JPH06148579A - 光変調器および発光素子 - Google Patents

光変調器および発光素子

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JPH06148579A
JPH06148579A JP13423691A JP13423691A JPH06148579A JP H06148579 A JPH06148579 A JP H06148579A JP 13423691 A JP13423691 A JP 13423691A JP 13423691 A JP13423691 A JP 13423691A JP H06148579 A JPH06148579 A JP H06148579A
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JP
Japan
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absorption
modulation
electric field
optical modulator
optical
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Pending
Application number
JP13423691A
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English (en)
Inventor
Hiroaki Inoue
宏明 井上
Hirohisa Sano
博久 佐野
Toshio Kirihara
俊夫 桐原
Koji Ishida
宏司 石田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】光強度変調に付随する光位相変調の原因である
屈折率変化を抑制し、光情報処理等の超高速変調や超長
距離伝送が可能な光変調器を得る。 【構成】化合物半導体を用いた電界吸収型光変調器にお
いて、電界印加時の光強度変調が、少なくとも2以上の
吸収線で生じるようにし、上記吸収線は光位相変調が互
いに補償するようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光情報処理や光伝送シ
ステムにおける光部品に係り、特に光波を高速で変調す
る光変調器および高速変調された光波を出射する発光素
子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】化合物半導体に電界を印加し、電界吸収
効果による吸収率変化を利用した光変調器の従来例とし
ては、トピカル・ミーティング・オブ・カンタムエレク
トロニクス、’91予稿集(1991)、論文番号エム
・ディ1(Proceeding of Topical Meeting of Qua
tumelectronics, (1991), paper MD1)に記載さ
れている。上記従来技術は、電界吸収効果を用いた光変
調器の強度変調特性の高効率化、およびこれに付随する
位相変調の抑圧を行ったものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、光強
度変調に付随する光位相変調の原因である屈折率変化の
抑圧が不十分であり、光位相変調の結果生じる伝送後の
変調波形劣化により、変調速度、伝送距離を増大させる
ことが困難であるという問題があった。
【0004】本発明の目的は、光強度変調に付随する光
位相変調の原因である屈折率変化を抑制し、光情報処
理、光伝送システムにおける超高速変調、超長距離伝送
を可能とする、光変調器および発光素子を得ることであ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的は、化合物半導
体を用いた電界吸収型光変調器において、電界印加時の
光強度変調が、少なくとも2以上の吸収線によって生じ
るようにすることにより、さらには上記2以上の吸収線
は、光強度変調に付随して生じる光位相変調を、互いに
補償するような吸収線であることにより達成される。
【0006】
【作用】化合物半導体材料に電界を印加すると、バンド
構造変化(フランツ・ケルディシュ効果もしくは量子閉
じ込めシュタルク効果等)によって、吸収バンド端の長
波長テーリングや吸収ピーク波長のシフトが生じる。図
1に第1吸収線11が電界印加により長波長シフトした
状態を模式的に示している。このとき、材料の屈折率分
散111もシフトする。このことはクラマース・クロー
ニッヒの関係としてよく知られている。すなわち、電界
吸収変調で入射光波の光強度変調を行うと、この付随的
に生じる屈折率変化によって光位相変調が生じる。ここ
で、もう1つの電界変調可能な第2吸収線12を考え、
この電界印加による吸収特性の変化が上記第1吸収線の
変化と逆向きであるとすると、これら2つの吸収線間の
入射光波(λ)10は互いに逆向きの屈折率分散の変化
111および112を受けるので、光強度変調に付随し
て生じる光位相変調を補償し、相殺させることができ
る。この光位相変調の補償は、電界印加による吸収線の
互いに逆向きの波長シフトだけでなく、波長シフトを行
わずに2つ以上の吸収線の吸収量の増減によっても行う
ことができる。この一例として、ワニヤ・シュタルク効
果等による電界誘起または電界消滅による2以上の吸収
線の強度変化を利用すれば得ることができる。
【0007】
【実施例】つぎに本発明の実施例を図面とともに説明す
る。図2は本発明による光変調器の一実施例を示す構成
図である。図2において、光導波路21はリブ型で構成
されており、光導波層22は周囲のクラッド層23およ
び基板24より僅かに屈折率が高く、光波を閉じ込めて
伝搬させる働きを有している。アンドープ光導波層22
の上下の層および基板24は、相異なる極性(n、p)
にドーピングされており、pin型ダイオードを形成し
