173539A (ja) * | 1998-07-27 | 2009-08-06 | Battelle Memorial Inst | 熱化学反応の反応速度を高める方法及び装置 |
| WO2004074175A1 (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-02 | National University Corporation Nagoya University | 水素ガス分離装置 |
| JP2004283826A (ja) * | 2003-03-21 | 2004-10-14 | Air Products & Chemicals Inc | 平面セラミック膜アセンブリ |
| US7513932B2 (en) | 2003-03-21 | 2009-04-07 | Air Products And Chemicals, Inc. | Planar ceramic membrane assembly and oxidation reactor system |
| JP4499455B2 (ja) * | 2003-03-21 | 2010-07-07 | エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド | 平面セラミック膜アセンブリ |
| US7749465B2 (en) | 2003-07-26 | 2010-07-06 | Rolls-Royce Plc | Reformer module |
| US8043576B2 (en) | 2003-07-26 | 2011-10-25 | Rolls-Royce Plc | Reformer module |
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