ている。ダイオードに逆バイアス電圧を印加すること
で、アンドープの光導波層22に高電界を印加し、電界
印加による光導波層22内のバンド構造変化を利用し、
電界吸収光変調を行なっている。
【0008】本実施例においては、光吸収層である光導
波層22に結合量子井戸構造を用いた。結合量子井戸構
造においては、無電界印加時に伝導帯の電子および価電
子帯の正孔の波動関数は、異なる対称性を持つとき直交
しており吸収遷移を生じない。しかし、電界を印加する
と上記直交関係が崩れ、対称・非対称モード間、非対称
・対称モード間の結合が強まり、対称・対称モード間、
非対称・非対称モード間の結合が弱くなり、対応して各
吸収線の強度が変化する。また、よく知られているよう
に、電子の対称な最低エネルギーレベルと正孔の非対称
な最低エネルギーレベル間の遷移(es−ha)は、量
子とじ込めシュタルク(QCSE)効果により吸収ピー
ク波長が短波長側にシフトし、電子の非対称な最低エネ
ルギーレベルと正孔の対称な最低エネルギーレベル間の
遷移(ea−hs)は、QCSE効果により吸収ピーク
波長が長波長側にシフトする。したがって、es−ha
遷移とea−hs遷移波長間の入射波長に対しては、本
発明の効果である光位相変調の補償が実現できる。本発
明の光変調器では、光強度変調にes−ha遷移とea
−hs遷移の2つの吸収線を利用しているので、電界吸
収変調効率も通常の1つの吸収線を用いている場合に比
べて約2倍になるという効果もある。本実施例では結合
量子井戸構造を光導波層22に用いたが、結合量子細線
構造や結合量子箱構造を用いても同様の効果がある。
【0009】つぎに、上記実施例と同様な構造を有する
他の実施例について説明する。本実施例は、図2に示し
たリブ型光導波路変調器の光導波層22に、超格子構造
を用いている。上記超格子構造に電界を印加すると、ワ
ニヤ・シュタルク効果により複数の吸収線が形成され
る。したがって、電界印加により誘起された吸収線間の
入射波長に対しては、本発明の効果である光強度変調の
際に付随的に生じる光位相変調の補償を実現することが
できる。
【0010】なお、上記実施例に記載したような光変調
器を発光素子とともに同一基板上に形成することによ
り、高速で変調された光波を出射する発光素子を得るこ
とができる。
【0011】
【発明の効果】上記のように本発明による光変調器は、
化合物半導体を用いた電界吸収型光変調器において、電
界印加時の光強度変調が、少なくとも2以上の吸収線に
より生じることにより、光強度変調時の光位相変調効果
を抑制することが可能となり、超高速変調を行っても光
位相変調が生じないか、または、伝送後の波形劣化が無
視できる程光位相変調が小さい強度変調光を、容易に得
ることができるので、光情報処理や光伝送システムにお
ける超高速変調および超長距離伝送特性を著しく向上さ
せることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による光変調器の原理を示す図で、
(a)は吸収率の波長に対する変化を示す図、(b)は
屈折率の波長に対する変化を示す図である。
【図2】本発明による光変調器の一実施例を示す構成図
である。
【符号の説明】
11 第1吸収線 12 第2吸収線 22 光導波層 24 基板 111 第1吸収線の屈折率分散 112 第2吸収線の屈折率分散
フロントページの続き (72)発明者 石田 宏司 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】化合物半導体を用いた電界吸収型光変調器
    において、電界印加時の光強度変調が、少なくとも2以
    上の吸収線により生じていることを特徴とする光変調
    器。
  2. 【請求項2】上記少なくとも2以上の吸収線は、光強度
    変調に付随して生じる光位相変調が互いに補償されるよ
    うな、複数の吸収線であることを特徴とする請求項1記
    載の光変調器。
  3. 【請求項3】上記少なくとも2以上の吸収線は、量子サ
    イズ効果によって形成されていることを特徴とする請求
    項1または請求項2記載の光変調器。
  4. 【請求項4】上記量子サイズ効果は、量子井戸構造、量
    子細線構造、量子箱構造等によって誘起されていること
    を特徴とする請求項3記載の光変調器。
  5. 【請求項5】上記少なくとも2以上の吸収線は、結合量
    子井戸構造、結合量子細線構造、結合量子箱構造等によ
    って誘起されていることを特徴とする請求項1または請
    求項2記載の光変調器。
  6. 【請求項6】上記少なくとも2以上の吸収線は、超格子
    構造に電界を印加して、誘起または消滅することを特徴
    とする請求項1または請求項2記載の光変調器。
  7. 【請求項7】上記互いに補償するような複数の吸収線を
    有する電界吸収型光変調器は、入射光波の波長を、上記
    2以上の吸収線間の波長に設定したことを特徴とする請
    求項2記載の光変調器。
  8. 【請求項8】上記請求項1から請求項7までのいずれか
    に記載した光変調器と発光素子とを、同一基板上に形成
    したことを特徴とする発光素子。
JP13423691A 1991-06-05 1991-06-05 光変調器および発光素子 Pending JPH06148579A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NO341188B1 (no) * 2003-12-04 2017-09-04 Sumitomo Metal Ind Overflatekondisjonering før kjemisk behandling av stålprodukt

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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